JPH04184927A - ウエハのクリーニングシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ウェハのクリーニングシステムに係り、特に
半導体製造工程に於いてウェハ表面の酸化膜を除去する
と共に洗浄後のウェハに酸化膜を生じさせないウェハの
クリーニングシステムに関する。

〔従来の技術〕

シリコンウェハは酸化し易く、ウェハ表面に自然酸化膜
が生じる場合がある。ウェハ表面の酸化膜はＩＣの製造
に於いて信頼性を失わせる原因となる。

この為、従来は、グローボックス等を利用し、手作業で
ウェハ表面の酸化膜を希フッ酸で除去する作業を行って
いるが、作業能率が悪い欠点があった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、このような事情に鑑みて成されたもので、手
作業によらず自動的にウェハ表面の酸化膜が除去できる
ウェハのクリーニングシステムを提案することを目的と
する。

〔課題を達成する為の手段〕

本発明は、前記目的を達成する為に、不活性ガスが封入
されウェハがカセット単位で搬入される密閉状のカセッ
トローディング室と、密閉状の内槽と外槽とから成り、
内槽には希フッ酸と純水とが給排水される給排水管とが
接続され、外槽には不活性ガスの給気管と真空タンクと
が接続された洗浄室と、洗浄後のウェハを不活性ガス雰
囲気中で次工程処理部に向けて搬送するカセット搬送手
段と、不活性ガスが封入された容器内に配冒されカセッ
トローディング室のカセットを保持して洗浄室の内槽内
にカセットを搬入し、ウェハ洗浄後内槽内のカセットを
保持してカセット搬送手段に搬出するカセットハンドリ
ング手段と、から成ることを特徴とする。

〔作用〕

本発明によれば、カセットハンドリング手段で不活性ガ
ス雰囲気中のカセットローディング室からウェハカセッ
トを取り出して洗浄室に搬入する。

洗浄室でウェハは希フッ酸で酸化膜を除去された後、不
活性ガス雰囲気中で洗浄室からカセット搬送手段に送ら
れ、カセット搬送手段は不活性ガス雰囲気中でカセット
を次工程処理部に送る。

〔実施例〕

以下、添付図面に従って本発明に係るウェハのクリーニ
ングシステムを提案することを目的とする。

第１図乃至第３図は、本発明のウェハのクリーニングシ
ステムの全体図を示し、第１図はその平面図、第２図は
正面図、第３図は側面図である。

図に於いて、ｌＯはカセットローディング室、１２は洗
浄室、１４はハンドリング手段、１６はカセット搬送手
段である。

カセットローディング室１０は、密閉状容器で形成され
、詳細に図示しないが、カセットの人口、出口１８が検
出され、真空ポンプ２０とバイブ２２を介して連通され
ている。従ってカセットローディング室１０は真空状態
に維持することができると共に、またチッ素ガスを封入
することができる。

洗浄室１２は第２図に示すように外槽としての、外側容
器２４と、内槽としての洗浄槽２６とで分割構成される
。洗浄槽２６は、全体として円筒状に形成された密閉容
器であり、上側円筒体２６Ａと下側円筒体２６Ｂとから
構成され、下側円筒体２６Ｂの当接面にはシール材とし
てのＯ’Ｊング２８が装着されている。下側円筒体２６
Ｂは外側容器２４の底面に固着され、上側円筒体２６Ａ
は、上下動シリンダ３０の作動ロッド３２に固着されて
いる。従って上下動シリンダ３０が作動すると、上側円
筒体２６Ａは上下動し、洗浄槽２６を開閉する。

下側円筒体２８Ｂには薬液注入バイブ３４が設けられ、
上側円筒体２６Ａにはバイブ３６が設けられ、バイブ３
６は伸縮可能なスパイラルバイブ３８を介して排出バイ
ブ４０と接触されている。

エアー供給管４２はスパイラルパイプ４４．３方弁４６
を介してバイブ３６と接続され１、これにより洗浄槽２
６内に高温エアーを供給できるようになっている。

チッ素ガス供給管４８は、スパイラルパイプ５０．３方
弁５２を介してバイブ３６と接続され、これにより洗浄
槽２６内に高純度のチッ素ガスを供給できるようになっ
ている。

また、第２図に示すように洗浄室１２の外側容器２４と
はバイブ５４を介して真空バイブ２０と接続され、洗浄
室１２内を真空状態に維持できるようになっている。

次にカセットハンドリング手段１４について説明する。

第２図に示すようにカセットハンドリング手段１４は密
閉状の容器に収納され、駆動源５６にはロッド５８が設
けられ、ロッド５８の上端には支持台６０が設けられて
いる。支持台６０上にはアーム６２が設けられ、駆動源
５６０回転動作によりアーム６２は少なくとも１８０°
回転させられ、また、駆動源５６の昇降動作によりアー
ム６２は上下動することができる。更にアーム６２には
、支持台６０上の図示しない横蓋きの駆動シリンダと連
結され、アーム６２は伸縮動作ができるようになってい
る。第５図に示すようにア−ムロ２の先端６２Ａはカセ
ット１００の凹部１０２と係合可能なようにＬ字形に形
成され、これによりカセット１００を保持して、ローデ
ィング室１０→洗浄室１２→搬送手段１６に移動できる
ようになっている。

カセットハンドリング手段１４の密閉容器は、第４図に
示すように天井室６４、ハンドリング室６６、床下空間
６８から構成される。天井室６４にはＨＥＰＡフィルタ
７０が設けられ、ＨＥＰＡフィルタ７０を通過したチッ
素ガスは整流板７２を通ってハンドリング室６６に吹き
込み、ハンドリング室６６のエアはグレーチングを介し
て床下空間６８に吸引され、再び天井室６４に送られて
循環使用される。

次にカセット搬送手段１６について説明する。

第６図で示す搬送レール７４にはビークル７６が摺動自
在に配装され、ビークル７６はリニアモータ７８でレー
ル７４に沿って左右に移動される。

更にクリーンガス供給ユニット８０が設けられ、クリー
ンガス供給ユニット８０からはパイプ８２を介してチッ
素ガスがピーフル７６の摺動面に供給される。即ち、チ
ッ素ガスはレール７４の摺動面の小孔から吹き出し、ビ
ークル７６を浮上させ、摺動面から発崖しないようにな
っている。ビークル７６上にはウェハのカセット１００
が載置される。

カセッ）１３送手段１６は、天井室８４、搬送室８６、
床下空間８８から構成される。天井室８４にはＨＥＰＡ
フィルタ９０が設けられ、ＨＥＰＡフィルタ９０を通過
したチッ素ガスは整流板９２を通うて搬送室８６に吹き
込み、搬送室８６のエアはグレーチングを介して床下空
間８８に吸引され、再び天井室８４に送られて循環使用
される。

ビークル浮上のためレール７４から噴射されるチッ素ガ
スにより搬送室８６内のダウンフロー気流が撹乱されな
いように、浮上エアの噴射ノズルの上部に半円形のガイ
ドバーを取付けた方がよい。

前記の如く構成された本発明に係るウェハのクリーニン
グシステムの好ましい実施例を詳説する。

先ス、立上がり時、ローディング室１０、ハンドリング
室６６、搬送室８６は真空ポンプ２０で吸引されて減圧
された後、チッ素ガスが封入される。この状態でローデ
ィング室１０内にウェハを載置したカセッ）１００が搬
入される。次にアーム６２の先端６２Ａがローディング
室ＩＯ内に挿入されてカセット１００を保持し、洗浄室
１２の開口部からカセット１００を挿入し、開放した洗
浄槽２６内にカセット１００を搬入する。洗浄槽２６が
閉じた後、パイプ３４から希フッ酸が注入され、希フッ
酸はウェハの酸化膜を除去する。使用済みの希フッ酸は
パイプ３６、スパイラルパイプ３８、排出パイプ４０を
通って排出される。次にパイプ３４から純水が注入され
て希フッ酸と買換されリンス処理され、使用済みの純水
はパイプ３６、スパイラルパイプ３８、排出パイプ４０
を通って排出される。

次に洗浄槽２６を開いて洗浄室１２を真空排気し、ウェ
ハを乾燥処理、又は高温乾燥処理する。

この場合、リンス処理の後で、高温の純水をウェハに流
すと乾燥処理の時間が短縮される。

乾燥処理が終了すると、パイプ４８．５０、弁５２、パ
イプ３６を介してチッ素ガスが洗浄室１２内に封入され
る。この状態でアーム６２の先端６２Ａがカセッ）１０
０の凹部１０２と係合し、アーム６２が１８０°回転し
てカセット１００を搬送室８６の開口部から挿入し、搬
送室８６のビークル７６上に載置する。ビークル７６は
リニアモータ７８によって駆動され、次工程処理部へ移
動される。この場合、搬送室８６はチッ素ガスが封入さ
れていてウェハは酸化されず、また、ビークル７６の摺
動面からは発じんしない。

前証実施例では、チッ素ガスを用いたが他の不活性ガス
、非酸化性ガスでもよい。

前記実施例では、洗浄室１２は１つ設けたが、ハンドリ
ング手段１４の周囲に複数設けて、洗浄を同時に複数処
理してもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明に係るウェハのクリーニング
システムによれば、カセットローディング室、洗浄室、
カセット搬送手段、カセットハンドリング手段を設け、
カセットハンドリング手段でカセットローディング室の
カセットを洗浄室に搬入し、洗浄後カセットハンドリン
グ手段でカセット搬送手段に向けて搬送し、カセット搬
送手段は次工程処理に向けてウェハカセットを搬送する
。

これらの処理工程は不活性雰囲気でなされ、酸化膜が生
じることはない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のウェハのクリーニングシステムの平面
図、第２図は本発明のウェハのクリーニングシステムの
正面図、第３図は本発明のウェハのクリーニングシステ
ムの側面図、第４図は本発明の要部を示す拡大図、第５
図はアームとカセットとを示す説明図、第６図はカセッ
ト搬送手段を示す斜視図である。 １０・・・カセットローディング室、 １２・・・洗浄室、 １４・・・カセットハンドリング手段、１６・・・カセ
ット搬送手段。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）不活性ガスが封入されウェハがカセット単位で搬
   入される密閉状のカセットローディング室と、密閉状の
   内槽と外槽とから成り、内槽には希フッ酸と純水とが給
   排水される給排水管とが接続され、外槽には不活性ガス
   の給気管と真空タンクとが接続された洗浄室と、 洗浄後のウェハを不活性ガス雰囲気中で次工程処理部に
   向けて搬送するカセット搬送手段と、不活性ガスが封入
   された容器内に配置されカセットローディング室のカセ
   ットを保持して洗浄室の内槽内にカセットを搬入し、ウ
   ェハ洗浄後内槽内のカセットを保持してカセット搬送手
   段に搬出するカセットハンドリング手段と、 から成るウェハのクリーニングシステム。