JPH02213633A - クリーンルーム設備 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、たとえば半導体ウェハのような塵埃を極端に
きらう被処理物を、製造用プロセス装置に対して機械的
にかつ自動的に受け渡しする装置などを備えたクリーン
ルーム設備に関するものである。

従来の技術 従来、この種のクリーンルーム設備としては、たとえば
実開昭６２−２７８６８号公報に見られるものが提供さ
れている。すなわち天井側からクリーンエアを下吹きし
、下降するクリーンエアを床下に吸引するクリーンルー
ム内に、一定経路上を走行自在な荷搬送装置と、この荷
搬送装置との間で荷の受け渡しを行う移載装置とを設け
ている。そｉ８．て上面開放のケース内にウェハを収納
して形成した荷を荷搬送装置上に載置した状態で、この
荷搬送装置を一定経路上で走行させて募載装置に対向し
て停止させたのち、この移載装置を作動させることで荷
を自動的に卸すのであり、また逆作動によって荷を自動
的に積込んでいる。

発明が解決しようとする課題 上記の従来構成によると、ウェハは露出した裸状態で搬
送されることから、クリーンルームのクリーン度は、ク
リーンルームの全域において均一でかつ充分に（たとえ
ばクラス１）保たなければならず、ランニングコストが
高くなっていた。

本発明の目的とするところは、ランニングコストを低く
し得、しかも必要時には全域を均一で充分なりリーン度
としてメンテナンス性を好適としたクリーンルーム設備
を提供する点にある。

課題を解決するための手段 上記目的を達成するために本発明のクリーンルーム設備
は、天井側からクリーンエアを下吹きし、下降するクリ
ーンエアを体側で吸引するクリーンルーム設備において
、クリーンエアの供給装置を、プロセス装置の受け台や
移載装置からなる装置エリアに上方から対向する装置エ
リア用供給装置と、前記装置エリアにＩＩＪ１接した作
業エリアに上方から対向する作業エリア用供給装置とに
分けて配設するとともに、少くとも作業エリア用供給装
置はクリーンエア速度を調整自在に構成している。

作用 かかる本発明の構成によると、装置エリアのプロセス装
置の受け台や移載装置には装置エリア用供給装置からの
クリーンエアが下吹きされており、また作業エリアには
作業エリア用供給装置からのクリーンエアが下吹きされ
ている。したがって装置エリア用供給装置のクリーンエ
ア速度を半導体ウェハなどに塵埃が付着しない速度に設
定しておくことで、通常の運転時には、装置エリアのク
リーン度は好適に保て得、このとき作業エリア用供給装
置のクリーンエア速度は低くし得る。そしてメンテナン
ス時には、作業エリア用供給装置を、そのクリーンエア
速度が装置エリア側と同一にな゛るように速く調整する
ことで、作業エリア側も半導体ウェハなどに塵埃が付着
しない速度にし得、作業者は作業エリアから所期の作業
を行える。

実施例 以下に本発明の一実施例を第１図、第２図に基づいて説
明する。

工程間搬送装置１１を配設した搬送部クリーンルーム１
０と、工程内移載装置２１を配設した作業部クリーンル
ーム２０、ならびに半導体ウェハ製造用のプロセス装置
５１を配設した製造部クリーンルーム５０とは第１仕切
壁１によって区画され、また作業部クリーンルーム２０
と製造部クリーンルーム５０とは第２仕切壁２によって
区画されている。

前記搬送部クリーンルーム１０は、天井側からクリーン
エアが下吹きされ、そして下降するクリーンエアをメツ
シュ形式の床１２を通して床下に吸引するよう構成して
あり、そのクリーン度はたとえばクラス１０，０００に
維持されている。前記工程間搬送装置１１は、ダクト形
式のレール装！１３と、このレール装置１３内で走行自
在な自走体１４と、この自走体１４の上部に設けた荷受
け台１５とからなり、前記レール装置ｔ１３を、天井の
近くにおいて第１仕切壁１に沿って配設している。前記
自走体１４は開閉蓋３を有する密閉式のボックス４を支
持搬送するもので、このボックス４は、多数枚の半導体
ウェハ５を支持したカセット６を収納自在である。

前記製造部クリーンルーム５０も、天井側からフィルタ
５２を通してクリーンエア５３が下吹きされ、そして下
降するクリーンエア５３をメツシュ形式の床５４を通し
て床下に吸引するように構成してあり、そのクリーン度
はたとえばクラスｉ　、　ｏｏｏに維持されている。こ
の製造部クリーンルーム５０内で、かつ両仕切壁１，２
によって形成されるコーナ部には自動倉庫５５が配設さ
れる。この自動倉庫５５は、囲壁体５６の天板に開口部
５７を形成するとともに床５４＠も開放して、クリーン
エア５３が下降するように構成してあり、さらに内部に
は棚５８や移載１１５９が配設されている。この移載機
５９によって自走体１４との間でボックス４の受け渡し
を行うなめに、前記第１仕切壁１には第１出入ロアが形
成されており、また作業部クリーンルーム２０と通道ず
るための第２出入口８が第２仕切壁２に形成されている
。さらに第２仕切壁２には多数の連通路９が形成され、
これら連通路９に対向する複数の前記プロセス装置５１
が製造部クリーンルーム５０内に設置されている。

前記作業部クリーンルーム２０は天井２２側からクリー
ンエアが下吹きされ、そして下降するクリーンエアをメ
・ツシュ形式の床２３を通して床下に吸引するように構
成しである。この作業部クリーンルーム２０内で各第２
出入口８の部分には、各１０セス装置５１の受け台５１
ａが突出して配設されている。

そして受け台５１ａ群の側方には、受け台５１ａ群の並
列方向に沿った一定経路２５上で往復走行自在な自走車
２６が配設され、その走行は、たとえば地上制御盤から
の指示によりかつ地上光伝送装置により確認しながら、
誘導体２７に導かれて行われる。

この自走車２６の上部には前記カセット６の移載を行う
自在腕装置（ロボット）２８が配設されるとともに一時
受け部２９が形成され、以って移載装置２１を構成して
いる。この自走車２６による走行範囲と前記受け台５１
ａの部分によって装置エリア３０を形成し、そして第２
仕切壁２とは反対側で装置エリア３０に隣接して作業エ
リア３１を形成している。なお図では、作業エリア３１
を中にして装置エリア３０を両側に対称的に配設してい
るが、装置エリア３０が片側のみの形式であってもよい
、この作業部クリーンルーム２０におけるクリーンエア
の供給装置（クリーンユニット）は、前記装置エリア３
０に上方から対向する装置エリア用供給装置３２と、前
記作業エリア３１に上方から対向する作業エリア用供給
装置３３とに分けられる。すなわち装置エリア用供給装
？！！３２は、天井２２からかなり下方の位置に、第２
仕切壁２ｖｒりに位置した第１フイルタ３４と作業エリ
ア３１寄りに位置した第２フイルタ３５とを並設してい
る。そして第１フイルタ３４の上方に形成した空間３６
にファン３７が連通している。また作業エリア用供給装
置３３は上方の天井２２部に第３フイルタ３８が配設さ
れ、この第３フイルタ３８、ならびに前記第２フイルタ
３５の上方を覆う空間３９．４０には、それぞれファン
（図示せず）が連通している。

通常の運転において、第１フイルタ３４からの第１クリ
ーンエア４１は０．４５ｒｎ　／　Ｓｅｃで流れてクラ
ス１のクリーン度が維持され、第２フイルタ３５からの
第２クリーンエア４２は０．３ｍ／５１３Ｃで流れてク
ラス１０のクリーン度が維持され、さらに第３フイルタ
３８からの第３クリーンエア４３は０．２ｍ／Ｓｅｃで
流れてクラス１００のクリーン度が維持される。なお両
エリア３２．３３間には天井２２側から導板４４が垂設
されている。ここで両供給装ｆｉ３２．３３はインバー
タ制御形式を使用しており、その制御によってクリーン
エア速度を調整自在に構成している。この場合に作業エ
リア用供給装［３３のみ調整自在であってもよく、また
装置エリア用供給装置３２は二段のクリーンエア４１．
４２としているが、これは−段であってもよい。

次に上記実施例における作用を説明する。

多数枚の半導体ウェハ５を支持したカセット６はボック
ス４に収納され、そして開閉蓋３を閉じて密閉にした状
態で荷受け台１５上に載置されている。そして自走体１
４はレール装置１３に支持案内されて自動走行し、第１
出入ロアに対向して停止される０次いでボックス４は移
載＃１５９などにより自動倉庫５５内に搬入され、この
自動倉庫５５内で開閉蓋３が開動されたのち、カセット
６を取出して棚５８に格納される。空になったボックス
４は開閉蓋３が閉じられたのち荷受け台１５上に戻され
る。裸の状態で棚５８に納められているカセット６は、
移載装ｙ！５９によって第２出入口８に取出される。そ
してカセット６は自在腕装置２８によって自走車２６の
一時受け部２９上に移つされる０次いで自走車２６は一
定経路２５上で走行し、目的とする受け台５１ａの側部
で停止する。そしてカセット６は自在腕装置２８によっ
て受け台５１ａ上に渡される。この受け台５１ａ上のカ
セット６は連通路９を通してプロセス装置５１に渡され
、そして半導体ウェハ５はカセット６から一枚づつ取出
され、表面蒸着などの表面加工が行われたのちカセット
６に戻される０次いでカセット６はプロセスに基づいて
順次移つされ、そして所期のプロセスを終えたカセット
６は自走車２６により自動倉庫５５に戻され、前述とは
逆作用によりボックス４に納められて自走体１４に渡さ
れる。なお所期のプロセスを終えたカセット６を、一定
経路２５の方向で前記自動倉庫５５とは反対側に配設し
た別の自動倉庫、または類する装置に渡してもよい。

上述のような通常の運転時において作業部クリーンルー
ム２０では、クリーンエアが三区分されて下吹きされ、
それぞれクリーン度を保っている。

すなわち装置エリア３０で受け台５１ａや一定経路２５
の一部では、第１フイルタ３４を通して第１クリーンエ
ア４１が下吹きされ、クラス１のクリーン度が保たれて
いる。そして装置エリア３０で一定経路２５の残部では
、第２フイルタ３５を通して第２クリーンエア４２が下
吹きされ、クラス１０のクリーン度が保たれている。ま
た作業エリア３１では、第３フイルタ３８を通して第３
クリーンエア４３が下吹きされ、クラス１００のクリー
ン度が保たれている。そしてメンテナンス時には、イン
バータ制御の供給装置（クリーンエアヅ１〜’）　３２
．３３使用により制御することで、全てのクリーンエア
４１．４２．４３を０．４５／ｓｅｃとして両エリア３
０．３１をクラス１のクリーン度とし、作業者が作業エ
リア３１から所期の作業を行うようにしている。これに
より、運転時やメンテナンス時に関係なく、半導体ウェ
ハ５ならびにカセット６は常にクラス１の雰囲気中に位
置させることになる。

第３図は別の実線例を示す。すなわち装置エリア３０の
両フィルタ３４．３５のレベルを、作業エリア３１の第
３フイルタ３８と同じにしている。

発明の効果 かかる本発明の構成によると、装置エリア用供給装置か
らのクリーンエア速度を、半導体ウェハなどに塵埃が付
着しない速度に設定しておくことで、通常の運転時には
、プロセス装置の受け台や移載装置を配設した装置エリ
アのクリーン度を好適に保つことができ、このとき作業
エリア用供給装置のクリーンエア速度は低くしてランニ
ングコスト（主として電気代）をおさえることができる
。

そしてメンテナンス時には、作業エリア用供給装置を、
そのクリーンエア速度が装置エリア側と同一になるよう
に速く調整することで、作業エリア側も半導体ウェハな
どに塵埃が付着しない雰囲気にでき、作業者はこの作業
エリアから所期の作業を行うことができる。このように
本発明によると、ランニングコストを低くすることがで
き、しかも必要時には全域を均一で充分なりリーン度と
して好適なメンテナンスを行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は本発明の一実施例を示し、第１図は一
部切欠き斜視図、第２図は要部の縦断面図、第３図は別
の実施例を示す要部の縦断面図である。 １・・・第１仕切壁、２・・・第２仕切壁、３・・・開
閉蓋、４・・・ボックス、５・・・半導体ウェハ、６・
・・カセット、１０・・・搬送部クリーンルーム、１１
・・・工程間搬送装置、２０・・・作業部クリーンルー
ム、２１・・・工程内移載装置、２２・・・天井、２３
・・・床、２５・・・一定経路、２６・・・自走車、２
８・・・自在腕装置、３０・・・装置エリア、３１・・
・作業エリア、３２・・・装置エリア用供給装置、３３
・・・作業エリア用供給装置、３４・・・第１フイルタ
、３５・・・第２フイルタ、３８・・・第３フイルタ、
４１・・・第１クリーンエア、４２・・・第２クリーン
エア、４３・・・第３クリーンエア、５０・・・製造部
クリーンルーム、５１・・・プロセス装置、５１ａ・・
・受け台、５２・・・フィルタ、５５・・・自動倉庫。 代理人　　　森　　本　　義　　弘

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、天井側からクリーンエアを下吹きし、下降するクリ
   ーンエアを床側で吸引するクリーンルーム設備において
   、クリーンエアの供給装置を、プロセス装置の受け台や
   移載装置からなる装置エリアに上方から対向する装置エ
   リア用供給装置と、前記装置エリアに隣接した作業エリ
   アに上方から対向する作業エリア用供給装置とに分けて
   配設するとともに、少くとも作業エリア用供給装置はク
   リーンエア速度を調整自在に構成したことを特徴とする
   クリーンルーム設備。