JP2531983B2 - プロセス装置間の搬送設備 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、たとえば半導体ウエハのような被処理物
を、製造用のプロセス装置間で機械的にかつ自動的に移
すのに採用されるプロセス装置間の搬送設備に関するも
のである。

従来の技術 従来、プロセス装置間での搬送設備としては、たとえ
ば特開昭58−223553号公報に開示された構成が提供され
ている。すなわち一定循環走行経路上で走行自在な搬送
台車を設け、前記一定循環走行経路の側方に複数のマシ
ニングセンターを配設している。そして搬送台車とマシ
ニングセンターとの間でのワークの受け渡しは治具パレ
ットを介して行うのであり、その際にパレットチェンジ
ャが作動される。

発明が解決しようとする課題 上記の従来形式によると、治具パレットなどの移載レ
ベルが常に一定、またはほぼ一定であることから搬送台
車を共用できるが、たとえば半導体製造のように、複数
のプロセス装置における装置側受け台の位置（高さ、奥
行、姿勢など）が一定でないときには、各プロセス装置
に対応してそれぞれの搬送台車などを設けなければなら
ず、設備が大型化、複雑化する。

本発明の目的とするところは、装置側受け台の位置
（レベル）が一定でなくても搬送用の可動体を共用でき
るプロセス装置間の搬送設備を提供する点にある。

課題を解決するための手段 上記目的を達成するために本発明におけるプロセス装
置間の搬送設備は、装置側受け台を有するプロセス装置
を、その装置側受け台を並べて複数配設し、各装置側受
け台の外方にそれぞれターン装置付きの一時受け台を配
設し、これら一時受け台の外方間に亘って一定経路上を
移動自在な可動体を設け、この可動体に、各一時受け台
との間で荷を受け渡し自在な移載装置を設け、前記一時
受け台に対向して移載機を設け、この移載機は、昇降自
在でかつ縦軸心の周りに回動自在な保持部を介して、前
記一時受け台と装置側受け台との間で荷を受け渡し自在
に構成している。

作用 かかる本発明の構成によると、移載装置を介して荷を
支持してなる可動体は一定経路上を移動し、目的とする
プロセス装置に対向して停止する。そして荷は、移載装
置の作動によって一時荷受け台上に渡されたのち、ター
ン装置の作動で向きが変更される。次いで荷は、保持部
を昇降ならびに回動させる移載機によって、種々な載置
レベルの装置側受け台上に渡され、プロセス装置によっ
て所期の加工作業を受ける。そして装置側受け台上に取
出された荷は、逆作用によって可動体に移つされる。そ
の後、可動体は再び移動し、次のプロセス装置に対向し
て停止される。

実施例 以下に本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。

工程間搬送装置11を配設した搬送部クリーンルーム10
と、半導体ウエハ製造用のプロセス装置21を配設した製
造部クリーンルーム20、ならびに工程内搬送装置31を配
設した作業部クリーンルーム30とは第１仕切壁１によっ
て区画され、また製造部クリーンルーム20と作業部クリ
ーンルーム30とは第２仕切壁２によって区画されてい
る。

前記搬送部クリーンルーム10は、天井側からクリーン
エアが下吹きされ、そして下降するクリーンエアをメッ
シュ形式の床12を通して床下に吸引するように構成して
あり、そのクリーン度はたとえばクラス10,000に維持さ
れている。

前記工程間搬送装置11は、ダクト形式のレール装置13
と、このレール装置13内で走行自在な自走体14と、この
自走体14の上部に設けた荷受け台15とからなり、前記レ
ール装置13を、天井の近くにおいて第１仕切壁１に沿っ
て配設している。前記自走体14は開閉蓋３を有する密閉
式のボックス４を支持搬送するもので、このボックス４
は、多数枚の半導体ウエハ５を支持したカセット（荷の
一例）６を収納自在である。

前記製造部クリーンルーム20も、天井側からフィルタ
を通してクリーンエアが下吹きされ、そして下降するク
リーンエアをメッシュ形式の床22を通して床下に吸引す
るように構成してあり、そのクリーン度はたとえばクラ
ス1,000に維持されている。この製造部クリーンルーム2
0内で、かつ両仕切壁1,2によって形成されるコーナ部に
は自動倉庫23が配設される。

この自動倉庫23は、囲壁体24の天板に開口部25を形成
するとともに床22側も開放してあり、さらに内部には棚
26や移載機28が配設されている。この移載機28によって
自走体14との間でボックス４の受け渡しを行うために、
前記第１仕切壁１には第１出入口７が形成されており、
また作業部クリーンルーム30と連通するため第２出入口
８が第２仕切壁２に形成されている。さらに第２仕切壁
２には、各プロセス装置21に対応して複数の連通路９が
形成され、そして連通路９を通して、両クリーンルーム
20,30間に亘る装置側受け台27が設けられる。

前記作業部クリーンルーム30は天井32側からクリーン
エアが下吹きされ、そして下降するクリーンエアをメッ
シュ形式の床33を通して床下に吸引するように構成して
ある。

前記装置側受け台27群の外方間に沿った一定経路34上
で往復移動自在な可動体35が設けられる。この可動体35
はガイドレール36などに支持案内される台車形式であっ
て、その上部にはターンテーブル37が設けられる。この
ターンテーブル37上には、向きが180度変位した一対の
移載装置38が設けられ、その本体39を並設方向とは直交
する方向Ａに移動自在に設けている。そして各本体39に
は、それぞれ一対の係止腕40が、上下方向Ｂに移動自在
に設けられる。以上35〜40により工程内搬送装置31を構
成する。

前記移載装置38の作動による受け渡しレベル範囲内に
その受けレベルがある装置側受け台27に対しては、移載
装置38を介してカセット６の受け渡しが直接に行われ
る。そして前述した範囲外（上または下）に受けレベル
がある装置側受け台27と一定経路34との間には、搬入側
一時受け台41と搬出側一時受け台42とが一定経路34の方
向に振り分けて配設される。これら一時受け台41,42は
ターンテーブル（ターン装置）43,44を荷受け面として
おり、前記可動体35は、その移載装置38を介して両ター
ンテーブル43,44との間でカセット６の受け渡しを行
う。

両一時受け台41,42間には、これら一時受け台41,42と
装置側受け台27との間でカセット６を受け渡し自在な移
載機45が設けられる。この移載機45は、ガイド装置46に
案内されて両一時受け台41,42間で移動Ｄ自在な本体47
を有し、この本体47の上部に保持装置48が設けられる。
この保持装置48は、昇降Ｅ自在でかつ縦軸心の周りに回
動Ｆ自在な保持部49を有し、この保持部49に互いに接近
離間Ｇ自在な一対の保持腕50設けられる。

次に上記実施例における作用を説明する。

多数枚の半導体ウエハ５を支持したカセット６はボッ
クス４に収納され、そして開閉蓋３を閉じて密閉にした
状態で荷受け台15上に載置されている。自走体14はレー
ル装置13に支持案内されて自動走行し、第１出入口７に
対向して停止される。次いでボックス４は移載機28など
により自動倉庫23内に搬入され、この自動倉庫23内で開
閉蓋３が開動されたのち、カセット６は取出されて棚26
に格納される。空になったボックス４は開閉蓋３が閉動
されたのち荷受け台15上に戻される。

裸の状態で棚26に納められているカセット６は第２出
入口８に取出される。そしてカセット６は、移載装置38
によって可動体35側に移つされる。すなわち係止腕40を
下降させてなる本体39を突出移動Ａさせて、第２出入口
８にあるカセット６の被係止部の下方へ係止腕40を突入
させ、そして係止腕40を上昇Ｂさせてカセット６を持ち
上げたのち、本体39を退入移動Ａさせることで移つせ
る。

なお逆作動によって可動体35側のカセット６を第２出
入口８側へと戻せ得、またターンテーブル37を180度で
回転させることによって、一対の移載装置38の使い分け
を行える。カセット６が移つされた可動体35は一定経路
34上で移動され、目的とする装置側受け台27の側部で停
止する。

ここで装置側受け台27の受けレベルが、移載装置38に
おける係止腕40の昇降Ｂによる受け渡しレベル範囲内に
あるときには、この移載装置38の作動によって装置側受
け台27にカセット６が直接に渡される。この装置側受け
台27に渡されたカセット６は連通路９を通してプロセス
装置21に渡され、そして半導体ウエハ５はカセット６か
ら一枚づつ取出され、表面蒸着などの表面加工が行われ
たのちカセット６に戻される。そして装置側受け台27の
端部に搬出されたカセット６は、移載装置38の前述とは
逆作動によって再び可動体35に支持される。

次いでカセット６はプロセスに基づいて順次移つされ
るのであるが、その際に装置側受け台27の受けレベル
が、移載装置38における係止腕40の昇降Ｂによる受け渡
しレベル範囲外にあるときには、この移載装置38の作動
によって、カセット６は搬入側一時受け台41のターンテ
ーブル43上に渡される。次いでターンテーブル43の回転
によってカセット６の向きが90度変位される。このとき
移載機45では、保持腕50がカセット６側に向いており、
さらに保持腕50は下降限に位置するとともに互いに接近
動している。

この状態で、まず本体47を搬入側一時受け台41に接近
移動Ｄさせ、その保持腕50をカセット６の被係止部の下
方へ突入させる。次いで保持腕50を上昇Ｅさせてカセッ
ト６を持ち上げたのち、縦軸心の周りに回転Ｆさせるこ
とで装置側受け台27の上方に位置させる。そして保持腕
50を下降Ｅさせることでカセット６を装置側受け台27に
着地し得、その後、保持腕50を離間動Ｇし、上昇Ｅした
のち回転Ｆすることで、空の保持腕50を装置側受け台27
上から外方へ退出し得る。

なお装置側受け台27に取出されたカセット６は、移載
機45を搬出側一時受け台42側に移動させたのち、上述と
は逆操作を行うことによって可動体35上へ戻せ得る。

上記実施例では一時受け台を、搬入側一時受け台41と
搬出側一時受け台42とに振り分けて配設したが、これは
一方のみで搬入と搬出とを兼用して行ってもよい。

なお移載機45のガイド装置46部を床33と同一になるよ
うにすることにより、メンテナンスを容易に行うことが
できる。前記移載機45は、その保持腕50を交換可能に構
成することで、種々な装置に対応して使用することがで
きる。

発明の効果 上記構成の本発明によると、移載装置を介して荷を支
持してなる可動体を一定経路上で移動し、そして目的と
するプロセス装置に対向して停止させたのち移載装置を
作動することで、荷を一時荷受け台上に渡すことがで
き、さらにターン装置の作動で向き変更を行うことがで
きる。次いで荷は、保持部を昇降ならびに回動させる移
載機によって装置側受け台上に渡すことができ、そして
プロセス装置によって所期の加工作業を受けて装置側受
け台上に取出された荷は、逆作用によって可動体に移す
ことができる。このようにして荷を複数のプロセス装置
で順送りできるとともに、装置側受け台の位置（レベ
ル）の変化は移載機で吸収でき、したがって装置側受け
台の位置が一定でなくても搬送用の可動体を共用でき
て、設備を小型化、簡素化できるとともに、移載装置そ
のものも構造をシンプル化できる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示し、第１図は要部の斜視
図、第２図は全体の斜視図である。 ５……半導体ウエハ、６……カセット（荷）、９……連
通路、10……搬送部クリーンルーム、20……製造部クリ
ーンルーム、21……プロセス装置、27……装置側受け
台、30……作業部クリーンルーム、31……工程内搬送装
置、34……一定経路、35……可動体、37……ターンテー
ブル、38……移載装置、40……係止腕、41……搬入側一
時受け台、42……搬出側一時受け台、43,44……ターン
テーブル（ターン装置）、45……移載機、48……保持装
置、49……保持部、50……保持腕。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】装置側受け台を有するプロセス装置を、そ
   の装置側受け台を並べて複数配設し、各装置側受け台の
   外方にそれぞれターン装置付きの一時受け台を配設し、
   これら一時受け台の外方間に亘って一定経路上を移動自
   在な可動体を設け、この可動体に、各一時受け台との間
   で荷を受け渡し自在な移載装置を設け、前記一時受け台
   に対向して移載機を設け、この移載機は、昇降自在でか
   つ縦軸心の周りに回動自在な保持部を介して、前記一時
   受け台と装置側受け台との間で荷を受け渡し自在に構成
   したことを特徴とするプロセス装置間の搬送設備。