JP4045122B2 - カセット洗浄保管装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カセット洗浄保管装置に関し、詳しくは液晶表示装置やプラズマ表示装置など物品の製造工場において、ガラス基板のような被処理基板を収容するカセットの洗浄、保管に好適なカセット洗浄保管装置に関するものである。以下、従来の技術並びに本発明に就き説明するが、説明の順位の早い図に示された部位と同じ部位が後続の図に示される場合には互いに同じ符号を用いることとし、また後続の図の説明の際には一部の部位に就いては、符号付け並びに部位説明を省略することがある。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置を製造するための従来のカセット洗浄保管装置は、加工処理される基板(以下、被処理基板)を収容した基板収容カセット（以下、実カセット）、実カセットを保管する工程間ストッカー、被処理基板を収容していない空のカセット（以下、空カセット）、空カセットを保管する空カセットストッカー、未洗浄の空カセットを洗浄するためのカセット洗浄装置などから構成されている。図１６は、かかる従来技術におけるカセット洗浄保管装置を含む物品製造工場の概略平面図である。同図において、１は加工処理装置、２は加工処理装置１内のカセット移載部、３は搬送台車、４は被製造物品の製造工程の途中にある実カセットを保管する工程間ストッカー、７は空カセットを洗浄するためのカセット洗浄装置、８は洗浄前後の空カセットを保管する空カセットストッカー、９は搬送台車３の走行ルートである。
【０００３】
実カセットは、異物の付着により汚染され、汚染された実カセットにより被処理基板が二次汚染される問題がある。この二次汚染を防止するために、カセットは定期的に洗浄されて製造ラインへ供給されるか、あるいは加工処理装置１には常に洗浄後の、しかして汚染されていない空カセットが供給される。よって一般的に、多数の加工処理装置１からはカセット洗浄装置７に対する空カセットの洗浄要求および洗浄済み空カセットの供給要求があって、かかる要求の頻度は絶えず変動する。このために空カセットストッカー８は、そのような変動に適時に対応できるように、バッファーとなる空カセットの必要量を常時保管している。
【０００４】
図１６により上記した空カセットの洗浄、供給の様子について説明すると、加工処理工程途中の実カセットは、或る加工処理装置１から他の加工処理装置１に搬送される際には、上記の或る加工処理装置１のカセット移載部２から搬送台車３により工程間ストッカー４の入庫口５へ搬送され、ついで一旦工程間ストッカー４に保管される。この実カセットは、上記の他の加工処理装置１から搬送要求を受けると出庫口６から出庫され、上記他の加工処理装置１へ搬送台車３により搬送される。しかして工程間ストッカー４は、多数の実カセットを保管することにより各加工処理装置１の円滑な稼働を助け、また一部の加工処理装置１の停止時における実カセットの一時保管などの機能もなす。
【０００５】
加工処理装置１において、実カセットから被処理基板が抜き取られ、それが空カセットとなり且つ当該空カセットの洗浄が必要となった際には、当該空カセットは搬送台車３により上記加工処理装置１から一旦空カセットストッカー８に搬送され、カセット洗浄装置７における洗浄受け入れが可能となった時点で搬送台車３により空カセットストッカー８からカセット洗浄装置７に搬送され、洗浄される。洗浄済みの空カセットは、再び空カセットストッカー８に搬送され、保管される。洗浄済みの空カセットは、加工処理装置１からの供給要求があれば、そこから要求先の加工処理装置１に搬送される。
【０００６】
従来のカセット洗浄保管装置は、上記従来技術から明らかな通り、工程間ストッカー４とは別に洗浄前後の空カセットを専門に保管する空カセットストッカー８を設けていた。さらに、洗浄前後の空カセットの適正保管量は、各加工処理装置１の処理能力、生産品種数、およびそれらの生産量などの製造条件により変化するものであるが、空カセットストッカー８の空カセット保管容量は固定であって、このために空カセットストッカー８の建設に際してはその空カセット保管容量は、実稼動時に発生する空カセットの理論必要量に余裕量を加算して決定され、かく決定された保管容量に基づいて空カセットストッカー８の初期設備投資が行われてきた。このために空カセットストッカー８は概して大型であって、その設備投資費用と物品製造工場における当該ストッカーの占有スペースが大きくなる問題があった。
【０００７】
図１６に示す従来技術は、またカセット洗浄装置７と空カセットストッカー８とが互いに離れて配置されているので、洗浄前後の空カセットをカセット洗浄装置７と空カセットストッカー８との間を搬送台車３により搬送する必要があって搬送台車３の搬送負担が大きくなるのみならず、上記の搬送中に空カセット、就中、洗浄済みの空カセットが汚染される可能性が高くなる問題もある。さらに従来技術は、空カセットストッカー８にて洗浄前後の空カセットを混在保管するので、特に高清浄物としての保管管理が要求される洗浄済みの空カセットが未洗浄の空カセットの付着物により汚染され易い問題もある。
【０００８】
図１７は、他の従来技術におけるカセット洗浄保管装置を含む物品製造工場の概略平面図であって、そこではカセット洗浄装置７と空カセットストッカー８とが互いに近接設置されているので、両者が離れている場合の前記問題は解消はするが、空カセットストッカー８を採用しているので、前記の問題は依然として残っている。
【０００９】
図１８は、特許番号第２５９８３６４号、特開平５−１９８５４５号公報などに開示されているカセット洗浄保管装置を含む物品製造工場の概略平面図であって、１０は被処理基板洗浄装置、１１は被処理基板洗浄装置１０に含まれているカセット洗浄部である。図１８の技術では、実カセットは被処理基板洗浄装置１０に搬送されると、そこから被処理基板が取り出されて洗浄され、被処理基板が取り出されて生じた空カセットはカセット洗浄部１１で洗浄される。その後、洗浄済み被処理基板は洗浄済み空カセットに挿入され、かくして生じた実カセットはカセット洗浄部１１から搬出される。ところでこの技術では、被処理基板の洗浄が必要な工程毎にカセット洗浄部１１の設置が必要であるので、設備投資費用が大きくなる問題がある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来技術における如上の諸問題を解消するためになされたものであって、設備投資費用の低減が可能であって、しかも洗浄済み空カセットの再汚染の防止が可能なカセット洗浄保管装置を提供することを課題とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係るカセット洗浄保管装置は、加工処理される基板を収容した基板収容カセット、上記基板収容カセットを保管する工程間ストッカー、上記基板を収容せず且つ未洗浄の空カセット、上記空カセットを洗浄するためのカセット洗浄装置、および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを含むカセット洗浄保管装置であって、上記工程間ストッカーは、上記基板収容カセットに加えて上記未洗浄の空カセットおよび上記洗浄済み空カセットを互いに区別して保管する複数の保管領域を備えると共に上記カセット洗浄装置と清浄環境下で接続または近接して設けられたことを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の請求項２に係るカセット洗浄保管装置は、請求項１において、上記洗浄済み空カセットの保管領域は、上記未洗浄の空カセットの保管領域よりも高清浄度の清浄環境下にあることを特徴とするものである。
【００１３】
本発明の請求項３に係るカセット洗浄保管装置は、請求項１または請求項２において、上記未洗浄の空カセットの保管領域および上記洗浄済み空カセットの保管領域は、空カセット保管容量が可変であることを特徴とするものである。
【００１４】
本発明の請求項４に係るカセット洗浄保管装置は、請求項１〜請求項３いずれか一項において、上記未洗浄の空カセットの保管領域から上記未洗浄の空カセットを上記カセット洗浄装置に搬送する第一搬送装置および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを上記第一搬送装置の搬送環境よりも高清浄度の搬送環境下で上記洗浄済み空カセットの保管領域に搬送する第二搬送装置を備えたことを特徴とするものである。
【００１５】
本発明の請求項５に係るカセット洗浄保管装置は、請求項１において、上記工程間ストッカーは、上記洗浄済み空カセットの保管領域と少なくとも一部の上記基板収容カセットの保管領域を有する第一工程間ストッカー部分と、上記未洗浄の空カセットの保管領域および／または少なくとも一部の上記基板収容カセットの保管領域を有する第二工程間ストッカー部分とから構成されていることを特徴とするものである。
【００１６】
本発明の請求項６に係るカセット洗浄保管装置は、請求項５において、上記カセット洗浄装置は、上記第二工程間ストッカー部分内の上記洗浄済み空カセットの保管領域と隣接して設置されたことを特徴とするものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下においても、加工処理される基板を被処理基板と、被処理基板を収容した基板収容カセットを実カセットと略称する。
【００１８】
実施の形態１．
図１〜図５は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態１を説明するものであって、図１は実施の形態１のカセット洗浄保管装置を備えた物品製造工場の概略的平面図、図２カセットの斜視図、図３は実施の形態１のカセット洗浄保管装置の平面図、図４は実施の形態１のカセット洗浄保管装置の他の平面図、図５は図４の側面図である。
【００１９】
図１〜図５において、４は工程間ストッカー、４ａは前記第一工程間ストッカー部分の一例としての工程間ストッカー部分、４ｂは前記第二工程間ストッカー部分の一例としての工程間ストッカー部分、５ａ、５ｂはいずれも入庫口部分、６ａ、６ｂはいずれ出庫口部分、１８はカセット、１９は被処理基板、２０ａ、２０ｂはいずれもスタッカークレーン、２１ａ、２１ｂはいずれも当該各スタッカークレーンの軌道、２２ａ、２２ｂはいずれもカセット移載部分、２３は保管棚部分２３ａ、２３ｂから構成されたカセット保管棚、２４は未洗浄の空カセットを保管するための保管領域、２５は実カセットを保管するための保管領域、２６は洗浄済み空カセットを保管するための保管領域、２７は実カセットを保管するための高清浄環境の保管領域、２８は実カセット、２９は空カセット、７はカセット洗浄装置、１５、１６および１７はカセット搬送装置である。なおカセット搬送装置１５は前記第一搬送装置の一例であり、カセット搬送装置１６は前記第二搬送装置の一例である。
【００２０】
しかして工程間ストッカー４は、工程間ストッカー部分４ａと工程間ストッカー部分４ｂとから構成されている。さらに工程間ストッカー部分４ａは、保管領域２６、保管領域２７、入庫口部分５ａ、出庫口部分６ａ、スタッカークレーン２０ａ、軌道２１ａ、カセット移載部分２２ａを備え、工程間ストッカー部分４ｂは、保管領域２４、保管領域２５、入庫口部分５ｂ、出庫口部分６ｂ、スタッカークレーン２０ｂ、軌道２１ｂ、カセット移載部分２２ｂを備えている。また工程間ストッカー４は、カセットの搬送制御装置（図示せず）を有し、その内部のカセット保管棚２３が保管領域２４〜２７に割り当てられており、それら各保管領域のカセット保管棚２３中におけるの各位置は、上記搬送制御装置に入力されている。
【００２１】
なお本発明において、少なくとも工程間ストッカー部分４ａ、４ｂおよびカセット洗浄装置７は、後記する通りクリーンルーム内に設置されていて、それら全体が清浄環境下にあるが、図３〜図５および後続の諸図において、斜線を施した個所は清浄環境のなかでも清浄度がさらに高い清浄環境（以下、高清浄環境）であることを示し、また太い実線で囲まれた個所は保管領域２６であることを、実線の白地の小四角形は空カセット２９であることを、また実線の白地の小四角形内に斜め下半分または上下に黒地を加えた小四角形は実カセット２８であることを、それぞれ示す。また実線の白地の小四角形は、空カセット２９を収容したカセット保管棚２３の部分を、一方、点線の白地の小四角形は、空カセットを収容していないカセット保管棚２３の部分を、それぞれ示す。
【００２２】
カセット洗浄装置７は、その左右に工程間ストッカー部分４ａおよび工程間ストッカー部分４ｂが接続されており、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂは、各側面は囲い構造であって、カセット洗浄装置７と共に上記した通りクリーンルーム内に設置されていて、しかもクリーン化空調装置（図示せず）により各内部は周囲のクリーンルーム内より高い清浄度に保持されている。そのクリーン化には、例えば当該ストッカー部分４ａ、４ｂの各天井に設けられたファンフィルター（図示せず）を通してクリーンエアを下向きに噴出し、当該ストッカー部分４ａ、４ｂの下部の床開口から当該エアを外部に排出する方法、あるいは当該ストッカー部分４ａ、４ｂ内にエア循環ファンとフィルターを設置して、当該フィルターを通して当該エア循環ファンによりクリーンエアを循環させる方法などが例示される。カセット洗浄装置７内、工程間ストッカー部分４ａとカセット洗浄装置７との間、工程間ストッカー部分４ｂとカセット洗浄装置７との間などの空間も、上記と同様の方法でクリーン化が可能であり、且つ工程間ストッカー４内と同程度の清浄度に保持されている。
【００２３】
工程間ストッカー部分４ｂ内に設けられた保管棚部分２３ｂのうち、カセット洗浄装置７に近い個所の棚部が未洗浄の空カセットを保管する保管領域２４として、残部の棚部が実カセットを保管するための保管領域２５として、それぞれ割り当てられている。一方、工程間ストッカー部分４ａ内に設けられた保管棚部分２３ａのうち、カセット洗浄装置７に近い個所の棚部が洗浄済みの空カセットを保管する保管領域２６として、残部の棚部が実カセットを保管するための保管領域２７として、それぞれ割り当てられている。工程間ストッカー部分４ｂ内での上記した保管領域は、さほど高度の清浄環境を必要としない保管領域２４と保管領域２５とに区別され、それにより未洗浄の空カセットに付着した異物による汚染から保管領域２５内の実カセットを保護している。但し、空カセットの付着異物による汚染の影響が少ない、あるいは実質的に無害である場合には、かかる保管領域分けの必要はない。
【００２４】
一方、工程間ストッカー部分４ａ内では、実カセットのうちでも保管領域２５内の実カセットと違って高清浄環境を必要とする一部の実カセット、および一般的に高清浄環境を必要とする洗浄済み空カセットとが保管される。よって工程間ストッカー４を、工程間ストッカー部分４ａと工程間ストッカー部分４ｂに区分けして、それぞれ保管対象とするカセット類を区別することにより上記の保管環境の制御管理が容易となる。即ち工程間ストッカー部分４ａ内では、当該ストッカー内のクリーンエアの風速を大きくし、あるいはフィルター性能を高くして、工程間ストッカー部分４ｂ内よりも一層清浄度の高い高清浄環境とすることができる。またカセット洗浄装置７内の一部および工程間ストッカー部分４ａとカセット洗浄装置７との間も上記と同様の方法にて高清浄環境とされている。
【００２５】
カセット搬送装置１５は、保管領域２４に保管されている未洗浄の空カセット２９をカセット洗浄装置７に搬送する機能をなし、カセット搬送装置１６は、カセット洗浄装置７において洗浄された空カセット２９（即ち、洗浄済み空カセット２９）を保管領域２６に搬送する機能をなし、カセット搬送装置１７は、工程間ストッカー部分４ａに保管されているカセット類を工程間ストッカー部分４ｂに搬送する機能をなす。カセット搬送装置１５〜１７としては、コンベア、トラバーサ、移載ロボット、あるいはその他のカセット搬送手段であってよい。
【００２６】
スタッカークレーン２０ａは、カセット移載部分２２ａを有すると共に軌道２１ａに沿って工程間ストッカー部分４ａ内を左右に走行し、上記搬送制御装置からの指示に従って稼動するカセット移載部分２２ａにより工程間ストッカー部分４ａ内に保管されたカセット類を必要個所に搬送する機能をなし、スタッカークレーン２０ｂは、同様にカセット移載部分２２ｂを有すると共に軌道２１ｂに沿って工程間ストッカー部分４ｂ内を左右に走行し、上記搬送制御装置からの指示に従って稼動するカセット移載部分２２ｂにより工程間ストッカー部分４ｂ内に保管されたカセット類を必要個所に搬送する機能をなす。
【００２７】
以下に、実施の形態１のカセット洗浄保管装置の動作について説明する。まず或る加工処理装置１(図１参照)での加工処理が完了した被処理基板を収容した実カセット２８は、上記加工処理装置１のカセット移載部２から搬送台車３により搬送され、上記被処理基板に対する加工処理の内容に基づき必要とされる保管清浄環境に応じて工程間ストッカー部分４ａの入庫口部分５ａまたは工程間ストッカー部分４ｂの入庫口部分５ｂに入庫され、入庫した実カセット２８は、スタッカークレーン２０ａまたはスタッカークレーン２０ｂにより保管領域２７または保管領域２５に移されて保管される。次工程の加工処理装置１での実カセット２８の受け入れが可能となると、実カセット２８は工程間ストッカー部分４ａの出庫口部分６ａまたは工程間ストッカー部分４ｂの出庫口部分６ｂから出庫され、当該次工程の加工処理装置１へ搬送台車３により搬送される。
【００２８】
つぎに、或る加工処理装置１において実カセット２８から被処理基板が抜き取られて残った空カセット２９は、搬送台車３により入庫口部分５ｂに搬送され、ついでスタッカークレーン２０ｂにより保管領域２４に搬送され保管される。一方、上記空カセット２９を排出した上記加工処理装置１に対しては、工程間ストッカー部分４ａの保管領域２６に保管されている洗浄済み空カセット２９がスタッカークレーン２０ａにより出庫口部分６ａに搬送され、搬送台車３により上記加工処理装置１に搬送される。カセット洗浄装置７においてカセット洗浄の受け入れが可能となると、保管領域２４内の空カセット２９は、そこからカセット搬送装置１５によりカセット洗浄装置７に搬送されて洗浄され、洗浄済み空カセットとなってカセット搬送装置１６により保管領域２６に搬送されて保管される。
【００２９】
保管領域２４および保管領域２６の各空カセット保管容量は、変更可能であって、変更の指示は上記搬送制御装置に入力され実行される。図３および図４には図１の場合より各空カセット保管容量が増大された例を示す。上記搬送制御装置は、保管領域２４、２６の各保管容量を保管棚部分２３ａ、２３ｂの各棚番で管理し、それら保管領域の容量変更にしたがって各空カセットの搬送、保管などの制御を行う。その際、空カセットの保管容量の大きは、物品製造工場での製造条件の変更、あるいは製造ラインの運用上の必要に応じて適宜調整され、物品製造上の生産効率が低下しないようにするなどの措置が講じられる。
【００３０】
保管領域２６に保管されている洗浄済み空カセットは、種々の理由にて再洗浄の必要が生じることがあるが、その際には保管領域２６内の空カセットは、カセット搬送装置１７により工程間ストッカー部分４ｂに搬送され、ついでカセット搬送装置１５によりカセット洗浄装置７に移して洗浄される。なお実カセット２８と空カセット２９との区別は、例えばそれらカセットが工程間ストッカー４に入庫した際に、各カセットに取り付けられたＩＤダグの情報を読み取る、被処理基板を形成するガラスの有無をセンサーで検出する、あるいは搬送管理システムからの指示による、などの方法で可能である。
【００３１】
以上の説明から明らかな通り、実施の形態１では、工程間ストッカー４とカセット洗浄装置７とが接続され、且つ当該ストッカー４中に実カセットの保管領域２５、２７に加えて、空カセットの保管領域２４、２６とが設けられることにより、従来技術において工程間ストッカー４とカセット洗浄装置７とが互いに離れた位置に設けられたことに由来して必要であった空カセットストッカー８(図１６など参照)が不要となり、その結果、空カセットストッカー８の建設の費用、敷地、当該ストッカーの維持管理に要するマンパワーなどがすべて不要になるほか、従来技術で必要であった工程間ストッカー４、カセット洗浄装置７、および空カセットストッカー８の間でのカセット類の搬送台車３による搬送の手間も不要となる大きな効果がある。また前記図１８に示す従来技術のように、複数のカセット洗浄部１１を必要とせず、通常、一基のカセット洗浄装置７にて複数の加工処理装置１に対応可能である。
【００３２】
実施の形態１および以下の諸実施の形態を含めて、本発明においては、工程間ストッカー４にて実カセットと空カセットとを保管するのでカセット保管棚の量は従来技術の場合と比較して多くなり、カセット保管棚の設置コストは増大するので一見不利のように思われる。しかし工程間ストッカー４にせよ、前記空カセットストッカー８にせよ、ストッカーの設備としてはカセット保管棚以外に、スタッカークレーンや搬送制御装置などが必要であって、カセット保管棚の設置コストは比較的小さく、スタッカークレーンと搬送制御装置の各設置コストが極めて大きい。よって結果的に、本発明においては空カセットストッカー８が不要となることで総合的には設備費の大幅なコスト削減となる。
【００３３】
さらに本発明では、実カセットと空カセットとの保管容量が可変であるので、初期投資の際にカセット保管棚量の総量を予め少なくなるように計画することも可能であり、また製造条件の変化に合わせて実カセットと空カセットとの保管容量を変化させて、製造上でバッファリング機能の柔軟性の向上が実現する効果もある。
【００３４】
さらに本発明では、工程間ストッカー４とカセット洗浄装置７とが接続され、且つそれらの内部は、清浄環境下あるいは高清浄環境下にあり、しかも工程間ストッカー４内は複数の保管領域に区分けが可能であるので、洗浄済み空カセットおよび実カセットは、汚染の可能性が極めて少ない高清浄環境下に保管し得る効果もある。
【００３５】
実施の形態２.
図６は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態２の平面図である。前記実施の形態１では、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂはスタッカークレーン２０ａ、２０ｂが同一直線方向となるように配置され、その間にカセット洗浄装置７が設置されていたが、実施の形態２では、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂは並列に配置され、カセット洗浄装置７は工程間ストッカー部分４ａ、４ｂの各右端間に設置されている。実施の形態２は、当該スタッカークレーンおよび／または当該工程間ストッカー部分を設置するためのレイアウト上の制約がある場合に有効であって、実施の形態１と同様の効果が得られる。
【００３６】
実施の形態３.
図７は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態３の平面図であって、３０、３１はいずれもカセット搬送装置、３２はカセット保管搬送装置である。カセット洗浄装置７は、前記実施の形態１、２では工程間ストッカー部分４ａ、４ｂの間に設置されたが、実施の形態３では工程間ストッカー部分４ａの右側に接続され、工程間ストッカー部分４ａと工程間ストッカー部分４ｂとはカセット搬送装置３０、３１にて接続されている。またカセット洗浄装置７には、工程間ストッカー部分４ａが接続された側の反対側にカセット保管搬送装置３２が接続されている。カセット保管搬送装置３２は、一部または少数の未洗浄の空カセットを保管搬送するものであって、コンベアあるいは小型のストッカーなどであってよい。
【００３７】
つぎに実施の形態３の前記実施の形態１、２とは異なる動作部分について説明する。カセット洗浄を行う場合は、加工処理装置１(図１参照)から空カセット２９が搬送台車３によりカセット保管搬送装置３２に搬送される。なおカセット保管搬送装置３２内が満杯の場合、空カセット２９は、搬送台車３により入庫口部分５ｂを経由して工程間ストッカー部分４ｂに入庫され、ついでスタッカークレーン２０ｂにより保管領域２４に保管される。カセット保管搬送装置３２において空カセット２９の受け入れが可能になると、搬送台車３により保管領域２４から出庫口部分６ｂを経由してカセット保管搬送装置３２に搬送される。カセット保管搬送装置３２内の空カセット２９は、カセット洗浄装置７において洗浄後、カセット搬送装置１６により搬送されて工程間ストッカー部分４ａの保管領域２６に保管される。加工処理装置１への洗浄済み空カセットの供給が必要となった場合には、保管領域２６内の洗浄済み空カセットは、スタッカークレーン２０ａにより出庫口部分６ａまで搬送され、ついで搬送台車３により出庫口部分６ａから加工処理装置１に搬送される。また保管領域２６内の洗浄済み空カセットの再洗浄が必要となった場合には、当該空カセットはスタッカークレーン２０ａにより出庫口部分６ａまで搬送され、そこから搬送台車３によりカセット保管搬送装置３２に搬送される。
【００３８】
保管領域２４および保管領域２６の各空カセット保管容量は、工程間ストッカー４に設けられた前記搬送制御装置により変更可能であって、当該制御装置は、保管領域２４、２６の各保管容量をカセット保管棚の各棚番で管理し、それら保管領域の容量変更にしたがって各空カセットの搬送、保管などの制御を行う。その際、物品製造工場での製造条件の変更、あるいは製造ラインの運用上の必要に応じて空カセットの保管容量の大きさを適宜調整して、物品製造上の生産効率が低下しないようにするなどの措置を講じる。実施の形態３は、以上の構成により前記実施の形態１などと同様の効果が得られる。
【００３９】
実施の形態４.
図８および図９は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態４を説明するものであって、図８は実施の形態４の平面図、図９は図８のＸ−Ｘ線あるいはＹ−Ｙ線に沿った断面図である。図８および図９において、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂから構成された工程間ストッカー４の全体は、床開口３５、天井３８、および床３９を有するクリーンルーム内に設置されており、また天井３８の裏にはファンフィルターユニット３３ａ、３３ｂが設けられている。なお３４はストッカー囲い、３６は高清浄環境、３７は清浄環境である。前記実施の形態１〜３では、未洗浄カセットと洗浄済みカセットとは、互いに別の工程間ストッカー部分４ａ、４ｂに保管されたが、以下に説明する通り、実施の形態４ではそれらは同じ工程間ストッカー部分４ａ内に保管される。工程間ストッカー部分４ａ、４ｂは、前記実施の形態１などと同様に図９に示すように、左右の二列（図８の平面図上では上下の二列）のカセット保管棚２３を含み、工程間ストッカー部分４ａ内の保管棚部分２３ａは、図８に示すように、保管領域２４、保管領域２５の一部、保管領域２６、および保管領域２７の４領域に区分けされ、一方、工程間ストッカー部分４ｂ内の保管棚部分２３ｂの全部は保管領域２５とされている。
【００４０】
工程間ストッカー部分４ａ、４ｂは、互いにカセット搬送装置３０、３１にて接続されており、またカセット洗浄装置７は工程間ストッカー部分４ａの右側に、且つ矢印で示すように、保管領域２４内の未洗浄の空カセットがカセット洗浄装置７で洗浄されて保管領域２６に保管されるように、保管領域２４と保管領域２６との間に設置されている。またさらに工程間ストッカー４のうち、カセット保管棚２３の図８上での上側（図９上では右側）、即ち保管領域２６および保管領域２７とされた個所、換言すると洗浄済みの空カセットと一部の実カセットが保管された個所が高清浄環境３６とされており、工程間ストッカー４のうちの残部は清浄環境３７とされている。かく高清浄環境３６内で保管領域２６と保管領域２７とを区分けすることにより、最も二次汚染の防止管理が必要な洗浄済みの空カセットに対する実カセットからの異物汚染を少なくすることができる。即ち保管領域２６は、最も清浄度の高い保管領域として管理することができる。一方、他のカセット保管棚２３においても保管領域２４と保管領域２５とに区分けされることにより、加工処理工程中の実カセットに対する未洗浄の空カセットからの異物汚染を少なくすることができる。
【００４１】
工程間ストッカー部分４ａ上の天井３８の裏には、二列のファンフィルターユニット３３ａが備え付けられており(図９では、そのうちの一列のみを示す。)、上記二列のうちの一列は保管領域２６と保管領域２７の上に設けられ、残る一列は保管領域２４と保管領域２５の上に設けられている。一方、工程間ストッカー部分４ｂ上の天井３８の裏にも二列のファンフィルターユニット３３ｂが備え付けられており(図９では、そのうちの一列のみを示す。)、上記二列のうちの一列は図８の平面図上での上側の保管領域２５上に設けられ、残る一列は同平面図上での下側の保管領域２５上に設けられている。図９では、保管領域２６と保管領域２７上に設けられたファンフィルターユニット３３ａと上記下側の保管領域２５上に設けられたファンフィルター３３ｂのみが代表的に示されている。
【００４２】
ファンフィルターユニット３３ａ、３３ｂから供給されたクリーンエアーは、図９の矢印の通り、カセット保管棚２３とストッカー囲い３４との間からカセット保管棚２３内を通過して床開口３５から排出される。この際、保管領域２６と保管領域２７の上に設けられたファンフィルターユニット３３ａのフィルター性能や風速を他のファンフィルターユニット３３ａおよびファンフィルターユニット３３ｂのそれらより高くすることにより保管領域２６と保管領域２７とを高清浄環境３６とすることができる。保管領域２４〜保管領域２７の各保管容量は、搬送制御装置にて製造ラインの運用に合わせてスタッカークレーン２０ａ、２０ｂの走行方向に変更可能である。
【００４３】
つぎに実施の形態４の前記実施の形態とは異なる動作部分について説明する。加工処理装置１(図１参照)からの空カセットは、搬送台車３により入庫口部分５ａに入庫され、ついでスタッカークレーン２０ａにより保管領域２４に搬送され保管される。カセット洗浄装置７が空カセットの受け入れが可能であると、スタッカークレーン２０ａにより保管領域２４の空カセットがカセット洗浄装置７に搬送され、洗浄される。洗浄済みの空カセットは、スタッカークレーン２０ａにより保管領域２６に搬送され、保管される。加工処理装置１への洗浄済みの空カセットの供給が必要な場合には、保管領域２６内の洗浄済みの空カセットがスタッカークレーン２０ａにより出庫口部分６ａにまで搬送され、そこから搬送台車３により加工処理装置１に搬送される。また保管領域２６内の洗浄済み空カセットの再洗浄が必要となった場合には、当該空カセットはスタッカークレーン２０ａによりカセット洗浄装置７に搬送され、洗浄される。洗浄済みの空カセットは、スタッカークレーン２０ａにより保管領域２６に搬送され、保管される。工程間ストッカー部分４ａ、４ｂ間においてカセット類の搬送が必要な場合には、スタッカークレーン２０ａ、２０ｂおよびカセット搬送装置３０、３１が稼動される。
【００４４】
実施の形態４は、以上の構成により前記実施の形態１などと同様の効果が得られる。また実施の形態４では、カセットの洗浄装置７の操作時に操作員が搬送台車３の走行に干渉されないので、上記操作時の安全性が高い長所がある。さらに工程間ストッカー部分４ａ内に未洗、洗浄の両カセットの保管が可能であるので、工程間ストッカー部分４ｂが停止していても、工程間ストッカー部分４ａとカセット洗浄装置７とで空カセットの洗浄、保管、並びに製造ラインへの供給などが可能となる。
【００４５】
実施の形態５.
図１０は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態５の平面図であって、工程間ストッカー部分４ｂ内の図１０上での上側の保管領域２５も高清浄環境とされた点において前記実施の形態４と異なり、その他の構成は同じである。かく構成することにより、前記実施の形態４の効果に加えて、２基の工程間ストッカー部分４ａ、４ｂにわたって保管領域２４〜２７の各保管容量の変更が可能となる。
【００４６】
実施の形態６.
図１１〜図１３は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態６を説明するものであって、図１１は実施の形態６の平面図、図１２は図１１の側面図、図１３は図１２のＸ−Ｘ線あるいはＹ−Ｙ線に沿った断面図である。図１１〜図１２において４１は垂直搬送装置であり、図１３において４０はクリーンルームの天井３８の裏に設けられたプレフィルター、４３、４４はいずれもファンフィルターユニットである。前記実施の形態４では、工程間ストッカー部分４ａ内の左右の保管棚部分２３ａの一方側のみが高清浄環境３６とされたが、実施の形態６では工程間ストッカー部分４ａ内の左右の保管棚部分２３ａの両上段部が高清浄環境３６とされ、残る両下段部が清浄環境３７とされた点において主として前記実施の形態４と異なる。また、当該上段部中のカセット洗浄装置７に近い側は保管領域２６とされ、残部は保管領域２７とされ、当該下段部中のカセット洗浄装置７に近い側は保管領域２４とし、残部は保管領域２５とされている。工程間ストッカー部分４ｂ内の全段部には、工程間ストッカー部分４ａ内の下段部に設けられたファンフィルターユニット４４と同じものが備えられて清浄環境３７で且つ保管領域２５とされている。実施の形態６では、保管領域２４内の未洗浄空カセットは、カセット搬送装置１５によりカセット洗浄装置７へ搬送され、そこで洗浄され、洗浄済み空カセットは垂直搬送装置４１により保管領域２６に搬送され、そこで保管される。
【００４７】
ファンフィルターユニット４３、４４を稼動することにより、クリーンエアーはクリーンルーム天井３８の裏に設けられたプレフィルター４０を通過してろ過されて工程間ストッカー部分４ａ、４ｂに供給される。かく供給されたクリーンエアーは、ファンフィルターユニット４３またはファンフィルターユニット４４およびカセット保管棚２３内を通過して床開口３５から排出される。この際、保管領域２６と保管領域２７に設けられたファンフィルターユニット４３のフィルター性能や風速をファンフィルターユニット４４のそれらより高くすることにより保管領域２６と保管領域２７とを高清浄環境３６とし、それら以外の保管領域の清浄環境３７と区別することができる。保管領域２４〜保管領域２７の各保管容量は、前記搬送制御装置にて製造ラインの運用に合わせてスタッカークレーン２０ａ、２０ｂの走行方向に変更可能である。
【００４８】
実施の形態６は、以上の構成により前記実施の形態１などと同様の効果が得られる。また実施の形態６では、カセット洗浄装置７の操作時に操作員が搬送台車３の走行に干渉されないので、上記操作時の安全性が高い長所がある。さらに工程間ストッカー部分４ａ内で未洗浄、洗浄の両カセットの保管が可能であるので、工程間ストッカー部分４ｂが停止していても、工程間ストッカー部分４ａとカセット洗浄装置７とで空カセットの洗浄、保管、並びに製造ラインへの供給などが可能となる。
【００４９】
実施の形態７.
図１４〜図１５は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態７を説明するものであり、図１４は実施の形態７の平面図、図１５は図１４の側面図であって、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂの両上段部を高清浄環境とし、両下段部を清浄環境として、図示する通りに保管領域２４〜保管領域２７を割り付けた点において前記実施の形態６と異なり、その他の構成は同じである。かく構成することにより、前記実施の形態６の効果に加えて、２基の工程間ストッカー部分４ａ、４ｂにわたって保管領域２４〜２７の各保管容量の変更が可能となる効果がある。
【００５０】
本発明は、前記実施の形態１〜７に限定されるものではなく、本発明の課題並びに解決手段の精神に沿った種々の変形形態を包含する。
【００５１】
【発明の効果】
本発明のカセット洗浄保管装置は、以上説明したように、加工処理される基板を収容した基板収容カセット、上記基板収容カセットを保管する工程間ストッカー、上記基板を収容せず且つ未洗浄の空カセット、上記空カセットを洗浄するためのカセット洗浄装置、および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを含むカセット洗浄保管装置であって、上記工程間ストッカーは、上記基板収容カセットに加えて上記未洗浄の空カセットおよび上記洗浄済み空カセットを互いに区別して保管する複数の保管領域を備えると共に上記カセット洗浄装置と清浄環境下で接続または近接して設けられたものであるので、従来技術において必要であった空カセットストッカーが不要となり、その結果、空カセットストッカーの建設の費用、敷地、当該ストッカーの維持管理に要するマンパワーなどがすべて不要になるほか、工程間ストッカー、カセット洗浄装置、および空カセットストッカーの間でカセット類を搬送台車にて搬送する手間も不要となる大きな効果がある。さらに前記図１８に示す従来技術のように、複数のカセット洗浄部を必要とせず、通常、一基のカセット洗浄装置にて複数の加工処理装置に対応可能である。
【００５２】
また上記工程間ストッカーは、上記基板収容カセット（実カセット）、上記未洗浄の空カセット、および上記洗浄済み空カセットを互いに区別して保管する複数の保管領域を備え、また上記洗浄済み空カセットの保管領域は、上記未洗浄の空カセットの保管領域よりも高清浄度の清浄環境下にあるので、洗浄済み空カセットおよび実カセットは、汚染の可能性が極めて少ない高清浄環境下に保管可能である。
【００５３】
また、上記未洗浄の空カセットの保管領域および上記洗浄済み空カセットの保管領域は、空カセット保管容量が可変であり、また上記未洗浄の空カセットの保管領域から上記未洗浄の空カセットを上記カセット洗浄装置に搬送する第一搬送装置および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを上記第一搬送装置の搬送環境よりも高清浄度の搬送環境下で上記洗浄済み空カセットの保管領域に搬送する第二搬送装置を備えていると、初期投資の際にカセット保管棚量の総量を予め少なくなるように計画することも可能であり、また製造条件の変化に合わせて実カセットと空カセットとの保管容量を変化させることにより製造上でバッファリング機能の柔軟性が向上する。
【００５４】
また、上記未洗浄の空カセットの保管領域から上記未洗浄の空カセットを上記カセット洗浄装置に搬送する第一搬送装置および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを上記第一搬送装置の搬送環境よりも高清浄度の搬送環境下で上記洗浄済み空カセットの保管領域に搬送する第二搬送装置を備えていると、高清浄環境下に置く必要のない未洗浄の空カセットと高清浄環境下に置く必要のある洗浄済み空カセットとの各搬送環境を区別することができる。
【００５５】
また、上記工程間ストッカーは、上記洗浄済み空カセットの保管領域と少なくとも一部の上記基板収容カセット（実カセット）の保管領域を有する第一工程間ストッカー部分と、上記未洗浄の空カセットの保管領域および／または少なくとも一部の上記基板収容カセットの保管領域を有する第二工程間ストッカー部分とから構成されていると、実カセットのうちで特に汚染を回避する必要のあるものを他の実カセットと区別して、洗浄済み空カセットと共に但し保管領域を区別して、高清浄環境下に保管することができる。その際、カセット洗浄装置は、上記第二工程間ストッカー部分内の上記洗浄済み空カセットの保管領域と隣接して設置されると、洗浄済み空カセットの第二搬送装置による搬送距離が短いので再汚染の可能性が小さくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施の形態１のカセット洗浄保管装置を備えた物品製造工場の概略的平面図。
【図２】 カセットの斜視図。
【図３】 実施の形態１のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図４】 実施の形態１のカセット洗浄保管装置の他の平面図。
【図５】 図４の側面図。
【図６】 実施の形態２のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図７】 実施の形態３のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図８】 実施の形態４のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図９】 図８のＸ−Ｘ線あるいはＹ−Ｙ線に沿った断面図。
【図１０】 実施の形態５のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図１１】 実施の形態６のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図１２】 図１１の側面図。
【図１３】 図１２のＸ−Ｘ線あるいはＹ−Ｙ線に沿った断面図。
【図１４】 実施の形態７のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図１５】 図１４の側面図。
【図１６】 従来のカセット洗浄装置などを備えた物品製造工場の概略的平面図。
【図１７】 従来のカセット洗浄装置などを備えた他の物品製造工場の概略的平面図。
【図１８】 従来のカセット洗浄装置などを備えたさらに他の物品製造工場の概略的平面図。
【符号の説明】
１ 加工処理装置、３ 搬送台車、４ 工程間ストッカー、
４ａ、４ｂ 工程間ストッカー部分、７ カセット洗浄装置、
１５〜１７ カセット搬送装置、２０ａ、２０ｂ スタッカークレーン、
２３ カセット保管棚、２４ 未洗浄の空カセットの保管領域、
２５ 実カセットの保管領域、２６ 洗浄済み空カセットの保管領域、
２７ 実カセットの保管領域、２８ 実カセット、２９ 空カセット、
３０〜３１ カセット搬送装置、３２ カセット保管搬送装置、
３３ａ、３３ｂ ファンフィルターユニット、３６ 高清浄環境、
３７ 清浄環境、４０ プレフィルター、４１ 垂直搬送装置、
４３、４４ ファンフィルターユニット。
【発明の属する技術分野】
本発明は、カセット洗浄保管装置に関し、詳しくは液晶表示装置やプラズマ表示装置など物品の製造工場において、ガラス基板のような被処理基板を収容するカセットの洗浄、保管に好適なカセット洗浄保管装置に関するものである。以下、従来の技術並びに本発明に就き説明するが、説明の順位の早い図に示された部位と同じ部位が後続の図に示される場合には互いに同じ符号を用いることとし、また後続の図の説明の際には一部の部位に就いては、符号付け並びに部位説明を省略することがある。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置を製造するための従来のカセット洗浄保管装置は、加工処理される基板(以下、被処理基板)を収容した基板収容カセット（以下、実カセット）、実カセットを保管する工程間ストッカー、被処理基板を収容していない空のカセット（以下、空カセット）、空カセットを保管する空カセットストッカー、未洗浄の空カセットを洗浄するためのカセット洗浄装置などから構成されている。図１６は、かかる従来技術におけるカセット洗浄保管装置を含む物品製造工場の概略平面図である。同図において、１は加工処理装置、２は加工処理装置１内のカセット移載部、３は搬送台車、４は被製造物品の製造工程の途中にある実カセットを保管する工程間ストッカー、７は空カセットを洗浄するためのカセット洗浄装置、８は洗浄前後の空カセットを保管する空カセットストッカー、９は搬送台車３の走行ルートである。
【０００３】
実カセットは、異物の付着により汚染され、汚染された実カセットにより被処理基板が二次汚染される問題がある。この二次汚染を防止するために、カセットは定期的に洗浄されて製造ラインへ供給されるか、あるいは加工処理装置１には常に洗浄後の、しかして汚染されていない空カセットが供給される。よって一般的に、多数の加工処理装置１からはカセット洗浄装置７に対する空カセットの洗浄要求および洗浄済み空カセットの供給要求があって、かかる要求の頻度は絶えず変動する。このために空カセットストッカー８は、そのような変動に適時に対応できるように、バッファーとなる空カセットの必要量を常時保管している。
【０００４】
図１６により上記した空カセットの洗浄、供給の様子について説明すると、加工処理工程途中の実カセットは、或る加工処理装置１から他の加工処理装置１に搬送される際には、上記の或る加工処理装置１のカセット移載部２から搬送台車３により工程間ストッカー４の入庫口５へ搬送され、ついで一旦工程間ストッカー４に保管される。この実カセットは、上記の他の加工処理装置１から搬送要求を受けると出庫口６から出庫され、上記他の加工処理装置１へ搬送台車３により搬送される。しかして工程間ストッカー４は、多数の実カセットを保管することにより各加工処理装置１の円滑な稼働を助け、また一部の加工処理装置１の停止時における実カセットの一時保管などの機能もなす。
【０００５】
加工処理装置１において、実カセットから被処理基板が抜き取られ、それが空カセットとなり且つ当該空カセットの洗浄が必要となった際には、当該空カセットは搬送台車３により上記加工処理装置１から一旦空カセットストッカー８に搬送され、カセット洗浄装置７における洗浄受け入れが可能となった時点で搬送台車３により空カセットストッカー８からカセット洗浄装置７に搬送され、洗浄される。洗浄済みの空カセットは、再び空カセットストッカー８に搬送され、保管される。洗浄済みの空カセットは、加工処理装置１からの供給要求があれば、そこから要求先の加工処理装置１に搬送される。
【０００６】
従来のカセット洗浄保管装置は、上記従来技術から明らかな通り、工程間ストッカー４とは別に洗浄前後の空カセットを専門に保管する空カセットストッカー８を設けていた。さらに、洗浄前後の空カセットの適正保管量は、各加工処理装置１の処理能力、生産品種数、およびそれらの生産量などの製造条件により変化するものであるが、空カセットストッカー８の空カセット保管容量は固定であって、このために空カセットストッカー８の建設に際してはその空カセット保管容量は、実稼動時に発生する空カセットの理論必要量に余裕量を加算して決定され、かく決定された保管容量に基づいて空カセットストッカー８の初期設備投資が行われてきた。このために空カセットストッカー８は概して大型であって、その設備投資費用と物品製造工場における当該ストッカーの占有スペースが大きくなる問題があった。
【０００７】
図１６に示す従来技術は、またカセット洗浄装置７と空カセットストッカー８とが互いに離れて配置されているので、洗浄前後の空カセットをカセット洗浄装置７と空カセットストッカー８との間を搬送台車３により搬送する必要があって搬送台車３の搬送負担が大きくなるのみならず、上記の搬送中に空カセット、就中、洗浄済みの空カセットが汚染される可能性が高くなる問題もある。さらに従来技術は、空カセットストッカー８にて洗浄前後の空カセットを混在保管するので、特に高清浄物としての保管管理が要求される洗浄済みの空カセットが未洗浄の空カセットの付着物により汚染され易い問題もある。
【０００８】
図１７は、他の従来技術におけるカセット洗浄保管装置を含む物品製造工場の概略平面図であって、そこではカセット洗浄装置７と空カセットストッカー８とが互いに近接設置されているので、両者が離れている場合の前記問題は解消はするが、空カセットストッカー８を採用しているので、前記の問題は依然として残っている。
【０００９】
図１８は、特許番号第２５９８３６４号、特開平５−１９８５４５号公報などに開示されているカセット洗浄保管装置を含む物品製造工場の概略平面図であって、１０は被処理基板洗浄装置、１１は被処理基板洗浄装置１０に含まれているカセット洗浄部である。図１８の技術では、実カセットは被処理基板洗浄装置１０に搬送されると、そこから被処理基板が取り出されて洗浄され、被処理基板が取り出されて生じた空カセットはカセット洗浄部１１で洗浄される。その後、洗浄済み被処理基板は洗浄済み空カセットに挿入され、かくして生じた実カセットはカセット洗浄部１１から搬出される。ところでこの技術では、被処理基板の洗浄が必要な工程毎にカセット洗浄部１１の設置が必要であるので、設備投資費用が大きくなる問題がある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来技術における如上の諸問題を解消するためになされたものであって、設備投資費用の低減が可能であって、しかも洗浄済み空カセットの再汚染の防止が可能なカセット洗浄保管装置を提供することを課題とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係るカセット洗浄保管装置は、加工処理される基板を収容した基板収容カセット、上記基板収容カセットを保管する工程間ストッカー、上記基板を収容せず且つ未洗浄の空カセット、上記空カセットを洗浄するためのカセット洗浄装置、および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを含むカセット洗浄保管装置であって、上記工程間ストッカーは、上記基板収容カセットに加えて上記未洗浄の空カセットおよび上記洗浄済み空カセットを互いに区別して保管する複数の保管領域を備えると共に上記カセット洗浄装置と清浄環境下で接続または近接して設けられたことを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の請求項２に係るカセット洗浄保管装置は、請求項１において、上記洗浄済み空カセットの保管領域は、上記未洗浄の空カセットの保管領域よりも高清浄度の清浄環境下にあることを特徴とするものである。
【００１３】
本発明の請求項３に係るカセット洗浄保管装置は、請求項１または請求項２において、上記未洗浄の空カセットの保管領域および上記洗浄済み空カセットの保管領域は、空カセット保管容量が可変であることを特徴とするものである。
【００１４】
本発明の請求項４に係るカセット洗浄保管装置は、請求項１〜請求項３いずれか一項において、上記未洗浄の空カセットの保管領域から上記未洗浄の空カセットを上記カセット洗浄装置に搬送する第一搬送装置および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを上記第一搬送装置の搬送環境よりも高清浄度の搬送環境下で上記洗浄済み空カセットの保管領域に搬送する第二搬送装置を備えたことを特徴とするものである。
【００１５】
本発明の請求項５に係るカセット洗浄保管装置は、請求項１において、上記工程間ストッカーは、上記洗浄済み空カセットの保管領域と少なくとも一部の上記基板収容カセットの保管領域を有する第一工程間ストッカー部分と、上記未洗浄の空カセットの保管領域および／または少なくとも一部の上記基板収容カセットの保管領域を有する第二工程間ストッカー部分とから構成されていることを特徴とするものである。
【００１６】
本発明の請求項６に係るカセット洗浄保管装置は、請求項５において、上記カセット洗浄装置は、上記第二工程間ストッカー部分内の上記洗浄済み空カセットの保管領域と隣接して設置されたことを特徴とするものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下においても、加工処理される基板を被処理基板と、被処理基板を収容した基板収容カセットを実カセットと略称する。
【００１８】
実施の形態１．
図１〜図５は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態１を説明するものであって、図１は実施の形態１のカセット洗浄保管装置を備えた物品製造工場の概略的平面図、図２カセットの斜視図、図３は実施の形態１のカセット洗浄保管装置の平面図、図４は実施の形態１のカセット洗浄保管装置の他の平面図、図５は図４の側面図である。
【００１９】
図１〜図５において、４は工程間ストッカー、４ａは前記第一工程間ストッカー部分の一例としての工程間ストッカー部分、４ｂは前記第二工程間ストッカー部分の一例としての工程間ストッカー部分、５ａ、５ｂはいずれも入庫口部分、６ａ、６ｂはいずれ出庫口部分、１８はカセット、１９は被処理基板、２０ａ、２０ｂはいずれもスタッカークレーン、２１ａ、２１ｂはいずれも当該各スタッカークレーンの軌道、２２ａ、２２ｂはいずれもカセット移載部分、２３は保管棚部分２３ａ、２３ｂから構成されたカセット保管棚、２４は未洗浄の空カセットを保管するための保管領域、２５は実カセットを保管するための保管領域、２６は洗浄済み空カセットを保管するための保管領域、２７は実カセットを保管するための高清浄環境の保管領域、２８は実カセット、２９は空カセット、７はカセット洗浄装置、１５、１６および１７はカセット搬送装置である。なおカセット搬送装置１５は前記第一搬送装置の一例であり、カセット搬送装置１６は前記第二搬送装置の一例である。
【００２０】
しかして工程間ストッカー４は、工程間ストッカー部分４ａと工程間ストッカー部分４ｂとから構成されている。さらに工程間ストッカー部分４ａは、保管領域２６、保管領域２７、入庫口部分５ａ、出庫口部分６ａ、スタッカークレーン２０ａ、軌道２１ａ、カセット移載部分２２ａを備え、工程間ストッカー部分４ｂは、保管領域２４、保管領域２５、入庫口部分５ｂ、出庫口部分６ｂ、スタッカークレーン２０ｂ、軌道２１ｂ、カセット移載部分２２ｂを備えている。また工程間ストッカー４は、カセットの搬送制御装置（図示せず）を有し、その内部のカセット保管棚２３が保管領域２４〜２７に割り当てられており、それら各保管領域のカセット保管棚２３中におけるの各位置は、上記搬送制御装置に入力されている。
【００２１】
なお本発明において、少なくとも工程間ストッカー部分４ａ、４ｂおよびカセット洗浄装置７は、後記する通りクリーンルーム内に設置されていて、それら全体が清浄環境下にあるが、図３〜図５および後続の諸図において、斜線を施した個所は清浄環境のなかでも清浄度がさらに高い清浄環境（以下、高清浄環境）であることを示し、また太い実線で囲まれた個所は保管領域２６であることを、実線の白地の小四角形は空カセット２９であることを、また実線の白地の小四角形内に斜め下半分または上下に黒地を加えた小四角形は実カセット２８であることを、それぞれ示す。また実線の白地の小四角形は、空カセット２９を収容したカセット保管棚２３の部分を、一方、点線の白地の小四角形は、空カセットを収容していないカセット保管棚２３の部分を、それぞれ示す。
【００２２】
カセット洗浄装置７は、その左右に工程間ストッカー部分４ａおよび工程間ストッカー部分４ｂが接続されており、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂは、各側面は囲い構造であって、カセット洗浄装置７と共に上記した通りクリーンルーム内に設置されていて、しかもクリーン化空調装置（図示せず）により各内部は周囲のクリーンルーム内より高い清浄度に保持されている。そのクリーン化には、例えば当該ストッカー部分４ａ、４ｂの各天井に設けられたファンフィルター（図示せず）を通してクリーンエアを下向きに噴出し、当該ストッカー部分４ａ、４ｂの下部の床開口から当該エアを外部に排出する方法、あるいは当該ストッカー部分４ａ、４ｂ内にエア循環ファンとフィルターを設置して、当該フィルターを通して当該エア循環ファンによりクリーンエアを循環させる方法などが例示される。カセット洗浄装置７内、工程間ストッカー部分４ａとカセット洗浄装置７との間、工程間ストッカー部分４ｂとカセット洗浄装置７との間などの空間も、上記と同様の方法でクリーン化が可能であり、且つ工程間ストッカー４内と同程度の清浄度に保持されている。
【００２３】
工程間ストッカー部分４ｂ内に設けられた保管棚部分２３ｂのうち、カセット洗浄装置７に近い個所の棚部が未洗浄の空カセットを保管する保管領域２４として、残部の棚部が実カセットを保管するための保管領域２５として、それぞれ割り当てられている。一方、工程間ストッカー部分４ａ内に設けられた保管棚部分２３ａのうち、カセット洗浄装置７に近い個所の棚部が洗浄済みの空カセットを保管する保管領域２６として、残部の棚部が実カセットを保管するための保管領域２７として、それぞれ割り当てられている。工程間ストッカー部分４ｂ内での上記した保管領域は、さほど高度の清浄環境を必要としない保管領域２４と保管領域２５とに区別され、それにより未洗浄の空カセットに付着した異物による汚染から保管領域２５内の実カセットを保護している。但し、空カセットの付着異物による汚染の影響が少ない、あるいは実質的に無害である場合には、かかる保管領域分けの必要はない。
【００２４】
一方、工程間ストッカー部分４ａ内では、実カセットのうちでも保管領域２５内の実カセットと違って高清浄環境を必要とする一部の実カセット、および一般的に高清浄環境を必要とする洗浄済み空カセットとが保管される。よって工程間ストッカー４を、工程間ストッカー部分４ａと工程間ストッカー部分４ｂに区分けして、それぞれ保管対象とするカセット類を区別することにより上記の保管環境の制御管理が容易となる。即ち工程間ストッカー部分４ａ内では、当該ストッカー内のクリーンエアの風速を大きくし、あるいはフィルター性能を高くして、工程間ストッカー部分４ｂ内よりも一層清浄度の高い高清浄環境とすることができる。またカセット洗浄装置７内の一部および工程間ストッカー部分４ａとカセット洗浄装置７との間も上記と同様の方法にて高清浄環境とされている。
【００２５】
カセット搬送装置１５は、保管領域２４に保管されている未洗浄の空カセット２９をカセット洗浄装置７に搬送する機能をなし、カセット搬送装置１６は、カセット洗浄装置７において洗浄された空カセット２９（即ち、洗浄済み空カセット２９）を保管領域２６に搬送する機能をなし、カセット搬送装置１７は、工程間ストッカー部分４ａに保管されているカセット類を工程間ストッカー部分４ｂに搬送する機能をなす。カセット搬送装置１５〜１７としては、コンベア、トラバーサ、移載ロボット、あるいはその他のカセット搬送手段であってよい。
【００２６】
スタッカークレーン２０ａは、カセット移載部分２２ａを有すると共に軌道２１ａに沿って工程間ストッカー部分４ａ内を左右に走行し、上記搬送制御装置からの指示に従って稼動するカセット移載部分２２ａにより工程間ストッカー部分４ａ内に保管されたカセット類を必要個所に搬送する機能をなし、スタッカークレーン２０ｂは、同様にカセット移載部分２２ｂを有すると共に軌道２１ｂに沿って工程間ストッカー部分４ｂ内を左右に走行し、上記搬送制御装置からの指示に従って稼動するカセット移載部分２２ｂにより工程間ストッカー部分４ｂ内に保管されたカセット類を必要個所に搬送する機能をなす。
【００２７】
以下に、実施の形態１のカセット洗浄保管装置の動作について説明する。まず或る加工処理装置１(図１参照)での加工処理が完了した被処理基板を収容した実カセット２８は、上記加工処理装置１のカセット移載部２から搬送台車３により搬送され、上記被処理基板に対する加工処理の内容に基づき必要とされる保管清浄環境に応じて工程間ストッカー部分４ａの入庫口部分５ａまたは工程間ストッカー部分４ｂの入庫口部分５ｂに入庫され、入庫した実カセット２８は、スタッカークレーン２０ａまたはスタッカークレーン２０ｂにより保管領域２７または保管領域２５に移されて保管される。次工程の加工処理装置１での実カセット２８の受け入れが可能となると、実カセット２８は工程間ストッカー部分４ａの出庫口部分６ａまたは工程間ストッカー部分４ｂの出庫口部分６ｂから出庫され、当該次工程の加工処理装置１へ搬送台車３により搬送される。
【００２８】
つぎに、或る加工処理装置１において実カセット２８から被処理基板が抜き取られて残った空カセット２９は、搬送台車３により入庫口部分５ｂに搬送され、ついでスタッカークレーン２０ｂにより保管領域２４に搬送され保管される。一方、上記空カセット２９を排出した上記加工処理装置１に対しては、工程間ストッカー部分４ａの保管領域２６に保管されている洗浄済み空カセット２９がスタッカークレーン２０ａにより出庫口部分６ａに搬送され、搬送台車３により上記加工処理装置１に搬送される。カセット洗浄装置７においてカセット洗浄の受け入れが可能となると、保管領域２４内の空カセット２９は、そこからカセット搬送装置１５によりカセット洗浄装置７に搬送されて洗浄され、洗浄済み空カセットとなってカセット搬送装置１６により保管領域２６に搬送されて保管される。
【００２９】
保管領域２４および保管領域２６の各空カセット保管容量は、変更可能であって、変更の指示は上記搬送制御装置に入力され実行される。図３および図４には図１の場合より各空カセット保管容量が増大された例を示す。上記搬送制御装置は、保管領域２４、２６の各保管容量を保管棚部分２３ａ、２３ｂの各棚番で管理し、それら保管領域の容量変更にしたがって各空カセットの搬送、保管などの制御を行う。その際、空カセットの保管容量の大きは、物品製造工場での製造条件の変更、あるいは製造ラインの運用上の必要に応じて適宜調整され、物品製造上の生産効率が低下しないようにするなどの措置が講じられる。
【００３０】
保管領域２６に保管されている洗浄済み空カセットは、種々の理由にて再洗浄の必要が生じることがあるが、その際には保管領域２６内の空カセットは、カセット搬送装置１７により工程間ストッカー部分４ｂに搬送され、ついでカセット搬送装置１５によりカセット洗浄装置７に移して洗浄される。なお実カセット２８と空カセット２９との区別は、例えばそれらカセットが工程間ストッカー４に入庫した際に、各カセットに取り付けられたＩＤダグの情報を読み取る、被処理基板を形成するガラスの有無をセンサーで検出する、あるいは搬送管理システムからの指示による、などの方法で可能である。
【００３１】
以上の説明から明らかな通り、実施の形態１では、工程間ストッカー４とカセット洗浄装置７とが接続され、且つ当該ストッカー４中に実カセットの保管領域２５、２７に加えて、空カセットの保管領域２４、２６とが設けられることにより、従来技術において工程間ストッカー４とカセット洗浄装置７とが互いに離れた位置に設けられたことに由来して必要であった空カセットストッカー８(図１６など参照)が不要となり、その結果、空カセットストッカー８の建設の費用、敷地、当該ストッカーの維持管理に要するマンパワーなどがすべて不要になるほか、従来技術で必要であった工程間ストッカー４、カセット洗浄装置７、および空カセットストッカー８の間でのカセット類の搬送台車３による搬送の手間も不要となる大きな効果がある。また前記図１８に示す従来技術のように、複数のカセット洗浄部１１を必要とせず、通常、一基のカセット洗浄装置７にて複数の加工処理装置１に対応可能である。
【００３２】
実施の形態１および以下の諸実施の形態を含めて、本発明においては、工程間ストッカー４にて実カセットと空カセットとを保管するのでカセット保管棚の量は従来技術の場合と比較して多くなり、カセット保管棚の設置コストは増大するので一見不利のように思われる。しかし工程間ストッカー４にせよ、前記空カセットストッカー８にせよ、ストッカーの設備としてはカセット保管棚以外に、スタッカークレーンや搬送制御装置などが必要であって、カセット保管棚の設置コストは比較的小さく、スタッカークレーンと搬送制御装置の各設置コストが極めて大きい。よって結果的に、本発明においては空カセットストッカー８が不要となることで総合的には設備費の大幅なコスト削減となる。
【００３３】
さらに本発明では、実カセットと空カセットとの保管容量が可変であるので、初期投資の際にカセット保管棚量の総量を予め少なくなるように計画することも可能であり、また製造条件の変化に合わせて実カセットと空カセットとの保管容量を変化させて、製造上でバッファリング機能の柔軟性の向上が実現する効果もある。
【００３４】
さらに本発明では、工程間ストッカー４とカセット洗浄装置７とが接続され、且つそれらの内部は、清浄環境下あるいは高清浄環境下にあり、しかも工程間ストッカー４内は複数の保管領域に区分けが可能であるので、洗浄済み空カセットおよび実カセットは、汚染の可能性が極めて少ない高清浄環境下に保管し得る効果もある。
【００３５】
実施の形態２.
図６は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態２の平面図である。前記実施の形態１では、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂはスタッカークレーン２０ａ、２０ｂが同一直線方向となるように配置され、その間にカセット洗浄装置７が設置されていたが、実施の形態２では、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂは並列に配置され、カセット洗浄装置７は工程間ストッカー部分４ａ、４ｂの各右端間に設置されている。実施の形態２は、当該スタッカークレーンおよび／または当該工程間ストッカー部分を設置するためのレイアウト上の制約がある場合に有効であって、実施の形態１と同様の効果が得られる。
【００３６】
実施の形態３.
図７は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態３の平面図であって、３０、３１はいずれもカセット搬送装置、３２はカセット保管搬送装置である。カセット洗浄装置７は、前記実施の形態１、２では工程間ストッカー部分４ａ、４ｂの間に設置されたが、実施の形態３では工程間ストッカー部分４ａの右側に接続され、工程間ストッカー部分４ａと工程間ストッカー部分４ｂとはカセット搬送装置３０、３１にて接続されている。またカセット洗浄装置７には、工程間ストッカー部分４ａが接続された側の反対側にカセット保管搬送装置３２が接続されている。カセット保管搬送装置３２は、一部または少数の未洗浄の空カセットを保管搬送するものであって、コンベアあるいは小型のストッカーなどであってよい。
【００３７】
つぎに実施の形態３の前記実施の形態１、２とは異なる動作部分について説明する。カセット洗浄を行う場合は、加工処理装置１(図１参照)から空カセット２９が搬送台車３によりカセット保管搬送装置３２に搬送される。なおカセット保管搬送装置３２内が満杯の場合、空カセット２９は、搬送台車３により入庫口部分５ｂを経由して工程間ストッカー部分４ｂに入庫され、ついでスタッカークレーン２０ｂにより保管領域２４に保管される。カセット保管搬送装置３２において空カセット２９の受け入れが可能になると、搬送台車３により保管領域２４から出庫口部分６ｂを経由してカセット保管搬送装置３２に搬送される。カセット保管搬送装置３２内の空カセット２９は、カセット洗浄装置７において洗浄後、カセット搬送装置１６により搬送されて工程間ストッカー部分４ａの保管領域２６に保管される。加工処理装置１への洗浄済み空カセットの供給が必要となった場合には、保管領域２６内の洗浄済み空カセットは、スタッカークレーン２０ａにより出庫口部分６ａまで搬送され、ついで搬送台車３により出庫口部分６ａから加工処理装置１に搬送される。また保管領域２６内の洗浄済み空カセットの再洗浄が必要となった場合には、当該空カセットはスタッカークレーン２０ａにより出庫口部分６ａまで搬送され、そこから搬送台車３によりカセット保管搬送装置３２に搬送される。
【００３８】
保管領域２４および保管領域２６の各空カセット保管容量は、工程間ストッカー４に設けられた前記搬送制御装置により変更可能であって、当該制御装置は、保管領域２４、２６の各保管容量をカセット保管棚の各棚番で管理し、それら保管領域の容量変更にしたがって各空カセットの搬送、保管などの制御を行う。その際、物品製造工場での製造条件の変更、あるいは製造ラインの運用上の必要に応じて空カセットの保管容量の大きさを適宜調整して、物品製造上の生産効率が低下しないようにするなどの措置を講じる。実施の形態３は、以上の構成により前記実施の形態１などと同様の効果が得られる。
【００３９】
実施の形態４.
図８および図９は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態４を説明するものであって、図８は実施の形態４の平面図、図９は図８のＸ−Ｘ線あるいはＹ−Ｙ線に沿った断面図である。図８および図９において、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂから構成された工程間ストッカー４の全体は、床開口３５、天井３８、および床３９を有するクリーンルーム内に設置されており、また天井３８の裏にはファンフィルターユニット３３ａ、３３ｂが設けられている。なお３４はストッカー囲い、３６は高清浄環境、３７は清浄環境である。前記実施の形態１〜３では、未洗浄カセットと洗浄済みカセットとは、互いに別の工程間ストッカー部分４ａ、４ｂに保管されたが、以下に説明する通り、実施の形態４ではそれらは同じ工程間ストッカー部分４ａ内に保管される。工程間ストッカー部分４ａ、４ｂは、前記実施の形態１などと同様に図９に示すように、左右の二列（図８の平面図上では上下の二列）のカセット保管棚２３を含み、工程間ストッカー部分４ａ内の保管棚部分２３ａは、図８に示すように、保管領域２４、保管領域２５の一部、保管領域２６、および保管領域２７の４領域に区分けされ、一方、工程間ストッカー部分４ｂ内の保管棚部分２３ｂの全部は保管領域２５とされている。
【００４０】
工程間ストッカー部分４ａ、４ｂは、互いにカセット搬送装置３０、３１にて接続されており、またカセット洗浄装置７は工程間ストッカー部分４ａの右側に、且つ矢印で示すように、保管領域２４内の未洗浄の空カセットがカセット洗浄装置７で洗浄されて保管領域２６に保管されるように、保管領域２４と保管領域２６との間に設置されている。またさらに工程間ストッカー４のうち、カセット保管棚２３の図８上での上側（図９上では右側）、即ち保管領域２６および保管領域２７とされた個所、換言すると洗浄済みの空カセットと一部の実カセットが保管された個所が高清浄環境３６とされており、工程間ストッカー４のうちの残部は清浄環境３７とされている。かく高清浄環境３６内で保管領域２６と保管領域２７とを区分けすることにより、最も二次汚染の防止管理が必要な洗浄済みの空カセットに対する実カセットからの異物汚染を少なくすることができる。即ち保管領域２６は、最も清浄度の高い保管領域として管理することができる。一方、他のカセット保管棚２３においても保管領域２４と保管領域２５とに区分けされることにより、加工処理工程中の実カセットに対する未洗浄の空カセットからの異物汚染を少なくすることができる。
【００４１】
工程間ストッカー部分４ａ上の天井３８の裏には、二列のファンフィルターユニット３３ａが備え付けられており(図９では、そのうちの一列のみを示す。)、上記二列のうちの一列は保管領域２６と保管領域２７の上に設けられ、残る一列は保管領域２４と保管領域２５の上に設けられている。一方、工程間ストッカー部分４ｂ上の天井３８の裏にも二列のファンフィルターユニット３３ｂが備え付けられており(図９では、そのうちの一列のみを示す。)、上記二列のうちの一列は図８の平面図上での上側の保管領域２５上に設けられ、残る一列は同平面図上での下側の保管領域２５上に設けられている。図９では、保管領域２６と保管領域２７上に設けられたファンフィルターユニット３３ａと上記下側の保管領域２５上に設けられたファンフィルター３３ｂのみが代表的に示されている。
【００４２】
ファンフィルターユニット３３ａ、３３ｂから供給されたクリーンエアーは、図９の矢印の通り、カセット保管棚２３とストッカー囲い３４との間からカセット保管棚２３内を通過して床開口３５から排出される。この際、保管領域２６と保管領域２７の上に設けられたファンフィルターユニット３３ａのフィルター性能や風速を他のファンフィルターユニット３３ａおよびファンフィルターユニット３３ｂのそれらより高くすることにより保管領域２６と保管領域２７とを高清浄環境３６とすることができる。保管領域２４〜保管領域２７の各保管容量は、搬送制御装置にて製造ラインの運用に合わせてスタッカークレーン２０ａ、２０ｂの走行方向に変更可能である。
【００４３】
つぎに実施の形態４の前記実施の形態とは異なる動作部分について説明する。加工処理装置１(図１参照)からの空カセットは、搬送台車３により入庫口部分５ａに入庫され、ついでスタッカークレーン２０ａにより保管領域２４に搬送され保管される。カセット洗浄装置７が空カセットの受け入れが可能であると、スタッカークレーン２０ａにより保管領域２４の空カセットがカセット洗浄装置７に搬送され、洗浄される。洗浄済みの空カセットは、スタッカークレーン２０ａにより保管領域２６に搬送され、保管される。加工処理装置１への洗浄済みの空カセットの供給が必要な場合には、保管領域２６内の洗浄済みの空カセットがスタッカークレーン２０ａにより出庫口部分６ａにまで搬送され、そこから搬送台車３により加工処理装置１に搬送される。また保管領域２６内の洗浄済み空カセットの再洗浄が必要となった場合には、当該空カセットはスタッカークレーン２０ａによりカセット洗浄装置７に搬送され、洗浄される。洗浄済みの空カセットは、スタッカークレーン２０ａにより保管領域２６に搬送され、保管される。工程間ストッカー部分４ａ、４ｂ間においてカセット類の搬送が必要な場合には、スタッカークレーン２０ａ、２０ｂおよびカセット搬送装置３０、３１が稼動される。
【００４４】
実施の形態４は、以上の構成により前記実施の形態１などと同様の効果が得られる。また実施の形態４では、カセットの洗浄装置７の操作時に操作員が搬送台車３の走行に干渉されないので、上記操作時の安全性が高い長所がある。さらに工程間ストッカー部分４ａ内に未洗、洗浄の両カセットの保管が可能であるので、工程間ストッカー部分４ｂが停止していても、工程間ストッカー部分４ａとカセット洗浄装置７とで空カセットの洗浄、保管、並びに製造ラインへの供給などが可能となる。
【００４５】
実施の形態５.
図１０は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態５の平面図であって、工程間ストッカー部分４ｂ内の図１０上での上側の保管領域２５も高清浄環境とされた点において前記実施の形態４と異なり、その他の構成は同じである。かく構成することにより、前記実施の形態４の効果に加えて、２基の工程間ストッカー部分４ａ、４ｂにわたって保管領域２４〜２７の各保管容量の変更が可能となる。
【００４６】
実施の形態６.
図１１〜図１３は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態６を説明するものであって、図１１は実施の形態６の平面図、図１２は図１１の側面図、図１３は図１２のＸ−Ｘ線あるいはＹ−Ｙ線に沿った断面図である。図１１〜図１２において４１は垂直搬送装置であり、図１３において４０はクリーンルームの天井３８の裏に設けられたプレフィルター、４３、４４はいずれもファンフィルターユニットである。前記実施の形態４では、工程間ストッカー部分４ａ内の左右の保管棚部分２３ａの一方側のみが高清浄環境３６とされたが、実施の形態６では工程間ストッカー部分４ａ内の左右の保管棚部分２３ａの両上段部が高清浄環境３６とされ、残る両下段部が清浄環境３７とされた点において主として前記実施の形態４と異なる。また、当該上段部中のカセット洗浄装置７に近い側は保管領域２６とされ、残部は保管領域２７とされ、当該下段部中のカセット洗浄装置７に近い側は保管領域２４とし、残部は保管領域２５とされている。工程間ストッカー部分４ｂ内の全段部には、工程間ストッカー部分４ａ内の下段部に設けられたファンフィルターユニット４４と同じものが備えられて清浄環境３７で且つ保管領域２５とされている。実施の形態６では、保管領域２４内の未洗浄空カセットは、カセット搬送装置１５によりカセット洗浄装置７へ搬送され、そこで洗浄され、洗浄済み空カセットは垂直搬送装置４１により保管領域２６に搬送され、そこで保管される。
【００４７】
ファンフィルターユニット４３、４４を稼動することにより、クリーンエアーはクリーンルーム天井３８の裏に設けられたプレフィルター４０を通過してろ過されて工程間ストッカー部分４ａ、４ｂに供給される。かく供給されたクリーンエアーは、ファンフィルターユニット４３またはファンフィルターユニット４４およびカセット保管棚２３内を通過して床開口３５から排出される。この際、保管領域２６と保管領域２７に設けられたファンフィルターユニット４３のフィルター性能や風速をファンフィルターユニット４４のそれらより高くすることにより保管領域２６と保管領域２７とを高清浄環境３６とし、それら以外の保管領域の清浄環境３７と区別することができる。保管領域２４〜保管領域２７の各保管容量は、前記搬送制御装置にて製造ラインの運用に合わせてスタッカークレーン２０ａ、２０ｂの走行方向に変更可能である。
【００４８】
実施の形態６は、以上の構成により前記実施の形態１などと同様の効果が得られる。また実施の形態６では、カセット洗浄装置７の操作時に操作員が搬送台車３の走行に干渉されないので、上記操作時の安全性が高い長所がある。さらに工程間ストッカー部分４ａ内で未洗浄、洗浄の両カセットの保管が可能であるので、工程間ストッカー部分４ｂが停止していても、工程間ストッカー部分４ａとカセット洗浄装置７とで空カセットの洗浄、保管、並びに製造ラインへの供給などが可能となる。
【００４９】
実施の形態７.
図１４〜図１５は、本発明のカセット洗浄保管装置における実施の形態７を説明するものであり、図１４は実施の形態７の平面図、図１５は図１４の側面図であって、工程間ストッカー部分４ａ、４ｂの両上段部を高清浄環境とし、両下段部を清浄環境として、図示する通りに保管領域２４〜保管領域２７を割り付けた点において前記実施の形態６と異なり、その他の構成は同じである。かく構成することにより、前記実施の形態６の効果に加えて、２基の工程間ストッカー部分４ａ、４ｂにわたって保管領域２４〜２７の各保管容量の変更が可能となる効果がある。
【００５０】
本発明は、前記実施の形態１〜７に限定されるものではなく、本発明の課題並びに解決手段の精神に沿った種々の変形形態を包含する。
【００５１】
【発明の効果】
本発明のカセット洗浄保管装置は、以上説明したように、加工処理される基板を収容した基板収容カセット、上記基板収容カセットを保管する工程間ストッカー、上記基板を収容せず且つ未洗浄の空カセット、上記空カセットを洗浄するためのカセット洗浄装置、および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを含むカセット洗浄保管装置であって、上記工程間ストッカーは、上記基板収容カセットに加えて上記未洗浄の空カセットおよび上記洗浄済み空カセットを互いに区別して保管する複数の保管領域を備えると共に上記カセット洗浄装置と清浄環境下で接続または近接して設けられたものであるので、従来技術において必要であった空カセットストッカーが不要となり、その結果、空カセットストッカーの建設の費用、敷地、当該ストッカーの維持管理に要するマンパワーなどがすべて不要になるほか、工程間ストッカー、カセット洗浄装置、および空カセットストッカーの間でカセット類を搬送台車にて搬送する手間も不要となる大きな効果がある。さらに前記図１８に示す従来技術のように、複数のカセット洗浄部を必要とせず、通常、一基のカセット洗浄装置にて複数の加工処理装置に対応可能である。
【００５２】
また上記工程間ストッカーは、上記基板収容カセット（実カセット）、上記未洗浄の空カセット、および上記洗浄済み空カセットを互いに区別して保管する複数の保管領域を備え、また上記洗浄済み空カセットの保管領域は、上記未洗浄の空カセットの保管領域よりも高清浄度の清浄環境下にあるので、洗浄済み空カセットおよび実カセットは、汚染の可能性が極めて少ない高清浄環境下に保管可能である。
【００５３】
また、上記未洗浄の空カセットの保管領域および上記洗浄済み空カセットの保管領域は、空カセット保管容量が可変であり、また上記未洗浄の空カセットの保管領域から上記未洗浄の空カセットを上記カセット洗浄装置に搬送する第一搬送装置および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを上記第一搬送装置の搬送環境よりも高清浄度の搬送環境下で上記洗浄済み空カセットの保管領域に搬送する第二搬送装置を備えていると、初期投資の際にカセット保管棚量の総量を予め少なくなるように計画することも可能であり、また製造条件の変化に合わせて実カセットと空カセットとの保管容量を変化させることにより製造上でバッファリング機能の柔軟性が向上する。
【００５４】
また、上記未洗浄の空カセットの保管領域から上記未洗浄の空カセットを上記カセット洗浄装置に搬送する第一搬送装置および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを上記第一搬送装置の搬送環境よりも高清浄度の搬送環境下で上記洗浄済み空カセットの保管領域に搬送する第二搬送装置を備えていると、高清浄環境下に置く必要のない未洗浄の空カセットと高清浄環境下に置く必要のある洗浄済み空カセットとの各搬送環境を区別することができる。
【００５５】
また、上記工程間ストッカーは、上記洗浄済み空カセットの保管領域と少なくとも一部の上記基板収容カセット（実カセット）の保管領域を有する第一工程間ストッカー部分と、上記未洗浄の空カセットの保管領域および／または少なくとも一部の上記基板収容カセットの保管領域を有する第二工程間ストッカー部分とから構成されていると、実カセットのうちで特に汚染を回避する必要のあるものを他の実カセットと区別して、洗浄済み空カセットと共に但し保管領域を区別して、高清浄環境下に保管することができる。その際、カセット洗浄装置は、上記第二工程間ストッカー部分内の上記洗浄済み空カセットの保管領域と隣接して設置されると、洗浄済み空カセットの第二搬送装置による搬送距離が短いので再汚染の可能性が小さくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施の形態１のカセット洗浄保管装置を備えた物品製造工場の概略的平面図。
【図２】 カセットの斜視図。
【図３】 実施の形態１のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図４】 実施の形態１のカセット洗浄保管装置の他の平面図。
【図５】 図４の側面図。
【図６】 実施の形態２のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図７】 実施の形態３のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図８】 実施の形態４のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図９】 図８のＸ−Ｘ線あるいはＹ−Ｙ線に沿った断面図。
【図１０】 実施の形態５のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図１１】 実施の形態６のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図１２】 図１１の側面図。
【図１３】 図１２のＸ−Ｘ線あるいはＹ−Ｙ線に沿った断面図。
【図１４】 実施の形態７のカセット洗浄保管装置の平面図。
【図１５】 図１４の側面図。
【図１６】 従来のカセット洗浄装置などを備えた物品製造工場の概略的平面図。
【図１７】 従来のカセット洗浄装置などを備えた他の物品製造工場の概略的平面図。
【図１８】 従来のカセット洗浄装置などを備えたさらに他の物品製造工場の概略的平面図。
【符号の説明】
１ 加工処理装置、３ 搬送台車、４ 工程間ストッカー、
４ａ、４ｂ 工程間ストッカー部分、７ カセット洗浄装置、
１５〜１７ カセット搬送装置、２０ａ、２０ｂ スタッカークレーン、
２３ カセット保管棚、２４ 未洗浄の空カセットの保管領域、
２５ 実カセットの保管領域、２６ 洗浄済み空カセットの保管領域、
２７ 実カセットの保管領域、２８ 実カセット、２９ 空カセット、
３０〜３１ カセット搬送装置、３２ カセット保管搬送装置、
３３ａ、３３ｂ ファンフィルターユニット、３６ 高清浄環境、
３７ 清浄環境、４０ プレフィルター、４１ 垂直搬送装置、
４３、４４ ファンフィルターユニット。
Claims (6)
- 加工処理される基板を収容した基板収容カセット、上記基板収容カセットを保管する工程間ストッカー、上記基板を収容せず且つ未洗浄の空カセット、上記空カセットを洗浄するためのカセット洗浄装置、および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを含むカセット洗浄保管装置であって、上記工程間ストッカーは、上記基板収容カセットに加えて上記未洗浄の空カセットおよび上記洗浄済み空カセットを互いに区別して保管する複数の保管領域を備えると共に上記カセット洗浄装置と清浄環境下で接続または近接して設けられたことを特徴とするカセット洗浄保管装置。
- 上記洗浄済み空カセットの保管領域は、上記未洗浄の空カセットの保管領域よりも高清浄度の清浄環境下にあることを特徴とする請求項１記載のカセット洗浄保管装置。
- 上記未洗浄の空カセットの保管領域および上記洗浄済み空カセットの保管領域は、空カセット保管容量が可変であることを特徴とする請求項１または請求項２記載のカセット洗浄保管装置。
- 上記未洗浄の空カセットの保管領域から上記未洗浄の空カセットを上記カセット洗浄装置に搬送する第一搬送装置および上記カセット洗浄装置により洗浄された洗浄済み空カセットを上記第一搬送装置の搬送環境よりも高清浄度の搬送環境下で上記洗浄済み空カセットの保管領域に搬送する第二搬送装置を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項記載のカセット洗浄保管装置。
- 上記工程間ストッカーは、上記洗浄済み空カセットの保管領域と少なくとも一部の上記基板収容カセットの保管領域を有する第一工程間ストッカー部分と、上記未洗浄の空カセットの保管領域および／または少なくとも一部の上記基板収容カセットの保管領域を有する第二工程間ストッカー部分とから構成されていることを特徴とする請求項１記載のカセット洗浄保管装置。
- 上記カセット洗浄装置は、上記第二工程間ストッカー部分内の上記洗浄済み空カセットの保管領域と隣接して設置されたことを特徴とする請求項５記載のカセット洗浄保管装置。
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