JP2747024B2 - 清浄室 - Google Patents
清浄室Info
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- JP2747024B2 JP2747024B2 JP1152215A JP15221589A JP2747024B2 JP 2747024 B2 JP2747024 B2 JP 2747024B2 JP 1152215 A JP1152215 A JP 1152215A JP 15221589 A JP15221589 A JP 15221589A JP 2747024 B2 JP2747024 B2 JP 2747024B2
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- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体装置等の製造に必要な清浄室いわゆ
るクリーンルームに関するものである。
るクリーンルームに関するものである。
第14図は従来の清浄室（特開昭56−162335号公報）を
示す概略断面図である。図において、51は半導体ウェハ
が搬送、処理されるウェハ域、55はウェハ域51に設置さ
れた製造装置、54は作業者、52は作業者54が行き来する
作業保守域、53はリターンダクト、56はウェハ域51、作
業保守域52の上部に設けられた空気浄化要素で、空気浄
化要素56は送風機、HEPA（High Efficiency Particulat
e Air）フィルタ等で構成されている。57は温度、湿度
が調和された空気を空気浄化要素56に供給する調和空気
給気ダクトである。
示す概略断面図である。図において、51は半導体ウェハ
が搬送、処理されるウェハ域、55はウェハ域51に設置さ
れた製造装置、54は作業者、52は作業者54が行き来する
作業保守域、53はリターンダクト、56はウェハ域51、作
業保守域52の上部に設けられた空気浄化要素で、空気浄
化要素56は送風機、HEPA（High Efficiency Particulat
e Air）フィルタ等で構成されている。57は温度、湿度
が調和された空気を空気浄化要素56に供給する調和空気
給気ダクトである。
この清浄室においては、調和空気給気ダクト57、空気
浄化要素56を介して清浄な空気がウェハ域51、作業保守
域52に吹き出され、作業者54や製造装置55から発生した
塵埃を含む空気がいったん床下に抜け、ついで隣接のリ
ターンダクト53を上昇し、空気浄化要素56で濾過され、
再びウェハ域51、作業保守域52にそれぞれ吹き出され
る。
浄化要素56を介して清浄な空気がウェハ域51、作業保守
域52に吹き出され、作業者54や製造装置55から発生した
塵埃を含む空気がいったん床下に抜け、ついで隣接のリ
ターンダクト53を上昇し、空気浄化要素56で濾過され、
再びウェハ域51、作業保守域52にそれぞれ吹き出され
る。
第15図は従来の他の清浄室すなわち大部屋式の清浄室
（スーパークリーンルーム最近の日・米の動向と今後の
技術課題の検討講座のテキスト；施策センタ主催、'8
4、10月４、５日、東京）を示す概略断面図である。こ
の清浄室においては、ウェハ域51と作業保守域52とは全
く一体であり、作業者54、製造装置55から発生した塵埃
を含む空気が空気浄化要素56により濾過され、再びウェ
ハ域51、作業保守域52にそれぞれ吹き出される。
（スーパークリーンルーム最近の日・米の動向と今後の
技術課題の検討講座のテキスト；施策センタ主催、'8
4、10月４、５日、東京）を示す概略断面図である。こ
の清浄室においては、ウェハ域51と作業保守域52とは全
く一体であり、作業者54、製造装置55から発生した塵埃
を含む空気が空気浄化要素56により濾過され、再びウェ
ハ域51、作業保守域52にそれぞれ吹き出される。
これらの清浄室においては、作業保守域52の作業者5
4、製造装置55から発生した塵埃がウェハ域51に侵入す
るので、ウェハ域51を超高清浄に保つことができない。
4、製造装置55から発生した塵埃がウェハ域51に侵入す
るので、ウェハ域51を超高清浄に保つことができない。
この発明は上述の課題を解決するためになされたもの
で、第２清浄域をより清浄に保つことのできる清浄室を
提供することを目的とする。
で、第２清浄域をより清浄に保つことのできる清浄室を
提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、この発明においては、第１
の清浄度を有する第１清浄域と上記第１清浄域内に配置
されかつ上記第１の清浄度よりも清浄な第２の清浄度を
有する第２清浄域とを有する清浄室において、上記第２
清浄域に接続された第１のリターンダクトを設け、上記
第１清浄域に接続された第２のリターンダクトを設け、
上記第２清浄域、上記第１のリターンダクトと上記第１
清浄域、上記第２のリターンダクトとの間に間仕切を設
け、上記第２清浄域と上記第１のリターンダクトとの間
に第１の空気浄化要素を設け、上記第１清浄域と上記第
２のリターンダクトとの間に第２の空気浄化要素を設
け、上記第２清浄域を上記第１清浄域に対して陽圧に保
つ。
の清浄度を有する第１清浄域と上記第１清浄域内に配置
されかつ上記第１の清浄度よりも清浄な第２の清浄度を
有する第２清浄域とを有する清浄室において、上記第２
清浄域に接続された第１のリターンダクトを設け、上記
第１清浄域に接続された第２のリターンダクトを設け、
上記第２清浄域、上記第１のリターンダクトと上記第１
清浄域、上記第２のリターンダクトとの間に間仕切を設
け、上記第２清浄域と上記第１のリターンダクトとの間
に第１の空気浄化要素を設け、上記第１清浄域と上記第
２のリターンダクトとの間に第２の空気浄化要素を設
け、上記第２清浄域を上記第１清浄域に対して陽圧に保
つ。
この場合、上記清浄室の平面的な配置を上記第１清浄
域、上記第２清浄域、リターンダクト域の順に並列に区
画された配置とし、上記リターンダクト域を上記第１の
リターンダクト、上記第２のリターンダクトに区画し、
上記第１清浄域と上記第２のリターンダクトとを上記第
２清浄域の上方および下方を介して接続してもよい。
域、上記第２清浄域、リターンダクト域の順に並列に区
画された配置とし、上記リターンダクト域を上記第１の
リターンダクト、上記第２のリターンダクトに区画し、
上記第１清浄域と上記第２のリターンダクトとを上記第
２清浄域の上方および下方を介して接続してもよい。
また、上記間仕切に物品出し入れ用の連通窓を設けて
もよい。
もよい。
また、上記第１のリターンダクトに熱交換器、吸着剤
入りHEPAフィルタの少なくとも一方を設置してもよい。
入りHEPAフィルタの少なくとも一方を設置してもよい。
この清浄室においては、第２清浄域、第１のリターン
ダクトと第１清浄域、第２のリターンダクトとの間に間
仕切を設け、第２清浄域を第１清浄域に対して陽圧に保
っているから、第１清浄域で発生した塵埃が第２清浄域
に侵入することはない。
ダクトと第１清浄域、第２のリターンダクトとの間に間
仕切を設け、第２清浄域を第１清浄域に対して陽圧に保
っているから、第１清浄域で発生した塵埃が第２清浄域
に侵入することはない。
また、清浄室の平面的な配置を第１清浄域、第２清浄
域、リターンダクト域の順に並列に区画された配置と
し、リターンダクト域を第１のリターンダクト、第２の
リターンダクトに区画し、第１清浄域と第２のリターン
ダクトとを第２清浄域の上方および下方を介して接続し
たときには、平面的な配置を適正にすることができる。
域、リターンダクト域の順に並列に区画された配置と
し、リターンダクト域を第１のリターンダクト、第２の
リターンダクトに区画し、第１清浄域と第２のリターン
ダクトとを第２清浄域の上方および下方を介して接続し
たときには、平面的な配置を適正にすることができる。
また、間仕切に物品出し入れ用の連通窓を設けたとき
には、連通窓を介して物品の出し入れを行なうことがで
きる。
には、連通窓を介して物品の出し入れを行なうことがで
きる。
また、第１のリターンダクトに熱交換器を設置したと
きには、第２清浄域から熱が発生したとしても、熱交換
器により第１のリターンダクト内の空気を冷却すること
ができ、また第１のリターンダクトに吸着剤入りHEPAフ
ィルタを設置したときには、第２清浄域内に汚染物質が
漏洩しても、第１のリターンダクト内で汚染物質を吸着
剤入りHEPAフィルタにより吸着することができる。
きには、第２清浄域から熱が発生したとしても、熱交換
器により第１のリターンダクト内の空気を冷却すること
ができ、また第１のリターンダクトに吸着剤入りHEPAフ
ィルタを設置したときには、第２清浄域内に汚染物質が
漏洩しても、第１のリターンダクト内で汚染物質を吸着
剤入りHEPAフィルタにより吸着することができる。
第１図はこの発明に係る清浄室を示す概略断面図、第
２図は第１図に示した清浄室に使用する空気浄化要素を
示す断面図である。図において、２は第１の清浄度を有
する第１清浄域である作業保守域、１は第１の清浄度よ
りも清浄な第２の清浄度を有する第２清浄域であるウェ
ハ域、３はウェハ域１とと作業保守域２との間に設けら
れた間仕切で、ウェハ域１は作業保守域２に対して陽圧
に保たれ、また間仕切３に逃がしのスリットもしくは窓
が設けられている。19はウェハ域１内に設けられたウェ
ハ搬送機、18はウェハ搬送機19によって移動されるウェ
ハ収納容器、17はウェハ域１、作業保守域２の上方に設
けられた天井裏、4aはウェハ域１の天井裏17に設置され
た第１の空気浄化要素で、空気浄化要素4aは混合室12に
設けられた送風機13と与圧室14内に設けられたHEPAフィ
ルタ15とを有する。10aは温度、湿度を調和した空気を
送るために別途設置した空気調和機（図示せず）に接続
された調和空気給気ダクト、11は調和空気給気ダクト10
aと空気浄化要素4aとを接続する接続ダクト、7aはウェ
ハ域１と接続された第１のリターンダクト、8aは空気浄
化要素4aの開口、6aはウェハ域１の開口床、16はウェハ
域１、作業保守域２の下方に設けられた床下、９は床下
16に設けられた間仕切で、間仕切９は床下16のウェハ域
１、リターンダクト7aに接続された領域と他の領域とを
隔離し、また間仕切９に逃がしのスリットもしくは窓が
設けられている。21は作業者、20は作業保守域２に設け
られた製造装置で、製造装置20の作業保守域２側は気密
に構成されており、間仕切３にウェハ域１側から製造装
置20内にウェハ収納容器18を導入し、製造装置20内から
ウェハ収納容器18を取り出すための連通窓（図示せず）
が設けられ、製造装置20内にウェハ収納容器18を導入し
たり、製造装置20内からウェハ収納容器18を取り出し、
ウェハ搬送機19に戻したりする操作は、連通窓を必要に
応じて開閉してロボット（図示せず）等により行なう。
4bは作業保守域２の天井に設置された第２の空気浄化要
素で、空気浄化要素4bは空気浄化要素4aと基本的に同じ
構造であるか、または空気浄化要素4aから混合室12に相
当する部分を取り除いた構造である。10bは空気調和機
に接続された調和空気給気ダクトで、調和空気給気ダク
ト10bから天井裏17に調和空気が供給される。8bは空気
浄化要素4bの開口で、開口8bは天井裏17側に設けられて
いる。6bは作業保守域２のの開口床である。
２図は第１図に示した清浄室に使用する空気浄化要素を
示す断面図である。図において、２は第１の清浄度を有
する第１清浄域である作業保守域、１は第１の清浄度よ
りも清浄な第２の清浄度を有する第２清浄域であるウェ
ハ域、３はウェハ域１とと作業保守域２との間に設けら
れた間仕切で、ウェハ域１は作業保守域２に対して陽圧
に保たれ、また間仕切３に逃がしのスリットもしくは窓
が設けられている。19はウェハ域１内に設けられたウェ
ハ搬送機、18はウェハ搬送機19によって移動されるウェ
ハ収納容器、17はウェハ域１、作業保守域２の上方に設
けられた天井裏、4aはウェハ域１の天井裏17に設置され
た第１の空気浄化要素で、空気浄化要素4aは混合室12に
設けられた送風機13と与圧室14内に設けられたHEPAフィ
ルタ15とを有する。10aは温度、湿度を調和した空気を
送るために別途設置した空気調和機（図示せず）に接続
された調和空気給気ダクト、11は調和空気給気ダクト10
aと空気浄化要素4aとを接続する接続ダクト、7aはウェ
ハ域１と接続された第１のリターンダクト、8aは空気浄
化要素4aの開口、6aはウェハ域１の開口床、16はウェハ
域１、作業保守域２の下方に設けられた床下、９は床下
16に設けられた間仕切で、間仕切９は床下16のウェハ域
１、リターンダクト7aに接続された領域と他の領域とを
隔離し、また間仕切９に逃がしのスリットもしくは窓が
設けられている。21は作業者、20は作業保守域２に設け
られた製造装置で、製造装置20の作業保守域２側は気密
に構成されており、間仕切３にウェハ域１側から製造装
置20内にウェハ収納容器18を導入し、製造装置20内から
ウェハ収納容器18を取り出すための連通窓（図示せず）
が設けられ、製造装置20内にウェハ収納容器18を導入し
たり、製造装置20内からウェハ収納容器18を取り出し、
ウェハ搬送機19に戻したりする操作は、連通窓を必要に
応じて開閉してロボット（図示せず）等により行なう。
4bは作業保守域２の天井に設置された第２の空気浄化要
素で、空気浄化要素4bは空気浄化要素4aと基本的に同じ
構造であるか、または空気浄化要素4aから混合室12に相
当する部分を取り除いた構造である。10bは空気調和機
に接続された調和空気給気ダクトで、調和空気給気ダク
ト10bから天井裏17に調和空気が供給される。8bは空気
浄化要素4bの開口で、開口8bは天井裏17側に設けられて
いる。6bは作業保守域２のの開口床である。
この清浄室においては、調和空気給気ダクト10a、接
続ダクト11によって温度、湿度が調和された空気が空気
浄化要素4aに導入され、空気浄化要素4aから吹き出した
清浄空気は点線矢印Ｘで示すようにウェハ域１を下降
し、開口床6aを通り、リターンダクト7aを上昇し、開口
8aから空気浄化要素4aに吸い込まれ、リターンダクト7a
からのもどりの空気と調和空気給気ダクト10aから導入
される調和空気とは混合室12で混合され、送風機13で与
圧室14に送られ、HEPAフィルタ15で濾過されて、ウェハ
域１に吹き出す。一方、調和空気給気ダクト10bから温
度、湿度が調和された空気が天井裏17に吹き出され、こ
の空気は開口8bから空気浄化要素4bに導入される。そし
て、空気浄化要素4bから作業保守域２に吹き出した空気
は、幅広の矢印Ｙで示したように作業保守域２を下降
し、開口床6bを通って床下16に抜ける。その後、ウェハ
域１のリターンダクト7aとは別に設けた第２のリターン
ダクト（図示せず）を上昇して天井裏17に達し、調和空
気給気ダクト10bから吹き出された空気と作業保守域２
からのもどり空気とが天井裏17で混合され、開口8bから
空気浄化要素4b内に導入される。
続ダクト11によって温度、湿度が調和された空気が空気
浄化要素4aに導入され、空気浄化要素4aから吹き出した
清浄空気は点線矢印Ｘで示すようにウェハ域１を下降
し、開口床6aを通り、リターンダクト7aを上昇し、開口
8aから空気浄化要素4aに吸い込まれ、リターンダクト7a
からのもどりの空気と調和空気給気ダクト10aから導入
される調和空気とは混合室12で混合され、送風機13で与
圧室14に送られ、HEPAフィルタ15で濾過されて、ウェハ
域１に吹き出す。一方、調和空気給気ダクト10bから温
度、湿度が調和された空気が天井裏17に吹き出され、こ
の空気は開口8bから空気浄化要素4bに導入される。そし
て、空気浄化要素4bから作業保守域２に吹き出した空気
は、幅広の矢印Ｙで示したように作業保守域２を下降
し、開口床6bを通って床下16に抜ける。その後、ウェハ
域１のリターンダクト7aとは別に設けた第２のリターン
ダクト（図示せず）を上昇して天井裏17に達し、調和空
気給気ダクト10bから吹き出された空気と作業保守域２
からのもどり空気とが天井裏17で混合され、開口8bから
空気浄化要素4b内に導入される。
そして、このような清浄室においては、ウェハ域１に
はウェハ収納容器18a、ウェハ搬送機19等が設置されて
いるだけであるから、ウェハ域１内での塵埃の発生は極
めて少なく、しかも作業保守域２には半導体装置の生産
現場での最大の発塵源である製造装置20、作業者21とが
存在するが、ウェハ域１、リターンダクト7aは間仕切
３、９によって作業保守域２、第２のリターンダクトと
隔離されているから、作業保守域２の作業者21、製造装
置20から発生した塵埃がウェハ域１に侵入することはな
いので、ウェハ域１を超高清浄に保つことができる。こ
のため、半導体ウェハの表面が塵埃によって汚染される
ことがないので、半導体装置を超高集積化したとして
も、半導体装置の製造歩留まりを向上することができ
る。また、ウェハ域１が作業保守域２に対して陽圧に保
たれているので、連通窓を開閉させたときに、作業保守
域２から塵埃がウェハ域１に侵入することがない。さら
に、間仕切３、間仕切９に逃がしのスリットもしくは窓
を設けているから、半導体ウェハ域１と作業保守域２と
の隔離を厳密に行なったとしても、連通窓が開いた瞬間
に急速に空気が移動して半導体ウェハが損傷するのを防
止することができる。
はウェハ収納容器18a、ウェハ搬送機19等が設置されて
いるだけであるから、ウェハ域１内での塵埃の発生は極
めて少なく、しかも作業保守域２には半導体装置の生産
現場での最大の発塵源である製造装置20、作業者21とが
存在するが、ウェハ域１、リターンダクト7aは間仕切
３、９によって作業保守域２、第２のリターンダクトと
隔離されているから、作業保守域２の作業者21、製造装
置20から発生した塵埃がウェハ域１に侵入することはな
いので、ウェハ域１を超高清浄に保つことができる。こ
のため、半導体ウェハの表面が塵埃によって汚染される
ことがないので、半導体装置を超高集積化したとして
も、半導体装置の製造歩留まりを向上することができ
る。また、ウェハ域１が作業保守域２に対して陽圧に保
たれているので、連通窓を開閉させたときに、作業保守
域２から塵埃がウェハ域１に侵入することがない。さら
に、間仕切３、間仕切９に逃がしのスリットもしくは窓
を設けているから、半導体ウェハ域１と作業保守域２と
の隔離を厳密に行なったとしても、連通窓が開いた瞬間
に急速に空気が移動して半導体ウェハが損傷するのを防
止することができる。
第３図はこの発明に係る他の清浄室を示す概略平断面
図、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図である。図におい
て、7bはウェハ域１の上方および下方を介して作業保守
域２と接続された第２のリターンダクト、５はリターン
ダクト7aとリターンダクト7bとの間に設けられた間仕切
で、リターンダクト7a、7bはウェハ域１間に設けられて
おり、リターンダクト7aとリターンダクト7bとは交互に
設けられている。すなわち、清浄室の平面的な配置が作
業保守域２、ウェハ域１、リターンダクト域、ウェハ域
１の順に並列に区画された配置とされ、リターンダクト
域がリターンダクト7a、リターンダクト7bに区画されて
いる。
図、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図である。図におい
て、7bはウェハ域１の上方および下方を介して作業保守
域２と接続された第２のリターンダクト、５はリターン
ダクト7aとリターンダクト7bとの間に設けられた間仕切
で、リターンダクト7a、7bはウェハ域１間に設けられて
おり、リターンダクト7aとリターンダクト7bとは交互に
設けられている。すなわち、清浄室の平面的な配置が作
業保守域２、ウェハ域１、リターンダクト域、ウェハ域
１の順に並列に区画された配置とされ、リターンダクト
域がリターンダクト7a、リターンダクト7bに区画されて
いる。
この清浄室においては、リターンダクト7bが作業保守
域２の比較的近くに設けられているから、床下16内の気
流の乱れが少ないので、作業保守域２において良好な垂
直下降流が維持できるという利点がある。
域２の比較的近くに設けられているから、床下16内の気
流の乱れが少ないので、作業保守域２において良好な垂
直下降流が維持できるという利点がある。
第５図はこの発明に係る他の清浄室を示す概略平断面
図、第６図は第５図のＢ−Ｂ断面図である。この清浄室
においては、リターンダクト7a、7bの内部に主に冷却機
能を有する熱交換器30a、30bが設けられているから、ウ
ェハ域１、作業保守域２に熱源が多く設置されており、
ウェハ域１、作業保守域２から熱が発生したとしても、
熱交換器30a、30bによりリターンダクト7a、7b内の空気
を冷却することができるので、空気調和機の負担を軽減
することができるため、空気調和機を小型化できるとと
もに、調和空気給気ダクト10a、10bの断面積を小さくす
ることができるから、天井裏17のスペースを小さくする
ことができので、建屋全体の階高が軽減され、全体の建
設コストを低減することができる。
図、第６図は第５図のＢ−Ｂ断面図である。この清浄室
においては、リターンダクト7a、7bの内部に主に冷却機
能を有する熱交換器30a、30bが設けられているから、ウ
ェハ域１、作業保守域２に熱源が多く設置されており、
ウェハ域１、作業保守域２から熱が発生したとしても、
熱交換器30a、30bによりリターンダクト7a、7b内の空気
を冷却することができるので、空気調和機の負担を軽減
することができるため、空気調和機を小型化できるとと
もに、調和空気給気ダクト10a、10bの断面積を小さくす
ることができるから、天井裏17のスペースを小さくする
ことができので、建屋全体の階高が軽減され、全体の建
設コストを低減することができる。
第７図はこの発明に係る他の清浄室を示す概略平断面
図、第８図は第７図のＣ−Ｃ断面図、第９図は第７図、
第８図に示した清浄室に使用する吸着剤入りHEPAフィル
タを示す断面図である。図において、32a、32bはリター
ンダクト7a、7bに設置された吸着剤入りHEPAフィルタ、
33は吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bの風上側に設けら
れた吸着剤層で、吸着剤層33としては活性炭、合成ゼオ
ライト、アルミナ、シリカゲル等のうちの１もしくは２
以上を用いる。34は吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bの
風下側に設けられたHEPAフィルタである。
図、第８図は第７図のＣ−Ｃ断面図、第９図は第７図、
第８図に示した清浄室に使用する吸着剤入りHEPAフィル
タを示す断面図である。図において、32a、32bはリター
ンダクト7a、7bに設置された吸着剤入りHEPAフィルタ、
33は吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bの風上側に設けら
れた吸着剤層で、吸着剤層33としては活性炭、合成ゼオ
ライト、アルミナ、シリカゲル等のうちの１もしくは２
以上を用いる。34は吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bの
風下側に設けられたHEPAフィルタである。
この清浄室においては、ドラフト等の製造装置20で薬
液たとえば硫酸、硝酸、アンモニアなどが用いられ、塵
埃以外の分子状の有害汚染物質がわずかにウェハ域１、
作業保守域２内に漏洩したとしても、リターンダクト7
a、7b内で吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bの吸着剤層3
3により汚染物質を吸着することができるから、ウェハ
域１、作業保守域２内を塵埃以外の分子状の有害汚染物
質をも除去した清浄空間とすることができる。
液たとえば硫酸、硝酸、アンモニアなどが用いられ、塵
埃以外の分子状の有害汚染物質がわずかにウェハ域１、
作業保守域２内に漏洩したとしても、リターンダクト7
a、7b内で吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bの吸着剤層3
3により汚染物質を吸着することができるから、ウェハ
域１、作業保守域２内を塵埃以外の分子状の有害汚染物
質をも除去した清浄空間とすることができる。
第10図はこの発明に係る他の清浄室を示す概略平断面
図、第11図は第10図のＤ−Ｄ断面図である。この清浄室
においては、ウェハ域１とリターンダクト7aとを接続す
る部分が開口床6bより上に設けられているから、清浄室
全体の床が同一平面で構成されるので、床下16の梁、柱
などの支持構造（図示せず）を簡単にすることができる
ため、施工しやすい。
図、第11図は第10図のＤ−Ｄ断面図である。この清浄室
においては、ウェハ域１とリターンダクト7aとを接続す
る部分が開口床6bより上に設けられているから、清浄室
全体の床が同一平面で構成されるので、床下16の梁、柱
などの支持構造（図示せず）を簡単にすることができる
ため、施工しやすい。
第12図はこの発明に係る他の清浄室を示す概略平断面
図である。この清浄室においては、リターンダクト7aと
リターンダクト7bとの間にウェハ域１と連通された通路
37を設けたので、ウェハ域１の保守、保全作業に便利で
ある。
図である。この清浄室においては、リターンダクト7aと
リターンダクト7bとの間にウェハ域１と連通された通路
37を設けたので、ウェハ域１の保守、保全作業に便利で
ある。
第13図はこの発明に係る他の清浄室を示す概略平断面
図である。この清浄室においては、熱交換器30a、30bの
前段に吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bをそれぞれ２個
設けたから、吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bの吸着剤
層33の負担は1/2になり、吸着剤層33の除去効率、寿命
が改善される。
図である。この清浄室においては、熱交換器30a、30bの
前段に吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bをそれぞれ２個
設けたから、吸着剤入りHEPAフィルタ32a、32bの吸着剤
層33の負担は1/2になり、吸着剤層33の除去効率、寿命
が改善される。
なお、上述実施例においては、第２清浄域がウェハ域
１であり、第１清浄域が作業保守域２である清浄室につ
いて説明したが、第２清浄域、第１清浄域が他の用途に
使用される場合にもこの発明を適用できることは明らか
である。
１であり、第１清浄域が作業保守域２である清浄室につ
いて説明したが、第２清浄域、第１清浄域が他の用途に
使用される場合にもこの発明を適用できることは明らか
である。
以上説明したように、この発明に係る清浄室において
は、第２清浄域、第１のリターンダクトと第１清浄域、
第２のリターンダクトとの間に間仕切を設け、第２清浄
域を第１清浄域に対して陽圧に保っているから、第１清
浄域で発生した塵埃が第２清浄域に侵入することはない
ので、第２清浄域をより清浄に保つことができる。
は、第２清浄域、第１のリターンダクトと第１清浄域、
第２のリターンダクトとの間に間仕切を設け、第２清浄
域を第１清浄域に対して陽圧に保っているから、第１清
浄域で発生した塵埃が第２清浄域に侵入することはない
ので、第２清浄域をより清浄に保つことができる。
また、清浄室の平面的な配置を第１清浄域、第２清浄
域、リターンダクト域の順に並列に区画された配置と
し、リターンダクト域を第１のリターンダクト、第２の
リターンダクトに区画し、第１清浄域と第２のリターン
ダクトとを第２清浄域の上方および下方を介して接続し
たときには、平面的な配置を適正にすることができるか
ら、清浄室床面の効率的な活用を図ることができる。
域、リターンダクト域の順に並列に区画された配置と
し、リターンダクト域を第１のリターンダクト、第２の
リターンダクトに区画し、第１清浄域と第２のリターン
ダクトとを第２清浄域の上方および下方を介して接続し
たときには、平面的な配置を適正にすることができるか
ら、清浄室床面の効率的な活用を図ることができる。
また、間仕切に物品出し入れ用の連通窓を設けたとき
には、連通窓を介して物品の出し入れを行なうことがで
きるから、物品の出し入れを容易に実行することができ
る。
には、連通窓を介して物品の出し入れを行なうことがで
きるから、物品の出し入れを容易に実行することができ
る。
また、第１のリターンダクトに熱交換器を設置したと
きには、第２清浄域から熱が発生したとしても、熱交換
器により第１のリターンダクト内の空気を冷却すること
ができるから、別途設置した空気調和機の負担を小さく
することができるとともに、調和空気給気ダクトの断面
積を小さくすることができるので、建設コストを低減す
ることができ、また第１のリターンダクトに吸着剤入り
HEPAフィルタを設置したときには、第２清浄域内に汚染
物質が漏洩しても、第１のリターンダクト内で汚染物質
を吸着剤入りHEPAフィルタにより吸着することができる
から、第２清浄域内を汚染物質をも除去した清浄空間と
することができる。
きには、第２清浄域から熱が発生したとしても、熱交換
器により第１のリターンダクト内の空気を冷却すること
ができるから、別途設置した空気調和機の負担を小さく
することができるとともに、調和空気給気ダクトの断面
積を小さくすることができるので、建設コストを低減す
ることができ、また第１のリターンダクトに吸着剤入り
HEPAフィルタを設置したときには、第２清浄域内に汚染
物質が漏洩しても、第１のリターンダクト内で汚染物質
を吸着剤入りHEPAフィルタにより吸着することができる
から、第２清浄域内を汚染物質をも除去した清浄空間と
することができる。
このように、この発明の効果は顕著である。
第１図はこの発明に係る清浄室を示す概略断面図、第２
図は第１図に示した清浄室に使用する空気浄化要素を示
す断面図、第３図はこの発明に係る他の清浄室を示す概
略平断面図、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図は
この発明に係る他の清浄室を示す概略平断面図、第６図
は第５図のＢ−Ｂ断面図、第７図はこの発明に係る他の
清浄室を示す概略平断面図、第８図は第７図のＣ−Ｃ断
面図、第９図は第７図、第８図に示した清浄室に使用す
る吸着剤入りHEPAフィルタを示す断面図、第10図はこの
発明に係る他の清浄室を示す概略平断面図、第11図は第
10図のＤ−Ｄ断面図、第12図はこの発明に係る他の清浄
室を示す概略平断面図、第13図はこの発明に係る他の清
浄室を示す概略断面図、第14図、第15図はそれぞれ従来
の清浄室を示す概略断面図である。 １……ウェハ域 ２……作業保守域 ３……間仕切 7a、7b……第１、第２のリターンダクト 30a、30b……熱交換器 32a、32b……吸着剤入りHEPAフィルタ
図は第１図に示した清浄室に使用する空気浄化要素を示
す断面図、第３図はこの発明に係る他の清浄室を示す概
略平断面図、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図は
この発明に係る他の清浄室を示す概略平断面図、第６図
は第５図のＢ−Ｂ断面図、第７図はこの発明に係る他の
清浄室を示す概略平断面図、第８図は第７図のＣ−Ｃ断
面図、第９図は第７図、第８図に示した清浄室に使用す
る吸着剤入りHEPAフィルタを示す断面図、第10図はこの
発明に係る他の清浄室を示す概略平断面図、第11図は第
10図のＤ−Ｄ断面図、第12図はこの発明に係る他の清浄
室を示す概略平断面図、第13図はこの発明に係る他の清
浄室を示す概略断面図、第14図、第15図はそれぞれ従来
の清浄室を示す概略断面図である。 １……ウェハ域 ２……作業保守域 ３……間仕切 7a、7b……第１、第２のリターンダクト 30a、30b……熱交換器 32a、32b……吸着剤入りHEPAフィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 角南 英夫 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 矢木 邦博 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 川本 佳史 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 船越 清彦 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 亀山 正義 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 倉水 勝 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 高森 昶光 東京都千代田区大手町２丁目６番２号 株式会社日立建設設計内 (72)発明者 河合 秀直 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日立プラント建設株式会社内 (72)発明者 鈴木 道夫 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日立プラント建設株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−99943（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) F24F 7/06
Claims (4)
- 【請求項１】第１の清浄度を有する第１清浄域と上記第
１清浄域内に配置されかつ上記第１の清浄度よりも清浄
な第２の清浄度を有する第２清浄域とを有する清浄室に
おいて、上記第２清浄域に接続された第１のリターンダ
クトを設け、上記第１清浄域に接続された第２のリター
ンダクトを設け、上記第２清浄域、上記第１のリターン
ダクトと上記第１清浄域、上記第２のリターンダクトと
の間に間仕切を設け、上記第２清浄域と上記第１のリタ
ーンダクトとの間に第１の空気浄化要素を設け、上記第
１清浄域と上記第２のリターンダクトとの間に第２の空
気浄化要素を設け、上記第２清浄域を上記第１清浄域に
対して陽圧に保ったことを特徴とする清浄室。 - 【請求項２】上記清浄室の平面的な配置を上記第１清浄
域、上記第２清浄域、リターンダクト域の順に並列に区
画された配置とし、上記リターンダクト域を上記第１の
リターンダクト、上記第２のリターンダクトに区画し、
上記第１清浄域と上記第２のリターンダクトとを上記第
２清浄域の上方および下方を介して接続したことを特徴
とする請求項第１項記載の清浄室。 - 【請求項３】上記間仕切に物品出し入れ用の連通窓を設
けたことを特徴とする請求項第１項または第２項記載の
清浄室。 - 【請求項４】上記第１のリターンダクトに熱交換器、吸
着剤入りHEPAフィルタの少なくとも一方を設置したこと
を特徴とする請求項第１項、第２項または第３項記載の
清浄室。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1152215A JP2747024B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 清浄室 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1152215A JP2747024B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 清浄室 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0320550A JPH0320550A (ja) | 1991-01-29 |
| JP2747024B2 true JP2747024B2 (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=15535592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1152215A Expired - Fee Related JP2747024B2 (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 清浄室 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2747024B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2846100B2 (ja) | 1990-10-24 | 1999-01-13 | 株式会社日立製作所 | 空気清浄システム |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP1152215A patent/JP2747024B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2846100B2 (ja) | 1990-10-24 | 1999-01-13 | 株式会社日立製作所 | 空気清浄システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0320550A (ja) | 1991-01-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |