JP2904011B2 - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
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- JP2904011B2 JP2904011B2 JP13442794A JP13442794A JP2904011B2 JP 2904011 B2 JP2904011 B2 JP 2904011B2 JP 13442794 A JP13442794 A JP 13442794A JP 13442794 A JP13442794 A JP 13442794A JP 2904011 B2 JP2904011 B2 JP 2904011B2
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- Japan
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- room
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はクリーンルームに係り、
特に半導体製造用に適用されるクリーンルームに関す
る。
特に半導体製造用に適用されるクリーンルームに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工場では、集積度の増大に伴
いその生産プロセスが複雑となってきており、また、生
産現場となるクリーンルームにおいても高い清浄度が要
求されている。そこで、現在では、フイルタとファンか
ら成るファンフイルタユニット（以下、「ＦＦＵ」と称
する）をクリーンルームの室内上部一面に多数台敷きつ
めて、前記フイルタにより空調エアを除塵すると共に、
除塵した空調エアを前記ファンによってクリーンルーム
内に下向流として供給するようにしている。
いその生産プロセスが複雑となってきており、また、生
産現場となるクリーンルームにおいても高い清浄度が要
求されている。そこで、現在では、フイルタとファンか
ら成るファンフイルタユニット（以下、「ＦＦＵ」と称
する）をクリーンルームの室内上部一面に多数台敷きつ
めて、前記フイルタにより空調エアを除塵すると共に、
除塵した空調エアを前記ファンによってクリーンルーム
内に下向流として供給するようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記クリーンルームで
は、その室内が半導体製造装置を取り扱う清浄領域と、
前記装置をメンテナンスする際に使用する保守領域とに
区分けされている。しかしながら、従来のクリーンルー
ムでは、半導体製造装置のメンテナンス時にしか清浄雰
囲気を必要としない前記保守領域においても、常に清浄
雰囲気に保持しているので、ＦＦＵの設置台数が増大す
ると共に、ＦＦＵの稼働コストが膨大になるという欠点
がある。
は、その室内が半導体製造装置を取り扱う清浄領域と、
前記装置をメンテナンスする際に使用する保守領域とに
区分けされている。しかしながら、従来のクリーンルー
ムでは、半導体製造装置のメンテナンス時にしか清浄雰
囲気を必要としない前記保守領域においても、常に清浄
雰囲気に保持しているので、ＦＦＵの設置台数が増大す
ると共に、ＦＦＵの稼働コストが膨大になるという欠点
がある。
【０００４】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、保守領域の必要な領域だけ清浄雰囲気に保持す
ることができるクリーンルームを提供することを目的と
する。
もので、保守領域の必要な領域だけ清浄雰囲気に保持す
ることができるクリーンルームを提供することを目的と
する。
【０００５】
【課題を解決する為の手段】本発明は、前記目的を達成
するために、クリーンルームの室内を、半導体製造装置
を取り扱う清浄領域と、半導体製造装置をメンテナンス
する際に使用する保守領域とに区分けし、前記清浄領域
の室内上部にファンフイルタユニットを固定設置すると
共に、前記保守領域の室内上部にファンフイルタユニッ
トを該天井面に沿って移動可能に配設し、該保守領域内
の清浄雰囲気を必要とする所定領域の上部に前記ファン
フイルタユニットを移動させて、この所定領域に下向流
の清浄空気を供給するようにしたことを特徴とする。
するために、クリーンルームの室内を、半導体製造装置
を取り扱う清浄領域と、半導体製造装置をメンテナンス
する際に使用する保守領域とに区分けし、前記清浄領域
の室内上部にファンフイルタユニットを固定設置すると
共に、前記保守領域の室内上部にファンフイルタユニッ
トを該天井面に沿って移動可能に配設し、該保守領域内
の清浄雰囲気を必要とする所定領域の上部に前記ファン
フイルタユニットを移動させて、この所定領域に下向流
の清浄空気を供給するようにしたことを特徴とする。
【０００６】
【作用】本発明によれば、クリーンルームの保守領域に
ファンフイルタユニットを移動自在に設け、このファン
フイルタユニットを保守領域の清浄雰囲気を必要とする
領域の上部に移動させて、除塵した空調エアをその領域
に下向流として供給するようにしたので、保守領域の必
要な領域だけ清浄雰囲気に保持することができる。
ファンフイルタユニットを移動自在に設け、このファン
フイルタユニットを保守領域の清浄雰囲気を必要とする
領域の上部に移動させて、除塵した空調エアをその領域
に下向流として供給するようにしたので、保守領域の必
要な領域だけ清浄雰囲気に保持することができる。
【０００７】
【０００８】
【実施例】以下添付図面に従って本発明に係るクリーン
ルームの好ましい実施例について説明する。図１には本
発明に係るクリーンルームの全体構造が示される。同図
に示すように、クリーンルーム１０の空調は空調機１２
によって行われる。空調機１２は、外気１４とクリーン
ルーム１０を循環する環気１６とを吸引すると共に、外
気１４と環気１６とをクリーンルームに要求される所定
の温度／湿度に空調する。空調機１２で空調されたエア
１８は、クリーンルーム１０の天井室２０に供給され
る。天井室２０に供給された空調エア１８は、後述する
多数のＦＦＵ２２、２２…を介してクリーンルーム１０
内の清浄領域２４、保守領域２６にそれぞれ下向流とし
て供給され、そして、床面のグレーチング板２８を介し
て床下チャンバ３０に導入される。床下チャンバ３０に
導入されたエアは、その一部が前記空調機１２に環気１
６として吸引される。また、半導体製造装置４０の排気
として一部はスクラバ装置等の排気処理装置３２によっ
て排気処理されて大気に放出される。
ルームの好ましい実施例について説明する。図１には本
発明に係るクリーンルームの全体構造が示される。同図
に示すように、クリーンルーム１０の空調は空調機１２
によって行われる。空調機１２は、外気１４とクリーン
ルーム１０を循環する環気１６とを吸引すると共に、外
気１４と環気１６とをクリーンルームに要求される所定
の温度／湿度に空調する。空調機１２で空調されたエア
１８は、クリーンルーム１０の天井室２０に供給され
る。天井室２０に供給された空調エア１８は、後述する
多数のＦＦＵ２２、２２…を介してクリーンルーム１０
内の清浄領域２４、保守領域２６にそれぞれ下向流とし
て供給され、そして、床面のグレーチング板２８を介し
て床下チャンバ３０に導入される。床下チャンバ３０に
導入されたエアは、その一部が前記空調機１２に環気１
６として吸引される。また、半導体製造装置４０の排気
として一部はスクラバ装置等の排気処理装置３２によっ
て排気処理されて大気に放出される。
【０００９】前記ＦＦＵ２２は、ファン３４とフイルタ
３６から構成される。これらのファン３４とフイルタ３
６は、そのぞれ筒状のケーシング３８内に固定されてい
る。前記ファン３４は、天井室２０に供給された空調エ
ア１８を吸引し、この吸引した空調エア１８をフイルタ
３６を介して清浄領域２４、保守領域２６に供給するこ
とができ、また、前記フイルタ３６は、空調エア１８中
の塵埃等を除塵することができる。従って、清浄領域２
４、保守領域２６にはＦＦＵ２２により清浄化された空
調エアが供給される。
３６から構成される。これらのファン３４とフイルタ３
６は、そのぞれ筒状のケーシング３８内に固定されてい
る。前記ファン３４は、天井室２０に供給された空調エ
ア１８を吸引し、この吸引した空調エア１８をフイルタ
３６を介して清浄領域２４、保守領域２６に供給するこ
とができ、また、前記フイルタ３６は、空調エア１８中
の塵埃等を除塵することができる。従って、清浄領域２
４、保守領域２６にはＦＦＵ２２により清浄化された空
調エアが供給される。
【００１０】前記清浄領域２４は、半導体製造装置４
０、４０上に立設されたパーテーション４２、４２によ
って両側の保守領域２６から仕切られている。また、清
浄領域２４上のＦＦＵ２２、２２…は、前記パーテーシ
ョン４２の上部に固定設置されている。一方、保守領域
２６、２６に設置されたＦＦＵ２２、２２…は、図２に
示すように縦２列、横４列に連結された８台１組のＦＦ
Ｕ群２３からそれぞれ構成される。前記ＦＦＵ群２３
は、両側に配置されたＦＦＵ２２、２２が図３に示す吊
りロッド４４に垂下され、この吊りロッド４４はその上
部に取り付けられた一対のキャスタ４６、４６を介して
レール４８に移動自在に垂下されている。前記レール４
８は、クリーンルーム１０の天井室２０に設けられた梁
５０（図１参照）に固定される。この梁５０は、固定半
導体製造装置４０、４０…の設置方向（図２中上下方
向）に対して直交方向に配設され、また、レール４８は
前記梁５０に対して直交方向に固定されている。これに
より、ＦＦＵ群２３は、前記レール４８、４８に沿って
半導体製造装置４０、４０…の配設方向に沿ってスライ
ド移動自在となっている。
０、４０上に立設されたパーテーション４２、４２によ
って両側の保守領域２６から仕切られている。また、清
浄領域２４上のＦＦＵ２２、２２…は、前記パーテーシ
ョン４２の上部に固定設置されている。一方、保守領域
２６、２６に設置されたＦＦＵ２２、２２…は、図２に
示すように縦２列、横４列に連結された８台１組のＦＦ
Ｕ群２３からそれぞれ構成される。前記ＦＦＵ群２３
は、両側に配置されたＦＦＵ２２、２２が図３に示す吊
りロッド４４に垂下され、この吊りロッド４４はその上
部に取り付けられた一対のキャスタ４６、４６を介して
レール４８に移動自在に垂下されている。前記レール４
８は、クリーンルーム１０の天井室２０に設けられた梁
５０（図１参照）に固定される。この梁５０は、固定半
導体製造装置４０、４０…の設置方向（図２中上下方
向）に対して直交方向に配設され、また、レール４８は
前記梁５０に対して直交方向に固定されている。これに
より、ＦＦＵ群２３は、前記レール４８、４８に沿って
半導体製造装置４０、４０…の配設方向に沿ってスライ
ド移動自在となっている。
【００１１】このように構成されたＦＦＵ群２３によれ
ば、メンテナンスを行う装置４０の保守領域２６の上方
にＦＦＵ群２３をスライド移動させるだけで、この領域
２６を清浄雰囲気に保持することができる。これによ
り、本実施例では、クリーンルームの室内上部一面に多
数台のＦＦＵを設置する必要がなくなるので、ＦＦＵの
設置台数を削減することができると共に、ＦＦＵの稼働
コストを大幅に削減することができる。
ば、メンテナンスを行う装置４０の保守領域２６の上方
にＦＦＵ群２３をスライド移動させるだけで、この領域
２６を清浄雰囲気に保持することができる。これによ
り、本実施例では、クリーンルームの室内上部一面に多
数台のＦＦＵを設置する必要がなくなるので、ＦＦＵの
設置台数を削減することができると共に、ＦＦＵの稼働
コストを大幅に削減することができる。
【００１２】図４に示す実施例は、前記ＦＦＵ群２３の
周縁に、保守領域２６を覆うカーテン５２を取り付け、
清浄雰囲気が必要な保守領域２６をカーテン５２によっ
て隣接する保守領域２６、２６から遮蔽したものであ
る。これにより、本実施例では、清浄雰囲気が必要な保
守領域２６を、前記カーテン５２によって高い清浄度に
保持することができる。
周縁に、保守領域２６を覆うカーテン５２を取り付け、
清浄雰囲気が必要な保守領域２６をカーテン５２によっ
て隣接する保守領域２６、２６から遮蔽したものであ
る。これにより、本実施例では、清浄雰囲気が必要な保
守領域２６を、前記カーテン５２によって高い清浄度に
保持することができる。
【００１３】図５に示す実施例は、ＦＦＵ群２３の周縁
にエアーノズル５４、５４…を設け、これらのエアーノ
ズル５４、５４…から吹き出されるエアーによってエア
ーカーテンを形成し、保守領域２６を隣接する保守領域
２６、２６から遮蔽したものである。これにより、本実
施例では、図４に示した実施例と同様に、清浄雰囲気が
必要な保守領域２６を高い清浄度に保持することができ
る。
にエアーノズル５４、５４…を設け、これらのエアーノ
ズル５４、５４…から吹き出されるエアーによってエア
ーカーテンを形成し、保守領域２６を隣接する保守領域
２６、２６から遮蔽したものである。これにより、本実
施例では、図４に示した実施例と同様に、清浄雰囲気が
必要な保守領域２６を高い清浄度に保持することができ
る。
【００１４】本実施例では、ＦＦＵ群２３を８台のＦＦ
Ｕ２２、２２…によって構成したが、これに限られるも
のではなく、保守領域２６の広さに応じてその台数を設
定すれば良い。また、本実施例では、清浄領域２４の上
方一面にＦＦＵ２２、２２…を固定設置したが、これに
限られるものではなく、保守領域２６のＦＦＵ２２と同
様に、移動可能にしても良い。
Ｕ２２、２２…によって構成したが、これに限られるも
のではなく、保守領域２６の広さに応じてその台数を設
定すれば良い。また、本実施例では、清浄領域２４の上
方一面にＦＦＵ２２、２２…を固定設置したが、これに
限られるものではなく、保守領域２６のＦＦＵ２２と同
様に、移動可能にしても良い。
【００１５】前記ＦＦＵ群２３の移動手段は、作業者が
手動で移動させるようにしても良く、また、他の駆動手
段によって移動させるようにしても良い。
手動で移動させるようにしても良く、また、他の駆動手
段によって移動させるようにしても良い。
【００１６】
【００１７】
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るクリー
ンルームによれば、クリーンルームの室内に移動可能に
設けられたエア供給手段を、清浄雰囲気を必要とする領
域の上部に移動させて、その領域を清浄雰囲気に保持す
るようにしたので、必要な時に必要な領域だけを清浄雰
囲気に保持することができる。
ンルームによれば、クリーンルームの室内に移動可能に
設けられたエア供給手段を、清浄雰囲気を必要とする領
域の上部に移動させて、その領域を清浄雰囲気に保持す
るようにしたので、必要な時に必要な領域だけを清浄雰
囲気に保持することができる。
【００１９】また、本発明に係るクリーンルームによれ
ば、フイルタとファンから成るファンフイルタユニット
を、清浄雰囲気を必要とする領域の上部にスライド移動
させ、この領域を清浄雰囲気に保持するようにしたの
で、ファンフイルタユニットの設置台数を削減すること
ができると共に、ファンフイルタユニットの稼働コスト
を大幅に削減することができる。
ば、フイルタとファンから成るファンフイルタユニット
を、清浄雰囲気を必要とする領域の上部にスライド移動
させ、この領域を清浄雰囲気に保持するようにしたの
で、ファンフイルタユニットの設置台数を削減すること
ができると共に、ファンフイルタユニットの稼働コスト
を大幅に削減することができる。
【図１】本発明に係るクリーンルームの第１実施例を示
す全体構造図
す全体構造図
【図２】図１に於ける２−２線から見た矢視図
【図３】ファンフイルタユニットの移動機構を示す斜視
図
図
【図４】カーテンによって作業領域を遮蔽した実施例を
示す説明図
示す説明図
【図５】エアーカーテンによって作業領域を遮蔽した実
施例を示す説明図
施例を示す説明図
１０…クリーンルーム １２…空調機 ２０…天井室 ２２、２２Ａ…ＦＦ
Ｕ ２３…ＦＦＵ群 ４８…レール ５２、６２…カーテン ５６…フレキシブル
ダクト ５８…フード
Ｕ ２３…ＦＦＵ群 ４８…レール ５２、６２…カーテン ５６…フレキシブル
ダクト ５８…フード
Claims (2)
- 【請求項１】クリーンルームの室内を、半導体製造装置
を取り扱う清浄領域と、半導体製造装置をメンテナンス
する際に使用する保守領域とに区分けし、前記清浄領域
の室内上部にファンフイルタユニットを固定設置すると
共に、前記保守領域の室内上部にファンフイルタユニッ
トを該天井面に沿って移動可能に配設し、該保守領域内
の清浄雰囲気を必要とする所定領域の上部に前記ファン
フイルタユニットを移動させて、この所定領域に下向流
の清浄空気を供給するようにしたクリーンルーム。 - 【請求項２】前記ファンフイルタユニットは、その周縁
に清浄雰囲気が必要な保守領域を覆うカーテンが取り付
けられている請求項１に記載のクリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13442794A JP2904011B2 (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13442794A JP2904011B2 (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | クリーンルーム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH085117A JPH085117A (ja) | 1996-01-12 |
| JP2904011B2 true JP2904011B2 (ja) | 1999-06-14 |
Family
ID=15128133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13442794A Expired - Fee Related JP2904011B2 (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | クリーンルーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2904011B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003148777A (ja) * | 2002-11-11 | 2003-05-21 | Dai-Dan Co Ltd | 局所空気清浄装置 |
-
1994
- 1994-06-16 JP JP13442794A patent/JP2904011B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH085117A (ja) | 1996-01-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |