JPH03177732A - 半導体の無塵化製造システム - Google Patents

半導体の無塵化製造システム

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JPH03177732A
JPH03177732A JP31830089A JP31830089A JPH03177732A JP H03177732 A JPH03177732 A JP H03177732A JP 31830089 A JP31830089 A JP 31830089A JP 31830089 A JP31830089 A JP 31830089A JP H03177732 A JPH03177732 A JP H03177732A
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JP
Japan
Prior art keywords
clean room
air
dust
room
cleanliness
Prior art date
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Pending
Application number
JP31830089A
Other languages
English (en)
Inventor
Takumi Tamura
巧 田村
Shosuke Shinoda
篠田 省輔
Tetsuo Yamashita
哲夫 山下
Yasuhiko Okashita
岡下 恭彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
UMC Japan Co Ltd
Original Assignee
NMB Semiconductor KK
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Publication date
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Publication of JPH03177732A publication Critical patent/JPH03177732A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、高度な無塵状態が要求される半導体製造工場
等に実施して好適な、半導体の無塵化製造システムに関
するものである。
(従来の技術) 半導体工場では、その製品が高集積化し、高度の微細加
工が行われるようになり、無塵化(超クリーン化)が必
須の要件に々ってきた。
そこで、半導体工場の無塵化を図るための各種設備が重
要になってくる。従来もっとも多く使用されている全面
ダウンフロー式と称される無塵化装置は、微細な塵埃を
除去するフィルタを通した空気を部屋の全体の上部から
下部に向けて流し、この空気の循環によってその部屋全
体の空気の清浄化を図るものでおる。
このような全面ダウンフロー式の無塵化装置では、空気
の循環を部屋全体に亘って行うために、高価なフィルタ
を多量に使用し、クリーン度のレベルを上げるためには
コスト高とならざるを得す、吸引送風装置も大掛かルな
ものが必要となるので、クリーン度の向上そのものにも
限度があシ、クラス10以下のような高いクリーンレベ
ルの実現IS困難である。特に超LSIや超超LSIの
ような高集積製品を製造する半導体工場では、この点が
大きな問題となっている、そこで、建屋に設けられたク
リーンルームを2室に区画し、各室の天井部にメッシユ
が異なるフィルタを設けることによシ、クリーンルーム
内に、クリーン度がクリーンルームの外部よ)も高い中
クリーン室と、中クリーン室よりもクリーン度が高い高
クリーン室とを設け、さらにクリーン室の下方、側方お
よび上方に空気の循還路を形成して側方の循環路の下部
に大型の送風機を設置することによう空気を強制循環さ
せることが本願の出願人によって提案されている(特願
昭65−78485号)。
(発明が解決しようとする課題) 上記従来例では、建屋内のクリーン度を一律に均等にす
ることなく、必要に応じてクリーン度を異ならせている
ため、フィルタもこれに応じて高価なものと安価なもの
とに使い分けることができろ、4先がって安価なフィル
タを使用することによシ、節約される経費を、高クリー
ン度が要求さバらリー・室の79〜ターの費用に充当す
ることができ、このためコストの上昇を招くことなくク
リーン度のレベルを上げることができる。
ところで、クリーンルームにシけるクリーン度は基本的
にはフィルターのメツシュに依存するが、空気の流量、
速度、圧力笠 にも依存する。
しかし、上記従来例では、送風機が空気の循環路に投波
されているため、クリーン度のレベルがiなるクリーン
室ごとに空気の流量、速度、圧力茅を調整することがで
きず、従って、クリm;・ルームのクリ4を正確に調整
することば困歎であった。
又、上記従来例では大型の送風機を用いているため、コ
ストが上昇せざるをえなかった。
4発8AFi上記問題点を解決するためKなされたもの
で、クリーンルームにおける空気の流量、速度、圧力オ
 がv4整自在でかつ安価な半導体の無塵化製造システ
ムを提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 前記目的を達成するため、本発明は外壁で囲まれた空間
にクリーンルームを設け、 該クリーンルームの下方、側方すよび上方に空気の循環
路を形成し、 該クリーンルームを上下にのびる仕切壁によ、り2室に
区画して、該クリーンルームの外部よりもクリーン度が
高い中クリーン室と、該中クリーン室ようもクリーン度
が高い高クリーン室とを形成し、 該中クリーン室訟よび高クリーン室のそれぞれの天井部
に、前記循環路の空気を吸引する送風機と、該循環路か
ら流入する空気を清浄にするフィルタとを設けるととも
に、それぞれのクリーン室の床部に、空気が下方の循環
路に流出するための流出口を形成しイ、・b。
少窟記高クリーン室に加工装置を設け、前記無塵収納ボ
ククスの天井部に中クリーン室から流入する空気を清浄
にするフィルタ′5I:設け、 前記仕切壁にロボ1トのアームと前記力U工装置との間
でワークの受は渡しが可能なアーム用孔を形成した。
(作用) 中クリーン室および高クリーン室の各3にかける送風機
を作動させると、中クリーン室かよび高クリーン室に空
気が吸引され、吸引された空気はクリーン室の床部に形
成された流出口から下方の循環路に流出し、さらに、側
方シよび上方の循環路を通#)フィルタによって清浄に
された後、中クリーン室および高クリーン室に流入する
ところで、送風機は中クリーン室かよひ高クリーン室の
それぞれに設けられているから、各送風機の運転状態を
異ならせることによう、各室に)ける空気の流量、速度
、圧力片 を互いに独立に制御することができるととも
に各室内にかいてもクリーン度のレベルを異ならせるこ
とが可能である。
さらに、送風機は前記のとと〈各室に設けられているの
で、空気の流量等を精度よく調整でき、このため同一室
内にかいてクリーン度を異ならせることができ/;1.
 i?hがって小型の送風機によシフリーン度のレベル
を上げることが可能斗vる。
(発明の効果) 前記のごとく中クリーン室および高クリーン室内の空気
の流量等を互いに独立に調整できるとともに、同一室内
にしいても空気の流量等を異ならせることができるため
、クリーン度の調整の自由度が増大する。
また、送風機を小型化できるため送風機自体0コストの
低減化がぬれるとともに、スペースの節約が図れ、装置
全体としてのコストダウンが可狂(なる。
さらに上記のごとく各室における空気の流量等互いに独
立に制御できるので、クリーン度の調整に要する時間の
短風化が図れる。
(実施例) 第1図は本発明に係るシステムの全体構成を示すもので
、符号IVi建物の外壁を示し、外壁1Fi天井部2と
壁部6とを有する。符号4はこの外壁1に対して適当距
離内側に設けられたクリーンルーム12を形成する内壁
である。内壁4によや、この内壁4と外壁1との間に室
5が形成され、この室5が空気の循環路の一部を形成す
る。内壁4は天井部6と壁部7、それに床部8から成っ
て>g、床部8Fi、1階9と2階10とを仕切ってい
る。天井部6と床部8との間には上下にのびる仕切)壁
11が設けられてhp、ここのような構造の建物にかい
て、室5内の1階の壁部7の内側部分には動力装[15
とガス、薬液等の供給制御盤16等が設置されている。
内壁4の天井部6には仕切シ壁11の両側にかいてメク
シネの異るフィルタ1a 19が設ケラれてかシ、フィ
ルタ1a 19の上側には空気の流入口を形成する枠体
2q 21が設けられ、枠体2Q、21の内部には小型
の送風機22.25が設置され、他方床部8には孔24
.25が設けられている。
フィルタ1a 19から室13A、13B内に入った空
気はこれらの孔24 25から1階9に戻ることによっ
て各室の空気のクリーン化が図られ、クリーン度がクラ
ス数1000程度の室5に対し、室13Aのクリーン度
はクラス約500程度、 ストレージストッカーρo−
bよひ加工装f:Ittllが置かれる室13Bではク
リーン度1を得るようV(シである。
室13AFi制御機器50が置かれてオペレージ璽ンエ
リアとして@能することになる。またこの室13Aの内
部には搬送ロボット51が走行するように女っている。
搬込ロボット51は、本体55の上部に、この本体35
に対して回動自在で被搬送物36移収容自在・ン蓋部3
7が設けられてhp、この頭部37に、被搬送物(ウェ
ハーを収容したキャリヤ)36の把持釦よび把持解除を
行なうアーム38を設けたものである。このアーム38
は仕切シ壁11に設けられた孔59に出入して、室13
B内に並べて設けられたストレージストッカー40hよ
び加工装置41への被搬送物51の搬入、搬出を行なう
ようになっている。
第2図は、第1図に示したものを多数設けた実線の状態
を示すものである。この図に示す全体はクリーンルーム
12であシ、この室12の内部に、仕切シ壁11と天井
部6とで区画された室13ハが存在することになる。床
部8には、誘導路42が敷設されている。この誘導路4
2としては、搬送ロボット51が有7ランジ車輪(鉄道
車輪のようなもの)の場合には床部8から突出したレー
ルが用いられ、搬送ロボクト51が電磁誘導で走行する
ときKは、交l!i!i!流が流れる1!線あるいはテ
ープ状のものが用いられる。搬送口ボッ)51ijこの
誘導路42に機楓的に誘導され、あるいは電磁誘導を受
けて一定のコースで走行し、各室t3Bの前で停止する
ことになる。
第5図は搬送ロボット51が室13Bの前部にリーンル
ーム12外で被搬送物(ヤ看タIJ−ン状態で密閉 し
たキャリヤ)3Aが収納されている。このように室13
Bの前に到殖した搬送ロボット51は、アーム5aが仕
切少種11に対向するように頭部57を回動させ、アー
ム58を仕切シ壁11の孔39から挿入して室13B内
に伸ばすことになる。アーム38はこのように室13B
内に伸びた状態でストレージストッカー40(または加
工装置41)にMitJpgを移載するので、その構造
としてはテレスコビクク構造となってかシ、頭部57と
共に昇降し、筐た1[@57に支持された部分を回動中
心にして上下に回動できるように構成されている。
次に作用について説明する。室1sA、1sBの天井部
6に設けられた送風機22.25を作動させると、各室
13A、13Bの外部の空気が各室13A、1313に
@引されるが、こO際各室15A。
15Bに吸引される空気はフィルタ1& 19によって
清浄化される。各室13A、13BK吸引された空気は
床部8の孔2へ 25から流出し、さらに室5を通って
各室11A、15Bに吸引される。
ところで、クリーン度のレベル    、は基本的には
フィルタ1a 19のメック3に依存するが、同一メッ
シユのフィルタであっても空気の流量、速度、圧力が異
なればクリーン度のレベルも変化する。
2先がって、各室13A、13Bの送風機22. 25
の運転条件を変えることにより、フィルタ1a19のメ
ッシユに依存する範囲内でクリーン度のレベルを任意に
変化させることができる。
筐た、同−室15Aまたは1333内であっても空気の
流れの条件によシフリーン度のレベルに差異を与えるこ
とが可能である。木毛がって、第1図に示すように同−
室L3A、f3Bに複数の送風機22.25f設けてこ
れらの運転条件を変えることによ#)同−室t3A、I
J内にクリーン度のレベルが高い領域と低い領域とを作
す出すことができ、このため送風機22.23が小型で
あっても1局所的でFiあるが所望のクリーン度を得る
ことが可能になる。このように局所的に所望のりつ設け
られているにすぎない場合でも可能である。
このように本願発明では各室ごとに送風機が設けられて
いるため、互いに独立してクリーン度のv4整が可能で
あう、このように各室13A、I 573Fi互いに影
響を受けないため、クリーン度−のvj4MK要する時
間を短縮することができ、しかもトータルとしてシステ
ムを安価に提供することができる。
hLように構成されたこの無塵化搬送システムにかいて
は、室13Aに敷設した誘導路42に沿い、高クリーン
状態に被搬送a維持した搬送ロボクト51を走行させ、
その走行中に搬送ロボット51がストレージストッカー
40(または加工装置41)の直前にきたときに停止さ
せてアーム3りを作動させ、ストレージストッカーな0
筐たは加工装置4/との間で被搬送物51の授受を行う
搬送口ボット510走行時期)よび走行方向の管理とア
ーム38の作動時期の管理は、コンピュータによって行
う。被搬送物36は、搬送ロボクト51自体に搭載され
た無塵装g1奎→し社シ転→−++4よって剋塵化され
たクリーン空間内で搬送されるので、誘導1i542を
敷設した工場全体のクリーン度は、クラスIQ、000
程度のものであってもよいことになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の概略を示す断面図、第2図
は81図に示したものが多数個並んだ状態を示す斜視図
、第5図は搬送ロボットのアームが仕切シ壁の内部に伸
びた状態を示す斜視図である。 1 ・・・ 外壁 へ9・・・ 循環路 6− 天井部  8 ・−・ 床部 11−・・  仕切壁 12−・ クリーンルーム 13A−中クリーン室 f 3 B 、、−高クリーン室 IEJ19−・ フィルタ 22.23.、・送風機 2425−・孔 51 ・・・ 58 ・・・ 39 ・・・ tI/  −・ 特許出 ロボット アーム アーム用孔 r17F俵( 願人 株式会社 エヌ・エム・ビー セミコンダクター 代 理 人 萼 美(外2名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 外壁で囲まれた空間にクリーンルームを設け、該クリー
    ンルームの下方、側方および上方に空気の循環路を形成
    し、 該クリーンルームを上下にのびる仕切壁により2室に区
    画して該クリーンルームの外部よりもクリーン度が高い
    中クリーン室と、該中クリーン室よりもクリーン度が高
    い高クリーン室とを形成し、 該中クリーン室および高クリーン室のそれぞれの天井部
    に、前記循環路の空気を吸引する送風機と、該循環路か
    ら流入する空気を清浄にするフィルタとを設けるととも
    に、それぞれのクリーン室の床部に、空気が下方の循環
    路に流出するための流出口を形成し、 前記高クリーン室に加工装置を設け、 前記中クリーン室にワークが収納される無塵収納ボック
    スを有する搬送ロボットを走行自在に設け前記無塵収納
    ボックスの天井部に中クリー ン室から流入する空気を清浄にするフィルターを設け、 前記仕切壁にロボットのアームと前記加工装置との間で
    ワークの受け渡しが可能なアーム用孔を形成したことを
    特徴とする半導体の集塵化システム。
JP31830089A 1989-12-07 1989-12-07 半導体の無塵化製造システム Pending JPH03177732A (ja)

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