JPH11141938A - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
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- JPH11141938A JPH11141938A JP31171297A JP31171297A JPH11141938A JP H11141938 A JPH11141938 A JP H11141938A JP 31171297 A JP31171297 A JP 31171297A JP 31171297 A JP31171297 A JP 31171297A JP H11141938 A JPH11141938 A JP H11141938A
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- room
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Abstract
を低減でき、また空調機の初期投資コストも低減できる
クリーンルームを提供する。 【解決手段】 天井室2に循環空気を供給し、天井室2
から高性能フィルタを有するファンフィルタユニット6
を通して処理装置10が配設された処理室3に清浄空気
をダウンフローで供給し、この処理室3の通気構造のグ
レーチング床7から下部の床下室4に排出し、床下室4
から天井室2に循環通路8を通して空気を循環させ、か
つ処理装置10の補助機器15、16を配設する機器室
5を床下室4の下部に気密分離した状態で設けて清浄空
気の循環通路とは別に外気を流通させるようにし、発熱
源及び発塵源である補助機器15、16を清浄空気の循
環通路から分離して配設した。
Description
おいて無塵環境を得るために使用されるクリーンルーム
に関するものである。
必要とするため、通常クリーンルームが用いられてい
る。図2に示すように、近年の一般的なクリーンルーム
21は、天井室22と、処理室23と、床下室24の3
層構造とされ、中間層となる処理室23の天井面に高性
能フィルタ(HEPAフィルタやULPAフィルタ)2
5を設置し、処理室24の床面はグレーチング床26等
の通気構造の床面にて構成し、床下室24と天井室22
とをリターン通路27にて連通するとともにそのリター
ン通路27に空調機28を配設し、空調機28にて温度
及び湿度を調整され、高性能フィルタ25にて清浄にさ
れた空気を処理室23の天井から床面に向かって吹き出
してダウンフローを形成するように構成されている。
0の真空ポンプ、電源装置、ガスや薬液の供給装置など
の補助機器31は、処理室23の側部に設けたリターン
通路27に配設するようにするとクリーンルーム21の
設置スペースが大きくなるため、床下室24に配設され
ている。床下室24には、補助機器31の発する熱で加
熱された空気や発生した塵埃を含んだ空気を外部に排気
するための排気ダクト32が配設されている。又、床下
室24内に外気を供給する外気導入口33が設けられる
とともに外気を温度調整する外気空調機34が配設され
ている。35は、床下室24の下層に配設された原動機
室である。
来の構成では処理室23を循環する空気の通路である床
下室24内に真空ポンプなどの発熱源となる補助機器3
1が配設されているので、空調機28の容量及び消費電
力が大きくなり、また上記補助機器31からの発生する
熱や塵埃を外部に排出するためにそれらをカバーで覆
い、床下室24内の温調された清浄な空気の一部をカバ
ー内を通して排気ダクト32を経て外部に排出するよう
に構成しているので、温調された清浄度の高い空気が外
部に放出されることになり、その分多量の外気を外気導
入空調機34を通して外気導入口33から取り入れる必
要があり、外気導入空調機34の容量及び消費電力が大
きくなり、そのためクリーンルーム21のランニングコ
スト及び初期設備コストが高くなるという問題があっ
た。
公平7−45945号公報)には、床下室を上下2層に
分割して下層室に補助機器を配設した構成が開示されて
いるが、補助機器によって処理室内のダウンフローに偏
気流が発生するのを防止することを目的とし、上層室と
下層室は多孔板にて分割されているため、下層室を通る
空気も循環し、上記と同様の問題がある。
機の消費電力を抑えてランニングコストを低減でき、ま
た空調機の初期投資コストも低減できるクリーンルーム
を提供することを目的としている。
は、循環空気が供給される天井室と、処理装置が配設さ
れるとともに天井室から高性能フィルタを通して供給さ
れた空気が通気構造の床面から排出される処理室と、処
理室の床面から排出された空気が流入する床下室と、床
下室から天井室に空気を循環させるリターン通路と、処
理装置の補助機器が配設されるとともに外気が流通され
る機器室とを備えたものであり、天井室と処理室と床下
室を循環する清浄度の高い空気の循環通路内に発熱源と
なる補助機器が配置されていないので、循環通路内に配
設される空調機の消費電力が少なくなり、また発塵源で
もある補助機器を覆っているカバー内の排出空気として
循環空気の一部を用いることにより温調された清浄度の
高い空気が外部に放出されることもなく、その分空調し
て取り入れる外気量が少なくなって消費電力が少なくな
り、空調機の消費電力を抑えてランニングコストを低減
でき、また空調機の容量も小さくできて初期投資コスト
も低減できる。なお、機器室を別に設けてもその内部は
外気を流通するだけでそれに必要な温調は十分に可能で
あり、ランニングコストの増加原因となることはない。
た状態で機器室を配設すると、天井室、処理室、床下
室、機器室が上下の階層別に設置されることによりクリ
ーンルームの省スペース化を図ることができるととも
に、機器室を別に設けながら真空ポンプへの排気ライン
を可及的に短くすることができる。
一実施形態について、図1を参照して説明する。
3と床下室4と機器室5の上下4層構造に構成されてお
り、床下室4とその下部の機器室5とは気密分離されて
いる。処理室3の天井面3aにはHEPAフィルタやU
LPAフィルタなどの高性能フィルタを有するファンフ
ィルタユニット6が設置され、処理室3の床面3bは通
気構造とするためグレーチング床7にて構成されてい
る。8は床下室4と天井室2とを連通するリターン通路
で、床下室4の一端のリターン通路8入口部には循環空
気の温度及び湿度を調整する空調機9が配設されてい
る。かくして、空調機9にて温度及び湿度を調整され、
高性能フィルタにて清浄にされた空気が処理室3の天井
面3aから床面3bに向かって吹き出して清浄な空気の
ダウンフローが形成され、この清浄な温調空気が循環使
用されることにより効率的に処理室3内が清浄に保持さ
れる。
D装置などの各種処理装置10とそれに用いるガス供給
及び無害ガスの排出を行うガスユニット11が配設され
ている。又、床下室4内に外気を取り入れる外気導入口
12が設けられるとともに、外気を温度調整する外気空
調機13が配設されている。
ダクト14、及び処理装置10の真空排気を行う真空ポ
ンプ15や、真空排気中の有害ガスを燃焼方式で無害化
する除害機16などの補助機器が配設されている。ま
た、機器室5にはその壁面に形成された外気入口17か
ら外気が流入するように構成されている。
床下室4を貫通して機器室5内の真空ポンプ15に接続
されており、真空ポンプ15からその排気管15aを介
して除害機16に供給され、この除害機16で除害され
てその排気管16aを介して排気ダクト14に排出され
る。ガスユニット11から排出される無害ガスは同じく
床下室4を貫通する排出管11aを通して排気ダクト1
4に排出される。機器室5内に流入した外気は真空ポン
プ15や除害機16などの補助機器のカバー内を通って
それらの機器を冷却するとともに発生した塵埃を伴って
排気管14aを通り、排気ダクト14を経て外部に排出
される。
ンルーム1の建屋外に設けられている。
と床下室4を循環する清浄度の高い空気の循環通路内に
真空ポンプ15や除害機16などの発熱源となる補助機
器が配置されていないので、循環通路内に配設されてい
る空調機9の消費電力を10%以上低減することがで
き、また発熱源及び発塵源である真空ポンプ15や除害
機16などを覆っているカバー内の冷却及び塵埃排出用
の空気として機器室5内に流入した外気を用いるので、
上記循環通路内の温調された清浄度の高い空気を用いる
必要がなく、その分循環通路内に空調して取り入れる外
気量が少なくなることによって消費電力を約25%低減
することができ、またファンフィルタユニット6のメン
テナンス間隔も少なくできる。かくして、空調機9及び
外気空調機13の消費電力を抑えてランニングコストを
大幅に低減することができ、また空調機9、13の容量
も小さくできて初期投資コストも低減できる。なお、機
器室5は外気を流通するだけでそれに必要な温調は十分
に可能であり、ランニングコストの増加原因となること
はない。
離した状態で機器室5を配設しているので、天井室2、
処理室3、床下室4、機器室5が上下に階層別設置さ
れ、クリーンルーム1の省スペース化を図ることができ
る。また、機器室5を別に設けながら真空排気管10a
やガスユニット11の排出管11aを可及的に短くする
ことができる。
の説明から明らかなように、天井室と処理室と床下室を
循環する清浄度の高い空気の循環通路内に発熱源となる
補助機器が配置されていないので、循環通路内に配設さ
れる空調機の消費電力が少なくなり、また発塵源でもあ
る補助機器を覆っているカバー内の排出空気として循環
空気の一部を用いることによって温調された清浄度の高
い空気を外部に放出する必要もなく、その分空調して取
り入れる外気量が少なくなって消費電力が少なくなり、
空調機の消費電力を抑えてランニングコストを低減で
き、また空調機の容量も小さくできて初期投資コストも
低減できる。
た状態で機器室を配設すると、天井室、処理室、床下
室、機器室の上下の階層別設置によりクリーンルームの
省スペース化を図ることができるとともに、機器室を別
に設けながら真空ポンプの排気ラインを可及的に短くす
ることができる。
示す縦断面図である。
である。
Claims (2)
- 【請求項1】 循環空気が供給される天井室と、処理装
置が配設されるとともに天井室から高性能フィルタを通
して供給された空気が通気構造の床面から排出される処
理室と、処理室の床面から排出された空気が流入する床
下室と、床下室から天井室に空気を循環させるリターン
通路と、処理装置の補助機器が配設されるとともに外気
が流通される機器室とを備えたことを特徴とするクリー
ンルーム。 - 【請求項2】 床下室の下部に床下室と気密分離した状
態で機器室を配設したことを特徴とする請求項1記載の
クリーンルーム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31171297A JP3354849B2 (ja) | 1997-11-13 | 1997-11-13 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31171297A JP3354849B2 (ja) | 1997-11-13 | 1997-11-13 | クリーンルーム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11141938A true JPH11141938A (ja) | 1999-05-28 |
JP3354849B2 JP3354849B2 (ja) | 2002-12-09 |
Family
ID=18020569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31171297A Expired - Fee Related JP3354849B2 (ja) | 1997-11-13 | 1997-11-13 | クリーンルーム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3354849B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001176762A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-29 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造機器の換気方法及び換気設備 |
WO2002010651A1 (fr) * | 2000-07-31 | 2002-02-07 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Chambre remontage de barreaux de silicium |
JP2008266058A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 引上げ室 |
US10778095B2 (en) | 2016-06-10 | 2020-09-15 | Ntn Corporation | Switching DC/DC converter having power output during on and off periods |
-
1997
- 1997-11-13 JP JP31171297A patent/JP3354849B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001176762A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-29 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造機器の換気方法及び換気設備 |
JP4731650B2 (ja) * | 1999-12-21 | 2011-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造機器の換気方法及び換気設備 |
WO2002010651A1 (fr) * | 2000-07-31 | 2002-02-07 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Chambre remontage de barreaux de silicium |
JP2008266058A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 引上げ室 |
US10778095B2 (en) | 2016-06-10 | 2020-09-15 | Ntn Corporation | Switching DC/DC converter having power output during on and off periods |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3354849B2 (ja) | 2002-12-09 |
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