EP1291586A2 - Anlage und Verfahren zur Abluftaufbereitung, insbesondere bei Reinraumanlagen - Google Patents

Anlage und Verfahren zur Abluftaufbereitung, insbesondere bei Reinraumanlagen Download PDF

Info

Publication number
EP1291586A2
EP1291586A2 EP02019612A EP02019612A EP1291586A2 EP 1291586 A2 EP1291586 A2 EP 1291586A2 EP 02019612 A EP02019612 A EP 02019612A EP 02019612 A EP02019612 A EP 02019612A EP 1291586 A2 EP1291586 A2 EP 1291586A2
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
exhaust air
filter
process device
air
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP02019612A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP1291586A3 (de
Inventor
Martin Schottler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
M+W Zander Facility Engineering GmbH and Co KG
M+W Zander Facility Engineering GmbH
Original Assignee
M+W Zander Facility Engineering GmbH and Co KG
M+W Zander Facility Engineering GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by M+W Zander Facility Engineering GmbH and Co KG, M+W Zander Facility Engineering GmbH filed Critical M+W Zander Facility Engineering GmbH and Co KG
Publication of EP1291586A2 publication Critical patent/EP1291586A2/de
Publication of EP1291586A3 publication Critical patent/EP1291586A3/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/10—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by separation, e.g. by filtering
    • F24F8/108—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by separation, e.g. by filtering using dry filter elements
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/10—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by separation, e.g. by filtering
    • F24F8/15—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by separation, e.g. by filtering by chemical means
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00—Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/90—Cleaning of purification apparatus

Definitions

  • the invention relates to a system and a method for treating exhaust air, especially in clean air systems, according to the generic term of Claims 1 and 11 respectively.
  • the invention has for its object a system and a method of the type described so that risky exhaust air flows cleaned and returned in a simple and inexpensive way can be.
  • the risky Air from the process device is cleaned and returned.
  • a large part of the exhaust air on the process device side can be reused be so that it does not have to be replaced by fresh air.
  • This allows both the amount of exhaust air and the amount of fresh air supplied can be significantly reduced, resulting in a leads to significant cost savings.
  • the system 1 according to FIG. 1 is used for the treatment of exhaust air from Process devices 2, such as devices for wet etching, for cleaning, for chemical mechanical polishing in semiconductor production as well as electroplating equipment.
  • the system 1 can only one process device 2, as shown in Fig. 1, or several process devices 2nd exhibit.
  • the process device 2 is housed in a work area 3, that of a fresh air intake device 4 via at least a supply line 5 is supplied with fresh air. Via a branch line 5 ', the process device 2 is also supplied with fresh air.
  • the Fresh air can also be supplied indirectly via the work area 3. Then the branch line 5 'is not necessary.
  • the fresh air flows through the work space 3 advantageously laminar from top to bottom.
  • the exhaust air leaving the working space 3 is at least about a line 6 is fed to a recirculation system device 7, which the exhaust air leads back into the supply air line 5 via at least one line 8.
  • a laboratory can also be found in Appendix 1 be provided.
  • the recirculated exhaust air from the work area 3 fresh air supplied from the suction device 4 is mixed to the air thus treated to the work area 3 and / or the process device 2 to be forwarded again.
  • the from the process device escaping exhaust air is risky and acidic or alkaline without relevant proportions of organic matter so that they pose health risks for people working in the work room or laboratory can.
  • Such exhaust air occurs especially when wet etching or cleaning or chemical-mechanical polishing in semiconductor production on.
  • Acid exhaust air is also generated in electroplating plants in particular.
  • risk-laden exhaust air flows can also lead to corrosion the process device or other objects in the work area and to contamination of the products to be treated, in particular Semiconductors, lead.
  • Part of the process device exhaust becomes one Exhaust air device 9 supplied and removed from the system 1.
  • the remaining part of the risk-laden exhaust air of the process device 2 is fed via a line 10 to the line 5 or 5 ', mixed there with the fresh air / supply air flowing in via the line 5 and fed again to the process device 2 via the line 5'.
  • at least one filter 11 is arranged in line 10. It is an ion exchanger that can be used, for example, to filter a flow of 5000 Nm 3 / h with 99.5% separation efficiency at a pressure loss of 100 Pa. In such process conditions, the use of activated carbon filters would not be usable because the capacity and the degree of separation of impregnated carbons are limited in technically reasonable pressure loss ranges of approx.
  • the ion exchanger filter 11 keeps the acidic, depending on the training or alkaline components of the exhaust air, which are described in the Way after filtration the same process device 2 supplied becomes. The waste air on the process device side is thus circulated.
  • the cleaning of the filter 11 can be done easily and quickly without any special Effort. Exhaust air cleaned with the filter 11 is so effectively cleaned that neither health nor corrosion or Contamination risks occur when the fresh air flow is returned to process device 2.
  • Fig. 3 shows the Case that the two filters 11, 12 are parallel to each other and alternately can be switched into a regeneration circuit.
  • the filter 11 is in the regeneration circuit 13 in which at least one storage tank 14 for the regeneration medium is located. It flows via a line 16 from the storage tank 14 to the one to be regenerated Filter 11.
  • the medium flows through the filter 11, regenerates the filter medium and is via a line 17 to the storage tank fed.
  • A ensures the circulation of the regeneration medium Pump (not shown).
  • Supply air to the process device exhaust air to filter 11 via a valve 15 locked.
  • the exhaust air flow is then through the parallel filter 12 passed, cleaned there in the manner described and the line 10 supplied, via which the cleaned exhaust air into line 5 (Fig. 1) arrives.
  • valve 15 is opened and a valve 18 closed in the feed line 19 to the filter 12.
  • valve 20 in the regeneration line 16 is closed and on Valve 21 in a regeneration line connected to the storage tank 14 22 open.
  • the exhaust air on the process device side now flows via a line 23 from the process device 2 to the regenerated filter 11, is cleaned there and reaches the line via line 10 5 (Fig. 1) back.
  • the filter 12 becomes parallel to this cleaning circuit of the exhaust air regenerated.
  • the regeneration medium is transferred from the storage tank 14 the line 22 is conveyed to the filter 12, whose medium regenerates becomes.
  • the regeneration medium then flows through a line 24 back to the storage tank 14.
  • the filters 11, 12 can alternate be regenerated so that during regeneration the operation the system 1 or the cleaning of the process air exhaust does not have to be interrupted.
  • the filters 11, 12 designed so that each filter 11, 12 are regenerated individually can while the other filter is switched into the process circuit and cleans the exhaust air on the process device side.
  • the filter 11 is regenerated.
  • the regeneration medium flows via line 16 from the storage tank 14 into this Filter, it flows through and regenerates the filter medium in it.
  • the regeneration medium flows via line 17 back to the storage tank 14. Parallel to this regeneration phase If the exhaust air on the process device side flows through filter'12, it is filtered as described and via line 10 to line 5 (Fig. 1) returned.
  • the regeneration circuit can be switched so that the regenerated filter 11 in the process circuit and the other filter 12 is switched into the regeneration circuit.
  • the switchover takes place as in the embodiment of FIG. 3 by appropriate Valves (not shown) with which the filters 11, 12 alternate be switched in the regeneration and in the process cycle can.
  • the system must therefore operate during regeneration or the cleaning of the exhaust air on the process device side is not interrupted become.
  • the cleaned exhaust air of the process device 2 can also be returned to the work room 3.
  • it is Filter 11 via a line 25 to the air recirculation device 7 leading line 6 connected.
  • a sensor 26 which may be filtered Exhaust air flow indicates existing pollutants.
  • the filtered exhaust air flow is the exhaust air flowing in line 6 of the work area 3 supplied in front of the circulating air device 7. Arrived via line 8 the circulating air flow back into lines 5 and 5 ', which the gas flow lead to the work area 3 or the process device 2.
  • Furthermore 3 is of the same design as the system according to Fig. 1.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ventilation (AREA)

Abstract

In der Reinraumtechnik werden Prozeßgeräte in einem Arbeitsraum aufgestellt, aus dem eine Mindestabluftmenge abgesaugt werden muß. Viele Installationen, insbesondere im Bereich der Reinraumtechnik, werden mit zu hohen Absaugvolumina ausgestattet. Um schadstoffbelastete Abluftströme einfach und kostengünstig zu reinigen und zurückzuführen, ist in der Abluftleitung (10) des Prozeßgerätes (2) mindestens ein Filter (11) angeordnet. Die Abluftleitung (10) ist mit einer Zuluftleitung (5, 5') des Prozeßgerätes (2) und/oder des Arbeitsraumes (3) verbunden. Die Abluft wird im Filter (11) gereinigt und kann zum Prozeßgerät (2) zurückgeleitet werden. Die Anlage wird im Bereich der Reinraumtechnik eingesetzt.

Description

Die Erfindung betrifft eine Anlage und ein Verfahren zur Abluftaufbereitung, insbesondere in Reinluftanlagen, nach dem Oberbegriff des Anspruches 1 bzw. 11.
In der Reinraumtechnik, insbesondere bei der Halbleiterfertigung, bei der die zu bearbeitenden Halbleiterfabrikate naß geätzt, naß gereinigt und/oder chemisch und mechanisch poliert werden, sind die entsprechenden Prozeßgeräte in einem Maschinenraum oder Labor aufgestellt. Aus derartigen Räumen muß in der Regel, insbesondere bei Anwesenheit von Beschäftigten, eine Mindest-Abluftmenge abgesaugt werden, die zur Entfernung einer Wärmelast, zur Reduktion der Konzentration von Risikostoffen oder zur Erfüllung behördlicher Vorschriften dient. Risiko in diesem Zusammenhang bedeutet, die Summe aus Korrosion-, Kontamination- und Gesundheitsrisiken, wobei Korrosion sich auf Schäden an den Materialien der Installation bezieht, Kontamination auf eine Verunreinigung eines ggf. gehandhabten Produktes und Gesundheitsrisiken auf etwaige Beschäftigte. Viele Installationen, insbesondere im Bereich der Reinraumtechnik, werden jedoch mit Absaugvolumina ausgestattet, die oberhalb der zitierten Grenzen liegen. Dies ist vor allen Dingen deswegen kostspielig, weil die abgesaugte Luft durch frisch aufbereitete Außenluft ersetzt werden muß.
Es ist bekannt, die unbelastete Raumluft in die Umluft zurückzuführen, während schadstoffbeladene oder risikobehaftete Luft aus Prozeßgeräten in die Abluft gegeben wird.
Es ist auch bekannt, risikofreie Luftströme wieder in die Raumluft zurückzuführen sowie in Labors die Abluft von Abzügen - typischerweise 500 Nm3/h oder weniger über Filter auf Aktivkohlebasis zu reinigen und in die Raumluft zurückzuführen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Anlage und ein Verfahren der beschriebenen Art so auszubilden, daß risikobehaftete Abluftströme auf einfache und kostengünstige Weise gereinigt und zurückgeführt werden können.
Diese Aufgabe wird bei der Anlage und dem Verfahren der gattungsbildenden Art erfindungsgemäß mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruches 1 bzw. 11 gelöst.
Infolge der erfindungsgemäßen Ausbildung wird die risikobehaftete Luft des Prozeßgerätes gereinigt und zurückgeleitet. Auf diese Weise kann ein großer Teil der prozeßgeräteseitigen Abluft wiederverwendet werden, so daß dieser nicht durch Frischluft ersetzt werden muß. Dadurch können sowohl die Menge an Abluft als auch die Menge an zugeführter Frischluft erheblich reduziert werden, was zu einer erheblichen Einsparung an Kosten führt.
Weitere Merkmale der Erfindung ergeben sich aus den weiteren Ansprüchen, der Beschreibung und den Zeichnungen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand mehrerer in den Zeichnungen dargestellter Ausführungsbeispiele näher beschrieben. Es zeigt:
Fig. 1
eine erfindungsgemäße Anlage zur Aufbereitung von Abluft in schematischer Darstellung,
Fig. 2
eine zweite Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Anlage in schematischer Darstellung,
Fig. 3 und 4
in schematischer Darstellung jeweils eine Vorrichtung zur Regenerierung der Filterstufe der Anlage gemäß Fig. 2.
Die Anlage 1 gemäß Fig. 1 dient zur Aufbereitung von Abluft von Prozeßgeräten 2, wie beispielsweise Geräte zum Naßätzen, zur Reinigung, zum chemisch-mechanischen Polieren bei der Halbleiterfertigung sowie Galvanisiergeräte. Die Anlage 1 kann nur ein Prozeßgerät 2, wie in Fig. 1 dargestellt, oder auch mehrere Prozeßgeräte 2 aufweisen. Das Prozeßgerät 2 ist in einem Arbeitsraum 3 untergebracht, der von einer Frischluftansaugvorrichtung 4 über wenigstens eine Zuleitung 5 mit Frischluft versorgt wird. Über eine Abzweigleitung 5' wird auch das Prozeßgerät 2 mit Frischluft versorgt. Die Frischluftversorgung kann auch indirekt über den Arbeitsraum 3 erfolgen. Dann ist die Abzweigleitung 5' nicht notwendig. Die Frischluft durchströmt den Arbeitsraum 3 vorteilhaft laminar von oben nach unten. Die den Arbeitsraum 3 verlassende Abluft wird über wenigstens eine Leitung 6 einer Umluftanlageeinrichtung 7 zugeführt, die die Abluft über wenigstens eine Leitung 8 in die Zuluftleitung 5 zurückführt. Anstelle des Arbeitsraumes 3 kann in der Anlage 1 auch ein Labor vorgesehen sein.
In der Leitung 5 wird die rückgeführte Abluft des Arbeitsraumes 3 mit aus der Ansaugvorrichtung 4 zugeführter Frischluft vermengt, um die so aufbereitete Luft dem Arbeitsraum 3 und/oder dem Prozeßgerät 2 erneut zuzuleiten.
Die über die Leitung 5' getrennt zugeführte Frischluft durchströmt das Prozeßgerät 2 von oben nach unten und nimmt dabei im Einsatz des Prozeßgerätes 2 entstehende Gase mit. Die aus dem Prozeßgerät austretende Abluft ist risikobehaftet und sauer oder alkalisch ohne relevante Anteile organischer Stoffe, so daß sie zu Gesundheitsrisiken für die im Arbeitsraum bzw. Labor arbeitenden Personen führen kann. Eine solche Abluft tritt vor allem beim Naßätzen oder ―reinigen oder beim chemisch-mechanischen Polieren in der Halbleiterfertigung auf. Saure Abluft entsteht insbesondere auch in Galvanikbetrieben. Solche risikobeladenen Abluftströme können auch zu Korrosionen des Prozeßgerätes oder anderer Gegenstände im Arbeitsraum sowie zu einer Kontamination der zu behandelnden Produkte, insbesondere Halbleiterfabrikate, führen. Ein Teil der Prozeßgeräteabluft wird einer Abluftvorrichtung 9 zugeführt und aus der Anlage 1 abgeführt.
Der restliche Teil der risikobeladenen Abluft des Prozeßgerätes 2 wird über eine Leitung 10 der Leitung 5 bzw. 5' zugeleitet, dort mit der über die Leitung 5 zuströmenden Frischluft/Zuluft vermengt und über die Leitung 5' erneut dem Prozeßgerät 2 zugeführt. Um den Säure- bzw. Basisgehalt in der Prozeßgeräteabluft zu verringern bzw. zu neutralisieren, ist in der Leitung 10 wenigstens ein Filter 11 angeordnet. Es ist ein lonenaustauscher, mit dem zum Beispiel bei 100 Pa Druckverlust ein Strom von 5000 Nm3/h mit 99,5 % Abscheidegrad filtriert werden kann. Bei solchen Prozeßbedingungen wäre der Einsatz von Aktivkohlefiltern nicht sinnvoll anwendbar, weil die Kapazität und der Abscheidegrad auch imprägnierter Kohlen in technisch sinnvollen Druckverlustbereichen von ca. 100 Pa begrenzt bzw. der typische Luftstrom von 5000 Nm3/h für die Anwendung zu hoch ist, und das Filtermedium nicht regeneriert werden kann. Darüber hinaus ist in den genannten typischen Abluftströmen auch mit einer erhöhten Luftfeuchte aufgrund der Anwendung offener wäßriger Bäder in der Prozeßmaschine zu rechnen, was die Anwendung von Kohlefiltern erschwert, die von lonenaustauscherfiltern dagegen begünstigt. Geht man beispielsweise von 20 µg/m3 HF aus, die erreicht bzw. unterschritten werden muß, damit Korrosion in den betroffenen Luftkanälen nicht auftritt und Gesundheitsschäden ausgeschlossen sind, so sind Luftströme mit Konzentrationen bis kleiner gleich 4 mg/m3 HF dieser Art von Recycling zugänglich. Im genannten Luftstrom von 5000 m3/h werden dann 20 g/h abgesaugt, und die Filterstandzeit dieses typischen lonentauscherfilters mit 10 kg Filtermasse ist dann 12 Stunden. Bei ununterbrochenem Betrieb (24 h) ist beispielsweise zweimal täglich eine Regeneration vorzusehen, die vorzugsweise ohne Ausbau realisiert werden muß. Ist die Belastung der Filter niedriger, kann ggf. auf eine Regeneration mit Ausbau des Filters übergegangen werden. Das verbrauchte Filtermedium kann, wie noch anhand der Fig. 3 und 4 beschrieben wird, regeneriert werden. Es kann eine interne Regeneration vorgesehen sein, bei der das Filtermedium nicht ausgebaut werden muß. Es ist aber auch eine externe Regeneration möglich, bei der das Filtermedium aus dem Filter 11 ausgebaut wird. Dies kann durch Parallel- (Fig. 3) oder Hintereinanderschaltung (Fig. 4) des Filters 11 mit wenigstens einem weiteren Filter 12 erreicht werden, ohne daß eine Unterbrechung des Betriebs erforderlich ist.
Der lonenaustauscherfilter 11 hält je nach Ausbildung die sauren oder alkalischen Bestandteile der Abluft zurück, die in der beschriebenen Weise nach der Filtrierung demselben Prozeßgerät 2 zugeführt wird. Die prozeßgeräteseitige Abluft wird somit im Kreislauf geführt.
Die Reinigung des Filters 11 kann einfach und schnell ohne besonderen Aufwand durchgeführt werden. Mit dem Filter 11 gereinigte Abluft ist so wirksam gereinigt, daß weder Gesundheits- noch Korrosionsoder Kontaminationsrisiken auftreten, wenn sie dem Frischluftstrom zum Prozeßgerät 2 zurückgeführt wird.
Zur Regeneration des Filtermediums kommt beispielsweise Natronlauge, Salzsäure oder Schwefelsäure in Betracht. Fig. 3 zeigt den Fall, daß die beiden Filter 11, 12 parallel zueinander liegen und abwechselnd in einen Regenerationskreislauf geschaltet werden können. Das Filter 11 liegt im Regenerationskreislauf 13, in dem sich mindestens ein Vorratstank 14 für das Regenerationsmedium befindet. Es strömt über eine Leitung 16 vom Vorratstank 14 zum zu regenerierenden Filter 11. Das Medium durchströmt das Filter 11, regeneriert das Filtermedium und wird über eine Leitung 17 dem Vorratstank zugeführt. Für den Umlauf des Regenerationsmediums sorgt eine (nicht dargestellte) Pumpe. Während der Regenerationsphase ist die Zuluft der prozeßgeräteseitigen Abluft zum Filter 11 über ein Ventil 15 gesperrt. Der Abluftstrom wird dann durch das parallele Filter 12 geleitet, dort in der beschriebenen Weise gereinigt und der Leitung 10 zugeführt, über die die gereinigte Abluft in die Leitung 5 (Fig. 1) gelangt.
Ist das Filter 11 regeneriert, wird das Ventil 15 geöffnet und ein Ventil 18 in der Zuleitung 19 zum Filter 12 geschlossen. Außerdem wird ein Ventil 20 in der Regenerationsleitung 16 geschlossen und ein Ventil 21 in einer an den Vorratstank 14 angeschlossenen Regenerationsleitung 22 geöffnet. Die prozeßgeräteseitige Abluft strömt nunmehr über eine Leitung 23 vom Prozeßgerät 2 zum regenerierten Filter 11, wird dort gereinigt und gelangt über die Leitung 10 zur Leitung 5 (Fig. 1) zurück.
Parallel zu diesem Reinigungskreislauf der Abluft wird das Filter 12 regeneriert. Das Regenerationsmedium wird vom Vorratstank 14 über die Leitung 22 zum Filter 12 gefördert, dessen Medium regeneriert wird. Anschließend strömt das Regenerationsmedium über eine Leitung 24 zurück zum Vorratstank 14.
Auf die beschriebene Weise können die Filter 11, 12 abwechselnd regeneriert werden, so daß während der Regeneration der Betrieb der Anlage 1 bzw. die Reinigung der prozeßgeräteseitigen Abluft nicht unterbrochen werden muß.
Bei der Hintereinanderschaltung gemäß Fig. 4 sind die Filter 11, 12 so ausgebildet, daß jedes Filter 11, 12 einzeln regeneriert werden kann, während das jeweils andere Filter in den Prozeßkreislauf geschaltet ist und die prozeßgeräteseitige Abluft reinigt. Im dargestellten Ausführungsbeispiel wird das Filter 11 regeneriert. Das Regenerationsmedium strömt über die Leitung 16 vom Vorratstank 14 in dieses Filter, durchströmt es und regeneriert das in ihm befindliche Filtermedium. Das Regenerationsmedium strömt über die Leitung 17 zurück zum Vorratstank 14. Parallel zu dieser Regenerationsphase strömt die prozeßgerätseitige Abluft durch das Filter'12, wird dort in der beschriebenen Weise gefiltert und über die Leitung 10 zur Leitung 5 (Fig. 1) zurückgeführt.
Der Regenerationskreislauf kann umgeschaltet werden, so daß das regenerierte Filter 11 in den Prozeßkreislauf und das andere Filter 12 in den Regenerationskreislauf geschaltet wird. Die Umschaltung erfolgt wie bei der Ausführungsform nach Fig. 3 durch entsprechende (nicht dargestellte) Ventile, mit denen die Filter 11, 12 abwechselnd in den Regenerations- und in den Prozeßkreislauf geschaltet werden können. Während der Regenerierung muß somit der Betrieb der Anlage bzw. die Reinigung der prozeßgeräteseitigen Abluft nicht unterbrochen werden.
Wie Fig. 2 zeigt, kann die gereinigte Abluft des Prozeßgerätes 2 auch in den Arbeitsraum 3 zurückgeführt werden. In diesem Fall ist das Filter 11 über eine Leitung 25 an die zur Umluftanlageeinrichtung 7 führende Leitung 6 angeschlossen. In Strömungsrichtung hinter dem Filter 11 sitzt in der Leitung 25 ein Sensor 26, der eventuell im filtrierten Abluftstrom vorhandene Schadstoffe anzeigt. Der filtrierte Abluftstrom wird der in der Leitung 6 strömenden Abluft des Arbeitsraumes 3 vor der Umluftvorrichtung 7 zugeführt. Über die Leitung 8 gelangt der Umluftstrom wieder in die Leitungen 5 und 5', welche den Gasstrom dem Arbeitsraum 3 bzw. dem Prozeßgerät 2 zuführen. Im übrigen ist die Anlage gemäß Fig. 3 gleich ausgebildet wie die Anlage nach Fig. 1.
Mit den beschriebenen Anlagen kann auf einfache, kostengünstige Weise eine erhebliche Reduktion der Gesamtabluft erreicht werden. Dadurch ist auch die über die Frischluftzuführvorrichtung 4 zuzuführende Zuluftmenge wesentlich geringer, wodurch wiederum Kosten eingespart werden können.

Claims (14)

  1. Anlage zur Abluftaufbereitung, insbesondere für die Reinraumtechnik, mit mindestens einer Frischluftzuführung und mindestens einer Ablufteinrichtung, die mit einem Arbeitsraum, insbesondere einem Maschinen-, Lager- oder Laborraum, verbunden sind, in dem mindestens ein Prozeßgerät angeordnet ist, an das wenigstens eine Zuführleitung und wenigstens eine Abluftleitung angeschlossen sind,
    dadurch gekennzeichnet, daß in der Abluftleitung (10) des Prozeßgerätes (2) mindestens ein Filter (11, 12) angeordnet ist, und daß die Abluftleitung (10) mit der Zuluftleitung (5, 5') des Prozeßgerätes (2) und/oder des Arbeitsraumes (3) verbunden ist.
  2. Anlage nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Abluftleitung (10) des Prozeßgerätes (2) in eine Abluftleitung (6) des Arbeitsraumes (3) mündet.
  3. Anlage nach Anspruch 1 oder 2,
    dadurch gekennzeichnet, daß der, vorteilhaft regenerierbare Filter (11, 12) ein lonenaustauscher ist.
  4. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
    dadurch gekennzeichnet, daß der Arbeitsraum (3) ein Lagerraum ist, und daß die erfaßte Abluft Behälteratemluft oder Lekkageluft aus einem Chemiebehälter ist.
  5. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
    dadurch gekennzeichnet, daß in der Abluftleitung (10) des Prozeßgerätes (2) wenigstens ein Sensor (26) zur Risikodetektion angeordnet ist, der vorteilhaft in Strömungsrichtung der in der Abluftleitung (10) strömenden Abluft des Prozeßgerätes (2) hinter dem Filter (11) angeordnet ist.
  6. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
    dadurch gekennzeichnet, daß dem Filter (11) mindestens ein zweites Filter (12) zugeordnet ist, das parallel und/oder in Reihe zum ersten Filter (11) liegt.
  7. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
    dadurch gekennzeichnet, daß das Filter (11, 12) in einen Regenerationskreislauf schaltbar ist, in dem vorteilhaft wenigstens ein Vorratstank (14) für Regenerationsmedium liegt.
  8. Anlage nach Anspruch 6 oder 7
    dadurch gekennzeichnet, daß die parallel liegenden Filter (11, 12) abwechselnd in den Regenerationskreislauf schaltbar sind.
  9. Anlage nach einem der Ansprüche 6 bis 8,
    dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Filter (12) gleich ausgebildet ist wie das erste Filter (11).
  10. Anlage nach einem der Ansprüche 3 bis 9,
    dadurch gekennzeichnet, daß das Regenerationsmedium Säure, wie Salzsäure, Schwefelsäure, oder Lauge, wie Natronlauge, ist.
  11. Verfahren zur Abluftaufbereitung in einer Anlage gemäß den Ansprüchen 1 bis 10, bei dem Zuluft einem Arbeitsraum und/oder mindestens einem Prozeßgerät zugeführt wird, und bei dem aus dem Prozeßgerät ein schadstoffbeladener Abluftstrom austritt, der dem Zuluftstrom zugeführt wird,
    dadurch gekennzeichnet, daß der prozeßseitige Abluftstrom vor dem Zurückführen in den Zuluftstrom von risikoreichen Schadstoffen gereinigt wird.
  12. Verfahren nach Anspruch 11,
    dadurch gekennzeichnet, daß während der Reinigung der prozeßgeräteseitigen Abluft eine Regenerierung des Filtermediums vorgenommen wird.
  13. Verfahren nach Anspruch 12,
    dadurch gekennzeichnet, daß während der Regeneration des Filters (11) die Abluft des Prozeßgerätes (2) durch wenigstens ein zweites Filter (12) geleitet wird.
  14. Verfahren nach Anspruch 12,
    dadurch gekennzeichnet, daß ein Filter (11, 12) regeneriert wird, während ein anderer Filter zur Reinigung der prozeßgeräteseitigen Abluft herangezogen wird.
EP02019612A 2001-09-06 2002-09-03 Anlage und Verfahren zur Abluftaufbereitung, insbesondere bei Reinraumanlagen Withdrawn EP1291586A3 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10143628A DE10143628A1 (de) 2001-09-06 2001-09-06 Anlage und Verfahren zur Abluftaufbereitung, insbesondere bei Reinraumanlagen
DE10143628 2001-09-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP1291586A2 true EP1291586A2 (de) 2003-03-12
EP1291586A3 EP1291586A3 (de) 2004-12-15

Family

ID=7697882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP02019612A Withdrawn EP1291586A3 (de) 2001-09-06 2002-09-03 Anlage und Verfahren zur Abluftaufbereitung, insbesondere bei Reinraumanlagen

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6808546B2 (de)
EP (1) EP1291586A3 (de)
CN (1) CN100491848C (de)
DE (1) DE10143628A1 (de)
SG (1) SG122765A1 (de)
TW (1) TW564186B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT202100023105A1 (it) * 2021-09-07 2023-03-07 Ciana S R L Sistema di filtraggio dell’aria a manutenzione automatica alternata e controllo remoto

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070068391A1 (en) * 2004-12-01 2007-03-29 Stanley Wiener Biological home defense system
US7833305B1 (en) * 2005-04-19 2010-11-16 Studer Ronald M Filter device
US20060240764A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Pierce Christopher J Air vent inserts
DE202005009505U1 (de) * 2005-06-10 2006-10-19 M + W Zander Facility Engineering Gmbh Schwebstofffilter, insbesondere für den Einsatz in Reinräumen
CN102091497A (zh) * 2011-01-13 2011-06-15 孔黄宽 一种可连续运行的实验室排放废气处理方法
US9631825B2 (en) 2012-12-18 2017-04-25 Nortek Air Solutions, Llc Air filter assembly
CN105561688A (zh) * 2015-12-21 2016-05-11 天津孚音生物科技发展有限公司 一种工厂用空气净化组件
EP4006436A4 (de) * 2019-07-22 2022-08-31 S.Y. Technology, Engineering & Construction Co., Ltd. Energiesparendes belüftungssystem mit nutzung von prozessabluft
DE102021101403A1 (de) 2021-01-22 2022-07-28 Syntegon Technology Gmbh Eine pharmazeutische Anlage und ein Verfahren zum Betreiben einer pharmazeutischen Anlage

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3728866A (en) * 1971-07-08 1973-04-24 Interlab Inc Exhaustless clean room work stations
JPS61282742A (ja) * 1985-06-06 1986-12-12 Taikisha Ltd クリ−ンル−ム
US5326316A (en) * 1991-04-17 1994-07-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Coupling type clean space apparatus
EP0736403A2 (de) * 1995-04-06 1996-10-09 Behr GmbH & Co. Vorrichtung und Verfahren zur Behandlung eines einem Innenraum zugeführten Luftstromes
EP0827186A2 (de) * 1996-08-29 1998-03-04 Tokyo Electron Limited Substratbehandlungssystem
JP2001093790A (ja) * 1999-09-24 2001-04-06 Nec Corp クリーンルーム及びクリーンルームの空調方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS625031A (ja) * 1985-06-28 1987-01-12 Kajima Corp 部分的に清浄度の異なるクリ−ンル−ム
JP2736662B2 (ja) * 1988-11-04 1998-04-02 東芝セラミックス株式会社 半導体ウェーハの曇防止装置
JP2561749B2 (ja) * 1990-10-11 1996-12-11 株式会社朝日工業社 クリ−ンル−ムの空気循環方法
US5350336A (en) * 1993-04-23 1994-09-27 Industrial Technology Research Institute Building and method for manufacture of integrated semiconductor circuit devices
JPH0926176A (ja) * 1995-07-07 1997-01-28 Canon Inc 処理システムとこれを用いたデバイス生産方法
JPH10106908A (ja) * 1996-10-01 1998-04-24 Mitsubishi Electric Corp ケミカルフリー乾燥空気の発生装置
JP3090088B2 (ja) * 1997-02-07 2000-09-18 富士電機株式会社 クリーンルームのファンフィルタユニット
JP3911904B2 (ja) * 1999-04-21 2007-05-09 株式会社日立プラントテクノロジー クリーンルーム構造
DE19835538A1 (de) * 1998-08-06 2000-02-10 Meissner & Wurst Reinraum
DE29916321U1 (de) * 1999-09-16 1999-12-23 M + W Zander Facility Engineering GmbH + Co. KG, 70499 Stuttgart Reinstlufteinrichtung für den Pharmazie-, Lebensmittel- und biotechnischen Bereich

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3728866A (en) * 1971-07-08 1973-04-24 Interlab Inc Exhaustless clean room work stations
JPS61282742A (ja) * 1985-06-06 1986-12-12 Taikisha Ltd クリ−ンル−ム
US5326316A (en) * 1991-04-17 1994-07-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Coupling type clean space apparatus
EP0736403A2 (de) * 1995-04-06 1996-10-09 Behr GmbH & Co. Vorrichtung und Verfahren zur Behandlung eines einem Innenraum zugeführten Luftstromes
EP0827186A2 (de) * 1996-08-29 1998-03-04 Tokyo Electron Limited Substratbehandlungssystem
JP2001093790A (ja) * 1999-09-24 2001-04-06 Nec Corp クリーンルーム及びクリーンルームの空調方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN Bd. 0111, Nr. 49 (M-588), 15. Mai 1987 (1987-05-15) -& JP 61 282742 A (TAIKISHA LTD), 12. Dezember 1986 (1986-12-12) *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN Bd. 2000, Nr. 21, 3. August 2001 (2001-08-03) -& JP 2001 093790 A (NEC CORP), 6. April 2001 (2001-04-06) & US 6 368 208 B1 (MINOSHIMA MASAHIKO) 9. April 2002 (2002-04-09) *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT202100023105A1 (it) * 2021-09-07 2023-03-07 Ciana S R L Sistema di filtraggio dell’aria a manutenzione automatica alternata e controllo remoto

Also Published As

Publication number Publication date
SG122765A1 (en) 2006-06-29
TW564186B (en) 2003-12-01
US6808546B2 (en) 2004-10-26
CN100491848C (zh) 2009-05-27
EP1291586A3 (de) 2004-12-15
DE10143628A1 (de) 2003-03-27
US20030050004A1 (en) 2003-03-13
CN1409062A (zh) 2003-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1291586A2 (de) Anlage und Verfahren zur Abluftaufbereitung, insbesondere bei Reinraumanlagen
DE60130105T2 (de) Verfahren und vorrichtung zur luftfiltration
EP2635860B1 (de) Verfahren für das Temperieren von Gegenständen
DE202020105240U1 (de) Luftreinigungsvorrichtung zum Filtern von Raumluft
DE2233215A1 (de) Filtervorrichtung zur entfernung von bakterien aus der belueftungsluft
DE202015104508U1 (de) Staubfilter- und Sterilisationsgerät für die Raumluft
EP4144450B1 (de) Verfahren zum reinigen von bei einem bearbeitungsprozess in einem reinraum/trockenraum entstehender abluft sowie anlage zur durchführung des verfahrens
DE10351837B4 (de) Verfahren zum Reinigen von Druckluft an Druckluftbeschaffungsanlagen von Kraftfahrzeugen sowie Kartusche hierfür
WO2021228410A1 (de) VERFAHREN ZUR VORBEREITUNG VON DEKONTAMINATIONSMAßNAHMEN, VERFAHREN ZUR DURCHFÜHRUNG VON DEKONTAMINATIONSMAßNAHMEN UND VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG VON DEKONTAMINATIONSMAßNAHMEN
DE102020106011A1 (de) Mobile Absauganlage
DE69216813T2 (de) Filtrationsanlage für Luftbehandlungsysteme oder Küchenhauben
DE10148180A1 (de) Vorrichtung zur Abgasreinigung an Dieselmotorprüfständen
DE102020103716A1 (de) Anlage zur kontrollierten Lüftung einer Wohneinheit
EP1760046B1 (de) Kompaktes Wasserreinigungsgerät für Teiche
DE202019001503U1 (de) 3D-Filtration-ULW Ultrafiltration des Umlaufwassers von hybriden Rückkühlwerken und sonstigen Kühlwerken mit Umlaufwasser
DE20109800U1 (de) Filter und Ansaugluftverteilung für mobile stationäre Lackier- und Beschichtungsanlagen und Luftverteilung von Zuluftanlagen
EP1246779B1 (de) Verfahren und vorrichtung zum reinigen von rohwasser
DE19740327A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Probenaufbereitung für die Analytik partikelhaltiger wäßriger Proben
DE9209031U1 (de) Anlage zur Reinigung von kontaminiertem Wasser
WO2018153502A1 (de) Gasreinigungsvorrichtung für ein inertgasgehäuse
DE102022121171B3 (de) Vorrichtung zur Reinigung von Kraftstoff und deren Verwendung
DE102019003212A1 (de) Einrichtung zum Entfernen von Keramikschleifmittel aus rückspülbaren Filterelementen zum Filtern von Schleiföl mit Keramikschleifmittel
DE102023106535A1 (de) Modularer Luftreiniger
DE102020123697A1 (de) Luftreinigungsvorrichtung zum Filtern von Raumluft
DE102015225431B4 (de) Vorrichtung zur Separation von Partikeln aus einer Flüssigkeit

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SK TR

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SK TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: AL LT LV MK RO SI

PUAL Search report despatched

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009013

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A3

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SK TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: AL LT LV MK RO SI

17P Request for examination filed

Effective date: 20050609

AKX Designation fees paid

Designated state(s): AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE SK TR

17Q First examination report despatched

Effective date: 20080110

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

GRAC Information related to communication of intention to grant a patent modified

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSCIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE APPLICATION IS DEEMED TO BE WITHDRAWN

18D Application deemed to be withdrawn

Effective date: 20110510