JPH06100356B2 - ライン形クリーンキューブ装置 - Google Patents
ライン形クリーンキューブ装置Info
- Publication number
- JPH06100356B2 JPH06100356B2 JP22148287A JP22148287A JPH06100356B2 JP H06100356 B2 JPH06100356 B2 JP H06100356B2 JP 22148287 A JP22148287 A JP 22148287A JP 22148287 A JP22148287 A JP 22148287A JP H06100356 B2 JPH06100356 B2 JP H06100356B2
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- Japan
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- clean
- area
- cube
- process area
- partition
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体製造，精密機器製造，および食品，
薬品製造等、その生産ラインの環境に高清浄空間を必要
とする各種生産分野のクリーンルームに適用される特に
自動化生産ラインに好適なライン形クリーンキューブ装
置に関する。
薬品製造等、その生産ラインの環境に高清浄空間を必要
とする各種生産分野のクリーンルームに適用される特に
自動化生産ラインに好適なライン形クリーンキューブ装
置に関する。
頭記した生産ラインに適用されるクリーンルーム装置と
して、従来より各種生産装置を配備した室内全域に亙っ
て清浄空気をダウンフローさせる全面層流方式の他に、
生産ラインの作業領域を局部的に高清浄度に維持させて
その設備費、運転経費の節減化を図る方式としてクリー
ントンネル方式，クリーンチューブ方式，さらにはクリ
ーントンネル内にクリーンブース，クリーンベンチ等を
分散して配備して組合せた方式等の各種方式が実施例さ
れている。また特に超高清浄，恒温空間を必要とする用
途に対しては、周囲の空間より隔離して独立した超高清
浄空間を構成するクリーンキューブ等も知られている。
して、従来より各種生産装置を配備した室内全域に亙っ
て清浄空気をダウンフローさせる全面層流方式の他に、
生産ラインの作業領域を局部的に高清浄度に維持させて
その設備費、運転経費の節減化を図る方式としてクリー
ントンネル方式，クリーンチューブ方式，さらにはクリ
ーントンネル内にクリーンブース，クリーンベンチ等を
分散して配備して組合せた方式等の各種方式が実施例さ
れている。また特に超高清浄，恒温空間を必要とする用
途に対しては、周囲の空間より隔離して独立した超高清
浄空間を構成するクリーンキューブ等も知られている。
ところで上記した従来の各種方式によるクリーンシステ
ムでは、生産ラインの各工程に対応してベイ方式，スタ
ー方式等のレイアウトで配備したクリーンブース，クリ
ーンベンチ，ないしクリーンキューブ等とともに、生産
ライン内での物品（例えば半導体製造分野でのウエハ
等）の搬送路，および作業員の通路が同じクリーントン
ネル内に構成されて各種製造装置と作業員とが同居する
形を採っているのが一般的である。
ムでは、生産ラインの各工程に対応してベイ方式，スタ
ー方式等のレイアウトで配備したクリーンブース，クリ
ーンベンチ，ないしクリーンキューブ等とともに、生産
ライン内での物品（例えば半導体製造分野でのウエハ
等）の搬送路，および作業員の通路が同じクリーントン
ネル内に構成されて各種製造装置と作業員とが同居する
形を採っているのが一般的である。
このために作業員からの発塵による生産装置への悪影響
を押さえて作業環境を高清浄度に安定維持させるには、
クリーントンネル内をより高い清浄空間にするクリーン
システムが必要となる他、特に生産ラインのレイアウト
変更，生産設備の増減を行う場合にはそのクリーンルー
ムシステムの組替え，改造に大工事が必要となる。なお
半導体製造のように生産設備のライフサイクルが極端に
短い分野では、このような生産ラインの変更が頻繁に行
われる。
を押さえて作業環境を高清浄度に安定維持させるには、
クリーントンネル内をより高い清浄空間にするクリーン
システムが必要となる他、特に生産ラインのレイアウト
変更，生産設備の増減を行う場合にはそのクリーンルー
ムシステムの組替え，改造に大工事が必要となる。なお
半導体製造のように生産設備のライフサイクルが極端に
短い分野では、このような生産ラインの変更が頻繁に行
われる。
この発明は上記の点にかんがみ成されたものであり、そ
の目的は前記した従来方式の難点を解消し、生産ライン
の各工程で使用する個々の生産装置に対して高清浄度の
環境維持が確実に図れ、しかも生産ラインのレイアウト
変更，生産設備の増減，メンテナンス等に対しても、他
の生産装置に影響を及ぼすことなく容易に対応できるよ
うにした特に自動化された生産ラインに好適なライン形
クリーンキューブ装置を提供することにある。
の目的は前記した従来方式の難点を解消し、生産ライン
の各工程で使用する個々の生産装置に対して高清浄度の
環境維持が確実に図れ、しかも生産ラインのレイアウト
変更，生産設備の増減，メンテナンス等に対しても、他
の生産装置に影響を及ぼすことなく容易に対応できるよ
うにした特に自動化された生産ラインに好適なライン形
クリーンキューブ装置を提供することにある。
本発明によれば、上記の目的を達成するために、外部に
据え付けられたコントローラにより運転制御される生産
装置を収容すると共に高清浄度の空気を供給するクリー
ンユニットと空調ユニットとを備えて独立に区画形成さ
れたプロセスエリアと、このプロセスエリアの一方の側
面にプロセスエリアと隔壁により間仕切りして画成され
た清浄空間である搬送エリアと、この搬送エリアに対し
てプロセスエリアを挟んだ他方の側面にプロセスエリア
と隔壁により間仕切りして画成されたリターンエアエリ
アと、を備えたクリーンキューブを、プロセスエリアの
独立区画を維持したまま生産ラインの工程に対応させて
ライン形に複数個連設すると共に、各クリーンキューブ
の相互間で搬送エリア同士を連通して構成し、且つ各ク
リーンキューブ毎に、プロセスエリアと搬送エリアとの
間を仕切る間仕切り隔壁に物品搬入，搬出用の出入口を
設けるものとする。
据え付けられたコントローラにより運転制御される生産
装置を収容すると共に高清浄度の空気を供給するクリー
ンユニットと空調ユニットとを備えて独立に区画形成さ
れたプロセスエリアと、このプロセスエリアの一方の側
面にプロセスエリアと隔壁により間仕切りして画成され
た清浄空間である搬送エリアと、この搬送エリアに対し
てプロセスエリアを挟んだ他方の側面にプロセスエリア
と隔壁により間仕切りして画成されたリターンエアエリ
アと、を備えたクリーンキューブを、プロセスエリアの
独立区画を維持したまま生産ラインの工程に対応させて
ライン形に複数個連設すると共に、各クリーンキューブ
の相互間で搬送エリア同士を連通して構成し、且つ各ク
リーンキューブ毎に、プロセスエリアと搬送エリアとの
間を仕切る間仕切り隔壁に物品搬入，搬出用の出入口を
設けるものとする。
上記の構成で各クリーンキューブは、その内部のプロセ
スエリアと搬送エリアとの間が物品搬入，搬出用の自動
扉付きパスボックスを介して連通されており、さらにリ
ターンエアエリアはメンテナンスサポートエリアを兼
ね、かつ該リターンエアエリアとプロセスエリアとの間
が生産装置の搬入，搬出のために取り外し可能な隔壁で
間仕切りされて構成されている。
スエリアと搬送エリアとの間が物品搬入，搬出用の自動
扉付きパスボックスを介して連通されており、さらにリ
ターンエアエリアはメンテナンスサポートエリアを兼
ね、かつ該リターンエアエリアとプロセスエリアとの間
が生産装置の搬入，搬出のために取り外し可能な隔壁で
間仕切りされて構成されている。
ここで生産ラインの各工程別に設置された各クリーンキ
ューブには外調機より送られて来る清浄空気が導入さ
れ、かつ各クリーンキューブ毎にその内部のプロセスエ
リアにはキューブ内に装備した専用のクリーンユニッ
ト，空調ユニットを経由してリターンエアエリアとの間
で清浄空気が循環送風される。また通常時はプロセスエ
リア内への作業員の出入りが一切なく、プロセスエリア
内に収容した生産装置はキューブ外の通路部に据付けた
コントローラにより遠隔式に運転制御されるとともに、
さらに半導体製造分野におけるウエハ等の物品は各クリ
ーンキューブの内部で搬送エリアよりパスボックスを通
じてプロセスエリア内に搬入，搬出され、かつクリーン
キューブの相互間では互いに連通し合う搬送エリアを通
じて搬送される。なお各エリアの内圧はキューブ外の通
路部，搬送エリア，プロセスエリアの順に高くなるよう
に陽圧管理されている。
ューブには外調機より送られて来る清浄空気が導入さ
れ、かつ各クリーンキューブ毎にその内部のプロセスエ
リアにはキューブ内に装備した専用のクリーンユニッ
ト，空調ユニットを経由してリターンエアエリアとの間
で清浄空気が循環送風される。また通常時はプロセスエ
リア内への作業員の出入りが一切なく、プロセスエリア
内に収容した生産装置はキューブ外の通路部に据付けた
コントローラにより遠隔式に運転制御されるとともに、
さらに半導体製造分野におけるウエハ等の物品は各クリ
ーンキューブの内部で搬送エリアよりパスボックスを通
じてプロセスエリア内に搬入，搬出され、かつクリーン
キューブの相互間では互いに連通し合う搬送エリアを通
じて搬送される。なお各エリアの内圧はキューブ外の通
路部，搬送エリア，プロセスエリアの順に高くなるよう
に陽圧管理されている。
したがって生産装置を収容したクリーンキューブのプロ
セスエリアにはキューブ外雰囲気，作業員等による塵埃
汚染の影響を殆ど受けず、例えキューブ外の環境清浄度
が低くてもクリーンキューブの内部を超高清浄度に安定
維持できる他、搬送物品等も作業員の通るキューブ外の
通路部と隔離された搬送エリア内で搬送されるので塵埃
汚染の影響が少なく、これにより生産ライン環境，およ
び製品品質管理の向上が可能となる。また生産ラインの
レイアウト変更，生産設備の増減等に対しても、各工程
に対応して独立したクリーンキューブを備えているので
他の生産装置に影響を及ぼすことなしにクリーンキュー
ブの増設，撤去，内部改造，メンテナンス等の作業を進
めることができる。なお生産ラインの組替えに伴うクリ
ーンキューブへの生産装置の搬入，搬出はプロセスエリ
アの背後に画成したリターンエアエリアを利用し、その
間仕切隔壁を取り外すことにより容易に実施できる。
セスエリアにはキューブ外雰囲気，作業員等による塵埃
汚染の影響を殆ど受けず、例えキューブ外の環境清浄度
が低くてもクリーンキューブの内部を超高清浄度に安定
維持できる他、搬送物品等も作業員の通るキューブ外の
通路部と隔離された搬送エリア内で搬送されるので塵埃
汚染の影響が少なく、これにより生産ライン環境，およ
び製品品質管理の向上が可能となる。また生産ラインの
レイアウト変更，生産設備の増減等に対しても、各工程
に対応して独立したクリーンキューブを備えているので
他の生産装置に影響を及ぼすことなしにクリーンキュー
ブの増設，撤去，内部改造，メンテナンス等の作業を進
めることができる。なお生産ラインの組替えに伴うクリ
ーンキューブへの生産装置の搬入，搬出はプロセスエリ
アの背後に画成したリターンエアエリアを利用し、その
間仕切隔壁を取り外すことにより容易に実施できる。
第１図，第２図は本発明の実施例によるライン形クリー
ンキューブ装置を示すものであり、図において１は工場
建屋の室内フロアに据付けたクリーンキューブ、２は作
業員の通る室内の通路部であり、クリーンキューブ１は
生産ラインに沿いその各工程別に分けてライン形に連設
されている。
ンキューブ装置を示すものであり、図において１は工場
建屋の室内フロアに据付けたクリーンキューブ、２は作
業員の通る室内の通路部であり、クリーンキューブ１は
生産ラインに沿いその各工程別に分けてライン形に連設
されている。
ここでクリーンキューブ１は、各キューブ毎にその内部
にプロセスエリア３と、該プロセスエリア３を挟んでそ
の前後に間仕切隔壁4,5を介して仕切られた搬送エリア
6,およびリターンエアエリア７が画成されており、かつ
各クリーンキューブ毎に前記プロセスエリア３の内部に
は各クリーンキューブに面して通路部２側に据付けたコ
ントローラ８で運転制御される生産装置９が収容設置さ
れ、さらに連設して並ぶ各クリーンキューブ１の相互間
では前記搬送エリア６同士が連通されている。
にプロセスエリア３と、該プロセスエリア３を挟んでそ
の前後に間仕切隔壁4,5を介して仕切られた搬送エリア
6,およびリターンエアエリア７が画成されており、かつ
各クリーンキューブ毎に前記プロセスエリア３の内部に
は各クリーンキューブに面して通路部２側に据付けたコ
ントローラ８で運転制御される生産装置９が収容設置さ
れ、さらに連設して並ぶ各クリーンキューブ１の相互間
では前記搬送エリア６同士が連通されている。
一方、各クリーンキューブ１毎にその内部の床面にはフ
リーアクセス10が敷設してあり、さらにプロセスエリア
３の天井部にはHEPAフィルタ，送風機を組合せたクリー
ンユニット11,およびその上流側に空調ユニット12が個
別に配備され、リターンエアエリア７との間で空気循環
路を構成している。また搬送エリア６の天井部にもクリ
ーンユニットが配備されており、この搬送エリア6,およ
び前記のリターンエアエリア７に対してキューブ１の上
面壁に接続した給気ダクト13を通じて外調機14より送気
されて来た清浄空気を導入するように配管されている。
なおキューブ外の通路部２に対しても同様にクリーンユ
ニットを通じて外調機14からの清浄空気がダウンフロー
されるようになっている。
リーアクセス10が敷設してあり、さらにプロセスエリア
３の天井部にはHEPAフィルタ，送風機を組合せたクリー
ンユニット11,およびその上流側に空調ユニット12が個
別に配備され、リターンエアエリア７との間で空気循環
路を構成している。また搬送エリア６の天井部にもクリ
ーンユニットが配備されており、この搬送エリア6,およ
び前記のリターンエアエリア７に対してキューブ１の上
面壁に接続した給気ダクト13を通じて外調機14より送気
されて来た清浄空気を導入するように配管されている。
なおキューブ外の通路部２に対しても同様にクリーンユ
ニットを通じて外調機14からの清浄空気がダウンフロー
されるようになっている。
さらにプロセスエリア３と搬送エリア６との間の間仕切
隔壁４には物品搬入，搬出用の自動扉付きパスボックス
15が設置されており、該パスボックス15を介してプロセ
スエリア内に収容した生産装置９と搬送エリア６に収設
した生産ライン工程間での物品搬送装置16との間が連繋
されている。なおパスボックス15の自動扉は常時は閉じ
ており、物品の出し入れ時にのみ一時的に開放される。
またプロセスエリア３の背後に画成されたリターンエア
エリア７はメンテナンスサポートスペースを兼ねてお
り、かつ該リターンエアエリア７とプロセスエリア３と
の間を仕切る隔壁５はプロセスエリア３へ生産装置９を
搬入，搬出のために取り外し可能に設置されている。さ
らにプロセスエリア３と搬送エリア６との間の間仕切隔
壁4,および通路部２に面するクリーンキューブ１の前面
壁には通路部２よりキューブ内部を透視できるように透
視窓17が装備されている。なお室内におけるクリーンキ
ューブ１の背後の空間は各種のサービスエリアとして使
用される。
隔壁４には物品搬入，搬出用の自動扉付きパスボックス
15が設置されており、該パスボックス15を介してプロセ
スエリア内に収容した生産装置９と搬送エリア６に収設
した生産ライン工程間での物品搬送装置16との間が連繋
されている。なおパスボックス15の自動扉は常時は閉じ
ており、物品の出し入れ時にのみ一時的に開放される。
またプロセスエリア３の背後に画成されたリターンエア
エリア７はメンテナンスサポートスペースを兼ねてお
り、かつ該リターンエアエリア７とプロセスエリア３と
の間を仕切る隔壁５はプロセスエリア３へ生産装置９を
搬入，搬出のために取り外し可能に設置されている。さ
らにプロセスエリア３と搬送エリア６との間の間仕切隔
壁4,および通路部２に面するクリーンキューブ１の前面
壁には通路部２よりキューブ内部を透視できるように透
視窓17が装備されている。なお室内におけるクリーンキ
ューブ１の背後の空間は各種のサービスエリアとして使
用される。
かかる構成により、各クリーンキューブ毎にその内部の
プロセスエリア３にはクリーンユニット11,空調ユニッ
ト12を経て調温，清浄化された空気がダウンフローし、
フリーアクセスフロア10より吸い込まれた後にリターン
エアエリア７を経て空調ユニットへ戻るように循環送風
される。また搬送エリア6,キューブ外の通路部２には外
調機14を経て送気されて来た清浄空気が個別にダウンフ
ローされる。ここで各エリアの内圧は例えば通路部２が
1.0mmAg,搬送エリア６が1.5mmAg,プロセスエリア３が2m
mAgとなるように陽圧管理されている。しかもプロセス
エリア３には常時は作業員の出入りは一切なく、かつ搬
送エリア６との間もパスボックス15の扉が閉じており、
したがって通路部2,搬送エリア６の清浄度が多少低くて
もプロセスエリア３の内部は常に超高清浄度に安定維持
されることになる。また搬送エリア６は作業員の通る通
路部２と隔離した清浄空間に保持されており、この搬送
エリア内を通じて生産ラインの工程間で搬送されるウエ
ハ等の物品が通路側より発塵汚染を受けるおそれはな
い。しかも各クリーンキューブ毎にそのプロセスエリア
３に対し専用のクリーンユニット11,空調ユニット12を
装備しているので、生産ラインの各工程毎にその生産装
置の種類から要求される清浄度，温度のコントロールを
キューブ単位で個別に実施できる。
プロセスエリア３にはクリーンユニット11,空調ユニッ
ト12を経て調温，清浄化された空気がダウンフローし、
フリーアクセスフロア10より吸い込まれた後にリターン
エアエリア７を経て空調ユニットへ戻るように循環送風
される。また搬送エリア6,キューブ外の通路部２には外
調機14を経て送気されて来た清浄空気が個別にダウンフ
ローされる。ここで各エリアの内圧は例えば通路部２が
1.0mmAg,搬送エリア６が1.5mmAg,プロセスエリア３が2m
mAgとなるように陽圧管理されている。しかもプロセス
エリア３には常時は作業員の出入りは一切なく、かつ搬
送エリア６との間もパスボックス15の扉が閉じており、
したがって通路部2,搬送エリア６の清浄度が多少低くて
もプロセスエリア３の内部は常に超高清浄度に安定維持
されることになる。また搬送エリア６は作業員の通る通
路部２と隔離した清浄空間に保持されており、この搬送
エリア内を通じて生産ラインの工程間で搬送されるウエ
ハ等の物品が通路側より発塵汚染を受けるおそれはな
い。しかも各クリーンキューブ毎にそのプロセスエリア
３に対し専用のクリーンユニット11,空調ユニット12を
装備しているので、生産ラインの各工程毎にその生産装
置の種類から要求される清浄度，温度のコントロールを
キューブ単位で個別に実施できる。
また生産ラインのレイアウト変更，生産設備の増減等に
伴ってクリーンキューブ内での改造工事，メンテナンス
を進める過程でも他のクリーンキューブに影響を与える
ことがなく、かつ生産設備の増減もクリーンキューブ単
位の増設，撤去で容易に対応できることになる。
伴ってクリーンキューブ内での改造工事，メンテナンス
を進める過程でも他のクリーンキューブに影響を与える
ことがなく、かつ生産設備の増減もクリーンキューブ単
位の増設，撤去で容易に対応できることになる。
以上述べたようにこの発明によれば、外部に据え付けら
れたコントローラにより運転制御される生産装置を収容
すると共に高清浄度の空気を供給するクリーンユニット
と空調ユニットとを備えて独立に区画形成されたプロセ
スエリアと、このプロセスエリアの一方の側面にプロセ
スエリアと隔壁により間仕切りして画成された清浄空間
である搬送エリアと、この搬送エリアに対してプロセス
エリアを挟んだ他方の側面にプロセスエリアと隔壁によ
り間仕切りして画成されたリターンエアエリアと、を備
えたクリーンキューブを、プロセスエリアの独立区画を
維持したまま生産ラインの工程に対応させてライン形に
複数個連設すると共に、各クリーンキューブの相互間で
搬送エリア同士を連通して構成し、且つ各クリーンキュ
ーブ毎に、プロセスエリアと搬送エリアとの間を仕切る
間仕切り隔壁に物品搬入，搬出用の出入口を設けたこと
により、生産ラインに対して各工程毎に作業員，周囲環
境等による塵埃汚染の影響を殆ど受けことのない必要最
小限の超高清浄空間を形成した上で、生産装置の運転，
および工程間での物品の搬送を行うことができ、且つ、
一つのクリーンキューブ内のプロセスエリアで汚損が発
生した場合にも、その汚損が他のクリーンキューブのプ
ロセスエリアにまで拡散するのを防止することができ
る。これにより従来のクリーントンネル方式等と比べて
生産ラインの環境，および製品の品質管理の向上が図れ
る。しかもクリーンキューブの増設，撤去，キューブ内
部の改造，メンテナンス作業等が他のクリーンキューブ
に影響を及ぼすことなく実施することができ、したがっ
て生産ラインのレイアウト変更，生産設備の増減にも容
易に対応できる利点が得られる。
れたコントローラにより運転制御される生産装置を収容
すると共に高清浄度の空気を供給するクリーンユニット
と空調ユニットとを備えて独立に区画形成されたプロセ
スエリアと、このプロセスエリアの一方の側面にプロセ
スエリアと隔壁により間仕切りして画成された清浄空間
である搬送エリアと、この搬送エリアに対してプロセス
エリアを挟んだ他方の側面にプロセスエリアと隔壁によ
り間仕切りして画成されたリターンエアエリアと、を備
えたクリーンキューブを、プロセスエリアの独立区画を
維持したまま生産ラインの工程に対応させてライン形に
複数個連設すると共に、各クリーンキューブの相互間で
搬送エリア同士を連通して構成し、且つ各クリーンキュ
ーブ毎に、プロセスエリアと搬送エリアとの間を仕切る
間仕切り隔壁に物品搬入，搬出用の出入口を設けたこと
により、生産ラインに対して各工程毎に作業員，周囲環
境等による塵埃汚染の影響を殆ど受けことのない必要最
小限の超高清浄空間を形成した上で、生産装置の運転，
および工程間での物品の搬送を行うことができ、且つ、
一つのクリーンキューブ内のプロセスエリアで汚損が発
生した場合にも、その汚損が他のクリーンキューブのプ
ロセスエリアにまで拡散するのを防止することができ
る。これにより従来のクリーントンネル方式等と比べて
生産ラインの環境，および製品の品質管理の向上が図れ
る。しかもクリーンキューブの増設，撤去，キューブ内
部の改造，メンテナンス作業等が他のクリーンキューブ
に影響を及ぼすことなく実施することができ、したがっ
て生産ラインのレイアウト変更，生産設備の増減にも容
易に対応できる利点が得られる。
第１図は本発明実施例によるクリーンキューブの構成断
面図、第２図はライン形に連設されたクリーンキューブ
装置の外形斜視図である。各図において、 1:クリーンキューブ、2:通路部、3:プロセスエリア、4,
5:間仕切隔壁、6:搬送エリア、7:リターンエアエリア、
8:コントローラ、9:生産装置、11:クリーンユニット、1
2:空調ユニット、14:外調機、15:パスボックス、16:物
品の搬送装置。
面図、第２図はライン形に連設されたクリーンキューブ
装置の外形斜視図である。各図において、 1:クリーンキューブ、2:通路部、3:プロセスエリア、4,
5:間仕切隔壁、6:搬送エリア、7:リターンエアエリア、
8:コントローラ、9:生産装置、11:クリーンユニット、1
2:空調ユニット、14:外調機、15:パスボックス、16:物
品の搬送装置。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−157127（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−129123（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−148525（ＪＰ，Ｕ)
Claims (3)
- 【請求項１】外部に据え付けられたコントローラにより
運転制御される生産装置を収容すると共に高清浄度の空
気を供給するクリーンユニットと空調ユニットとを備え
て独立に区画形成されたプロセスエリアと、このプロセ
スエリアの一方の側面にプロセスエリアと隔壁により間
仕切りして画成された清浄空間である搬送エリアと、こ
の搬送エリアに対してプロセスエリアを挟んだ他方の側
面にプロセスエリアと隔壁により間仕切りして画成され
たリターンエアエリアと、を備えたクリーンキューブ
を、プロセスエリアの独立区画を維持したまま生産ライ
ンの工程に対応させてライン形に複数個連設すると共
に、各クリーンキューブの相互間で搬送エリア同士を連
通して構成し、且つ各クリーンキューブ毎に、プロセス
エリアと搬送エリアとの間を仕切る間仕切り隔壁に物品
搬入，搬出用の出入口を設けたことを特徴とするライン
形クリーンキューブ装置。 - 【請求項２】特許請求の範囲第１項記載のクリーンキュ
ーブ装置において、物品搬入，搬出用の出入口が自動扉
付きパスボックスであることを特徴とするライン形クリ
ーンキューブ装置。 - 【請求項３】特許請求の範囲第１項記載のクリーンキュ
ーブ装置において、各クリーンキューブ毎にその内部の
リターンエアエリアがメンテナンスサポートエリアを兼
ね、かつ該リターンエアエリアとプロセスエリアとの間
が取り外し可能な隔壁で間仕切りされていることを特徴
とするライン形クリーンキューブ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22148287A JPH06100356B2 (ja) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | ライン形クリーンキューブ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22148287A JPH06100356B2 (ja) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | ライン形クリーンキューブ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6463742A JPS6463742A (en) | 1989-03-09 |
| JPH06100356B2 true JPH06100356B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=16767403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22148287A Expired - Lifetime JPH06100356B2 (ja) | 1987-09-04 | 1987-09-04 | ライン形クリーンキューブ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06100356B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2526071B2 (ja) * | 1987-09-14 | 1996-08-21 | 株式会社竹中工務店 | 局所循環型クリ―ンル―ム |
| JP2582867B2 (ja) * | 1988-07-11 | 1997-02-19 | 株式会社竹中工務店 | 危険薬品使用工場等用クリーンルーム |
| JPH03291436A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-20 | N M B Semiconductor:Kk | 半導体製造工場のクリーンルーム |
| JP2004298795A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Kyocera Kinseki Corp | ガスを用いた洗浄装置、及びその洗浄方法 |
| JP2007115389A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP2011086371A (ja) * | 2005-09-26 | 2011-04-28 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
-
1987
- 1987-09-04 JP JP22148287A patent/JPH06100356B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6463742A (en) | 1989-03-09 |
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