JPS6124933A - 空気調和システム - Google Patents

空気調和システム

Info

Publication number
JPS6124933A
JPS6124933A JP14493484A JP14493484A JPS6124933A JP S6124933 A JPS6124933 A JP S6124933A JP 14493484 A JP14493484 A JP 14493484A JP 14493484 A JP14493484 A JP 14493484A JP S6124933 A JPS6124933 A JP S6124933A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
clean room
exhaust
air conditioning
indoor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14493484A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiji Yamashita
英治 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP14493484A priority Critical patent/JPS6124933A/ja
Publication of JPS6124933A publication Critical patent/JPS6124933A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ventilation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、クリーンルーム内の空気調和を行なう空気調
和システムに関するもので、特にクリーンルーム内に該
クリーンルーム外へ排気を必要とする半導体製造装置等
の室内装置を設置する場合に使用されるものである。
〔発明の技術的背景〕
一般に、クリーンルームは表1−1及び表1−2に示す
ように、半導体工業をはじめ、多くの分野で使用されて
いる。
表1−1 表1−2 そしてクリーンルームには種の規格があり、例えば表2
に主な空気清浄規格が示されている。
この規格の中でも、表3に示す米国連邦規格(F ed
era、l  S tandard N(12096)
がよく用いられている。
表   3 (1) 表   3 (2) この表3の規格の条件は、単位体積当りの粒子数、圧力
、温度、湿度、気流、照度等である。クリーンルームク
ラスは、単位体積当りの粒子数で示され、例えば米国連
邦規格では1立方フイート中の0.5μm以上の粒子数
で表わす。クリーンルーム内で清浄度を必要とする製品
、薬品等の歩留り、品質向上のため、年々クリーンルー
ムクラスのクラス10、クラス1と清浄度の高いクリー
ンルームが要求されている。さらに粒子数対象粒径も、
0.5μmから、より多(存在する0、3μmあるいは
0.1μmと推移してぎている。このため、クリーンル
ームをつくるには、クリーンエアーを供給する空気浄化
装置が必要となる。この空気浄化装置としては、超高性
能フィルタが一般に使用されている。
フィルタの粒子捕集原理は、第4図に示すように、被ろ
通気体に流される粒子のうち、被ろ通気体の流速によっ
て慣性力を得た粒子Aと、拡散力による粒子Bとがろ材
1に捕集され、被ろ通気体の流れにのった粒子Cはろ材
料1に捕集されない。
第5図に粒子の径と捕集効率の関係が、第6図に粒子の
大きさに対する粒子の濃度が示されている。粒子は粒径
をXとすると、その粒子濃度をkx ae   (但し、a、には定数)で近似的に表ねせる
。空気中には粒径の小さい粒子はど多く存在する。それ
ゆえ、粒子径対象粒子が小さくなってくると、フィルタ
の捕集効率を高めるため、種々の提案がなされている。
フィルタの捕集効率を高める方式として、例えば第7図
(a)に示すようにろ材2.22を2重に重ねたろ材2
重折り方式、同図(b)のように高効率ろ材3を使用し
た高効率ろ打方式、同図(C)のように粒子を電離部4
で荷電した後標準形フィルタ5で捕集する荷電粒子方式
等がある。
しかし捕集効率が100%というフィルタは存在しない
ので、フィルタをよりよく使用するための空気調和シス
テムの検討が必要となる。
従来の空気調和システムとして、例えば゛第8図及び第
9図に示すような一般的なダウンフロータイブクリーン
ルーム方式がある。なお第8図は空気調和システムの概
略構成図、及び第9図は第8図の空調系統図である。こ
のシステムは、外壁10で囲まれたクリーンルーム11
の天井に最終フィルタ12を、床にすの子13をそれぞ
れ設け、吸入口14から外気×1を吸入してクリーンル
ーム11からの循環空気×2と混合し、前段フィルタ1
5で塵埃を除去した後、冷却及び除湿装置16、加熱装
置17、過失装置18によって温度、湿度制御を行なう
。そしてクリーンルーム送風装置19によって送風され
た空気は最終フィルタ12を通してクリーンルーム11
内に吹き出された後、ずの子13及びクリーンルームリ
ターンエアーダクト20を通りクリーンルームリターン
エア送風装置21によって吸入口14側へと送られる。
このように循環空気×2を循環させ、何度も前段フィル
タ15及び最終フィルタ12を通すことによって塵埃粒
子を捕集、減少させる。この際、粒子濃度の高い吸入外
気は、循環空気によって希釈している。
クリーンルーム11内には半導体製゛造装置等の室内装
置22が設定される。この室内装置22は装置吸入口2
3からクリーンエアー×3を吸入し、排気ダクト24を
介して排気浄化装置25へ送り、この排気浄化装置25
によって浄化した後、排気送風装置26によって排気×
4される。このようにクリーンルーム11からの排気×
4を主として室内装置22を介して行なうのは、室内装
置22から発生する粒子、ガスおよび薬品蒸気等が拡散
して、これが人、他の装置、クリーンルーム11を汚染
することを防止するためである。
なお、第9図中、G1はクリーンルーム内発生粒子数、
G2はクリーンルーム内発生粒子の拡散、Mは外気粒子
濃度、N1はリターンエアダクト20にひかれる空気の
粒子濃度、N2はフィルタ15.12から吹き出される
空気の粒子濃度である。
〔背景技術の問題点〕
しかしながら、従来の空気調和システムにあっては、粒
子濃度の高い外気を多量に吸入しているため、クリーン
ルーム11の清浄度を高めることが困難である。清浄度
を高めるため、クリーンルーム11内の換気回数を多く
する方法も考えられる。しかし室内環境基準として建築
基準法その他で気流速度が0.5m/秒以下とされてい
るため、前記のように換気回数を多くする方法には限界
がある。また、従来のシステムにあっては、外気を多量
に吸入し、しかも換気回数が多いため、空調設備が大き
くなり、設備費、運転費が高いという欠点がある。
さらに、従来のシステムでは、クリーンルーム11内で
発生した粒子、ガス、不純物等が室内装置22内へ吸収
されるため、室内装置22が汚染される。しかもクリー
ンルームエアーと清浄度、圧力、温度、湿麿等の空調条
件が異なる室内装置22は、この室内装置22の空調条
件に見合ったクリーンルームを新たに設け、このクリー
ンルーム11内に設置しなければならないという不利不
便さがある。
〔発明の目的〕
本発明は、従来の問題点を除去するためになされたもの
で、クリーンルームの清浄度を高め、しかも設備費、運
転費の軽減が図れる空気調和システムを提供することを
目的とする。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するために本発明は、排気を必要とする
室内装置が設置されたクリーンルーム内の空気調和を行
なう空気調和システムにおいて、前記室内装置に連通ず
る吸入口及び排気口を前記クリーンルーム外に設けると
共に、前記吸入口から吸入される外気の空気調和を行な
いかつ前記室内装置内の汚染空気を前記排気口から排出
する空気調和装置を前記室内装置に設けたことを特徴と
する。
〔発明の実施例〕
以下、第1図〜第3図を参照しつつ本発明の詳細な説明
する。なお、以下の図面において第8図及び第9図中の
要素と同一の要素には同一の符号が付されている。
第1図は空気調和システムの概略構成図、及び第2図は
第1図の空調系統図である。この空気調和システムは第
8図と同じようにダウンフロータイブクリーンルーム方
式であるが、第8図と異なる点は、クリーンルーム11
内で使用する室内装置22ごとに給排気空気空調機構を
設けたことである。すなわち、室内装置22への給気は
、装置用外気吸入口30から外気X11を吸入し、装置
用前段フィルタ31で塵埃粒子を除去して、装置用冷却
及び除湿装置32、装置用加熱装置33、装置用加湿装
置34によって温度、湿反制御を行なう。温度、湿度制
御後の空気は、装置用送風装置35によって装置用最終
フィルタ36を通り、装置給気ダクト37によって装置
給気口23に導く。
室内装置22の排気×4は、第8図と同じように、排気
ダクト24、排気浄化装置25及び排気送風装置26に
よって行なわれる。一方、クリーンルーム11の排気×
14は、外壁10と排気浄化装置25間に設けたクリー
ンルーム排気口38により行う。
以上の構成において、クリーンルーム11側の空気調和
は、外気吸入口14より外気x1を吸入し、□循環空気
×2と混合して前段フィルタ15を通して塵埃粒子を除
去し、冷却及び除湿装置16、加熱装置17、加湿袋装
置18により温度、湿度制御を行い、更にクリーンルー
ム送風装置19によって最終フィルタ12を通して塵埃
粒子を除去した後、クリーンルーム11内に吹き出され
、この吹き出された空気がすの子13を通りクリーンル
ームリターンエア送用装置21によってクリーンルーム
リターンエアダクト20を介して外気吸入口14側へ循
環空気×2として戻される。一方、室内装置22側の空
気調和は、装置用外気吸入口30より外気X11を吸入
し、前段フィルタ31で塵埃粒子を除去し、冷却及び除
湿装置32、加熱装置33、加湿装置34によって温度
、湿度制御を行ない、再麿最終フィルタ36で塵埃粒子
を除去した後、室内装置22へ導き、この室内装置22
内の空気を排気ダクト24等を介して排気X4する。
このような構造のため、外気吸入口14より吸入される
外気×1が、従来のものより室内装置22への給気分だ
け少なくできる。クリーンルーム11内に吸入される外
気×1が少な(なると、外気×1によって持ち込まれる
塵埃粒子が少なくなり、クリーンルーム11内の清浄度
が高くなる。
しかも外気導入量が少ないので、外気による温度、湿度
の外乱が少なくなり、このため冷却および除湿装置16
、加熱装置17、加湿装置18の温度、湿度制御の負荷
が少なくなる。これによって温度、湿度制御のための装
置を従来より規模を小さくでき、これに伴なって運転費
も軽減できる。また、装置給気口23が装置給気ダクト
37によってクリーンルーム11と遮蔽、分離されてい
るため、室内装置22からクリーンルーム11へ、クリ
ーンルーム11から室内装置22への汚染がなくなる。
しかも室内装置22の給排気系統はクリーンルーム11
側と分離しているため、室内装置22の排気口も少なく
でき、また室内装置22の給気とクリーンルーム11の
空調条件が異なってもよい。
次に、上記実施例の効果について、従来の空調系統図で
ある第9図及び本実施例の空調系統図である第2図を参
照しつつ更に説明する。
ここで、次のような定義をする。
N :リターンエアータクト20にひかれる空気の粒子
濃度、すなわち清浄度 〔個7ft3) N2:フィルター2より吹き出される空気の粒子濃度、
すなわち清浄度(個/ft3)A :フィルタ捕集効率 M :外気粒子濃度0個/rrL3〕 T :外気吸入量〔TrL3/時間〕 ■ =クリーンルーム容積〔TrL3〕K :クリーン
ルーム循環回数〔回/TrL3〕G :クリーンルーム
内発生粒子数〔個/時間〕そし゛て定常状態では、清浄
度N、N2は次の様に計算できる。
X (0,3048)3 (個/ft”)・・・・・・
・・・・・・  (1) X (0,3048>3 (個/ft3)・・・・・・
・・・・・・  (2) 第9図の従来装置では室内装置22給気をクリーンルー
ム11内より取っているので、クリーンルーム空調装置
に取り込む外気x1の量が、第2図の本実施例のように
クリーンルーム空調と室内装置給気空調を分離するもの
に比べ、多くなる。
外気×1は粒子−濃度が高く、それを多(取り込むこと
は粒子を多く持ち込むことになり、高い清浄度が得られ
ない。
ここで本実施例と従来技術の清浄度決定条件の違いを表
4に、循環回数を変えたときの本実施例と従来技術の清
浄度の違いを表5にそれぞれ示す。
なお、表5の値は、表4の値を上記(1)、(2)式に
代入して求めたものである。
表   4 表   5 表5は、フィルタより吹き出される粒子濃度N2リター
ンエアダクトにひられる空気の粒子濃度N1ともに、本
実施例の方が低い値を示し、清浄度の高いことを表して
いる。また、裏をがえして言えば、同じ清浄度を得るた
めには、本実施例の方が循環回数Kが少なくてよく、空
気調和を小型化、低運転費におさえることができる。さ
らに、清浄度が高いもの、温度、湿度制御等の必要とす
る室内装置22の空調を個別に行なうことができる。ま
た室内装置22の給気口23がクリーンルーム11・に
対して閉じられているので、クリーンルーム11から室
内装置22内へ、室内装置22からクリーンルーム11
へのガス、粒子の汚染が防止できる。
第3図は本発明の他の実施例を示す空気調和システムの
概略構成図である。この空気調和システムでは、第1図
の装置に装置空調用リターンエアーダクト40及び送風
装置41を設け、フィルタ36を通った空気を吸入側へ
循環することによって清浄度のより高い給気を装置給気
ダクト37に供給するものである。このような構成によ
れば、室内装置給気装置がクリーンルーム外にあ、るた
め、建築基準法によるところの風速0 、’5 m/秒
の制限を受けることなり、°循環回数を多くしてフィル
タ3、36を通過させる回数を増やし、清浄度の高い室
内装置22への給気が行える。また、クリーンルーム1
1内で粒子、薬品蒸気、ガスのような汚染原因が少なく
、無人ならばクリーンルーム11内への給気、排気を行
なう必要がなく、外気吸入口14およびクリーンルーム
排気口を閉じることができる。
なお、変形例としてクリーンルーム空調装置の一部、あ
るいは室内装置空調装置の一部を共用することもできる
。また、給気空調条件の許容範囲の重る室内装置は装置
空調装置を複数で共用できることもできる。
なお、上記実施例では、空気調和のために、温度、湿度
及び気流の調整、並びに塵埃及び汚染空気の除去を行な
っているが、空気調和のためには、少なくとも、空気中
の特定物質を除去するための手段あるいは空気中へ特定
物質を添加するための手段と、該空気を移動させるため
の送風装置とを備えればよく、従って上記空気調和条件
をすべて満足させる装置である必要はない。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、クリーンルーム
内に設置する室内装置に給排気空調機構を設けたので、
クリーンルームの清浄度を高めることができ、しかも設
備費、運転費を軽減することが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す空気調和システムの概略
構成図、第2図は第1図の空調系統図、第3図は本発明
の他の実施例を示づ空調調和システムの概略構成図、第
4図はフィルタの捕集原理を示す図、第5図は粒径と捕
集効率の関係図、第6図は連邦規格と外気汚染度を示す
図、第7図(a>、(b)、(c)は高効率フィルタの
構造図、第8図は従来の空気調和システムを示す概略構
成図、第9図は第8図の空調系統図である。 11・・・クリーンルーム、12・・・最終フィルタ、
13・・・すの子、14・・・外気吸入口、15・・・
前段フィルタ、16・・・冷却及び除湿装置、16・・
・加熱装置、18・・・加湿装置、19・・・クリーン
ルーム送風装置、20・・・クリーンルームリターンエ
アーダクト、21・・・クリーンルームリターンエアー
送風装置、22・・・室内装置、23・・・装置給気口
、24・・・排気ダクト、25・・・排気浄化装置、2
6・・・排気送風装置、30・・・装置用外気吸入口、
31・・・装置、用前段フィルタ、32・・・装置用冷
却及び除湿装置、33・・・装置用加熱装置、34・・
・装置用加湿装置、35・・・装置用送風装置、36・
・・装置用最終フィルタ、37・・・装置給気ダクト、
38・・・クリーンルーム排気口、40・・・装置空調
用リターンエアーダクト、41・・・装置空調用リター
ンエアー送風装置。 出願人代理人  猪  股    清 第2図 第8図 第9図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、排気を必要とする室内装置が設置されたクリーンル
    ーム内の空気調和を行なう空気調和システムにおいて、
    前記室内装置に連通する吸入口及び排気口を前記クリー
    ンルーム外に設けると共に、前記吸入口から吸入される
    外気の空気調和を行ないかつ前記室内装置内の汚染空気
    を前記排気口から排出する空気調和装置を前記室内装置
    に設けたことを特徴とする空気調和システム。 2、空気調和装置は、少なくとも空気中の特定物質を除
    去するための手段と該空気を移動させるための送風装置
    とを備えたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の空気調和システム。 3、空気調和装置は、少なくとも空気中へ特定物質を添
    加するための手段と該空気を移動させるための送風装置
    とを備えたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の空気調和システム。
JP14493484A 1984-07-12 1984-07-12 空気調和システム Pending JPS6124933A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14493484A JPS6124933A (ja) 1984-07-12 1984-07-12 空気調和システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14493484A JPS6124933A (ja) 1984-07-12 1984-07-12 空気調和システム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6124933A true JPS6124933A (ja) 1986-02-03

Family

ID=15373589

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14493484A Pending JPS6124933A (ja) 1984-07-12 1984-07-12 空気調和システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6124933A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6322533U (ja) * 1986-07-28 1988-02-15
US5326316A (en) * 1991-04-17 1994-07-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Coupling type clean space apparatus
US5681219A (en) * 1995-03-28 1997-10-28 Advanced Micro Devices Exhaust shroud and skirt apparatus and method
US5997398A (en) * 1995-12-01 1999-12-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor wafer storage apparatus and semiconductor device fabricating apparatus using said apparatus
EP0978691A2 (de) * 1998-08-06 2000-02-09 M+W Zander Facility Engineering GmbH + Co. KG Reinraum
US6368208B1 (en) * 1999-09-24 2002-04-09 Nec Corporation Cleanroom and cleanroom ventilation method
US6966364B1 (en) * 1999-02-12 2005-11-22 Asml Holding N.V. Systems and methods for controlling local environment
KR100689019B1 (ko) * 1998-08-06 2007-03-08 엠 플러스 더블유 짠더 퍼실리티 엔지니어링 게엠베하 플러스 코. 카게 청정실

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6322533U (ja) * 1986-07-28 1988-02-15
JPH0350332Y2 (ja) * 1986-07-28 1991-10-28
US5326316A (en) * 1991-04-17 1994-07-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Coupling type clean space apparatus
US5681219A (en) * 1995-03-28 1997-10-28 Advanced Micro Devices Exhaust shroud and skirt apparatus and method
US5997398A (en) * 1995-12-01 1999-12-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor wafer storage apparatus and semiconductor device fabricating apparatus using said apparatus
EP0978691A2 (de) * 1998-08-06 2000-02-09 M+W Zander Facility Engineering GmbH + Co. KG Reinraum
EP0978691A3 (de) * 1998-08-06 2005-07-20 M+W Zander Facility Engineering GmbH + Co. KG Reinraum
KR100689019B1 (ko) * 1998-08-06 2007-03-08 엠 플러스 더블유 짠더 퍼실리티 엔지니어링 게엠베하 플러스 코. 카게 청정실
US6966364B1 (en) * 1999-02-12 2005-11-22 Asml Holding N.V. Systems and methods for controlling local environment
US7389813B2 (en) * 1999-02-12 2008-06-24 Asml Holding N.V. Systems and methods for controlling local environment
US6368208B1 (en) * 1999-09-24 2002-04-09 Nec Corporation Cleanroom and cleanroom ventilation method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0648256Y2 (ja) クリーンルーム
JPS6124933A (ja) 空気調和システム
CN211372645U (zh) 一种千级无尘室空调系统
JPS56117027A (en) Air conditioning method for dome-shaped building
JPS58129125A (ja) 清浄作業室
JP4366582B2 (ja) 喫煙室の空気調和方法及びそのシステム
JP2001056140A (ja) クリーンルーム
JP2001522448A (ja) 空気処理装置、設備および方法
JP3354849B2 (ja) クリーンルーム
JPS6023731A (ja) 空気調和ユニツト
JPH10267338A (ja) クリーンルーム
JP2580893B2 (ja) クリーンルームのファンフイルタユニット
JPS62268941A (ja) クリ−ンル−ム
JP3279363B2 (ja) ダウンフロー方式のクリーンルームの拍動気流制御方法及びその装置
JP2000314544A (ja) クリーンルーム
JP3208753B2 (ja) クリーンルーム用空調機
JPS629135A (ja) 空気調和装置
JP2612198B2 (ja) 空気調和装置
JP2003083570A (ja) 高温高湿用空調システム
JPH0257844A (ja) クリーンルームの湿度制御方法
JPS5914666Y2 (ja) フイルタ−ユニツト
KR20220081411A (ko) 무기 및 유기입자 오염물질 차단 에어윈도우 및 그 제거방법
JP2000121142A (ja) 床下空調システム
JPH03263541A (ja) 空気清浄室
JPH04353324A (ja) エアーワッシャー型空調機