TWI741028B - 物品搬送設備 - Google Patents

物品搬送設備 Download PDF

Info

Publication number
TWI741028B
TWI741028B TW106131409A TW106131409A TWI741028B TW I741028 B TWI741028 B TW I741028B TW 106131409 A TW106131409 A TW 106131409A TW 106131409 A TW106131409 A TW 106131409A TW I741028 B TWI741028 B TW I741028B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
port
container
washing
cleaning
aforementioned
Prior art date
Application number
TW106131409A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201814815A (zh
Inventor
田中誠
嶋村淳一
Original Assignee
日商大福股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商大福股份有限公司 filed Critical 日商大福股份有限公司
Publication of TW201814815A publication Critical patent/TW201814815A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI741028B publication Critical patent/TWI741028B/zh

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
    • B65G1/02—Storage devices
    • B65G1/04—Storage devices mechanical
    • B65G1/0407—Storage devices mechanical using stacker cranes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
    • B65G1/02—Storage devices
    • B65G1/04—Storage devices mechanical
    • B65G1/0478—Storage devices mechanical for matrix-arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67727—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations using a general scheme of a conveying path within a factory

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

本發明具備：搬入用埠，供容器搬入；第1洗淨用埠，支撐收容有藉由第1洗淨機洗淨前的物品之容器；第2洗淨用埠，支撐已藉由第1洗淨機洗淨後的物品；第1搬送裝置，搬送物品；及第2搬送裝置，搬送容器；第2搬送裝置是進行：容器之從搬入用埠往第1洗淨用埠的搬送、及物品被取出後的容器之從第1洗淨用埠往第2搬送目的地的搬送，第1搬送裝置是進行物品之從第2洗淨用埠往第1搬送目的地的搬送。

Description

物品搬送設備
發明領域 本發明是有關於一種物品搬送設備，其具備有搬送物品的第1搬送裝置、以及搬送容器的第2搬送裝置。
發明背景 所述物品搬送設備之一例已記載在日本專利特開2000-091401號公報(專利文獻1)中。在專利文獻1的物品搬送設備中，具備有：1個搬送裝置(移載機器人76)、供收容有物品(倍縮光罩)的容器(片匣)搬入的搬入用埠(出入庫口81)、物品用的保管部(架體72A)、及容器用的保管部(片匣架72B)。搬送裝置具備有片匣用手部77及倍縮光罩用手部78，且可將1個搬送裝置兼用為：搬送物品的搬送裝置即第1搬送裝置、及搬送容器的搬送裝置即第2搬送裝置。並且，搬送裝置是使用片匣用手部77，將已搬入至搬入用埠的容器搬送到容器用的保管部。又，搬送裝置是使用倍縮光罩用手部78，並從容器用的保管部所保管的保管中之容器內取出物品來搬送至物品用的保管部，並且將物品用的保管部之物品收容至保管中的容器內。
可考慮的是利用像這樣的物品搬送設備，來洗淨物品及容器的作法。亦即，取代物品用的保管部而設置物品洗淨用埠，並取代容器用的保管部而設置容器洗淨用埠。物品洗淨用埠是設置在對應於洗淨物品的第1洗淨機的位置之埠，容器洗淨用埠是設置在對應於洗淨容器的第2洗淨機的位置之埠。 亦即，可考慮下述情形：使用搬送裝置的片匣用手部，從搬入用埠將洗淨前的容器搬送至容器洗淨用埠，並使用搬送裝置的倍縮光罩用手部，從位於容器洗淨用埠的容器內取出洗淨前的物品，且將此洗淨前的物品搬送至物品洗淨用埠，並且從物品洗淨用埠將已藉由第1洗淨機洗淨的洗淨後之物品收容至位於容器洗淨用埠的容器內。
發明概要 課題、用以解決課題之手段 但是，如上述，當藉由搬送裝置搬送容器及物品時，會藉由倍縮光罩用手部來搬送洗淨前的物品及洗淨後的物品之雙方。因此，會考慮到下述情形：在藉由倍縮光罩用手部來搬送洗淨前的物品時，會使附著於洗淨前的物品之塵埃等污染物質附著到倍縮光罩用手部，而在藉由倍縮光罩用手部來搬送洗淨後的物品時，已附著於倍縮光罩用手部的污染物質會附著到洗淨後的物品上，因而造成洗淨後的物品受到污染。
於是，所期望的是可以避免洗淨後的物品被污染的情形之物品搬送設備的實現。
有鑒於上述內容之物品搬送設備的特徵構成在於下述之點：其具備：搬入用埠，供收容有物品的前述容器搬入；第1洗淨用埠，設置在對應於洗淨前述物品的第1洗淨機的位置，且支撐前述容器，該容器收容有藉由前述第1洗淨機洗淨前的前述物品；第2洗淨用埠，設置在對應於前述第1洗淨機的位置，且支撐前述物品，該物品是從前述容器取出並藉由前述第1洗淨機洗淨後的物品；第1搬送裝置，搬送前述物品；及第2搬送裝置，搬送前述容器， 前述第2洗淨用埠是和前述第1洗淨用埠分開另行設置，前述第2搬送裝置是進行：前述容器之從前述搬入用埠往前述第1洗淨用埠的搬送、及前述物品被取出後之前述容器之從前述第1洗淨用埠往第2搬送目的地的搬送，前述第1搬送裝置是進行前述物品之從前述第2洗淨用埠往第1搬送目的地的搬送。
藉由像這樣的構成，可將已搬入至搬入用埠的容器，藉由第2搬送裝置而從搬入用埠搬送到第1洗淨用埠。此時，於藉由第2搬送裝置搬送的容器中收容有第1洗淨機洗淨前的物品。並且，針對物品，是從位於第1洗淨用埠的容器中取出並藉由第1洗淨機洗淨後，載置到第2洗淨用埠。並且，可將此洗淨後的物品藉由第1搬送裝置而從第2洗淨用埠搬送到第1搬送目的地。又，可將已取出物品而變空的容器藉由第2搬送裝置而從第1洗淨用埠搬送到第2搬送目的地。
藉由第1洗淨機洗淨前的物品，是以收容於容器的狀態被搬入至搬入用埠，並以收容於容器的狀態而藉由第2搬送裝置來從搬入用埠搬送到第1洗淨用埠。並且，藉由第1洗淨機洗淨後的物品，是藉由第1搬送裝置而從第2洗淨用埠被搬送到搬送目的地。像這樣，由於第1搬送裝置並不搬送藉由第1洗淨機洗淨前的物品，而僅進行洗淨後的物品之搬送，因此可以避免下述情形：以已因搬送洗淨前的物品而弄髒的第2搬送裝置來搬送洗淨後的物品，因而造成洗淨後的物品被污染的情形。
用以實施發明之形態 以下，根據圖式來說明本發明之物品搬送設備的實施形態。 如圖1所示，在物品搬送設備中，具備有：保管板狀體1及容器2的保管架4、搬送板狀體1的第1堆高式起重機5、搬送容器2的第2堆高式起重機6、容器搬入用的搬入用埠7、及容器搬出用的搬出用埠8。又，在物品搬送設備中具備有壁體W，且保管架4、第1堆高式起重機5、及第2堆高式起重機6是設置在被壁體W所包圍的內部。
在壁體W的外部，以相鄰於該壁體W的狀態設置有第1洗淨機CL1及第2洗淨機CL2。第1洗淨機CL1是用於洗淨板狀體1的洗淨機，第2洗淨機CL2是用於洗淨已將板狀體1取出後的容器2的洗淨機。並且，在物品搬送設備中，具備有對第1洗淨機CL1設置的第1洗淨用埠11及第2洗淨用埠12、與對第2洗淨機CL2設置的第3洗淨用埠13及第4洗淨用埠14。第1洗淨用埠11是和第2洗淨用埠12分開另行設置，且第4洗淨用埠14是和第3洗淨用埠13分開另行設置。
在本實施形態中，板狀體1為光罩(Photomask)，且在平面視角下的形狀是形成為矩形。再者，板狀體1相當於物品。容器2是可收容規定片數的板狀體1之容器。可作為容器2而使用的有下述任一種容器：具備有蓋子，且必須進行蓋子的開閉之已密閉的密閉式的容器、及不具備有蓋子而不需要進行蓋子的開閉之開放式的容器。但是，在使用密閉式的容器之情況下，在必須進行蓋子的開閉的位置(例如，後述之搬出用埠8等)上，必須具備有將容器2的蓋子打開關閉之開閉裝置。
以下，針對物品搬送設備的各構成進行說明，將從上下方向Z來看第1洗淨機CL1與第2洗淨機CL2排列的方向設為排列方向Y，且將對此排列方向Y正交的方向設為前後方向X來說明。又，在前後方向X上，將第1堆高式起重機5及第2堆高式起重機6相對於保管架4而存在的方向設為前方X1，並將其相反方向設為後方X2來說明。又，在排列方向Y上，將第1洗淨機CL1相對於第2洗淨機CL2而存在的方向設為第1方向Y1，並將其相反方向設為第2方向Y2來說明。
如圖2所示，在物品搬送設備的天花板部上，設置有第1風扇過濾單元16。此第1風扇過濾單元16是設置在比保管架4、第1堆高式起重機5、及第2堆高式起重機6更上方，且吸引上方的空氣並朝下方吐出空氣。藉此，在壁體W的內部中，會形成有清淨空氣從天花板側朝向地板側而向下流動的下降流(downflow)。 又，在壁體W中設置有第2風扇過濾單元17。第2風扇過濾單元17是設置成相對於保管架4而位於後方X2側。並且，第2風扇過濾單元17會吸引後方X2的空氣並朝前方X1吐出。藉此，在保管架4內形成有清淨空氣從後方X2朝前方X1流動的清淨空氣之氣流。 設置物品搬送設備的地板部F是由下部地板F1、及配設在比下部地板F1更上側的上部地板F2所構成，並在下部地板F1與上部地板F2之間形成有地板下空間，在上部地板F2與天花板之間形成有作業空間。上部地板F2是格柵(grating)地板，並形成有複數個朝上下方向Z貫穿的通氣孔。下部地板F1是沒有通氣孔的地板，在本實施形態中是由無孔狀的混凝土所構成。
[搬送出入用輸送機] 如圖1所示，在物品搬送設備中，搬入用輸送機19與搬出用輸送機20的每一個是以貫穿壁體W的狀態來設置。搬入用輸送機19及搬出用輸送機20會搬送收容有板狀體1的容器2。 搬入用輸送機19是從位於壁體W的外部之第1搬入位置，將容器2搬送至位於壁體W的內部之第2搬入位置。藉由搬入用輸送機19中位於比壁體W更內側之搬入用輸送機19的前方X1之端部，而構成有搬入用埠7。換句話說，搬入用埠7是用於支撐位於第2搬入位置的容器2之埠。並且，可藉由以搬入用輸送機19將容器2從第1搬入位置搬送到第2搬入位置，來將容器2搬入至搬入用埠7。像這樣，搬入用埠7是供收容有板狀體1的容器2搬入之埠。 搬出用輸送機20是從位於壁體W的內部之第1搬出位置，將容器2搬送至位於壁體W的外部之第2搬出位置。藉由搬出用輸送機20中位於比壁體W更內側之搬出用輸送機20的前方X1之端部，而構成有搬出用埠8。換句話說，搬出用埠8是用於支撐位於第1搬出位置的容器2之埠。並且，可藉由以搬出用輸送機20將容器2從第1搬出位置搬送到第2搬出位置，來將容器2從搬出用埠8搬出。像這樣，搬出用埠8是用來供收容有板狀體1的容器2搬出之埠。
[洗淨用輸送機] 又，如圖1所示，在物品搬送設備中，是將第1洗淨用輸送機21、第2洗淨用輸送機22、第3洗淨用輸送機23、及第4洗淨用輸送機24的每一個以貫穿於壁體W的狀態來設置。第1洗淨用輸送機21及第2洗淨用輸送機22是相對於第1洗淨機CL1而設置，第3洗淨用輸送機23及第4洗淨用輸送機24是相對於第2洗淨機CL2而設置。
第1洗淨用輸送機21是從位於壁體W的內部之第1位置P1朝緊貼於第1洗淨機CL1的位置搬送容器2，並且從緊貼於第1洗淨機CL1的位置朝第1位置P1搬送容器2。在第1洗淨機CL1中裝備有從容器2取出板狀體1的機器人(圖未示)。因此，藉由第1洗淨用輸送機21而從第1位置P1搬送到緊貼於第1洗淨機CL1的位置之容器2中雖然收容有板狀體1，但由於會藉由機器人從此緊貼的位置的容器2中取出板狀體1，因此藉由第1洗淨用輸送機21從緊貼於第1洗淨機CL1的位置搬送到第1位置P1的容器2中不會收容有板狀體1。像這樣，第1洗淨用輸送機21是搬送收容有板狀體1的容器2以及未收容有板狀體1的容器2之雙方。再者，藉由第1洗淨用輸送機21搬送的容器2及收容於此的板狀體1，為藉由洗淨機洗淨前的容器2(洗淨前的容器2)及板狀體1(洗淨前的板狀體1)。藉由第1洗淨用輸送機21中的位於比壁體W更內側之第1洗淨用輸送機21的前方X1之端部，而構成有第1洗淨用埠11。換句話說，第1洗淨用埠11是用於支撐位於第1位置P1的容器2之埠。再者，此第1洗淨用埠11是設置在對應於洗淨板狀體1的第1洗淨機CL1的位置，且相當於支撐容器2之埠，其中該容器2收容有藉由第1洗淨機CL1洗淨前的板狀體1。
第2洗淨用輸送機22是從第1洗淨機CL1內將板狀體1搬送到位於壁體W的內部之第2位置P2。第1洗淨機CL1是洗淨藉由機器人取出的板狀體1，並將該洗淨後的板狀體1(洗淨後之板狀體1)載置至第2洗淨用輸送機22。因此，藉由第2洗淨用輸送機22而從第1洗淨機CL1內搬送到第2位置P2的板狀體1，是洗淨後的板狀體1。藉由第2洗淨用輸送機22中的位於比壁體W更內側之第2洗淨用輸送機22的前方X1之端部，而構成有第2洗淨用埠12。換句話說，第2洗淨用埠12是用於支撐位於第2位置P2的板狀體1之埠。再者，此第2洗淨用埠12是設置在對應於第1洗淨機CL1的位置，且相當於支撐從容器2中取出並藉由第1洗淨機CL1洗淨後的板狀體1之埠。
第3洗淨用輸送機23是從位於壁體W的內部之第3位置P3將容器2搬送到第2洗淨機CL2內。藉由第3洗淨用輸送機23所搬送的容器2，是藉由第2洗淨機CL2洗淨前的容器2(洗淨前之容器2)。藉由第3洗淨用輸送機23中的位於比壁體W更內側之第3洗淨用輸送機23的前方X1之端部，而構成有第3洗淨用埠13。換句話說，第3洗淨用埠13是用於支撐位於第3位置P3的容器2之埠。再者，此第3洗淨用埠13是設置在對應於第2洗淨機CL2的位置，且相當於支撐藉由第2洗淨機CL2洗淨前的容器2之埠。
第4洗淨用輸送機24是從第2洗淨機CL2內將容器2搬送到位於壁體W的內部之第4位置P4。藉由第4洗淨用輸送機24所搬送的容器2，是已藉由第2洗淨機CL2洗淨後的容器2(洗淨後之容器2)。藉由第4洗淨用輸送機24中的位於比壁體W更內側之第4洗淨用輸送機24的前方X1之端部，而構成有第4洗淨用埠14。換句話說，第4洗淨用埠14是用於支撐位於第4位置P4的容器2之埠。此第4洗淨用埠14是設置在對應於第2洗淨機CL2的位置，且相當於支撐已藉由第2洗淨機CL2洗淨後的容器2之埠。
[保管架] 保管架4具備有複數個保管部26。保管架4是以在上下方向Z及排列方向Y上排列複數個的狀態而配備有保管部26。在保管架4中，作為保管部26，具備有用於保管板狀體1的第1保管部27、以及用於保管容器2的第2保管部28。保管架4具備有第1保管部27及第2保管部28，且第1保管部27是在排列方向Y上相對於第2保管部28而位於第1方向Y1上。 又，在保管架4中更具備有搬入用埠7(搬入用輸送機19)、搬出用埠8(搬出用輸送機20)、第1洗淨用埠11(第1洗淨用輸送機21)、第2洗淨用埠12(第2洗淨用輸送機22)、第3洗淨用埠13(第3洗淨用輸送機23)、第4洗淨用埠14(第4洗淨用輸送機24)、及後述之檢查部29。
在本實施形態中，保管架4是以排列於前後方向X的狀態而設置有一對，且在前後方向X上，於一對保管架4之間設置有第1堆高式起重機5及第2堆高式起重機6。在一對保管架4當中的一個保管架4中，設置有搬入用埠7、搬出用埠8、及檢查部29，且在一對保管架4當中的另一個保管架4中，具備有第1洗淨用埠11、第2洗淨用埠12、第3洗淨用埠13、及第4洗淨用埠14。第1保管部27及第2保管部28的每一個在一對保管架4的雙方中均有設置。又，在本實施形態中，作為檢查部29而具備有第1檢查部30及第2檢查部31之2個檢查部29。第1檢查部30是檢查顆粒及型樣的缺陷等之板狀體1的外觀。第2檢查部31是量測板狀體1的長度、寬度、及厚度等之板狀體1的大小(長度測量)。
如圖2所示，作為第2保管部28，有用於保管洗淨後的容器2之洗淨後的第2保管部28A，以及用於保管洗淨前的容器2之洗淨前用的第2保管部28B。洗淨前用的第2保管部28B是配備在比洗淨後的第2保管部28A更下方。在上下方向Z上相鄰的洗淨後用的第2保管部28A與洗淨前用的第2保管部28B，是藉由分隔體32而分隔。分隔體32是以無孔狀的板狀材所構成，以免使空氣於上下方向Z上相鄰的洗淨後用的第2保管部28A與洗淨後用的第2保管部28B中互相流動。
[堆高式起重機] 如圖1所示，第1堆高式起重機5及第2堆高式起重機6的每一個均是以可在排列方向Y上移動的方式構成。第1堆高式起重機5是搬送板狀體1的堆高式起重機。第2堆高式起重機6是搬送容器2的堆高式起重機。第1堆高式起重機5是相對於第2堆高式起重機6而位於第1方向側。第1堆高式起重機5的移動路徑M1與第2堆高式起重機6的移動路徑M2，在排列方向Y上具有重疊的部分。再者，第1堆高式起重機5是相當於搬送板狀體1的第1搬送裝置，而第2堆高式起重機6是相當於搬送容器2的第2搬送裝置。
如圖2所示，第2堆高式起重機6具備有：行走台車33，在排列方向Y上行走；桅桿34，豎立設置在行走台車33上；升降體35，沿著桅桿34而升降；及移載裝置36，被升降體35支撐。雖然省略詳細的說明，但在移載裝置36上具備有支撐容器2的支撐體、及使該支撐體沿著前後方向X移動的連桿機構。第2堆高式起重機6的移載裝置36是以可從第2搬送起點S2將容器2移載至其本身，且可從其本身將容器2移載至第2搬送目的地G2的方式構成。第1堆高式起重機5，除了以移載裝置36的支撐體來支撐板狀體1之點以外，是與第2堆高式起重機6同樣地構成。第1堆高式起重機5的移載裝置36是以可從第1搬送起點S1將板狀體1移載至其本身，且可從其本身將板狀體1移載至第1搬送目的地G1的方式構成。
[埠的位置關係] 第1洗淨用埠11、第2洗淨用埠12、第3洗淨用埠13、第4洗淨用埠14、搬入用埠7、及搬出用埠8當中，第2洗淨用埠12是設置在最靠第1方向Y1側，且第4洗淨用埠14是設置在最靠第2方向Y2側。在本實施形態中，第1洗淨用埠11、第2洗淨用埠12、第3洗淨用埠13、及第4洗淨用埠14，是朝向第2方向Y2而以第2洗淨用埠12、第1洗淨用埠11、第3洗淨用埠13、及第4洗淨用埠14的順序來排列。像這樣，以第1堆高式起重機5作為搬送起點或搬送目的地之第2洗淨用埠12，是設置成比以第2堆高式起重機6作為搬送起點或搬送目的地之第1洗淨用埠11、第3洗淨用埠13、及第4洗淨用埠14，更位於第1方向Y1。
搬入用埠7與搬出用埠8是朝向第2方向Y2，而以搬入用埠7、搬出用埠8的順序來排列。搬入用埠7及搬出用埠8是設置成在排列方向Y上，位於第2洗淨用埠12的第1方向Y1側的端部、及第4洗淨用埠14的第2方向Y2側的端部之間。並且，這些搬入用埠7及搬出用埠8，是在排列方向Y上設置在第1堆高式起重機5的移動路徑M1與第2堆高式起重機6的移動路徑M2重疊的區域內。在比第2洗淨用埠12更靠第1方向Y1上僅設置有第1保管部27及第2保管部28當中的第1保管部27，在比第4洗淨用埠14更靠第2方向Y2上僅設置有第1保管部27及第2保管部28當中的第2保管部28。
[搬送的形態] 第1堆高式起重機5是將板狀體1從第1搬送起點S1搬送至第1搬送目的地G1。第1堆高式起重機5是將第2洗淨用埠12、第1檢查部30、第2檢查部31、及第1保管部27設為第1搬送起點S1，並將第1檢查部30、第2檢查部31、第1保管部27、及搬出用埠8設為第1搬送目的地G1。亦即，舉具體例來說，第1堆高式起重機5是如下地將板狀體1從第1搬送起點S1搬送到第1搬送目的地G1。 如圖4所示，第1堆高式起重機5是將第2洗淨用埠12設為第1搬送起點S1，且將第1檢查部30設為第1搬送目的地G1，來進行板狀體1之從第2洗淨用埠12往第1檢查部30的搬送。如圖5所示，第1堆高式起重機5是將第1檢查部30設為第1搬送起點S1，且將第2檢查部31設為第1搬送目的地G1，來進行板狀體1之從第1檢查部30往第2檢查部31的搬送。如圖6所示，第1堆高式起重機5是將第2檢查部31設為第1搬送起點S1，且將第1保管部27設為第1搬送目的地G1，來進行板狀體1之從第2檢查部31往第1保管部27的搬送。如圖8所示，第1堆高式起重機5是將第1保管部27設為第1搬送起點S1，且將搬出用埠8設為第1搬送目的地G1，來進行板狀體1之從第1保管部27往搬出用埠8的搬送。具體而言，第1堆高式起重機5是將第1保管部27設為第1搬送起點S1，且將位於搬出用埠8的容器2設為第1搬送目的地G1，來進行板狀體1之從第1保管部27往搬出用埠8的容器2之搬送。 又，也有第1堆高式起重機5將第2檢查部31設為第1搬送起點S1，且將搬出用埠8設為第1搬送目的地G1，而從第2檢查部31將板狀體1搬送到搬出用埠8的情形等，藉由第1堆高式起重機5搬送板狀體1的搬送起點及搬送目的地之組合並不限於圖示的組合。
第2堆高式起重機6是從第2搬送起點S2將容器2搬送至第2搬送目的地G2。第2堆高式起重機6是將搬入用埠7、第1洗淨用埠11、第4洗淨用埠14、及第2保管部28設為第2搬送起點S2，並將搬出用埠8、第1洗淨用埠11、第3洗淨用埠13、及第2保管部28設為第2搬送目的地G2。再者，第2堆高式起重機6是將搬出用埠8及第2保管部28設為第3搬送目的地，且在將第4洗淨用埠14設為第2搬送起點S2的情況下，是在第2搬送目的地G2當中，將成為搬送容器之目的地的埠及保管部26設為第3搬送目的地。
亦即，舉具體例來說，第2堆高式起重機6是如下地從第2搬送起點S2將容器2搬送到第2搬送目的地G2。如圖3所示，第2堆高式起重機6是將搬入用埠7設為第2搬送起點S2，且將第1洗淨用埠11設為第2搬送目的地G2，來進行容器2之從搬入用埠7往第1洗淨用埠11的搬送。如圖5所示，第2堆高式起重機6是將第1洗淨用埠11設為第2搬送起點S2，且將第3洗淨用埠13設為第2搬送目的地G2，而將容器2從第1洗淨用埠11搬送至第3洗淨用埠13。如圖6所示，第2堆高式起重機6是將第4洗淨用埠14設為第2搬送起點S2，且將第2保管部28設為第2搬送目的地G2(第3搬送目的地)，來進行容器2之從第4洗淨用埠14往第2保管部28的搬送。如圖7所示，第2堆高式起重機6是將第2保管部28設為第2搬送起點S2，且將搬出用埠8設為第2搬送目的地G2，來進行容器2之從第2保管部28往搬出用埠8的搬送。 又，在雖然已將容器2搬入至搬入用埠7，但是因第1洗淨用埠11中有其他容器2存在等，而無法將搬入用埠7的容器2搬送至第1洗淨用埠11的情況下，第2堆高式起重機6會將搬入用埠7設為第2搬送起點S2，且將第2保管部28設為第2搬送目的地G2，來將容器2從搬入用埠7搬送到第2保管部28。並且，在已成為可以將該容器2搬送到第1洗淨用埠11的情況下，第2堆高式起重機6會將第2保管部28設為第2搬送起點S2，且將第1洗淨用埠11設為第2搬送目的地G2，而將容器2從第2保管部28搬送到第1洗淨用埠11。像這樣，藉由第2堆高式起重機6來搬送容器2的搬送起點與搬送目的地之組合並不限於圖示的組合。
如圖1所示，在物品搬送設備中，具備有控制第1堆高式起重機5及第2堆高式起重機6的控制部H。為了如以下所述地進行來搬送板狀體1及容器2，可藉由控制部H來控制第1堆高式起重機5及第2堆高式起重機6。 如圖3中以假想線(二點鏈線)所示，可藉由搬入用輸送機19來將容器2搬入至搬入用埠7。搬入至此搬入用埠7的容器2是洗淨前的容器2，且於該容器2中收容有洗淨前的板狀體1。並且，控制部H會執行控制第2堆高式起重機6的第1容器搬送控制，以將已搬入至搬入用埠7的容器2從搬入用埠7搬送至第1洗淨用埠11(參照圖3)。已搬送至第1洗淨用埠11的容器2，是藉由第1洗淨用輸送機21搬送到緊貼於第1洗淨機CL1的位置後，藉由第1洗淨機CL1的機器人(圖未示)從容器2中取出板狀體1，以藉由第1洗淨機CL1來洗淨板狀體1。藉由第1洗淨機CL1洗淨後的板狀體1，是藉由第1洗淨機CL1的機器人，而被載置到第2洗淨用輸送機22上，且如圖3所示，藉由第2洗淨用輸送機22而被搬送到第2洗淨用埠12。板狀體1已全部被取出的容器2，可藉由第1洗淨用輸送機21來從緊貼於第1洗淨機CL1的位置搬送到第1洗淨用埠11。
控制部H會執行控制第2堆高式起重機6的第2容器搬送控制，以將第1洗淨用埠11之容器2從第1洗淨用埠11搬送至第3洗淨用埠13(參照圖5)。藉由此第2容器搬送控制而以第2堆高式起重機6來搬送的容器2是洗淨前的容器2，且於該容器2中未收容有板狀體1。並且，如圖5所示，已搬送到第3洗淨用埠13的洗淨前之容器2，可藉由第3洗淨用輸送機23而被搬送到第2洗淨機CL2內，且藉由第2洗淨機CL2來洗淨。藉由第2洗淨機CL2洗淨後的洗淨後之容器2，是藉由第4洗淨用輸送機24而被搬送到第4洗淨用埠14。
控制部H會執行控制第2堆高式起重機6的第3容器搬送控制，以將第4洗淨用埠14的容器2從第4洗淨用埠14搬送至第2保管部28(參照圖6)。並且，控制部H會執行控制第2堆高式起重機6的第4容器搬送控制，以在要將板狀體1收容到容器2中而需將容器2搬出的情況下，從第2保管部28搬送到搬出用埠8(參照圖7)。藉由第3容器搬送控制及第4容器搬送控制而以第2堆高式起重機6搬送的容器2是洗淨後的容器2，且於該容器2中未收容有板狀體1。
控制部H會執行控制第1堆高式起重機5的第1板狀體搬送控制，以將第2洗淨用埠12的板狀體1從第2洗淨用埠12搬送至第1檢查部30(參照圖4)。控制部H會執行控制第1堆高式起重機5的第2板狀體搬送控制，以將已結束在第1檢查部30中的檢查的板狀體1從第1檢查部30搬送至第2檢查部31(參照圖5)。控制部H會執行控制第1堆高式起重機5的第3板狀體搬送控制，以將已結束在第2檢查部31中的檢查的板狀體1從第2檢查部31搬送至第1保管部27(參照圖6)。並且，控制部H會執行控制第1堆高式起重機5的第4板狀體搬送控制，以在要將板狀體1收容到容器2而將容器2搬出的情況下，將第1保管部27的板狀體1從第1保管部27搬送到搬出用埠8(參照圖8)。藉由第1板狀體搬送控制、第2板狀體搬送控制、第3板狀體搬送控制、及第4板狀體搬送控制而藉由第1堆高式起重機5搬送的板狀體1，是洗淨後的板狀體1。並且，在第4板狀體搬送控制中，於藉由第1堆高式起重機5將板狀體1搬送到搬出用埠8的情況下，第1堆高式起重機5會將該板狀體1搬送至搬出用埠8，以使板狀體1收容到位於搬出用埠8的容器2中。
2.其他的實施形態 接著，針對物品搬送設備的其他實施形態進行說明。
(1)在上述實施形態中，雖然是相對於第2洗淨用埠12而在第1方向Y1側設置了第1洗淨用埠11，但第1洗淨用埠11及第2洗淨用埠12的設置位置亦可作適當變更。亦可為例如，相對於第2洗淨用埠12而在第2方向Y2上設置第1洗淨用埠11，又，亦可設置為從上下方向Z來看使第1洗淨用埠11與第2洗淨用埠12重疊，而將第1洗淨用埠11與第2洗淨用埠12在排列方向Y上設置在相同的位置上。再者，關於第3洗淨用埠13及第4洗淨用埠14的設置位置、以及搬入用埠7及搬出用埠8的設置位置，亦可和第1洗淨用埠11及第2洗淨用埠12同樣地進行適當變更。又，在上述實施形態中，雖然是將第4洗淨用埠14和第3洗淨用埠13分開另行設置，但也可以使第3洗淨用埠13具備第4洗淨用埠14的功能，而將第3洗淨用埠13和第4洗淨用埠14共用。又，雖然是將搬出用埠8和搬入用埠7分開另行設置，但亦可使搬入用埠7具備搬出用埠8的功能，而將搬入用埠7和搬出用埠8共用。
(2)在上述實施形態中，雖然是讓第2堆高式起重機6將藉由第2洗淨機CL2洗淨且未收容有板狀體1的容器2搬送到搬出用埠8，且讓第1堆高式起重機5將已藉由第1洗淨機CL1洗淨後的板狀體1搬送到搬出用埠8，以使其將該板狀體1收容到位於搬出用埠8的容器2，如此進行來將板狀體1收容到容器2，但也可以藉由其他構成來將板狀體1收容到容器2中。具體而言，亦可例如進行如下：和搬出用埠8分開另行配備容器收容用埠，以讓第2堆高式起重機6將藉由第2洗淨機CL2洗淨且未收容有板狀體1的容器2搬送到容器收容用埠，並讓第1堆高式起重機5將已藉由第1洗淨機CL1洗淨後的板狀體1搬送到容器收容用埠，以使其將該板狀體1收容到位於容器收容用埠的容器2中。在此情況下，藉由第2堆高式起重機6而將收容有板狀體1的容器2從容器收容用埠搬送到搬出用埠8。又，例如，和搬出用埠8分開另行配備板狀體用埠，第2堆高式起重機6是將藉由第2洗淨機CL2洗淨且未收容有板狀體1的容器2搬送到搬出用埠8，第1堆高式起重機5是將藉由第1洗淨機CL1洗淨後的板狀體1搬送到板狀體用埠。並且，亦可藉由另外配備有的收容機器人，將板狀體1從板狀體用埠搬送到搬出用埠8，以使其將板狀體1收容到位於搬出用埠8的容器2中。
(3)在上述實施形態中，雖然是將第1堆高式起重機5構成為從下方支撐板狀體1的底面，但第1堆高式起重機5中的支撐板狀體1的構成亦可作適當變更，亦可為例如，將第1堆高式起重機5構成為藉由吸附板狀體1的上表面而從上方支撐板狀體1。 雖然是將第2堆高式起重機6構成為從下方支撐容器2的底面，但第2堆高式起重機6中的支撐容器2的構成亦可作適當變更，亦可為例如，第2堆高式起重機6支撐容器2的上部而以懸吊的方式支撐容器2。
(4)在上述實施形態中，雖然在第1洗淨用埠11、第2洗淨用埠12、第3洗淨用埠13、第4洗淨用埠14、搬入用埠7、及搬出用埠8當中，在比位於最第1方向Y1側的埠更靠第1方向Y1上，僅設置第1保管部27與第2保管部28當中的第1保管部27，但亦可在比位於最第1方向Y1側的埠更靠第1方向Y1上，設置第1保管部27與第2保管部28之雙方。又，雖然在第1洗淨用埠11、第2洗淨用埠12、第3洗淨用埠13、第4洗淨用埠14、搬入用埠7、及搬出用埠8當中，在比位於最第2方向Y2側的埠更靠第2方向Y2上，僅設置第1保管部27與第2保管部28當中的第2保管部28，但亦可在比位於最第2方向Y2側的埠更靠第2方向Y2上，設置第1保管部27與第2保管部28之雙方。
(5)在上述實施形態中，雖然是將第3洗淨用埠13及第4洗淨用埠14，設置在第2堆高式起重機6可移交容器2的位置，但設置第3洗淨用埠13及第4洗淨用埠14的位置亦可作適當變更。具體而言，亦可為例如，將第3洗淨用埠13及第4洗淨用埠14設置在壁體W的外部，且將洗淨前且未收容有板狀體1的容器2從搬出用埠8搬出，藉由外部的搬送裝置將從該搬出用埠8搬出的容器2搬送到第3洗淨用埠13，並且藉由外部的搬送裝置從第4洗淨用埠14搬送洗淨後且未收容有板狀體1的容器2，並從搬入用埠7將該容器2搬入。又，也可以不具備第2洗淨機CL2、第3洗淨用埠13、及第4洗淨用埠14。
(6)在上述實施形態中，雖然是將物品設為光罩，但也可以是晶圓等之其他板狀體1，又，作為物品的形狀，除了板狀以外也可以是立方體狀及圓棒狀等其他形狀。
(7)再者，在上述之各實施形態所揭示的構成，只要沒有發生矛盾，也可與在其他的實施形態所揭示的構成組合而應用。關於其他的構成，在本說明書中所揭示的實施形態在全部之點上均只不過是例示。從而，在不脫離本發明的主旨之範圍內，可進行適當的、各種的改變。
3.上述實施形態之概要 以下，針對在上述所說明之物品搬送設備的概要進行說明。
一種物品搬送設備，其具備：搬入用埠，供收容有物品的前述容器搬入；第1洗淨用埠，設置在對應於洗淨前述物品的第1洗淨機的位置，且支撐前述容器，該容器收容有藉由前述第1洗淨機洗淨前的前述物品；第2洗淨用埠，設置在對應於前述第1洗淨機的位置，且支撐前述物品，該物品是從前述容器取出並藉由前述第1洗淨機洗淨後的前述物品；第1搬送裝置，搬送前述物品；及第2搬送裝置，搬送前述容器，前述第2洗淨用埠是和前述第1洗淨用埠分開另行設置，前述第2搬送裝置是進行：前述容器之從前述搬入用埠往前述第1洗淨用埠的搬送、以及前述物品被取出後之前述容器之從前述第1洗淨用埠往第2搬送目的地的搬送，前述第1搬送裝置是進行前述物品之從前述第2洗淨用埠往第1搬送目的地的搬送。
藉由像這樣的構成，可將已搬入至搬入用埠的容器，藉由第2搬送裝置而從搬入用埠搬送到第1洗淨用埠。此時，於藉由第2搬送裝置搬送的容器中收容有第1洗淨機洗淨前的物品。並且，針對物品，是從位於第1洗淨用埠的容器中取出並藉由第1洗淨機洗淨後，載置到第2洗淨用埠。並且，可將此洗淨後的物品藉由第1搬送裝置而從第2洗淨用埠搬送到第1搬送目的地。又，可將已取出物品而變空的容器藉由第2搬送裝置而從第1洗淨用埠搬送到第2搬送目的地。
藉由第1洗淨機洗淨前的物品，是以收容於容器的狀態被搬入至搬入用埠，並以收容於容器的狀態而藉由第2搬送裝置來從搬入用埠搬送到第1洗淨用埠。並且，藉由第1洗淨機洗淨後的物品，是藉由第1搬送裝置而從第2洗淨用埠被搬送到搬送目的地。像這樣，由於第1搬送裝置並不搬送藉由第1洗淨機洗淨前的物品，而僅進行洗淨後的物品之搬送，因此可以避免下述情形：以已因搬送洗淨前的物品而弄髒的第2搬送裝置來搬送洗淨後的物品，因而造成洗淨後的物品被污染的情形。
又，較理想的是，更具備有：第3洗淨用埠，設置在對應於第2洗淨機的位置，且支撐藉由前述第2洗淨機洗淨前的前述容器，該第2洗淨機是對已將前述物品取出後的前述容器進行洗淨；以及第4洗淨用埠，設置在對應於前述第2洗淨機的位置，且支撐藉由前述第2洗淨機洗淨後的前述容器，前述第4洗淨用埠可和前述第3洗淨用埠分開另行設置、或者與前述第3洗淨用埠共用，前述第2搬送裝置是進行：前述物品被取出後的前述容器之從前述第1洗淨用埠往作為前述第2搬送目的地的前述第3洗淨用埠的搬送、及前述容器之從前述第4洗淨用埠往第3搬送目的地的搬送。
根據此構成，可將藉由第2搬送裝置而從第1洗淨用埠搬送到第3洗淨用埠，且已藉由第2洗淨機洗淨的容器，藉由第2搬送裝置而從第4洗淨用埠搬送到第3搬送目的地。像這樣，藉由第2洗淨機來洗淨容器，並且藉由第2搬送裝置將該容器從第4洗淨用埠搬送到第3搬送目的地，藉此和分開另行配備搬送裝置的情況相較之下，可以謀求物品搬送設備的構成之簡單化。
在此，較理想的是，將前述第1洗淨機與前述第2洗淨機排列的方向設為排列方向，且將前述排列方向中的相對於前述第2洗淨機而前述第1洗淨機存在的方向，設為第1方向，並將其相反方向設為第2方向，前述第1搬送裝置及前述第2搬送裝置的每一個均是以可在前述排列方向上移動的方式構成，前述第1搬送裝置是相對於前述第2搬送裝置而位於前述第1方向側，前述第1搬送裝置的移動路徑與前述第2搬送裝置的移動路徑，在前述排列方向上具有重疊的部分。
根據此構成，藉由在第1搬送裝置的移動路徑與第2搬送裝置的移動路徑且在排列方向上重疊的部分配設搬送目的地，即可以藉第1搬送裝置與第2搬送裝置將物品及容器搬送到相同的搬送目的地。因此，也可以做到例如藉由第2搬送裝置將洗淨後的容器搬送到搬送目的地，且將洗淨後的物品搬送到搬送目的地以收容至位於搬送目的地的容器中。像這樣，可以提供使用方便的物品搬送設備。
又，較理想的是，更具備有：用於保管前述物品的第1保管部、及用於保管前述容器的第2保管部， 前述第1搬送裝置也會進行：前述物品之從前述第2洗淨用埠往作為前述第1搬送目的地之前述第1保管部的搬送，前述第2搬送裝置也會進行：前述容器之從前述第4洗淨用埠往作為前述第3搬送目的地之前述第2保管部的搬送。
根據此構成，即可以將洗淨後的物品保管於第1保管部，且可以將洗淨後的容器保管於第2保管部。並且，要將洗淨後的物品收容到洗淨後的容器之情況下，且在物品的洗淨完成之時間點與容器的洗淨完成之時間點有偏差的情況等，可以利用第1保管部及第2保管部來作為暫時保管物品及容器的暫存區(buffer)。
又，較理想的是，將相對於前述第2洗淨機而前述第1洗淨機存在的方向設為第1方向，並將其相反方向設為第2方向，前述第1洗淨用埠、前述第2洗淨用埠、前述第3洗淨用埠、前述第4洗淨用埠、及前述搬入用埠當中，前述第2洗淨用埠設置在最靠前述第1方向側，並且前述第4洗淨用埠設置在最靠前述第2方向側，在比前述第2洗淨用埠更靠前述第1方向上，僅設置有前述第1保管部與前述第2保管部當中的前述第1保管部，在比前述第4洗淨用埠更靠前述第2方向上，僅設置有前述第1保管部與前述第2保管部當中的第2保管部。
根據此構成，在排列方向上，在第1保管部與第2保管部之間設置第1洗淨用埠、第2洗淨用埠、第3洗淨用埠、第4洗淨用埠、及搬入用埠，藉此可以將這些埠集中來設置。因此，將物品或容器從埠搬送到其他埠時，可以有效率地搬送物品及容器。又，由於在比設置在最第1方向側的第2洗淨用埠更靠第1方向上，僅設置有用於保管物品的第1保管部，因此設成不讓用於搬送容器的第2搬送裝置比第2洗淨用埠更朝第1方向移動，而可以縮短第2搬送裝置的移動路徑。又，由於在比設置在最第2方向側的第4洗淨用埠更靠第2方向上，僅設置有用於保管容器的第1保管部，因此設成不讓用於搬送物品的第1搬送裝置比第4洗淨用埠更朝第2方向移動，而可以縮短第1搬送裝置的移動路徑。由於可以像這樣將第1搬送裝置及第2搬送裝置的移動路徑縮短，因此可以有效率地進行藉由第1搬送裝置進行之物品的搬送、以及藉由第2搬送裝置進行之容器的搬送。
又，較理想的是，更具備有搬出用埠，該搬出用埠是用於搬出收容有前述物品的前述容器，前述第2搬送裝置是將藉由前述第2洗淨機洗淨且未收容有前述物品的前述容器搬送至前述搬出用埠，且前述第1搬送裝置是將前述物品搬送至前述搬出用埠，以使已藉由前述第1洗淨機洗淨的該物品收容到位於前述搬出用埠的前述容器。
根據此構成，藉由第2搬送裝置先將未收容有物品的容器搬送到搬出用埠，再藉由第1搬送裝置將已洗淨後的物品搬送到搬出用埠，以使物品收容於該容器。像這樣，藉由利用搬出用埠將物品收容至容器中，由於不需要例如，如在搬出用埠以外的場所將洗淨後的物品收容至容器的情況，還要進行將收容有物品的容器搬送到搬出用埠之搬送處理，因此可以有效率地搬出容器。 産業上之可利用性
本揭示之技術可以利用在將物品及容器搬送到對應於洗淨機的位置所設置之埠的物品搬送設備上。
1‧‧‧板狀體(物品)2‧‧‧容器4‧‧‧保管架5‧‧‧第1堆高式起重機(第1搬送裝置)6‧‧‧第2堆高式起重機(第2搬送裝置)7‧‧‧搬入用埠8‧‧‧搬出用埠11‧‧‧第1洗淨用埠12‧‧‧第2洗淨用埠13‧‧‧第3洗淨用埠14‧‧‧第4洗淨用埠16‧‧‧第1風扇過濾單元17‧‧‧第2風扇過濾單元19‧‧‧搬入用輸送機20‧‧‧搬出用輸送機21‧‧‧第1洗淨用輸送機22‧‧‧第2洗淨用輸送機23‧‧‧第3洗淨用輸送機24‧‧‧第4洗淨用輸送機26‧‧‧保管部27‧‧‧第1保管部28、28A、28B‧‧‧第2保管部29‧‧‧檢查部30‧‧‧第1檢查部31‧‧‧第2檢查部32‧‧‧隔離體33‧‧‧行走台車34‧‧‧桅桿35‧‧‧升降體36‧‧‧移載裝置CL1‧‧‧第1洗淨機CL2‧‧‧第2洗淨機F‧‧‧地板部F1‧‧‧下部地板F2‧‧‧上部地板G1‧‧‧第1搬送目的地G2‧‧‧第2搬送目的地H‧‧‧控制部M1、M2‧‧‧移動路徑P1‧‧‧第1位置P2‧‧‧第2位置P3‧‧‧第3位置P4‧‧‧第4位置S1‧‧‧第1搬送起點S2‧‧‧第2搬送起點W‧‧‧壁體X‧‧‧前後方向X1‧‧‧前方X2‧‧‧後方Y‧‧‧排列方向Y1‧‧‧第1方向Y2‧‧‧第2方向Z‧‧‧上下方向
圖1是物品搬送設備的平面圖。 圖2是物品搬送設備的側面圖。 圖3是藉由第2堆高式起重機進行的容器的搬送之說明圖。 圖4是藉由第1堆高式起重機進行的板狀體的搬送之說明圖。 圖5是藉由第1堆高式起重機進行的板狀體的搬送及藉由第2堆高式起重機進行的容器的搬送之說明圖。 圖6是藉由第1堆高式起重機進行的板狀體的搬送及藉由第2堆高式起重機進行的容器的搬送之說明圖。 圖7是藉由第2堆高式起重機進行的容器的搬送之說明圖。 圖8是藉由第1堆高式起重機進行的板狀體的搬送之說明圖。
1‧‧‧板狀體(物品)
2‧‧‧容器
4‧‧‧保管架
5‧‧‧第1堆高式起重機(第1搬送裝置)
6‧‧‧第2堆高式起重機(第2搬送裝置)
7‧‧‧搬入用埠
8‧‧‧搬出用埠
11‧‧‧第1洗淨用埠
12‧‧‧第2洗淨用埠
13‧‧‧第3洗淨用埠
14‧‧‧第4洗淨用埠
19‧‧‧搬入用輸送機
20‧‧‧搬出用輸送機
21‧‧‧第1洗淨用輸送機
22‧‧‧第2洗淨用輸送機
23‧‧‧第3洗淨用輸送機
24‧‧‧第4洗淨用輸送機
26‧‧‧保管部
27‧‧‧第1保管部
28‧‧‧第2保管部
29‧‧‧檢查部
30‧‧‧第1檢查部
31‧‧‧第2檢查部
CL1‧‧‧第1洗淨機
CL2‧‧‧第2洗淨機
H‧‧‧控制部
M1、M2‧‧‧移動路徑
P1‧‧‧第1位置
P2‧‧‧第2位置
P3‧‧‧第3位置
P4‧‧‧第4位置
W‧‧‧壁體
X‧‧‧前後方向
X1‧‧‧前方
X2‧‧‧後方
Y‧‧‧排列方向
Y1‧‧‧第1方向
Y2‧‧‧第2方向

Claims (6)

  1. 一種物品搬送設備，具備：搬入用埠，供收容有物品的容器搬入；第1洗淨用埠，設置在對應於洗淨前述物品的第1洗淨機的位置，且支撐前述容器，該容器收容有藉由前述第1洗淨機洗淨前的前述物品；第2洗淨用埠，設置在對應於前述第1洗淨機的位置，且支撐前述物品，該物品是從前述容器取出並藉由前述第1洗淨機洗淨後的物品；第1搬送裝置，搬送前述物品；及第2搬送裝置，搬送前述容器，該物品搬送設備的特徵在於：前述第2洗淨用埠是和前述第1洗淨用埠分開另行設置，前述第2搬送裝置是進行：前述容器之從前述搬入用埠往前述第1洗淨用埠的搬送、及前述物品被取出後的前述容器之從前述第1洗淨用埠往第2搬送目的地的搬送，前述第1搬送裝置是進行前述物品之從前述第2洗淨用埠往第1搬送目的地的搬送。
  2. 如請求項1之物品搬送設備，其更具備有：第3洗淨用埠，設置在對應於第2洗淨機的位置，且支撐藉由前述第2洗淨機洗淨前的前述容器，該第2洗淨機是對已將前述物品取出後的前述容器進行洗淨；以及第4洗淨用埠，設置在對應於前述第2洗淨機的位置， 且支撐藉由前述第2洗淨機洗淨後的前述容器，前述第4洗淨用埠可和前述第3洗淨用埠分開另行設置、或者與前述第3洗淨用埠共用，前述第2搬送裝置是進行：取出前述物品後的前述容器之從前述第1洗淨用埠往作為前述第2搬送目的地之前述第3洗淨用埠的搬送、及前述容器之從前述第4洗淨用埠往第3搬送目的地的搬送。
  3. 如請求項2之物品搬送設備，其中，將前述第1洗淨機與前述第2洗淨機排列的方向設為排列方向，且將前述排列方向中的相對於前述第2洗淨機而前述第1洗淨機存在的方向設為第1方向，並將其相反方向設為第2方向，前述第1搬送裝置及前述第2搬送裝置的每一個均是以可在前述排列方向上移動的方式構成，前述第1搬送裝置是相對於前述第2搬送裝置而位於前述第1方向側，前述第1搬送裝置的移動路徑與前述第2搬送裝置的移動路徑，在前述排列方向上具有重疊的部分。
  4. 如請求項2之物品搬送設備，其更具備有：用於保管前述物品的第1保管部、及用於保管前述容器的第2保管部，前述第1搬送裝置也會進行：前述物品之從前述第2洗淨用埠往作為前述第1搬送目的地之前述第1保管部的搬送， 前述第2搬送裝置也會進行：前述容器之從前述第4洗淨用埠往作為前述第3搬送目的地之前述第2保管部的搬送。
  5. 如請求項4之物品搬送設備，其中，將相對於前述第2洗淨機而前述第1洗淨機存在的方向設為第1方向，並將其相反方向設為第2方向，前述第1洗淨用埠、前述第2洗淨用埠、前述第3洗淨用埠、前述第4洗淨用埠、及前述搬入用埠當中，前述第2洗淨用埠是設置在最靠前述第1方向側，並且前述第4洗淨用埠是設置在最靠前述第2方向側，在比前述第2洗淨用埠更靠前述第1方向上，僅設置有前述第1保管部與前述第2保管部當中的前述第1保管部，在比前述第4洗淨用埠更靠前述第2方向上，僅設置有前述第1保管部與前述第2保管部當中的前述第2保管部。
  6. 如請求項1或2之物品搬送設備，其更具備有搬出用埠，該搬出用埠是用於搬出收容有前述物品的前述容器，前述第2搬送裝置是將未收容有前述物品的前述容器搬送至前述搬出用埠，前述第1搬送裝置是將前述物品搬送至前述搬出用埠，以使已藉由前述第1洗淨機洗淨的該物品收容到位於前述搬出用埠的前述容器。
TW106131409A 2016-09-30 2017-09-13 物品搬送設備 TWI741028B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-193915 2016-09-30
JP2016193915A JP6601360B2 (ja) 2016-09-30 2016-09-30 物品搬送設備

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201814815A TW201814815A (zh) 2018-04-16
TWI741028B true TWI741028B (zh) 2021-10-01

Family

ID=61781035

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106131409A TWI741028B (zh) 2016-09-30 2017-09-13 物品搬送設備

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6601360B2 (zh)
KR (1) KR102419509B1 (zh)
CN (1) CN107878983B (zh)
TW (1) TWI741028B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6835031B2 (ja) * 2018-04-27 2021-02-24 株式会社ダイフク 物品搬送設備

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000091401A (ja) * 1998-09-09 2000-03-31 Toshiba Corp カセット搬送システム、半導体露光装置、及びレチクル運搬方法
JP2009057117A (ja) * 2007-08-29 2009-03-19 Sharp Corp 搬送制御システム、搬送制御方法、及び搬送制御プログラム

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0179405B1 (ko) * 1993-04-12 1999-04-15 마스다 쇼오이치로오 크린장치가 부착된 하물보관설비
JPH07122531A (ja) * 1993-10-22 1995-05-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理液収容装置およびそれを備えた基板処理装置
JP3143700B2 (ja) * 1995-06-27 2001-03-07 東京エレクトロン株式会社 位置合せ装置
DE19922936B4 (de) * 1999-05-19 2004-04-29 Infineon Technologies Ag Anlage zur Bearbeitung von Wafern
JP3911624B2 (ja) * 2001-11-30 2007-05-09 東京エレクトロン株式会社 処理システム
KR100711317B1 (ko) * 2002-07-22 2007-05-10 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 제조라인 시스템 및 그 시스템에서 쓰이는 자동창고
JP2004303835A (ja) * 2003-03-28 2004-10-28 Ｆａｓｌ Ｊａｐａｎ 株式会社 基板保管装置
JP4493955B2 (ja) * 2003-09-01 2010-06-30 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び搬送ケース
CN100413047C (zh) * 2005-01-28 2008-08-20 大日本网目版制造株式会社 基板处理装置
JP4744426B2 (ja) * 2006-12-27 2011-08-10 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板処理方法
JP5545498B2 (ja) * 2011-12-21 2014-07-09 株式会社ダイフク 物品保管設備及び物品保管設備におけるメンテナンス方法
JP5610009B2 (ja) * 2013-02-26 2014-10-22 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000091401A (ja) * 1998-09-09 2000-03-31 Toshiba Corp カセット搬送システム、半導体露光装置、及びレチクル運搬方法
JP2009057117A (ja) * 2007-08-29 2009-03-19 Sharp Corp 搬送制御システム、搬送制御方法、及び搬送制御プログラム

Also Published As

Publication number Publication date
JP6601360B2 (ja) 2019-11-06
JP2018052724A (ja) 2018-04-05
TW201814815A (zh) 2018-04-16
KR20180036576A (ko) 2018-04-09
KR102419509B1 (ko) 2022-07-08
CN107878983B (zh) 2021-05-14
CN107878983A (zh) 2018-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4367440B2 (ja) 搬送システム
US20090022575A1 (en) Article storing apparatus
JP2008019017A (ja) 物品収納装置
JP2008100805A (ja) 基板保管庫
TWI741028B (zh) 物品搬送設備
JP5058899B2 (ja) 生産システム用の設備及びこの設備を備えた生産工場
JP2006347753A (ja) 搬送システム
JP4348520B2 (ja) 搬送システム
JP5656053B2 (ja) 装置搬入方法
JP4333701B2 (ja) 搬送システム
TWI733940B (zh) 檢查裝置
JP2013006632A (ja) ストッカ
JP2005136294A (ja) 移載装置
JP2010235213A (ja) 走行車システム
WO2012001973A1 (ja) 処理設備
JP2018131329A (ja) 自動倉庫
WO2004080852A1 (ja) 自動保管システム
JP5277572B2 (ja) 板状物の保管移送システムおよび板状物の保管移送方法
KR20090009529A (ko) 물품 수납 장치
JP7093318B2 (ja) 物品保管設備
CN111605937B (zh) 物品输送设备
JP5741946B2 (ja) 清浄気送風ユニット
JP4630386B1 (ja) 処理設備
JP4045122B2 (ja) カセット洗浄保管装置
JP2008100801A (ja) 基板保管庫