JPS60206017A - 清浄搬送システム - Google Patents
清浄搬送システムInfo
- Publication number
- JPS60206017A JPS60206017A JP6078384A JP6078384A JPS60206017A JP S60206017 A JPS60206017 A JP S60206017A JP 6078384 A JP6078384 A JP 6078384A JP 6078384 A JP6078384 A JP 6078384A JP S60206017 A JPS60206017 A JP S60206017A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean
- carrier
- cassette
- shutter
- space
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Prevention Of Fouling (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
この発明は半導体ウェハ等を、清浄な状態で搬送する清
浄搬送システムに関する。
浄搬送システムに関する。
半導体(特に大規模な集積回路)の製造では、製造・途
中に半導体ウェハにゴミが付着すると、製品は不良にな
ってしまう。従って製造は、清浄な空間内で行わなけれ
ばならない。
中に半導体ウェハにゴミが付着すると、製品は不良にな
ってしまう。従って製造は、清浄な空間内で行わなけれ
ばならない。
従来、この清浄空間はクリーンルームという形で、製造
装置の設置された部屋全体を清浄にすることにより、実
現されていた。そして、各装置間のウェハ搬送は人手に
よシ行っていた。あるいはクリーンルーム内に、搬送用
の機械設備を設置して行っていた しかし、このように、クリーンルーム内で搬送装置(人
間も含めて)が発願源となり、クリーンルームの清浄度
に悪影響を及ぼす。そして超微細なパターンで実現され
るLSIの製蚕不良の原因となる。
装置の設置された部屋全体を清浄にすることにより、実
現されていた。そして、各装置間のウェハ搬送は人手に
よシ行っていた。あるいはクリーンルーム内に、搬送用
の機械設備を設置して行っていた しかし、このように、クリーンルーム内で搬送装置(人
間も含めて)が発願源となり、クリーンルームの清浄度
に悪影響を及ぼす。そして超微細なパターンで実現され
るLSIの製蚕不良の原因となる。
また、クリーンルームでは、部屋全体の清浄度を保つた
めに空調費、設備費等に大きな経費を要していた。
めに空調費、設備費等に大きな経費を要していた。
この発明は上述したクリーンルーム内での搬送という方
式の欠点を改良したもので、搬送により被搬送物の清浄
度をそこなわず、クリーンゾーンを局所化し清浄度維持
のための経費も少なくて済む搬送装置を提供することを
目的とする。
式の欠点を改良したもので、搬送により被搬送物の清浄
度をそこなわず、クリーンゾーンを局所化し清浄度維持
のための経費も少なくて済む搬送装置を提供することを
目的とする。
本発明は、半導体製造装置などに用いられその内部の清
浄度の必要な部分に、フィルターによシゴミを除去した
清浄気体を流し、清浄度を保つようにして、移動車には
、例えば内部にウェハ等の搬送用の容器を有し、その容
器内は、フィルターによりゴミを除去した清浄気体を層
流状態でダウンフローさせ、清浄な状態でウェハー等が
搬送できるようになっていて、移動車の内部容器と半導
体製造装置部の清浄空間は、シャッターによシ、互いに
じゃへいされた状態で結合した後、結合部分に清浄気体
を流し、清浄にしてからシャッターを開くという機構に
より、清浄な状態が乱されないように、結合できる手段
をもってウェハを常に清浄に保ちながら、製造装置間で
ウェハを搬送することができる清浄搬送システムである
。
浄度の必要な部分に、フィルターによシゴミを除去した
清浄気体を流し、清浄度を保つようにして、移動車には
、例えば内部にウェハ等の搬送用の容器を有し、その容
器内は、フィルターによりゴミを除去した清浄気体を層
流状態でダウンフローさせ、清浄な状態でウェハー等が
搬送できるようになっていて、移動車の内部容器と半導
体製造装置部の清浄空間は、シャッターによシ、互いに
じゃへいされた状態で結合した後、結合部分に清浄気体
を流し、清浄にしてからシャッターを開くという機構に
より、清浄な状態が乱されないように、結合できる手段
をもってウェハを常に清浄に保ちながら、製造装置間で
ウェハを搬送することができる清浄搬送システムである
。
°本発明によれば、半導体ウェハは発塵源となる搬送装
置の移動機構部と完全に隔離され、また人手を介さない
ため、非常に清浄な状態で搬送できる。従って超微細バ
タンより集積回路の発塵による不良率を極めて小さくで
きる。
置の移動機構部と完全に隔離され、また人手を介さない
ため、非常に清浄な状態で搬送できる。従って超微細バ
タンより集積回路の発塵による不良率を極めて小さくで
きる。
また本発明装置を用いれば、半導体製造装置の必要部分
だけを清浄にしておけばよいため、大規模の超クリーン
ルームが不要で、清浄度の維持のための経費が、非常に
少なくて済む。
だけを清浄にしておけばよいため、大規模の超クリーン
ルームが不要で、清浄度の維持のための経費が、非常に
少なくて済む。
すなわち、本発明は、半導体製造等の清浄空間での作業
が必要な対象に対する搬送装置として、絶大な効果を有
する。
が必要な対象に対する搬送装置として、絶大な効果を有
する。
以下、図面全参照しながら、本発明の一実施例について
説明する。
説明する。
第1図は搬送装置(右側)とそれに対応する製造装置(
左側)を示したものである。第2図は、両者が結合され
た状態を示したものである。
左側)を示したものである。第2図は、両者が結合され
た状態を示したものである。
まず、第1図により、個々の装置について説明する。
纂1図の右側は、清浄搬送装置である。この装置全体は
全方向移動車1になっている。この装置内部には、送風
機2があシ、上方から空気を吸い込み、下方に送ってい
る。空気溜#)3の下にはフィルタ4があシ、空気中の
ゴミを除いて、空気を清浄にする。この清浄空気が層流
として、ウェハ収納容器5内に流され、容器内部が清浄
に保たれる。
全方向移動車1になっている。この装置内部には、送風
機2があシ、上方から空気を吸い込み、下方に送ってい
る。空気溜#)3の下にはフィルタ4があシ、空気中の
ゴミを除いて、空気を清浄にする。この清浄空気が層流
として、ウェハ収納容器5内に流され、容器内部が清浄
に保たれる。
容器5内部には、ウェハ6が、カセット7に入って納め
られている。カセットはベルトによる移載装置8の上に
置かれている。容器5はシャッタ9とバッキング即よシ
、外部とは、しゃへいされている。
られている。カセットはベルトによる移載装置8の上に
置かれている。容器5はシャッタ9とバッキング即よシ
、外部とは、しゃへいされている。
層流空気は、空気排出室11へ流れ出し、環流ダクト1
2を通り、送風機2の方へ吸い込まれる。このように空
気は循環しながらフィルタ4で清浄にされ、常に清浄空
気が層流となって、ウェハ収納容器5内に流れ、容器内
が清浄に保たれるようになっている。
2を通り、送風機2の方へ吸い込まれる。このように空
気は循環しながらフィルタ4で清浄にされ、常に清浄空
気が層流となって、ウェハ収納容器5内に流れ、容器内
が清浄に保たれるようになっている。
第1図の左側は、搬送装置と結合可能な、製造装置であ
る。空間13はプロセスを行う装置内部で清浄空気の供
給を受けて、清浄になっている。物載装置14はベルト
コンベアで、カセットケースに入ったウェハを、プロセ
ス装置内部に運び込めるようになっている。
る。空間13はプロセスを行う装置内部で清浄空気の供
給を受けて、清浄になっている。物載装置14はベルト
コンベアで、カセットケースに入ったウェハを、プロセ
ス装置内部に運び込めるようになっている。
空気供給ダクト15から送られた空気はフィルタ16に
より清浄にされ、結合部空間17に流され、その部分を
清浄にする。空気は空気排出ダクト18を通じて、流れ
出すようになっている。結合部空間17は、シャッタ1
9により、外部と、シャッタ20とバッキング21.に
より、製造装置内部と、しゃへいされている。この際の
外部とのしゃへい・は、それほどしっかシしたものでな
くてもよい。
より清浄にされ、結合部空間17に流され、その部分を
清浄にする。空気は空気排出ダクト18を通じて、流れ
出すようになっている。結合部空間17は、シャッタ1
9により、外部と、シャッタ20とバッキング21.に
より、製造装置内部と、しゃへいされている。この際の
外部とのしゃへい・は、それほどしっかシしたものでな
くてもよい。
結合部空間17内には、搬送装置と、製造装置が結合さ
れたともに、両者内の移載装置18.14間で、カセッ
ト7を移動する際、移動を円滑に行うだめの、カセッ)
t−ささえるためのベルト22が設けられている。
れたともに、両者内の移載装置18.14間で、カセッ
ト7を移動する際、移動を円滑に行うだめの、カセッ)
t−ささえるためのベルト22が設けられている。
搬送装置は、1つの製造装置から、別の製造装置の間ま
でウェハを内部容器5に入れて、清浄な状態で運ぶ、搬
送装置と製造装置の間では、以下に述べるように、ウェ
ハを清浄に保ちながら、受け渡しできるようになってい
る。
でウェハを内部容器5に入れて、清浄な状態で運ぶ、搬
送装置と製造装置の間では、以下に述べるように、ウェ
ハを清浄に保ちながら、受け渡しできるようになってい
る。
第2図は、搬送装置と、製造装置が結合した状態を示し
たものである。搬送装置が製造装置に近づくと、製造装
置側はシャッタ19をあける。そして、搬送装置は全方
向移動車1の駆動力により搬送装置が、バクキング23
を介してプロセス装置側に密着するようにする。
たものである。搬送装置が製造装置に近づくと、製造装
置側はシャッタ19をあける。そして、搬送装置は全方
向移動車1の駆動力により搬送装置が、バクキング23
を介してプロセス装置側に密着するようにする。
両者が結合されたら、空気供給ダクト15は、フィルタ
16により、清浄空気を結合部空間17に送る。
16により、清浄空気を結合部空間17に送る。
しばらくして、結合部空間17が清浄になったら、搬送
装置側の7ヤツタ9、と製造装置側のシャッタ20をあ
ける。そして、両者の移載装置8.14と結合部のベル
ト22により、ウェハ6の入ったカセット7を両装置間
で受け渡しする。
装置側の7ヤツタ9、と製造装置側のシャッタ20をあ
ける。そして、両者の移載装置8.14と結合部のベル
ト22により、ウェハ6の入ったカセット7を両装置間
で受け渡しする。
このように、本発明によれば、小さな空間を清浄にして
おくだけで、外部の影響を受けずに、清浄を保ちながら
ウェハを搬送できる。
おくだけで、外部の影響を受けずに、清浄を保ちながら
ウェハを搬送できる。
実施例では、結合部分を清浄に保つ手段を製造装置側に
もたせているが、これは搬送装置側にもたせてもよい。
もたせているが、これは搬送装置側にもたせてもよい。
とうすると、移動部分によシ、できるだけ軽くしたい部
分の負担は増すが、多数ある製造装置側は、簡単で済む
。
分の負担は増すが、多数ある製造装置側は、簡単で済む
。
実施例では、移動部分を、自立型全方向走行車としてい
るが、これはどのような移動手段でもよい。必ずしも自
立でなくても、人間による手押し等による移動でもよい
。運ぶ人間が清浄度を害することがないので、人手によ
り運んでも問題はない。
るが、これはどのような移動手段でもよい。必ずしも自
立でなくても、人間による手押し等による移動でもよい
。運ぶ人間が清浄度を害することがないので、人手によ
り運んでも問題はない。
実施例では搬送装置内の、清浄空気は、搬送装置内で、
作製しているが、これはパイプ等によ)外部から供給す
るようにしてもよい。パイプ(チューブ)がつながって
いるのは、走行を限定するが、移動部分は送風機を塔載
しなくてすむので簡単になる。
作製しているが、これはパイプ等によ)外部から供給す
るようにしてもよい。パイプ(チューブ)がつながって
いるのは、走行を限定するが、移動部分は送風機を塔載
しなくてすむので簡単になる。
また、結合時に製造装置側のふん囲気が搬送装置に悪影
響を与えるような場合、例えば製造装置側で腐食性のガ
スを扱う場合等には第2図においてベルト22が単独で
駆動できる手段を設けておき、カセット7を−たん結合
空間部17に納めた後、シャッタ9を閉じシャッタ20
を開くことによってカセット7金製造装置に送シ込み、
その後7ヤツタ20を閉じる手順によって搬送装置側に
なんら悪影響を与えないでカセットの受け渡しができる
。
響を与えるような場合、例えば製造装置側で腐食性のガ
スを扱う場合等には第2図においてベルト22が単独で
駆動できる手段を設けておき、カセット7を−たん結合
空間部17に納めた後、シャッタ9を閉じシャッタ20
を開くことによってカセット7金製造装置に送シ込み、
その後7ヤツタ20を閉じる手順によって搬送装置側に
なんら悪影響を与えないでカセットの受け渡しができる
。
実施例では、半導体ウェハ搬送を例にしているが、半導
体ウェハ以外にも、食品、薬品、生体関係や精密機械製
造等、清浄空間下での作業が必要きものに対する搬送装
置として、本発明は利用できる。
体ウェハ以外にも、食品、薬品、生体関係や精密機械製
造等、清浄空間下での作業が必要きものに対する搬送装
置として、本発明は利用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明システムの概略構成断面図である。第2
図は本発明システムが、製造装置と結合した状態を示し
た構成断面図である。 1・・・全方向移動車 2・・・送風機4.16・・・
フィルタ 9.19.20・・・シャッタ10、21.
23・・・バッキング 16、・・・空気供給ダクト13.・・・製造装置内清
浄空間。 第 1 図
図は本発明システムが、製造装置と結合した状態を示し
た構成断面図である。 1・・・全方向移動車 2・・・送風機4.16・・・
フィルタ 9.19.20・・・シャッタ10、21.
23・・・バッキング 16、・・・空気供給ダクト13.・・・製造装置内清
浄空間。 第 1 図
Claims (1)
- (1)内部に清浄な空間を実現する清浄手段を有する搬
送車と、この搬送車の清浄空間との相互が清浄を保ちな
がら結合する結合手段を有する製造装置空間とからなる
ことを特徴とする清浄搬送システム。 搬送システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6078384A JPS60206017A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 清浄搬送システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6078384A JPS60206017A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 清浄搬送システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60206017A true JPS60206017A (ja) | 1985-10-17 |
Family
ID=13152230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6078384A Pending JPS60206017A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 清浄搬送システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60206017A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4770680A (en) * | 1986-05-19 | 1988-09-13 | Fujitsu Limited | Wafer carrier for a semiconductor device fabrication, having means for sending clean air stream to the wafers stored therein |
JPH02107384A (ja) * | 1988-10-17 | 1990-04-19 | Seiko Electronic Components Ltd | ポータブルクリーンボックス |
JPH02153546A (ja) * | 1988-03-31 | 1990-06-13 | N M B Semiconductor:Kk | 半導体の無塵化製造装置 |
CN105834169A (zh) * | 2016-06-06 | 2016-08-10 | 淮南市鸿裕工业产品设计有限公司 | 一种可调节倾斜的电路板清灰装置 |
-
1984
- 1984-03-30 JP JP6078384A patent/JPS60206017A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4770680A (en) * | 1986-05-19 | 1988-09-13 | Fujitsu Limited | Wafer carrier for a semiconductor device fabrication, having means for sending clean air stream to the wafers stored therein |
JPH02153546A (ja) * | 1988-03-31 | 1990-06-13 | N M B Semiconductor:Kk | 半導体の無塵化製造装置 |
JPH02107384A (ja) * | 1988-10-17 | 1990-04-19 | Seiko Electronic Components Ltd | ポータブルクリーンボックス |
CN105834169A (zh) * | 2016-06-06 | 2016-08-10 | 淮南市鸿裕工业产品设计有限公司 | 一种可调节倾斜的电路板清灰装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20190019709A1 (en) | Workpiece stocker with circular configuration | |
CN106876310A (zh) | Efem中的晶圆搬运部及装载端口部的控制方法 | |
JP2000124124A (ja) | 基板処理装置 | |
TW202314934A (zh) | Efem及efem之氣體置換方法 | |
US10622237B2 (en) | Conveying mechanism | |
US5459943A (en) | Air cleaning apparatus | |
JPS61112312A (ja) | 真空連続処理装置 | |
TW200425382A (en) | Intermediate product manufacturing apparatus, and intermediate product manufacturing method | |
JPS60206017A (ja) | 清浄搬送システム | |
JP3907889B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
CN111725090A (zh) | 半导体生产设备及晶圆背面清洁方法 | |
JP2006351864A (ja) | 処理システム及び処理方法 | |
JP3098547B2 (ja) | キャリアストッカ | |
JP3251566B2 (ja) | ストッカ搬送システム | |
KR102534203B1 (ko) | 기판 처리 시스템 | |
JP2876250B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
JPH05226457A (ja) | 搬送装置 | |
JP2005347667A (ja) | 半導体製造装置 | |
JPS6328046A (ja) | カセツト搬送ボツクス | |
JPH07176591A (ja) | 基板処理装置 | |
US11651979B2 (en) | Transfer unit and apparatus for treating substrate | |
JPH04133422A (ja) | 縦型熱処理装置 | |
JPH04184927A (ja) | ウエハのクリーニングシステム | |
JPH055640B2 (ja) | ||
JP2645357B2 (ja) | 処理装置 |