JP2000353735A - 半導体製品の製造設備 - Google Patents
半導体製品の製造設備Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】半導体製品、特にウエハに化学的・機械的な処
理を施す設備において、製品をできるだけ高効率でかつ
経済的に搬送できるようにする。 【解決手段】搬送のためのシステムに供給システムを設
け、このシステムが積み込み・積み下ろしステーション
６の高さにおいてクリーンルーム内を走行し、操作員の
通行高さより上方を走行するようにする。
理を施す設備において、製品をできるだけ高効率でかつ
経済的に搬送できるようにする。 【解決手段】搬送のためのシステムに供給システムを設
け、このシステムが積み込み・積み下ろしステーション
６の高さにおいてクリーンルーム内を走行し、操作員の
通行高さより上方を走行するようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、請求項１の前文に
従った半導体製品の製造のための設備に関する。
従った半導体製品の製造のための設備に関する。
【０００２】
【従来の技術】このような設備は、特にウエハの処理の
ための設備として構成されている。この設備は、複数の
製造ユニットを備え、これらユニットを用いて異なる製
造プロセスを実行する。このような製造プロセスにおい
ては、特にエッチングプロセス、湿式の化学処理、拡散
プロセスならびに例えばＣＭＰ（化学機械的研磨）法の
ような種々の洗浄法が対象となる。これらの各プロセス
のために、１個または複数個の製造ユニットが設けら
れ、製造プロセスの種々の製造工程が実行される。
ための設備として構成されている。この設備は、複数の
製造ユニットを備え、これらユニットを用いて異なる製
造プロセスを実行する。このような製造プロセスにおい
ては、特にエッチングプロセス、湿式の化学処理、拡散
プロセスならびに例えばＣＭＰ（化学機械的研磨）法の
ような種々の洗浄法が対象となる。これらの各プロセス
のために、１個または複数個の製造ユニットが設けら
れ、製造プロセスの種々の製造工程が実行される。
【０００３】それに加えて、このような製造ユニットに
おいては、製造プロセスの１つまたは複数の製造工程の
処理品質を整備するために測定プロセスが実行される。
おいては、製造プロセスの１つまたは複数の製造工程の
処理品質を整備するために測定プロセスが実行される。
【０００４】全製造プロセスは清浄度に関して厳格な要
求を課せられており、このため製造ユニットはクリーン
ルームないしはクリーンルームシステム内に配置されて
いる。
求を課せられており、このため製造ユニットはクリーン
ルームないしはクリーンルームシステム内に配置されて
いる。
【０００５】ウエハは、カセット内で所定のロット量が
搬送システムを介して、個々の製造ユニットに供給され
る。ウエハ処理終了後のカセットの返送もまた搬送シス
テムを介して実行される。
搬送システムを介して、個々の製造ユニットに供給され
る。ウエハ処理終了後のカセットの返送もまた搬送シス
テムを介して実行される。
【０００６】搬送システムは、一般的に供給システムを
有し、このシステムは例えばローラコンベアの形態に形
成されている。ウエハを収容したカセットは、この場合
ローラコンベア上に載置されて搬送される。その代わり
に供給システムはまた、連続形のコンベア、吊り下げ形
のコンベアあるいはそれらの類似品からなっていても良
い。
有し、このシステムは例えばローラコンベアの形態に形
成されている。ウエハを収容したカセットは、この場合
ローラコンベア上に載置されて搬送される。その代わり
に供給システムはまた、連続形のコンベア、吊り下げ形
のコンベアあるいはそれらの類似品からなっていても良
い。
【０００７】製造ユニットは、各々少なくとも１つの積
み込み・積み下ろしステーションを備えている。この積
み込み・積み下ろしステーションを介して、ウエハを収
容するカセットが供給システムから製造ユニット内に取
り込まれる。引き続き製造ユニット内でウエハを処理し
た後、カセットは積み込み・積み下ろしステーションを
介して製造ユニットから取り出されそして供給システム
に返送される。
み込み・積み下ろしステーションを備えている。この積
み込み・積み下ろしステーションを介して、ウエハを収
容するカセットが供給システムから製造ユニット内に取
り込まれる。引き続き製造ユニット内でウエハを処理し
た後、カセットは積み込み・積み下ろしステーションを
介して製造ユニットから取り出されそして供給システム
に返送される。
【０００８】この種の公知の装置においては、製造ユニ
ットの積み込み・積み下ろしステーションは僅かな高さ
でクリーンルームの床の上方に位置している。この結果
積み込み・積み下ろしステーションは操作員により操作
可能であるように、一般的には、このような積み込み・
積み下ろしステーションはクリーンルームの床の上方約
０．９ｍに設置されている。
ットの積み込み・積み下ろしステーションは僅かな高さ
でクリーンルームの床の上方に位置している。この結果
積み込み・積み下ろしステーションは操作員により操作
可能であるように、一般的には、このような積み込み・
積み下ろしステーションはクリーンルームの床の上方約
０．９ｍに設置されている。
【０００９】通常、供給システムは、約３ｍの高さをも
ってクリーンルームの天井のすぐ下を走っている。この
場合、ウエハを収容したカセットは供給システム上で、
製造ユニットに達するまで案内される。その際、カセッ
トは掴み機ないしは類似物により供給システムから取り
出されそして各カセットが積み込み・積み下ろしステー
ションの高さに達するまで、リフトシステムまたは手動
操作装置を用いて降下せしめられる。カセットの製造ユ
ニットから供給システムへの返送は、相応する方法で実
行される。
ってクリーンルームの天井のすぐ下を走っている。この
場合、ウエハを収容したカセットは供給システム上で、
製造ユニットに達するまで案内される。その際、カセッ
トは掴み機ないしは類似物により供給システムから取り
出されそして各カセットが積み込み・積み下ろしステー
ションの高さに達するまで、リフトシステムまたは手動
操作装置を用いて降下せしめられる。カセットの製造ユ
ニットから供給システムへの返送は、相応する方法で実
行される。
【００１０】供給システムと、積み込み・積み下ろしス
テーションとの間のこのような縦方向の搬送は、構造的
に複雑でありそして著しく費用を要する。さらに積み込
み・積み下ろしステーションへのカセットの自動的な供
給ならびに返送は、構造的な複雑さのために正当化でき
るコストをもっては実現不可能であり、このため積み込
み・積み下ろしステーションにおいて操作員による積み
込み・積み下ろしを行わなければならない。
テーションとの間のこのような縦方向の搬送は、構造的
に複雑でありそして著しく費用を要する。さらに積み込
み・積み下ろしステーションへのカセットの自動的な供
給ならびに返送は、構造的な複雑さのために正当化でき
るコストをもっては実現不可能であり、このため積み込
み・積み下ろしステーションにおいて操作員による積み
込み・積み下ろしを行わなければならない。
【００１１】代替的に、カセットの搬送をクリーンルー
ムの床から僅かな高さにおいて行うことができる。その
場合には、搬送システムをほぼ積み込み・積み下ろしス
テーションの高さに設け、その際もこの高さを約０．９
ｍとする。搬送システムが供給システムを備えるとき
は、この供給システムを個々の製造ユニット間の通行領
域内に位置を固定して組み込む必要がある。しかしなが
ら、このようにして組み込まれた供給システムは、大き
な空間を必要とし、このため過大な通行路の幅そして最
終的に不所望に大きくかつ高価な大面積のクリーンルー
ムを余儀なくする。代替的に、供給システムの代わりに
ウエハを収容したカセットの搬送のための車両を設ける
こともできる。このような車両は、通常無人の搬送車両
から構成される。しかしながらこの車両は非常に高価で
ある。さらに、クリーンルーム内でこの車両が操作員と
衝突する危険が常に存在する。
ムの床から僅かな高さにおいて行うことができる。その
場合には、搬送システムをほぼ積み込み・積み下ろしス
テーションの高さに設け、その際もこの高さを約０．９
ｍとする。搬送システムが供給システムを備えるとき
は、この供給システムを個々の製造ユニット間の通行領
域内に位置を固定して組み込む必要がある。しかしなが
ら、このようにして組み込まれた供給システムは、大き
な空間を必要とし、このため過大な通行路の幅そして最
終的に不所望に大きくかつ高価な大面積のクリーンルー
ムを余儀なくする。代替的に、供給システムの代わりに
ウエハを収容したカセットの搬送のための車両を設ける
こともできる。このような車両は、通常無人の搬送車両
から構成される。しかしながらこの車両は非常に高価で
ある。さらに、クリーンルーム内でこの車両が操作員と
衝突する危険が常に存在する。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、最初
に述べた形式の設備において、半導体製品のできるだけ
効率の良いそして経済的な搬送を可能とすることにあ
る。
に述べた形式の設備において、半導体製品のできるだけ
効率の良いそして経済的な搬送を可能とすることにあ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】この課題は請求項１の特
徴事項により解決される。本発明の有利な実施の態様お
よび目的に適った改良案は請求項２以下に開示されてい
る。
徴事項により解決される。本発明の有利な実施の態様お
よび目的に適った改良案は請求項２以下に開示されてい
る。
【００１４】本発明によれば、クリーンルーム内の積み
込み・積み下ろしステーションの高さを走行する供給シ
ステムを備えた搬送システムが設けられる。この場合、
供給システムは、操作員の通行高さの上方、特に約３ｍ
の高さに設けられる。
込み・積み下ろしステーションの高さを走行する供給シ
ステムを備えた搬送システムが設けられる。この場合、
供給システムは、操作員の通行高さの上方、特に約３ｍ
の高さに設けられる。
【００１５】この装置の本質的な利点は、供給システム
ならびに積み込み・積み下ろしステーションが操作員の
手が届く範囲の上方そしてまた場合によってクリーンル
ームの通路内を走行する車両の上方に配置されているこ
とにある。従って、供給システムを介した半導体製品の
搬送は、操作員およびクリーンルームの床上を走行する
車両を損傷することがない。さらに搬送システムが、積
み込み・積み下ろしステーションの高さに存在すると有
利である。
ならびに積み込み・積み下ろしステーションが操作員の
手が届く範囲の上方そしてまた場合によってクリーンル
ームの通路内を走行する車両の上方に配置されているこ
とにある。従って、供給システムを介した半導体製品の
搬送は、操作員およびクリーンルームの床上を走行する
車両を損傷することがない。さらに搬送システムが、積
み込み・積み下ろしステーションの高さに存在すると有
利である。
【００１６】従って、供給システムから個々の積み込み
・積み下ろしステーションへの半導体製品の供給のため
に、半導体製品を縦方向へ搬送するための装置を設ける
必要がなく、この結果大幅なコストの低減が達成され
る。この場合さらに、半導体製品を、高価な補助手段な
しに供給システムから、積み込み・積み下ろしステーシ
ョンを経て製造ユニットに供給できるので有利である。
このことは、供給システムから個々の製造ユニットへ
の、半導体製品の全自動的な供給を可能とする。返送も
同様に、対応した方法で自動的に行われる。
・積み下ろしステーションへの半導体製品の供給のため
に、半導体製品を縦方向へ搬送するための装置を設ける
必要がなく、この結果大幅なコストの低減が達成され
る。この場合さらに、半導体製品を、高価な補助手段な
しに供給システムから、積み込み・積み下ろしステーシ
ョンを経て製造ユニットに供給できるので有利である。
このことは、供給システムから個々の製造ユニットへ
の、半導体製品の全自動的な供給を可能とする。返送も
同様に、対応した方法で自動的に行われる。
【００１７】供給システムを、操作員の通路の上方で走
行させられるので、クリーンルーム内の通路は相応に狭
くすることができ、この結果クリーンルーム面積の大幅
な節減が可能となる。
行させられるので、クリーンルーム内の通路は相応に狭
くすることができ、この結果クリーンルーム面積の大幅
な節減が可能となる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を、図面
を参照して詳細に説明する。
を参照して詳細に説明する。
【００１９】図１には、半導体製品を製造するための設
備が概略的に示されており、ウエハの処理のための設備
についての実施例に係る。
備が概略的に示されており、ウエハの処理のための設備
についての実施例に係る。
【００２０】この設備は多数の製造ユニット１を備え
る。これら製造ユニット１は、ウエハの処理のために必
要な製造プロセスにおける種々の製造工程を実施するべ
く働く。この製造プロセスは、特にエッチングプロセ
ス、湿式の化学的処理、拡散プロセスならびに洗浄処理
を含む。個々の製造プロセスのために、実行すべき製造
工程の数に応じて、１つまたは複数の製造ユニット１が
設けられる。さらに、幾つかの製造ユニット１が測定プ
ロセスを実行するために設けられており、この場合、測
定プロセスにより、他の製造ユニット１内で実行された
製造工程の処理品質が検査可能である。
る。これら製造ユニット１は、ウエハの処理のために必
要な製造プロセスにおける種々の製造工程を実施するべ
く働く。この製造プロセスは、特にエッチングプロセ
ス、湿式の化学的処理、拡散プロセスならびに洗浄処理
を含む。個々の製造プロセスのために、実行すべき製造
工程の数に応じて、１つまたは複数の製造ユニット１が
設けられる。さらに、幾つかの製造ユニット１が測定プ
ロセスを実行するために設けられており、この場合、測
定プロセスにより、他の製造ユニット１内で実行された
製造工程の処理品質が検査可能である。
【００２１】製造ユニット１はクリーンルーム２内に配
置されそして搬送システムを介してウエハを供給され
る。代替的に、製造ユニット１を複数のクリーンルーム
２からなるシステム内に配置することも可能である。
置されそして搬送システムを介してウエハを供給され
る。代替的に、製造ユニット１を複数のクリーンルーム
２からなるシステム内に配置することも可能である。
【００２２】搬送システムは、実質的に貯蔵システムと
供給システムとからなる。
供給システムとからなる。
【００２３】貯蔵システムは複数個の貯蔵室３からなっ
ており、その内部にウエハが一時保管される。貯蔵室３
は、例えばストッカとして形成可能である。
ており、その内部にウエハが一時保管される。貯蔵室３
は、例えばストッカとして形成可能である。
【００２４】供給システムは、この実施例の場合ローラ
コンベア４のシステムからなる。代替的に、供給システ
ムは、連続形コンベア、吊り下げ形コンベアあるいはそ
れらの類似品から形成され得る。ローラコンベア４は、
クリーンルーム２内を直線的に走行し、個々の製造ユニ
ット１と貯蔵室３とを連結する。この場合、供給システ
ムを介して、カセット５内のウエハが所定の目標数量だ
け搬送され、個々の製造ユニット１および貯蔵室３に供
給されあるいはこれらから返送される。
コンベア４のシステムからなる。代替的に、供給システ
ムは、連続形コンベア、吊り下げ形コンベアあるいはそ
れらの類似品から形成され得る。ローラコンベア４は、
クリーンルーム２内を直線的に走行し、個々の製造ユニ
ット１と貯蔵室３とを連結する。この場合、供給システ
ムを介して、カセット５内のウエハが所定の目標数量だ
け搬送され、個々の製造ユニット１および貯蔵室３に供
給されあるいはこれらから返送される。
【００２５】このために製造ユニット１および貯蔵室３
は、少なくとも各々１個の積み込み・積み下ろしステー
ション６を備えている。この場合、積み込み・積み下ろ
しステーション６は、少なくとも１つの、特に自動式に
閉鎖可能なポートを、カセット５の供給と取り出しのた
めに備えている。
は、少なくとも各々１個の積み込み・積み下ろしステー
ション６を備えている。この場合、積み込み・積み下ろ
しステーション６は、少なくとも１つの、特に自動式に
閉鎖可能なポートを、カセット５の供給と取り出しのた
めに備えている。
【００２６】本発明に従い、供給システムは積み込み・
積み下ろしステーション６と同じ高さにおいて、操作員
の通行高さより上方を走行しており、この結果操作員は
供給システムの下方においてそして積み込み・積み下ろ
しステーション６の下方において、クリーンルーム２の
床７上を自由に移動可能である。
積み下ろしステーション６と同じ高さにおいて、操作員
の通行高さより上方を走行しており、この結果操作員は
供給システムの下方においてそして積み込み・積み下ろ
しステーション６の下方において、クリーンルーム２の
床７上を自由に移動可能である。
【００２７】原理的に、個々の積み込み・積み下ろしス
テーション６は、クリーンルーム２の上方に種々の高さ
に設置できる。この場合、供給システムは同様に種々の
高さで走行し、しかしながらこの場合供給システムの積
み込み・積み下ろしステーション６の前方の部分が、各
々これら積み込み・積み下ろしステーション６とほぼ同
じ高さで配置することが保証される。
テーション６は、クリーンルーム２の上方に種々の高さ
に設置できる。この場合、供給システムは同様に種々の
高さで走行し、しかしながらこの場合供給システムの積
み込み・積み下ろしステーション６の前方の部分が、各
々これら積み込み・積み下ろしステーション６とほぼ同
じ高さで配置することが保証される。
【００２８】特に有利な実施の態様においては、全ての
積み込み・積み下ろしステーション６がクリーンルーム
２の床７上の同一の高さに位置し、この場合その高さは
一般的に約３ｍである。そのとき供給システムはほぼ同
一の高さで走行し、この際供給システムは、各積み込み
・積み下ろしステーションの直前を通過するように走行
するようにされる。
積み込み・積み下ろしステーション６がクリーンルーム
２の床７上の同一の高さに位置し、この場合その高さは
一般的に約３ｍである。そのとき供給システムはほぼ同
一の高さで走行し、この際供給システムは、各積み込み
・積み下ろしステーションの直前を通過するように走行
するようにされる。
【００２９】ウエハを収容するカセット５が供給システ
ム上で、積み込み・積み下ろしステーション６の直前に
達するやいなや、カセット５は自動的に積み込み・積み
下ろしステーション６によって製造ユニット１内もしく
は貯蔵室３内に供給される。カセット５の返送のため
に、このカセットは同じく自動的に積み込み・積み下ろ
しステーション６から供給システムに搬送される。この
ため、特に有利な実施の態様においては、横方向のコン
ベアが設けられ、このコンベアは供給システムと積み込
み・積み下ろしステーション６間の搬送を引き受ける。
この横方向のコンベアは、図１中に２重矢印で明示され
ている。
ム上で、積み込み・積み下ろしステーション６の直前に
達するやいなや、カセット５は自動的に積み込み・積み
下ろしステーション６によって製造ユニット１内もしく
は貯蔵室３内に供給される。カセット５の返送のため
に、このカセットは同じく自動的に積み込み・積み下ろ
しステーション６から供給システムに搬送される。この
ため、特に有利な実施の態様においては、横方向のコン
ベアが設けられ、このコンベアは供給システムと積み込
み・積み下ろしステーション６間の搬送を引き受ける。
この横方向のコンベアは、図１中に２重矢印で明示され
ている。
【００３０】供給システムと、積み込み・積み下ろしス
テーション６との間隔が非常に僅かでありそしてさらに
供給システムと積み込み・積み下ろしステーション６が
同一の高さにあるので、カセット５を供給システムと、
積み込み・積み下ろしステーション６との間で搬送する
ための構造的な費用は僅かである。特に、この搬送は高
い確実性をもって、人員の投入なしで実現可能である。
テーション６との間隔が非常に僅かでありそしてさらに
供給システムと積み込み・積み下ろしステーション６が
同一の高さにあるので、カセット５を供給システムと、
積み込み・積み下ろしステーション６との間で搬送する
ための構造的な費用は僅かである。特に、この搬送は高
い確実性をもって、人員の投入なしで実現可能である。
【００３１】カセット５を供給システムと、積み込み・
積み下ろしステーション６との間で搬送するために、例
えば図２に示すような横方向コンベアが設けられてい
る。図２は、積み込み・積み下ろしステーション６を備
えた製造ユニット１を示し、該ステーションはクリーン
ルーム２の床７から約３ｍの高さに設置されている。ロ
ーラコンベア４で形成された供給システムはウエハを収
容したカセット５をこの製造ユニット１に搬送し、この
際ローラコンベア４は僅かな間隔をおいて、積み込み・
積み下ろしステーション６の高さにおいて製造ユニット
１の前壁に沿って走行している。
積み下ろしステーション６との間で搬送するために、例
えば図２に示すような横方向コンベアが設けられてい
る。図２は、積み込み・積み下ろしステーション６を備
えた製造ユニット１を示し、該ステーションはクリーン
ルーム２の床７から約３ｍの高さに設置されている。ロ
ーラコンベア４で形成された供給システムはウエハを収
容したカセット５をこの製造ユニット１に搬送し、この
際ローラコンベア４は僅かな間隔をおいて、積み込み・
積み下ろしステーション６の高さにおいて製造ユニット
１の前壁に沿って走行している。
【００３２】ローラコンベア４は、被駆動ローラ８を備
え、平行に延びる２つの列からなっており、この場合ロ
ーラ８は各々相互に等間隔をおいて列状に配置されてい
る。２列のローラ８間の間隔ならびにローラ８の幅は、
ウエハを収容したカセット５の、下側の両側縁が各々一
方の列のローラ８上に立つように選ばれる。
え、平行に延びる２つの列からなっており、この場合ロ
ーラ８は各々相互に等間隔をおいて列状に配置されてい
る。２列のローラ８間の間隔ならびにローラ８の幅は、
ウエハを収容したカセット５の、下側の両側縁が各々一
方の列のローラ８上に立つように選ばれる。
【００３３】ローラコンベア４のローラ８の上面は、積
み込み・積み下ろしステーション６のポートの下縁に密
接している。
み込み・積み下ろしステーション６のポートの下縁に密
接している。
【００３４】積み込み・積み下ろしステーション６の前
方において、両ローラコンベア４の列の間に横方向コン
ベアが設けられている。横方向コンベアはベルトコンベ
ア９として形成されており、図示しない固定手段を用い
てローラコンベア４に固定されている。ベルトコンベア
９の搬送方向は、ローラコンベア４のそれに対して垂直
に延びている。この場合ベルトコンベア９の駆動装置
は、ベルトコンベア９の上面が積み込み・積み下ろしス
テーション６の方向に動くか、ここから逆進するように
切り換えられる。
方において、両ローラコンベア４の列の間に横方向コン
ベアが設けられている。横方向コンベアはベルトコンベ
ア９として形成されており、図示しない固定手段を用い
てローラコンベア４に固定されている。ベルトコンベア
９の搬送方向は、ローラコンベア４のそれに対して垂直
に延びている。この場合ベルトコンベア９の駆動装置
は、ベルトコンベア９の上面が積み込み・積み下ろしス
テーション６の方向に動くか、ここから逆進するように
切り換えられる。
【００３５】ベルトコンベア９は、この場合ローラコン
ベア４の高さレベルに対して高さを調整できるように配
置されている。図２に示す位置において、ベルトコンベ
ア９の上面はローラコンベア４の上面のすぐ下にあり、
この結果カセット５はベルトコンベア９の上側に所定の
間隔で位置する。
ベア４の高さレベルに対して高さを調整できるように配
置されている。図２に示す位置において、ベルトコンベ
ア９の上面はローラコンベア４の上面のすぐ下にあり、
この結果カセット５はベルトコンベア９の上側に所定の
間隔で位置する。
【００３６】カセット５がローラコンベア４と共に積み
込み・積み下ろしステーション６の前部に達するや否
や、ベルトコンベア９は第２の位置に上昇せしめられ、
この結果ベルトコンベア９の上面はほんの僅かだけロー
ラコンベア４の上面より上方に突き出る。この場合ベル
トコンベア９の上面が積み込み・積み下ろしステーショ
ン６のポートの下縁の高さに位置するのが望ましい。
込み・積み下ろしステーション６の前部に達するや否
や、ベルトコンベア９は第２の位置に上昇せしめられ、
この結果ベルトコンベア９の上面はほんの僅かだけロー
ラコンベア４の上面より上方に突き出る。この場合ベル
トコンベア９の上面が積み込み・積み下ろしステーショ
ン６のポートの下縁の高さに位置するのが望ましい。
【００３７】ベルトコンベア９をローラコンベア４より
上に持ち上げることにより、ウエハを収容したカセット
５はローラコンベア４から持ち上げられそしてベルトコ
ンベア９の上に載る。ベルトコンベア９の搬送動作によ
って、そのときカセット５は製造ユニット１内に案内さ
れる。この実施例においてカセット５は、製造ユニット
１内の他のベルトコンベア１０に載せられる。
上に持ち上げることにより、ウエハを収容したカセット
５はローラコンベア４から持ち上げられそしてベルトコ
ンベア９の上に載る。ベルトコンベア９の搬送動作によ
って、そのときカセット５は製造ユニット１内に案内さ
れる。この実施例においてカセット５は、製造ユニット
１内の他のベルトコンベア１０に載せられる。
【００３８】製造ユニット１の内部に、例えば手動操作
装置および類似品のような図示しない搬送手段が設けら
れており、該手段はウエハを個々にもしくはロット全体
で、製造ユニット１内の同様に図示していない製造装置
に導く。この場合搬送手段を用いて、特にまたウエハの
垂直方向の搬送が製造ユニット１内で行われる。
装置および類似品のような図示しない搬送手段が設けら
れており、該手段はウエハを個々にもしくはロット全体
で、製造ユニット１内の同様に図示していない製造装置
に導く。この場合搬送手段を用いて、特にまたウエハの
垂直方向の搬送が製造ユニット１内で行われる。
【００３９】ウエハの処理終了後、ウエハは搬送手段を
用いて再び製造ユニット１内のベルトコンベア１０に導
かれる。そこから、ウエハを収容するカセット５は横方
向のコンベアを経て供給システムに搬送される。この場
合カセット５が、ローラコンベア４の上側の所定の個所
に達すると、ベルトコンベア９が降下し、これに伴ない
カセット５は再度ローラコンベア４の両列のローラ８上
に下ろされる。
用いて再び製造ユニット１内のベルトコンベア１０に導
かれる。そこから、ウエハを収容するカセット５は横方
向のコンベアを経て供給システムに搬送される。この場
合カセット５が、ローラコンベア４の上側の所定の個所
に達すると、ベルトコンベア９が降下し、これに伴ない
カセット５は再度ローラコンベア４の両列のローラ８上
に下ろされる。
【００４０】図２から一層明瞭であるように、製造ユニ
ット１は、例えばドアによって形成された整備用の口１
１を備えている。この口１１を通して、操作員は製造ユ
ニット１の整備作業を行うことができる。
ット１は、例えばドアによって形成された整備用の口１
１を備えている。この口１１を通して、操作員は製造ユ
ニット１の整備作業を行うことができる。
【００４１】整備用の口１１は、この場合積み込み・積
み下ろしステーション６の下に位置して、製造ユニット
１の前壁に存在している。操作員の通行路の高さの上方
に、積み込み・積み下ろしステーション６を装着したた
めに、整備用の口１１および積み込み・積み下ろしステ
ーション６を、製造ユニット１の同じ側に配置すること
が可能となる。積み込み・積み下ろしステーション６が
クリーンルーム２の床領域に存在するときは、整備用の
口１１を、例えば製造ユニット１の裏壁に配置する必要
があった。
み下ろしステーション６の下に位置して、製造ユニット
１の前壁に存在している。操作員の通行路の高さの上方
に、積み込み・積み下ろしステーション６を装着したた
めに、整備用の口１１および積み込み・積み下ろしステ
ーション６を、製造ユニット１の同じ側に配置すること
が可能となる。積み込み・積み下ろしステーション６が
クリーンルーム２の床領域に存在するときは、整備用の
口１１を、例えば製造ユニット１の裏壁に配置する必要
があった。
【００４２】積み込み・積み下ろしステーション６と、
整備用の口１１とを製造ユニット１の同じ側に配置する
ことにより、製造ユニット１は著しくコンパクトにクリ
ーンルーム２内に位置せしめることが可能である。
整備用の口１１とを製造ユニット１の同じ側に配置する
ことにより、製造ユニット１は著しくコンパクトにクリ
ーンルーム２内に位置せしめることが可能である。
【００４３】このための例を図１に示す。ここでは、製
造ユニット１の２つの列を、各裏壁が互いに対向するよ
うにしてクリーンルーム２内に配置しており、この結果
製造ユニット１は各々前側からのみ供給システムあるい
は操作員により接近可能である。これに対し、両列の製
造ユニット１の相互に相並ぶ裏壁間に中間空所を設ける
必要はない。と言うのは製造ユニット１の裏側に操作員
が近付く必要はないからである。かくして、クリーンル
ーム面積の大幅な節減が実現する。
造ユニット１の２つの列を、各裏壁が互いに対向するよ
うにしてクリーンルーム２内に配置しており、この結果
製造ユニット１は各々前側からのみ供給システムあるい
は操作員により接近可能である。これに対し、両列の製
造ユニット１の相互に相並ぶ裏壁間に中間空所を設ける
必要はない。と言うのは製造ユニット１の裏側に操作員
が近付く必要はないからである。かくして、クリーンル
ーム面積の大幅な節減が実現する。
【００４４】図１から明らかなように、製造ユニット１
と貯蔵室３とはクリーンルーム２内に直列に配置されて
おり、この場合各列の間を操作員が通れる通路１２が走
っている。供給システムはこの通路１２の上を走ってお
り、従ってクリーンルームに付加的な面積を占めること
もない。加えて供給システムの設置高さのために、操作
員がその下にある通路１２内を各々供給システムにより
邪魔されることなく動き回ることを保証することができ
る。同じことがクリーンルーム２内を通路１２に沿って
走行する車両にも当てはまる。
と貯蔵室３とはクリーンルーム２内に直列に配置されて
おり、この場合各列の間を操作員が通れる通路１２が走
っている。供給システムはこの通路１２の上を走ってお
り、従ってクリーンルームに付加的な面積を占めること
もない。加えて供給システムの設置高さのために、操作
員がその下にある通路１２内を各々供給システムにより
邪魔されることなく動き回ることを保証することができ
る。同じことがクリーンルーム２内を通路１２に沿って
走行する車両にも当てはまる。
【００４５】通常の場合、ウエハを収容したカセット５
の搬送は、搬送システム内において、自動的にかつ操作
員の投入なしに実行される。
の搬送は、搬送システム内において、自動的にかつ操作
員の投入なしに実行される。
【００４６】しかしながら例外的な場合には、ウエハを
収容したカセット５を操作員が供給システムに載せた
り、供給システムから降ろしたりすることが必要とな
る。このために、クリーンルーム２内の所定の個所に、
図示しないリフトを設け、ウエハを収容したカセット５
をクリーンルーム２の床７から供給システムへあるいは
その逆に搬送することができる。この場合リフトは、床
領域にシャフトを備えることができる。ウエハを収容し
たカセット５は、その際、操作員によってシャフト内に
送り込まれあるいはシャフトから取り出される。リフト
と供給システムとの間のカセット５の引渡しは、供給シ
ステムの高さにおいて、横方向のコンベアないし同等品
を用いて自動的に行われる。
収容したカセット５を操作員が供給システムに載せた
り、供給システムから降ろしたりすることが必要とな
る。このために、クリーンルーム２内の所定の個所に、
図示しないリフトを設け、ウエハを収容したカセット５
をクリーンルーム２の床７から供給システムへあるいは
その逆に搬送することができる。この場合リフトは、床
領域にシャフトを備えることができる。ウエハを収容し
たカセット５は、その際、操作員によってシャフト内に
送り込まれあるいはシャフトから取り出される。リフト
と供給システムとの間のカセット５の引渡しは、供給シ
ステムの高さにおいて、横方向のコンベアないし同等品
を用いて自動的に行われる。
【図１】ウエハを処理するための設備を備えるクリーン
ルームを概略的に示す横断面図。
ルームを概略的に示す横断面図。
【図２】図１に示すクリーンルーム内に設けられた製造
ユニットとこれに付属する供給システムの縦断面図。
ユニットとこれに付属する供給システムの縦断面図。
【符号の説明】 １ 製造ユニット ２ クリーンルーム ３ 貯蔵室 ４ ローラコンベア ５ カセット ６ 積み込み・積み下ろしステーション ７ クリーンルームの床 ８ ローラ ９ ベルトコンベア １０ ベルトコンベア １１ 整備口 １２ 通路
Claims (16)
- 【請求項１】半導体製品の製造設備、特にウエハの処理
のための設備であって、少なくとも１つのクリーンルー
ム内に配置された複数の製造ユニットと、半導体製品を
搬送するための搬送システムとを備え、前記製造ユニッ
トが半導体製品の積み込み・積み下ろしのために、各々
少なくとも１つの積み込み・積み下ろしステーションを
有するものにおいて、 前記搬送システムが供給システムを持ち、該システムは
積み込み・積み下ろしステーション（６）の高さにおい
て、クリーンルーム（２）内を走行し、操作員の通行高
さより上方を走行するようにクリーンルーム内に配置さ
れていることを特徴とする半導体製品の製造設備。 - 【請求項２】供給システムはクリーンルーム（２）の床
（７）上を約３ｍの高さで走行することを特徴とする請
求項１記載の設備。 - 【請求項３】カセット内に収容した半導体製品をコンベ
アで搬送し、該製品を積み込み・積み下ろしステーショ
ン（６）を介して自動的に製造ユニット（１）内に導入
しあるいは導出することを特徴とする請求項１または２
記載の設備。 - 【請求項４】カセット（５）を供給システムと、製造ユ
ニット（１）の積み込み・積み下ろしステーション
（６）との間で搬送するために横方向のコンベアを設け
たことを特徴とする請求項３記載の設備。 - 【請求項５】供給システムがローラコンベア（４）で構
成され、ローラコンベア（４）は間隔をおいて平行に走
り、被駆動ローラ（８）を備えた各々２つの列を有し、
このローラ上にカセット（５）が下縁および側縁で乗り
そして横方向のコンベアがベルトコンベア（９）から構
成され、該コンベアはローラコンベア（４）間に配置さ
れ、この際その搬送方向は供給システムの搬送方向に対
して直角であることを特徴とする請求項３または４記載
の設備。 - 【請求項６】積み込み・積み下ろしステーション（６）
へのまたはこれらステーション（６）からのカセットの
搬送のために、ベルトコンベア（９）がローラコンベア
（４）の上縁を越えて持ち上げ可能であることを特徴と
する請求項５記載の設備。 - 【請求項７】横方向コンベアを、積み込み・積み下ろし
ステーション（６）の直前に設けたことを特徴とする請
求項４ないし６のいずれか１つに記載の設備。 - 【請求項８】持ち上げた状態において、横方向コンベア
の上側が、対応する積み込み・積み下ろしステーション
（６）の下縁とほぼ同じ高さにあることを特徴とする請
求項６または７記載の設備。 - 【請求項９】製造ユニット（１）が整備口（１１）を備
え、この整備口は積み込み・積み下ろしステーション
（６）と共に製造ユニット（１）の前壁に配置されたこ
とを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１つに記載
の設備。 - 【請求項１０】整備口（１１）を積み込み・積み下ろし
ステーション（６）の下側に配置したことを特徴とする
請求項６または７記載の設備。 - 【請求項１１】各２個の製造ユニット（１）を、それら
の裏壁が互いに対向するように配置し、各製造ユニット
（１）の前壁が各々、操作員のための通路（１２）と接
するようにしたことを特徴とする請求項９または１０記
載の設備。 - 【請求項１２】供給システムが、操作員の通行路（１
２）の上方を走行することを特徴とする請求項１ないし
１１のいずれか１つに記載の設備。 - 【請求項１３】クリーンルーム（２）の床（７）から、
供給システムのためのリフトが延びていることを特徴と
する請求項１ないし１２のいずれか１つに記載の設備。 - 【請求項１４】操作員により半導体製品のリフトへの積
み込み、積み下ろしが行われることを特徴とする請求項
１３記載の設備。 - 【請求項１５】製造ユニット（１）の内部に、半導体製
品を垂直方向に搬送するための搬送手段を設けたことを
特徴とする請求項１ないし１４のいずれか１つに記載の
設備。 - 【請求項１６】製造設備が半導体製品を貯蔵するための
１個もしくは複数個の貯蔵室（３）を備え、貯蔵室
（３）は各々少なくとも１個の積み込み・積み下ろしス
テーション（６）を有し、該ステーションは供給システ
ムの高さに配置されていることを特徴とする請求項１な
いし１５のいずれか１つに記載の設備。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19922937 | 1999-05-19 | ||
| DE19922937.6 | 1999-05-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000353735A true JP2000353735A (ja) | 2000-12-19 |
Family
ID=7908492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000146488A Withdrawn JP2000353735A (ja) | 1999-05-19 | 2000-05-18 | 半導体製品の製造設備 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000353735A (ja) |
| KR (1) | KR20010014928A (ja) |
| CN (1) | CN1277138A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008159784A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
| US20150321431A1 (en) * | 2012-12-19 | 2015-11-12 | Pirelli Tyre S.P.A. | Method for Verifying the Correct Formation of the Beads in a Process and a Plant for Buiilding Tyres for Vehicle Wheels |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100475120B1 (ko) * | 2002-11-27 | 2005-03-10 | 삼성전자주식회사 | 복층의 청정실을 갖는 반도체 장치의 제조시스템 |
| KR100663157B1 (ko) * | 2004-11-26 | 2007-01-03 | 이동헌 | 디스플레이 제품용 카세트 반송이재장치 |
| US20100162955A1 (en) * | 2008-12-31 | 2010-07-01 | Lawrence Chung-Lai Lei | Systems and methods for substrate processing |
| CN106166793B (zh) * | 2016-07-22 | 2019-01-18 | 成都银线电杆有限公司 | 高效车间生产系统 |
| CN107640584A (zh) * | 2017-09-16 | 2018-01-30 | 合肥惠科金扬科技有限公司 | 一种液晶面板输送装置的输送盒 |
-
2000
- 2000-05-18 KR KR1020000026619A patent/KR20010014928A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-05-18 JP JP2000146488A patent/JP2000353735A/ja not_active Withdrawn
- 2000-05-19 CN CN00120086A patent/CN1277138A/zh active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008159784A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
| US20150321431A1 (en) * | 2012-12-19 | 2015-11-12 | Pirelli Tyre S.P.A. | Method for Verifying the Correct Formation of the Beads in a Process and a Plant for Buiilding Tyres for Vehicle Wheels |
| US11712861B2 (en) | 2012-12-19 | 2023-08-01 | Pirelli Tyre S.P.A. | Method for verifying the correct formation of the beads in a process and a plant for building tyres for vehicle wheels |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1277138A (zh) | 2000-12-20 |
| KR20010014928A (ko) | 2001-02-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070807 |