JP2001093790A - クリーンルーム及びクリーンルームの空調方法 - Google Patents

クリーンルーム及びクリーンルームの空調方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェハに対する汚染の可能性を低減し、半導
体装置の品質の向上と歩留りの向上が可能なクリーンル
ームを提供するものである。 【解決手段】 所定の半導体装置生産設備２、インター
フェースボックス４、インターフェースボックスオープ
ナー５等が内部に配置されている内室部１０と内室部１
０を取り囲み、内室部１０との間に空気循環路１２を形
成する外室部２０とからなるクリーンルーム１であっ
て、内室部１０に設けられたファンフィルターユニット
７を介して、内室部１０内の空気が、空気循環路１２を
介して循環する様に構成されているクリーンルーム１に
於いて、内室部１０と空気循環路１２とを循環している
第１の空気流１３とは独立に、クリーンルーム１外部よ
り、清浄な第２の空気流１８を当該インターフェースボ
ックスオープナー５の近傍に直接供給する様に構成され
ているクリーンルーム１。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルーム及
びクリーンルームの空調方法に関するものであり、特に
詳しくは、半導体装置の製造工程において使用されるク
リーンルームに於て、特にウェハ等が当該クリーンルー
ム内に存在する塵埃、不純物、化学物質等で汚染される
区域の空気を局所的に清浄化する事が出来るクリーンル
ーム及びクリーンルームの空調方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来から、半導体装置の製造工程に於い
ては、ウェハ等が空気中に含まれる塵埃、その他の不純
物、或いは化学物質等によって、汚染されそれによって
最終製品の特性の悪化、欠陥商品の発生等を防止する為
にクリーンルームが一般的に使用されている。
【０００３】処で、従来のクリーンルームの中には、図
３に示す様に、当該クリーンルーム１は外室２０と内室
１０とで構成され、当該内室部１０の内部には、所定の
半導体装置生産設備２、当該半導体装置生産設備２に対
して処理すべきウェハ３を供給する為に設けられてい
る、複数のウェハ３を内蔵して移動可能に構成されたイ
ンターフェースボックス４、当該インターフェースボッ
クス４を固定的に載置して、当該インターフェースボッ
クス４内から当該ウェハ３を当該生産設備２内に搬送す
るインターフェースボックスオープナー５等が設けられ
ている場合が多く、係るインターフェースボックス対応
型のクリーンルーム１では、クリーンルーム内の当該内
室部１０に於ける当該インターフェースボックスオープ
ナー５の上部にファン８とフィルタ９とが一体的に構成
されたファンフィルターユニット（ＦＦＵ、以下単にＦ
ＦＵと称する）７を設置し、更に当該ＦＦＵ７の上にケ
ミカルフィルタ６を設置し、クリーンルーム１の特に当
該内室部１０内の雰囲気の特定成分を除去した後、イン
ターフェースボックスオープナ部５に清浄な空気流を導
入している。
【０００４】また、外気調和機１４から供給される外気
は、先ず、当該内室部１０と外室部２０との間に形成さ
れた空気循環路に導入され、当該内室部１０の天井部に
所定の間隔を持って配置された前記と同様の構成を有す
るＦＦＵ７を介して、当該内室部１０内に導入され、当
該内室部１０に導入された当該空気は、当該内室部１０
の床部４０に設けられた排気孔２８から当該空気循環路
１２に還流され、上記した流路を循環するものある。
【０００５】係る空気流を本発明に於いては、第１の空
気流と称する。
【０００６】尚、当該空気循環路１２内には、適宜の空
気冷却手段１７が設けられていても良く、更には、当該
クリーンルーム１の外気圧力と当該内室部１０内の空気
圧力とをセンサー１６と検出器１５によってモニターし
て、当該内室部１０の空気圧力が常に外気圧力よりも所
定の量大きくなる様にしておく必要から、当該圧力の差
圧を上記検出し、当該差圧が所定の圧力以下になった場
合に、当該外気調和機１４を駆動して、新たに外部の空
気を当該空気循環路１２内部に導入する様に構成されて
いるものである。
【０００７】ＦＦＵ上流側で循環空気に混合され、その
外気量はクリーンルーム内と外部の室間差圧を一定にす
るように制御されている。
【０００８】そして、上記に従来技術ではクリーンルー
ム１内で最もウェハ３が汚染される可能性の高い、イン
ターフェースボックス４の蓋部を開口して内部に保持去
れているウェハを取り出すインターフェースボックスオ
ープナー５を含む近傍の空気を局所的に清浄化する為、
当該部位の上方に、当該内室部１０の天井部に設けられ
たＦＦＵとは別個にＦＦＵ７を設けると共に、更に当該
ＦＦＵ７にケミカルフィルター６を設けて当該空気流の
清浄化を図っている。
【０００９】然しながら、循環空気中にはプロセスで使
用している薬品成分、特にクリーンルーム中に飛散しや
すい有機物成分を含んでいる事があり、通常、プロセス
中に於て、その成分単体では問題にならない有機物も、
ケミカルフィルターの添着剤や活性炭の触媒作用によ
り、分解し、副生成物が生じることがある。
【００１０】例えば、半導体装置の製造工程で使用され
ている化学物質でも、例えば、活性炭型ケミカルフィル
タの添着剤の燐酸や活性炭の触媒効果により分解して、
その濃度によっては、半導体装置の製造プロセスに影響
を与える可能性がある。
【００１１】上記従来技術ではでは、当該インターフェ
ースボックスオープナー部５へ当該成分が導入される可
能性があり、インターフェースボックス４のプナーボッ
クスの開閉時にその雰囲気を巻き込みウエハー３に悪影
響を与える可能性がある。
【００１２】その他、特開平１０−２３８８３３号公報
には、通常の構成からなるクリーンルームに於て、一部
の生産設備のメンテナンスに際し、当該一部の生産設備
の上方位置に移動出来、且つ仕切り壁を垂下させると同
時に別の清浄な空気流を当該仕切り壁部内に供給する様
に構成されたクリーンルームが開示されている。
【００１３】然しながら、係る公知例に於いては、生産
設備を含むかなりの領域を仕切り壁で区切りその中に清
浄な空気を導入する様に構成された装置であって、移動
可能に構成されると共に、メンテナンスの必要が生じた
生産設備に対してのみ移動して、その位置に停止して清
浄な空気を導入する様に構成されているものであり、従
って、装置は大型であり又常時稼働する様に構成されて
はいない。
【００１４】又、特開平４−８０５３８号公報には、ク
リーンルーム内の薬品、ガス等が漏洩した場合にのみ作
動する除外フィルタを使用するクリーンルームが開示さ
れているが、クリーンルーム内の特定の部位を局所的に
清浄化された空気流に晒す技術に関しては開示が無い。
【００１５】一方、特開平７−４５５８１号公報には、
半導体基板の処理装置に於ける処理薬品の蒸発飛散を防
止する為に空気流を使用する構成がしえされているのみ
で、クリーンルーム内の特定の部位を局所的に清浄化さ
れた空気流に晒す技術に関しては開示が無い。
【００１６】更に、特開平９−１４８２９４号公報に
は、単にクリーンルーム内に於ける空気流の循環方法と
フィルターの使用が開示されているのみであり、クリー
ンルーム内の特定の部位を局所的に清浄化された空気流
に晒す技術に関しては開示が無い。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記した従来技術の欠点を改良し、ウェハに対する
汚染の可能性を大幅に低減し、半導体装置の品質の向上
と歩留りの向上が期待できる低コストのクリーンルーム
及びクリーンルームの空調方法を提供するものである。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記した目的
を達成する為、基本的には、以下に示す様な技術構成を
採用するものである。
【００１９】即ち、本発明に係る第１の態様としては、
所定の半導体装置生産設備、複数のウェハを内蔵して移
動可能に構成されたインターフェースボックス、当該イ
ンターフェースボックスを固定的に載置して、当該イン
ターフェースボックス内から当該ウェハを当該生産設備
内に搬送するインターフェースボックスオープナー等が
内部に配置されている内室部と当該内室部を取り囲み、
当該内室部との間に空気循環路を形成する様に構成され
た外室とから構成されたクリーンルームであって、当該
内室部に設けられたファンフィルターユニットを介し
て、当該内室部内の空気が、当該空気循環路を介して循
環する様に構成されているクリーンルームに於いて、当
該内室部と当該空気循環路とを循環している第１の空気
流とは独立に、当該クリーンルーム外部より、清浄な第
２の空気流を当該インターフェースボックスオープナー
の近傍に直接供給する様に構成されているクリーンルー
ムであり、又、本発明に係る第２の態様としては、所定
の半導体装置生産設備、複数のウェハを内蔵して移動可
能に構成されたインターフェースボックス、当該インタ
ーフェースボックスを固定的に載置して、当該インター
フェースボックス内から当該ウェハを当該生産設備内搬
送するインターフェースボックスオープナー等が内部に
配置されている内室部と当該内室部を取り囲み、当該内
室部との間に空気循環路を形成する様に構成された外室
とから構成されたクリーンルームであって、当該内室部
に設けられたファンフィルターユニットを介して、当該
内室部内の空気が、当該空気循環路を介して循環する様
に構成されているクリーンルームに於いて、当該内室部
と当該空気循環路とを循環している第１の空気流とは独
立に、当該クリーンルーム外部より、清浄な第２の空気
流を当該インターフェースボックスオープナーの近傍に
直接供給する様に構成されたクリーンルームの空調方法
である。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明に係る当該クリーンルーム
及びクリーンルームの空調方法は、上記した様な技術構
成を採用しているので、インターフェースボックス内の
ウエハーがクリーンルーム雰囲気中にさらされる部分、
例えば、インターフェースボックスオープナー部へ送気
される空気をケミカルフィルタによりケミカル除去をす
る場合において、インターフェースボックスオープナー
部分に選択的にケミカルフィルタで不純物除去した空気
を供給し、且つ、当該ケミカルフィルタへの空気供給を
温湿度調整された外気を直接導入する局所的にオールフ
レッシュ空調とすることにより、クリーンルーム雰囲気
成分のケミカルフィルターでの分解生成物の影響を排除
する。また、インターフェースボックスオープナー部通
過後の空気をクリーンルームの加圧用外気として２次利
用し、オールフレッシュ空調をインターフェースボック
スオープナー部にのみに限定して適用することにより、
クリーンルーム室内全体をオールフレッシュ空調化する
事無しに、オールフレッシュ空調可能とし、省エネルギ
化を図る事が可能となる。
【００２１】
【実施例】以下に、本発明に係るクリーンルーム及びク
リーンルームの空調方法の一具体例を図面を参照しなが
ら詳細に説明する。
【００２２】即ち、図１には、本発明に係る当該クリー
ンルームの一具体例の構成を示す断面図が示されてお
り、図中、所定の半導体装置生産設備２、複数のウェハ
３を内蔵して移動可能に構成されたインターフェースボ
ックス４、当該インターフェースボックス４を固定的に
載置して、当該インターフェースボックス４内から当該
ウェハ３を当該生産設備２内に搬送するインターフェー
スボックスオープナー５等が内部に配置されている内室
部１０と当該内室部１０を取り囲み、当該内室部１０と
の間に空気循環路１２を形成する様に構成された外室部
２０とから構成されたクリーンルーム１であって、当該
内室部１０に設けられたファンフィルターユニット７を
介して、当該内室部１０内の空気が、当該空気循環路１
２を介して循環する様に構成されているクリーンルーム
１に於いて、当該内室部１０と当該空気循環路１２とを
循環している第１の空気流１３とは独立に、当該クリー
ンルーム１外部より、清浄な第２の空気流１８を当該イ
ンターフェースボックスオープナー５の近傍に直接供給
する様に構成されているクリーンルーム１が示されてい
る。
【００２３】本発明に係る当該クリーンルーム１に於い
ては、該クリーンルーム１の外部に設けられた清浄空気
供給手段１４に接続された空気ダクト１９の空気排出口
２１を、当該内室部１０に設けられた当該インターフェ
ースボックスオープナー５近傍に配置せしめる事が望ま
しい。
【００２４】当該インターフェースボックスオープナー
５近傍には、インターフェースボックスオープナー５上
に載置された当該インターフェースボックス４を取り囲
む仕切り手段３０が配置されている事が好ましい。
【００２５】又、本発明に於いては、当該仕切り手段３
０と当該空気ダクト１９の空気排出口２１との接続部近
傍には、適宜のフィルター３１が配置されている事も望
ましい。
【００２６】一方、本発明に係る当該クリーンルーム１
に於いては、当該空気ダクト１９に於ける当該空気排出
口２１と当該清浄空気供給手段１４との間の適宜の部位
に、フィルター手段３２が設けられている事も好まし
い。
【００２７】当該フィルター手段３２は、ケミカルフィ
ルター手段を含んでいる事が好ましい。
【００２８】更に、本発明に於ける別の具体例に於いて
は、図２に示す様に、当該クリーンルーム１の外部に設
けられた清浄空気供給手段１４に接続された空気ダクト
１９の空気排出口２１を、当該クリーンルーム１の内室
部１０の天井部２２に接続し、当該内室部１０の当該空
気ダクト１９の空気排出口２１が接続された天井部２２
近傍から、当該インターフェースボックスオープナー５
の配置位置の上方部に向けて垂下させた仕切り手段２３
が設けられている事も好ましい。
【００２９】当該仕切り手段２３の垂下長は特に限定さ
れるものではないが、例えば天井部２２から約２ｍ程度
の長さに設定されると効果的である。
【００３０】本発明に係る当該クリーンルーム１に於い
ては、当該空気ダクト１９の空気排出口２１と当該クリ
ーンルーム１の内室部１０の天井部２２との接続部位に
ファンフィルターユニット７が設けられている事が好ま
しい。
【００３１】又、本発明に係る当該仕切り手段２３内
に、当該インターフェースボックス４の搬送手段２４が
設けられている事が好ましく、当該搬送手段２４は、当
該内室部１０の天井部２２から垂下させる様に配置する
事も可能である。
【００３２】又、本発明に於いては、当該第１と第２の
空気流１３、１８は、当該内室部１０或いは当該空気循
環路１２で混合されて当該内室部１０内に第１の空気流
１３として循環供給される様に構成されているものであ
る。
【００３３】一方、本発明に於いては、当該内室部１０
の空気圧力と当該クリーンルーム外部の空気圧力とを検
出し、当該両空気圧力の差分値に応答して、当該空気循
環路１２内の空気の一部を排気する様に構成された室内
空気排気手段２５が設けられている事が望ましい。
【００３４】更に、本発明に於いては、当該空気循環路
１２内に、空気冷却手段１７が設けられている事も望ま
しい。
【００３５】つまり、本発明に係る当該クリーンルーム
１及びクリーンルームの空調方法に於いては、インター
フェースボックス４内部のウエハ３がクリーンルーム内
の循環空気１３にさらされる部分、例えばインターフェ
ースボックスオープナー部５において、特に、インター
フェースボックス４内のウエハ３が循環空気１３中のケ
ミカル成分にさらされることを防止する対策としてケミ
カルフィルタ６により処理された空気を導入する場合
に、温湿度・ケミカル制御された清浄な外気を当該部分
に直接導入する事により、クリーンルーム内で使用され
ている、或いは外部から侵入してきたか内部的に発生し
た薬品成分を含むクリーンルーム循環空気をケミカルフ
ィルタ６を通過させることなく、当該部分にケミカル制
御された空気を導入し、且つ当該エリア通過後の空気の
排気制御を行うことにより、当該エリア外の室圧制御も
兼ねさせることを特徴とするクリーンルーム及び局所ク
リーン空調方法である。
【００３６】本発明の空調方法では、外気を温湿度制御
する外調機と外調機出口に設置され、ケミカル成分の除
去処理を実施するためのケミカルフィルタ３２とケミカ
ルフィルタ処理後のクリーンな外気を第２の空気流１８
として、クリーンルーム１の内室部１０内の生産設備２
に付属しているインターフェースボックスオープナー５
へ常時供給する専用ダクト１９とクリーンルーム１内の
内室部１０内の室圧を外部との室間差圧により制御する
ための室内排気ファン及びダンパ等で構成される室内排
気手段２５と循環空気を温湿度制御するための冷却コイ
ル１７とクリーンルーム内の空気を循環するためのＦＦ
Ｕ７で構成されている。
【００３７】次に、本発明に於けるクリーンルーム１の
動作に付いての具体例を以下に説明する。
【００３８】即ち、本発明に係る当該クリーンルーム１
に於いては、清浄空気供給手段１４である外調機により
温湿度制御された外気は外調機１４出口のケミカルフィ
ルタ３２を通過後、ダクト１９により各生産装置２に付
属したインターフェースボックスオープナ５にクリーン
ルーム１内の第１の循環空気流１３とは分離された第２
の空気流１８として直接供給される。
【００３９】インターフェースボックスオープナ５を通
過後の当該第２の空気流１８は、クリーンルーム１の内
室部１０の床部４０に設けた開孔部２８を介してエアリ
ターンされ、室圧制御用外気としてクリーンルーム内の
第１の空気流１３である循環空気と混合される。
【００４０】更に、エアリターン側にはクリーンルーム
内外圧差検出センサ４１と当該差圧値に基づいて制御信
号を出力する制御手段４２及び当該制御手段４２の出力
制御信号に基づいて排気ファン回転数制御及びダンパー
調節を行う調整手段４３とから構成された室内排気手段
２５が具備されており、それによって余剰外気を排気し
室圧が制御される。
【００４１】又、図２に示されている本発明に係る第２
の具体例に於いては、その構成は第１具体例とは異な
り、ケミカル除去処理された清浄な空気流である第２の
空気流１８は、当該内室部１０の天井部２２に当該生産
設備２の操作面に平行に一列設置したＦＦＵ７の一つに
導入されている。
【００４２】さらに、当該ＦＦＵ７からのクリーン外気
である第２の空気流１８を整流し、インターフェースボ
ックスオープナー５へ効率的に供給するための垂れ壁を
構成する仕切り手段２３を設けるものである。
【００４３】本実施例によれば仕切り手段２３の長さは
天井から２ｍ程度で整流されるので、インターフェース
ボックスオープナ５を囲うように仕切を設ける必要が無
く、かつ、ＦＦＵ７は設備操作面に平行に一列設置して
いるので、第１の具体例よりは導入外気量が増加し、省
エネ性では不利ではあるが、１２インチウエハ導入時に
有望とされているボックスつり下げセット型の工程に於
ける天井搬送手段（ＯＨＴ）を使用した場合にも、本発
明が展開可能であるという特有の効果がある。
【００４４】本発明に係る他の態様としてのクリーンル
ームの空調方法は、上記した説明から明らかな様に、例
えば、所定の半導体装置生産設備、複数のウェハを内蔵
して移動可能に構成されたインターフェースボックス、
当該インターフェースボックスを固定的に載置して、当
該インターフェースボックス内から当該ウェハを当該生
産設備内搬送するインターフェースボックスオープナー
等が内部に配置されている内室部と当該内室部を取り囲
み、当該内室部との間に空気循環路を形成する様に構成
された外室とから構成されたクリーンルームであって、
当該内室部に設けられたファンフィルターユニットを介
して、当該内室部内の空気が、当該空気循環路を介して
循環する様に構成されているクリーンルームに於いて、
当該内室部と当該空気循環路とを循環している第１の空
気流とは独立に、当該クリーンルーム外部より、清浄な
第２の空気流を当該インターフェースボックスオープナ
ーの近傍に直接供給する様に構成されたクリーンルーム
の空調方法である。
【００４５】当該クリーンルームの空調方法に於いて
は、当該クリーンルームの外部に設けられた清浄空気供
給手段に接続された空気ダクトの空気排出口を、当該イ
ンターフェースボックスオープナー近傍に配置せしめ、
当該清浄空気を当該インターフェースボックスオープナ
ー近傍直接供給する様に構成去れている事が望ましく、
又、当該インターフェースボックスオープナー近傍に
は、インターフェースボックスオープナー上に載置され
た当該インターフェースボックスを取り囲む仕切り手段
を設ける事も望ましい。
【００４６】本発明に係る当該クリーンルームの空調方
法の他の具体例としては、当該クリーンルームの外部に
設けられた清浄空気供給手段に接続された空気ダクトの
空気排出口を、当該クリーンルームの内室部の天井部に
接続し、当該内室部の当該空気ダクトの空気排出口が接
続された天井部近傍から、当該第２の空気流を、当該イ
ンターフェースボックスオープナーの配置位置の上方部
に向けて垂下させる様に構成したクリーンルームの空調
方法である。
【００４７】当該空気ダクトの空気排出口が接続された
天井部近傍に仕切り手段が設けられている事が望まし
く、又当該仕切り手段内に、当該インターフェースボッ
クスの搬送手段を設ける事も望ましい。
【００４８】本発明に係る当該クリーンルームの空調方
法に於いては、当該第１と第２の空気流は、当該内室部
或いは当該空気循環路で混合されて当該内室部内に第１
の空気流として循環供給される様に構成されているもの
である。
【００４９】
【発明の効果】本発明に係る当該クリーンルーム及びク
リーンルームの空調方法に於いては、上記した様な技術
構成を採用しているので、クリーンルームの外部でケミ
カルフィルターを使用して生成した清浄な空気流を局所
的に直接クリーンルーム外部から常時供給する様にして
いるので、フィルター或いは清浄空気流発生操作等に関
するコストが低減出来、且つクリーンルーム内の最も清
浄化が必要な部分の空気状態を改善する事が出来、半導
体装置の製品特性の悪化を防止すると同時に歩留りの向
上にも貢献する。
【００５０】つまり、本発明に於いては、インターフェ
ースボックスに供給される空気はケミカルフィルターで
ケミカル除去されるが、ケミカルフィルターを通過する
空気は外気のみでありプロセス使用薬品の影響やケミカ
ルフィルターによるクリーンルーム雰囲気薬品成分の分
解副生成物の影響を受けない。
【００５１】また、オールフレッシュ空調は外気ハンド
リング量が通常の１０倍程度必要とされるが、本発明に
於いては、限定されたインターフェースボックスオープ
ナー部５のみへの供給となるため、外気ハンドリング量
を極度に増加させることなく必要となる部分のみオール
フレッシュ空調が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明に係るクリーンルームの一具体
例の構成を示す側面図である。
【図２】図２は、本発明に係るクリーンルームの他の具
体例の構成を示す側面図である。
【図３】図３は、従来のクリーンルームの具体例の構成
を示す側面図である。
【符号の説明】
１…クリーンルーム ２…半導体装置生産設備 ３…ウェハ ４…インターフェースボックス ５…インターフェースボックスオープナー ６…ケミカルフィルター ７…ファンフィルターユニット、ＦＦＵ ８…ファン ９…フィルタ １０…内室部 １２…空気循環路 １３…第１の空気流 １４…清浄空気供給手段 １５…検出器 １６…空気圧力センサー １７…冷却手段 １８…第２の空気流 １９…空気ダクト１９ ２０…外室部 ２２…天井部 ２１…空気排出口 ２２…天井部 ２３…仕切り手段 ２４…搬送手段 ２５…室内空気排気手段 ２８…排気孔 ３０…仕切り手段 ３１…フィルター ３２…フィルター手段 ４０…床部 ４１…クリーンルーム内外圧差検出センサ ４２…制御手段 ４３…調整手段

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 所定の半導体装置生産設備、複数のウェ
    ハを内蔵して移動可能に構成されたインターフェースボ
    ックス、当該インターフェースボックスを固定的に載置
    して、当該インターフェースボックス内から当該ウェハ
    を当該生産設備内に搬送するインターフェースボックス
    オープナー等が内部に配置されている内室部と当該内室
    部を取り囲み、当該内室部との間に空気循環路を形成す
    る様に構成された外室とから構成されたクリーンルーム
    であって、当該内室部に設けられたファンフィルターユ
    ニットを介して、当該内室部内の空気が、当該空気循環
    路を介して循環する様に構成されているクリーンルーム
    に於いて、当該内室部と当該空気循環路とを循環してい
    る第１の空気流とは独立に、当該クリーンルーム外部よ
    り、清浄な第２の空気流を当該インターフェースボック
    スオープナーの近傍に直接供給する様に構成されている
    事を特徴とするクリーンルーム。
  2. 【請求項２】 当該クリーンルームの外部に設けられた
    清浄空気供給手段に接続された空気ダクトの空気排出口
    を、当該内室部に設けられた当該インターフェースボッ
    クスオープナー近傍に配置せしめた事を特徴とする請求
    項１記載のクリーンルーム。
  3. 【請求項３】 当該インターフェースボックスオープナ
    ー近傍には、インターフェースボックスオープナー上に
    載置された当該インターフェースボックスを取り囲む仕
    切り手段が配置されている事を特徴とする請求項１又は
    ２に記載のクリーンルーム。
  4. 【請求項４】 当該仕切り手段と当該空気ダクトの空気
    排出口との接続部近傍には、適宜のフィルターが配置さ
    れている事を特徴とする請求項２又は３に記載のクリー
    ンルーム。
  5. 【請求項５】 当該空気ダクトに於ける当該空気排出口
    と当該清浄空気供給手段との間の適宜の部位に、フィル
    ター手段が設けられている事を特徴とする請求項１乃至
    ４の何れかに記載のクリーンルーム。
  6. 【請求項６】 当該フィルター手段は、ケミカルフィル
    ター手段を含んでいる事を特徴とする請求項５記載のク
    リーンルーム。
  7. 【請求項７】 当該クリーンルームの外部に設けられた
    清浄空気供給手段に接続された空気ダクトの空気排出口
    を、当該クリーンルームの内室部の天井部に接続し、当
    該内室部の当該空気ダクトの空気排出口が接続された天
    井部近傍から、当該インターフェースボックスオープナ
    ーの配置位置の上方部に向けて垂下させた仕切り手段が
    設けられている事を特徴とする請求項１記載のクリーン
    ルーム。
  8. 【請求項８】 当該空気ダクトの空気排出口と当該クリ
    ーンルームの内室部の天井部との接続部位にファンフィ
    ルターユニットが接続されている事を特徴とする請求項
    ７記載のクリーンルーム。
  9. 【請求項９】 当該仕切り手段内に、当該インターフェ
    ースボックスの搬送手段が設けられている事を特徴とす
    る請求項７又は８に記載のクリーンルーム。
  10. 【請求項１０】 当該第１と第２の空気流は、当該内室
    部或いは当該空気循環路で混合されて当該内室部内に第
    １の空気流として循環供給される様に構成されている事
    を特徴とする請求項１記載のクリーンルーム。
  11. 【請求項１１】 当該内室部の空気圧力と当該クリーン
    ルーム外部の空気圧力とを検出し、当該両空気圧力の差
    分値に応答して、当該空気循環路内の空気の一部を排気
    する様に構成された室内空気排気手段が設けられている
    事を特徴とする請求項１乃至１０の何れかに記載のクリ
    ーンルーム。
  12. 【請求項１２】 当該空気循環路内に、空気冷却手段が
    設けられている事を特徴とする請求項１乃至１１の何れ
    かに記載のクリーンルーム。する液晶表示パネル。
  13. 【請求項１３】 所定の半導体装置生産設備、複数のウ
    ェハを内蔵して移動可能に構成されたインターフェース
    ボックス、当該インターフェースボックスを固定的に載
    置して、当該インターフェースボックス内から当該ウェ
    ハを当該生産設備内搬送するインターフェースボックス
    オープナー等が内部に配置されている内室部と当該内室
    部を取り囲み、当該内室部との間に空気循環路を形成す
    る様に構成された外室とから構成されたクリーンルーム
    であって、当該内室部に設けられたファンフィルターユ
    ニットを介して、当該内室部内の空気が、当該空気循環
    路を介して循環する様に構成されているクリーンルーム
    に於いて、当該内室部と当該空気循環路とを循環してい
    る第１の空気流とは独立に、当該クリーンルーム外部よ
    り、清浄な第２の空気流を当該インターフェースボック
    スオープナーの近傍に直接供給する事を特徴とするクリ
    ーンルームの空調方法。
  14. 【請求項１４】 当該クリーンルームの外部に設けられ
    た清浄空気供給手段に接続された空気ダクトの空気排出
    口を、当該インターフェースボックスオープナー近傍に
    配置せしめ、当該清浄空気を当該インターフェースボッ
    クスオープナー近傍直接供給する事を特徴とする請求項
    １３記載のクリーンルームの空調方法。
  15. 【請求項１５】 当該インターフェースボックスオープ
    ナー近傍には、インターフェースボックスオープナー上
    に載置された当該インターフェースボックスを取り囲む
    仕切り手段を設ける事を特徴とする請求項１３又は１４
    に記載のクリーンルームの空調方法。
  16. 【請求項１６】 当該仕切り手段と当該空気ダクトの空
    気排出口との接続部近傍には、適宜のフィルターを設け
    る事を特徴とする請求項１３乃至１５の何れかに記載の
    クリーンルームの空調方法。
  17. 【請求項１７】 当該空気ダクトに於ける当該空気排出
    口と当該清浄空気供給手段との間の適宜の部位に、フィ
    ルター手段を設ける事を特徴とする請求項１３乃至１６
    の何れかに記載のクリーンルームの空調方法。
  18. 【請求項１８】 当該フィルター手段は、ケミカルフィ
    ルター手段を含んでいる事を特徴とする請求項１７記載
    のクリーンルームの空調方法。
  19. 【請求項１９】 当該クリーンルームの外部に設けられ
    た清浄空気供給手段に接続された空気ダクトの空気排出
    口を、当該クリーンルームの内室部の天井部に接続し、
    当該内室部の当該空気ダクトの空気排出口が接続された
    天井部近傍から、当該第２の空気流を、当該インターフ
    ェースボックスオープナーの配置位置の上方部に向けて
    垂下させる事を特徴とする請求項１３記載のクリーンル
    ームの空調方法。
  20. 【請求項２０】 当該空気ダクトの空気排出口が接続さ
    れた天井部近傍に仕切り手段が設けられている事を特徴
    とする請求項１９記載のクリーンルームの空調方法。
  21. 【請求項２１】 当該仕切り手段内に、当該インターフ
    ェースボックスの搬送手段を設ける事を特徴とする請求
    項２０に記載のクリーンルームの空調方法。
  22. 【請求項２２】 当該第１と第２の空気流は、当該内室
    部或いは当該空気循環路で混合されて当該内室部内に第
    １の空気流として循環供給される様に構成されている事
    を特徴とする請求項１３記載のクリーンルームの空調方
    法。
  23. 【請求項２３】 当該内室部の空気圧力と当該クリーン
    ルーム外部の空気圧力とを検出し、当該両空気圧力の差
    分値に応答して、当該空気循環路内の空気の一部を排気
    する様に構成された室内空気排気手段を設ける事を特徴
    とする請求項１３乃至２２の何れかに記載のクリーンル
    ームの空調方法。
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