JP3163722B2 - クリーンルーム用給気装置 - Google Patents
クリーンルーム用給気装置Info
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- JP3163722B2 JP3163722B2 JP05858592A JP5858592A JP3163722B2 JP 3163722 B2 JP3163722 B2 JP 3163722B2 JP 05858592 A JP05858592 A JP 05858592A JP 5858592 A JP5858592 A JP 5858592A JP 3163722 B2 JP3163722 B2 JP 3163722B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置等の製造を行
うクリーンルームに清浄化空気を供給する装置の構成に
関する。
うクリーンルームに清浄化空気を供給する装置の構成に
関する。
【０００２】近年、半導体装置は高集積・高密度化の要
求に対応してパターンの微細化が進められ、それを製造
するクリーンルームの空気清浄度に対する要求が厳しさ
を増している。パーティクルに関しては０.1μm で評価
されるようになり、更に分子汚染の制御も必要となって
いる。一方、このような要求を満足するクリーンルーム
を実現させる清浄化空気給気装置の設備費や動力費が膨
大となっている。そのため、高レベルの清浄化空気を効
率良くクリーンルームに供給することが可能な給気装置
が望まれている。
求に対応してパターンの微細化が進められ、それを製造
するクリーンルームの空気清浄度に対する要求が厳しさ
を増している。パーティクルに関しては０.1μm で評価
されるようになり、更に分子汚染の制御も必要となって
いる。一方、このような要求を満足するクリーンルーム
を実現させる清浄化空気給気装置の設備費や動力費が膨
大となっている。そのため、高レベルの清浄化空気を効
率良くクリーンルームに供給することが可能な給気装置
が望まれている。
【０００３】
【従来の技術】クリーンルーム用給気装置の従来例を図
３を参照しながら説明する。図３は従来例の概念を示す
図である。同図において、図１と同じものには同一の符
号を付与した。この例は、高度の清浄度を要する第一の
クリーンルーム１（例えばウェーハ処理室）と、これよ
り必要清浄度が低い第二のクリーンルーム２（例えばメ
ンテナンス室）とが隣接しており、又、いずれもダウン
フロー式クリーンルームであり、これらの上方は一つの
天井チャンバ（図示は省略）となり、下方は一つの床下
チャンバ（図示は省略）となっている場合の、両クリー
ンルームに清浄化空気を供給する装置である。
３を参照しながら説明する。図３は従来例の概念を示す
図である。同図において、図１と同じものには同一の符
号を付与した。この例は、高度の清浄度を要する第一の
クリーンルーム１（例えばウェーハ処理室）と、これよ
り必要清浄度が低い第二のクリーンルーム２（例えばメ
ンテナンス室）とが隣接しており、又、いずれもダウン
フロー式クリーンルームであり、これらの上方は一つの
天井チャンバ（図示は省略）となり、下方は一つの床下
チャンバ（図示は省略）となっている場合の、両クリー
ンルームに清浄化空気を供給する装置である。
【０００４】この装置は空気の流れが次のようになるよ
うに構成されている。外気は外気処理装置31により吸引
され、清浄化と温湿度調整がなされた後、天井チャンバ
に送られる。次にここから高度の清浄化が可能な第一の
清浄化手段11（例えばＵＬＰＡフィルタ）を経て第一の
クリーンルーム１に給気されると共に、第一の清浄化手
段11より清浄化レベルが低い第二の清浄化手段12（例え
ばＨＥＰＡフィルタ）を経て第二のクリーンルーム２に
給気される。これらのクリーンルームを通過した空気は
床下チャンバに入る。その後、一部は排気され、残部は
空調機32により冷却され、更にフィルタ33により清浄化
された後、給気側（即ち天井チャンバ）に戻される。
うに構成されている。外気は外気処理装置31により吸引
され、清浄化と温湿度調整がなされた後、天井チャンバ
に送られる。次にここから高度の清浄化が可能な第一の
清浄化手段11（例えばＵＬＰＡフィルタ）を経て第一の
クリーンルーム１に給気されると共に、第一の清浄化手
段11より清浄化レベルが低い第二の清浄化手段12（例え
ばＨＥＰＡフィルタ）を経て第二のクリーンルーム２に
給気される。これらのクリーンルームを通過した空気は
床下チャンバに入る。その後、一部は排気され、残部は
空調機32により冷却され、更にフィルタ33により清浄化
された後、給気側（即ち天井チャンバ）に戻される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
従来のクリーンルーム用給気装置では、第一のクリーン
ルームを通過した空気と第二のクリーンルームを通過し
た空気とが床下チャンバで混合されるから、この空気の
清浄度低下、特に分子汚染が著しい上、一般的には温度
上昇も著しい。従って、これを給気側に戻して再利用す
るには大規模の装置を必要としていた。又、外気処理装
置は第一のクリーンルームと第二のクリーンルームの双
方に給気する外気を処理するから、大容量の装置とな
り、多大の設備費、動力費を要していた。
従来のクリーンルーム用給気装置では、第一のクリーン
ルームを通過した空気と第二のクリーンルームを通過し
た空気とが床下チャンバで混合されるから、この空気の
清浄度低下、特に分子汚染が著しい上、一般的には温度
上昇も著しい。従って、これを給気側に戻して再利用す
るには大規模の装置を必要としていた。又、外気処理装
置は第一のクリーンルームと第二のクリーンルームの双
方に給気する外気を処理するから、大容量の装置とな
り、多大の設備費、動力費を要していた。
【０００６】本発明はこのような問題を解決して、高レ
ベルの空気清浄化を効率良く行うことが可能なクリーン
ルーム用給気装置を提供することを目的とする。
ベルの空気清浄化を効率良く行うことが可能なクリーン
ルーム用給気装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成する手段
を、図１を参照しながら説明する。図１は本発明の概念
を示す図である。
を、図１を参照しながら説明する。図１は本発明の概念
を示す図である。
【０００８】この目的は、本発明によれば、高度の清浄
度を必要とする第一のクリーンルーム１と該第一のクリ
ーンルーム１より必要清浄度が低位の第二のクリーンル
ーム２とを含む複数のクリーンルームに清浄化空気を供
給する装置において、外気を吸引して清浄化レベルが高
位の第一の清浄化手段11を介して第一のクリーンルーム
１へ給気する第一の給気路13と、該第一のクリーンルー
ム１から排出される空気の一部を該第一の清浄化手段11
を介して該第一のクリーンルーム１に還気する第一の還
気路14と、該第一のクリーンルーム１から排出される空
気の残部を逆止め手段15及び清浄化レベルが該第一の清
浄化手段11より低位の第二の清浄化手段12を介して第二
のクリーンルーム２に給気する第二の給気路16とを有
し、該第二のクリーンルーム２から排出される空気は該
第一のクリーンルーム１を介することなく装置外に排出
されることを特徴とするクリーンルーム用給気装置とす
ることで、達成される。
度を必要とする第一のクリーンルーム１と該第一のクリ
ーンルーム１より必要清浄度が低位の第二のクリーンル
ーム２とを含む複数のクリーンルームに清浄化空気を供
給する装置において、外気を吸引して清浄化レベルが高
位の第一の清浄化手段11を介して第一のクリーンルーム
１へ給気する第一の給気路13と、該第一のクリーンルー
ム１から排出される空気の一部を該第一の清浄化手段11
を介して該第一のクリーンルーム１に還気する第一の還
気路14と、該第一のクリーンルーム１から排出される空
気の残部を逆止め手段15及び清浄化レベルが該第一の清
浄化手段11より低位の第二の清浄化手段12を介して第二
のクリーンルーム２に給気する第二の給気路16とを有
し、該第二のクリーンルーム２から排出される空気は該
第一のクリーンルーム１を介することなく装置外に排出
されることを特徴とするクリーンルーム用給気装置とす
ることで、達成される。
【０００９】
【作用】本発明のクリーンルーム用給気装置では、清浄
度が上位レベルのクリーンルームへはそのクリーンルー
ムを通過した空気だけを還風し、下位レベルのクリーン
ルームを通過した空気は混入されず、又、清浄度が上位
レベルのクリーンルームを通過した空気を下位レベルの
クリーンルームに送る給気路には逆止め手段が挿入され
ているから、清浄度が上位レベルのクリーンルームへ還
風される空気は元々清浄度が比較的高く（一般的には温
度変化も比較的小さい）、これを清浄化するフィルタ
（及びこれを冷却する空調機）は小規模でよいか、不要
となる。又、分子汚染制御も比較的容易に行なえる。更
に、外気処理装置は清浄度が上位レベルのクリーンルー
ムへの給気分だけを処理すればよいから、小容量の装置
でよい。従って、高レベルの空気清浄化を効率良く行う
ことが可能となる。
度が上位レベルのクリーンルームへはそのクリーンルー
ムを通過した空気だけを還風し、下位レベルのクリーン
ルームを通過した空気は混入されず、又、清浄度が上位
レベルのクリーンルームを通過した空気を下位レベルの
クリーンルームに送る給気路には逆止め手段が挿入され
ているから、清浄度が上位レベルのクリーンルームへ還
風される空気は元々清浄度が比較的高く（一般的には温
度変化も比較的小さい）、これを清浄化するフィルタ
（及びこれを冷却する空調機）は小規模でよいか、不要
となる。又、分子汚染制御も比較的容易に行なえる。更
に、外気処理装置は清浄度が上位レベルのクリーンルー
ムへの給気分だけを処理すればよいから、小容量の装置
でよい。従って、高レベルの空気清浄化を効率良く行う
ことが可能となる。
【００１０】
【実施例】本発明に係るクリーンルーム用給気装置の実
施例を図２を参照しながら説明する。図２は本発明の実
施例の説明図であり、装置の構成を隣接する二つのダウ
ンフロー式クリーンルームと共に示している。尚、同図
中、図１と同じものには同一の符号を付与した。
施例を図２を参照しながら説明する。図２は本発明の実
施例の説明図であり、装置の構成を隣接する二つのダウ
ンフロー式クリーンルームと共に示している。尚、同図
中、図１と同じものには同一の符号を付与した。
【００１１】第一のクリーンルーム１は、例えばウェー
ハ処理室であり、高度の空気清浄度を必要とする。第二
のクリーンルーム２は、例えばメンテナンス室（ウェー
ハ処理装置の付属設備が設置され、且つウェーハ処理装
置のメンテナンスを行う）であり、第一のクリーンルー
ム１より低レベルの空気清浄度を必要とする。第一のク
リーンルーム１の上方は第一の天井チャンバ1a、下方は
第一の床下チャンバ1bとなっており、又、第二のクリー
ンルーム２の上方は第二の天井チャンバ2a、下方は第二
の床下チャンバ2bとなっている。
ハ処理室であり、高度の空気清浄度を必要とする。第二
のクリーンルーム２は、例えばメンテナンス室（ウェー
ハ処理装置の付属設備が設置され、且つウェーハ処理装
置のメンテナンスを行う）であり、第一のクリーンルー
ム１より低レベルの空気清浄度を必要とする。第一のク
リーンルーム１の上方は第一の天井チャンバ1a、下方は
第一の床下チャンバ1bとなっており、又、第二のクリー
ンルーム２の上方は第二の天井チャンバ2a、下方は第二
の床下チャンバ2bとなっている。
【００１２】第一の清浄化手段11は超高性能フィルタ
（ＵＬＰＡフィルタ）とファンからなるフィルタユニッ
トであり、多数のこのフィルタユニットが第一のクリー
ンルーム１の天井を構成している。第二の清浄化手段12
は高性能フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）であり、第二の
クリーンルーム２の天井には多数の第二の清浄化手段12
が取り付けられている。
（ＵＬＰＡフィルタ）とファンからなるフィルタユニッ
トであり、多数のこのフィルタユニットが第一のクリー
ンルーム１の天井を構成している。第二の清浄化手段12
は高性能フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）であり、第二の
クリーンルーム２の天井には多数の第二の清浄化手段12
が取り付けられている。
【００１３】第一の給気路13は外気取入れ口（図示は省
略）から外気処理装置21を経て第一の天井チャンバ1aに
至るダクトからなる。第一の還気路14は第一の床下チャ
ンバ1bから空調機22及び特殊フィルタ23を経て第一の天
井チャンバ1aに至るダクトと送風機からなる。逆止め手
段15はチャッキダンパであり、空気の逆流を防止する。
第二の給気路16は第一の床下チャンバ1bから逆止め手段
15を経て第二の天井チャンバ1bに至るダクトと送風機か
らなる。第二の還気路17は第二の床下チャンバ2bから空
調機24を経て第二の天井チャンバ1bに至るダクトと送風
機からなる。
略）から外気処理装置21を経て第一の天井チャンバ1aに
至るダクトからなる。第一の還気路14は第一の床下チャ
ンバ1bから空調機22及び特殊フィルタ23を経て第一の天
井チャンバ1aに至るダクトと送風機からなる。逆止め手
段15はチャッキダンパであり、空気の逆流を防止する。
第二の給気路16は第一の床下チャンバ1bから逆止め手段
15を経て第二の天井チャンバ1bに至るダクトと送風機か
らなる。第二の還気路17は第二の床下チャンバ2bから空
調機24を経て第二の天井チャンバ1bに至るダクトと送風
機からなる。
【００１４】外気処理装置21は空気洗浄機、プレフィル
タ、中性能フィルタ、高性能フィルタ、空調機、送風機
等からなり、外気の吸引、清浄化、温湿度制御、送風を
行う。空調機22及び24はそれぞれ第一の還気路14及び第
二の還気路17の空気を所望の温度に冷却する。特殊フィ
ルタ23は活性炭等に汚染分子を吸着させる分子汚染用フ
ィルタである。
タ、中性能フィルタ、高性能フィルタ、空調機、送風機
等からなり、外気の吸引、清浄化、温湿度制御、送風を
行う。空調機22及び24はそれぞれ第一の還気路14及び第
二の還気路17の空気を所望の温度に冷却する。特殊フィ
ルタ23は活性炭等に汚染分子を吸着させる分子汚染用フ
ィルタである。
【００１５】次に、この給気装置における空気の流れを
説明する。先ず外気が外気処理装置21に吸引され、清浄
化、温湿度調整がなされて第一の天井チャンバ1aに送風
される。次に第一の清浄化手段11により所望の清浄度に
清浄化され、第一のクリーンルーム１を垂直層流となっ
て通過し、若干汚染すると共に若干昇温して第一の床下
チャンバ1bに入る。その後この空気は、一部が冷却及び
清浄化されて再び第一の天井チャンバ1aに送風され、残
部は逆止め手段15を経て第二の天井チャンバ2aに送風さ
れる。
説明する。先ず外気が外気処理装置21に吸引され、清浄
化、温湿度調整がなされて第一の天井チャンバ1aに送風
される。次に第一の清浄化手段11により所望の清浄度に
清浄化され、第一のクリーンルーム１を垂直層流となっ
て通過し、若干汚染すると共に若干昇温して第一の床下
チャンバ1bに入る。その後この空気は、一部が冷却及び
清浄化されて再び第一の天井チャンバ1aに送風され、残
部は逆止め手段15を経て第二の天井チャンバ2aに送風さ
れる。
【００１６】第二の天井チャンバ2a内の空気は第二の清
浄化手段12により所望の清浄度に清浄化され、第二のク
リーンルーム２を垂直層流となって通過し、若干汚染す
ると共に若干昇温して第二の床下チャンバ2bに入る。そ
の後この空気は、一部が冷却されて再び第二の天井チャ
ンバ2aに送風され、残部は排気として外気中に放出され
るか、各クリーンルーム内に設置されている生産設備類
内に排熱・排ガス等のために送られたのち外気中に放出
されるか、或いは第二のクリーンルーム２により更に必
要清浄度の低い部屋に送られる。
浄化手段12により所望の清浄度に清浄化され、第二のク
リーンルーム２を垂直層流となって通過し、若干汚染す
ると共に若干昇温して第二の床下チャンバ2bに入る。そ
の後この空気は、一部が冷却されて再び第二の天井チャ
ンバ2aに送風され、残部は排気として外気中に放出され
るか、各クリーンルーム内に設置されている生産設備類
内に排熱・排ガス等のために送られたのち外気中に放出
されるか、或いは第二のクリーンルーム２により更に必
要清浄度の低い部屋に送られる。
【００１７】本発明は以上の実施例に限定されることな
く、更に種々変形して実施することが出来る。例えば、
各給気路、還気路に必要に応じて空調機、フィルタを追
加若しくは削除しても、本発明は有効である。
く、更に種々変形して実施することが出来る。例えば、
各給気路、還気路に必要に応じて空調機、フィルタを追
加若しくは削除しても、本発明は有効である。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
清浄度が上位レベルのクリーンルームの排気を清浄度が
下位レベルのクリーンルームに逆止め手段を介して供給
すると共に、下位レベルのクリーンルームの排気を清浄
度が上位レベルのクリーンルームに還風することがない
から、高レベルの空気清浄化を効率良く行うことが可能
なクリーンルーム用給気装置を提供することが出来、半
導体装置製造におけるコストの低減、歩留り向上等に寄
与する。
清浄度が上位レベルのクリーンルームの排気を清浄度が
下位レベルのクリーンルームに逆止め手段を介して供給
すると共に、下位レベルのクリーンルームの排気を清浄
度が上位レベルのクリーンルームに還風することがない
から、高レベルの空気清浄化を効率良く行うことが可能
なクリーンルーム用給気装置を提供することが出来、半
導体装置製造におけるコストの低減、歩留り向上等に寄
与する。
【図１】 本発明の概念を示す図である。
【図２】 本発明の実施例の説明図である。
【図３】 従来例の概念を示す図である。
１ 第一のクリーンルーム 1a 第一の天井チャンバ 1b 第一の床下チャンバ ２ 第二のクリーンルーム 2a 第二の天井チャンバ 2b 第二の床下チャンバ 11 第一の清浄化手段 12 第二の清浄化手段 13 第一の給気路 14 第一の還気路 15 逆止め手段 16 第二の給気路 17 第二の還気路 21, 31 外気処理装置 22, 24, 32 空調機 23 特殊フィルタ 33 フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実開 昭60−28090（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F24F 7/06
Claims (2)
- 【請求項１】 高度の清浄度を必要とする第一のクリー
ンルーム(1) と該第一のクリーンルーム(1) より必要清
浄度が低位の第二のクリーンルーム(2) とを含む複数の
クリーンルームに清浄化空気を供給する装置において、 外気を吸引して清浄化レベルが高位の第一の清浄化手段
(11)を介して該第一のクリーンルーム(1) へ給気する第
一の給気路(13)と、 該第一のクリーンルーム(1) から排出される空気の一部
を該第一の清浄化手段(11)を介して該第一のクリーンル
ーム(1) に還気する第一の還気路(14)と、 該第一のクリーンルーム(1) から排出される空気の残部
を逆止め手段(15)及び清浄化レベルが該第一の清浄化手
段(11)より低位の第二の清浄化手段(12)を介して第二の
クリーンルーム(2) に給気する第二の給気路(16)とを有
することを特徴とするクリーンルーム用給気装置。 - 【請求項２】 前記第二のクリーンルーム(2) から排出
される空気は前記第一のクリーンルーム(1) を介するこ
となく装置外に排出されることを特徴とする請求項１記
載のクリーンルーム用給気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05858592A JP3163722B2 (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | クリーンルーム用給気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05858592A JP3163722B2 (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | クリーンルーム用給気装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05264082A JPH05264082A (ja) | 1993-10-12 |
| JP3163722B2 true JP3163722B2 (ja) | 2001-05-08 |
Family
ID=13088549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05858592A Expired - Fee Related JP3163722B2 (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | クリーンルーム用給気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3163722B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4641158B2 (ja) * | 2004-07-12 | 2011-03-02 | 株式会社 菱進 | クリーンルーム |
| JP4632737B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2011-02-16 | 三洋電機株式会社 | 細胞培養施設 |
| JP2007115389A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
-
1992
- 1992-03-17 JP JP05858592A patent/JP3163722B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05264082A (ja) | 1993-10-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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