JPH1074815A - 搬送方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハカセットのハンドリング及び搬送を高
クリーン状態のままで実現すること。 【解決手段】 局所クリーンルーム１内のプロセス装置
３に対し、処理すべきウエハ５を収納したウエハカセッ
ト６を外部から搬送するとき、また装置３で処理された
ウエハ５を収納したウエハカセット６を外部に搬送する
とき、ウエハカセット６を高クリーン状態を維持したま
まで搬送できるので、しかもウエハカセット６をカセッ
トポッド１７から取り出すときや、カセットポッド１７
に収容するときでも高クリーン状態を保つので、ウエハ
カセット６内のウエハ５が全く汚染されるおそれがなく
カセット搬送の無人化・自動運転化を実現し得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハの処
理過程において、該半導体ウエハを高クリーン度を保ち
ながら処理装置と外部との間で受け渡すようにした搬送
方法とその装置とに係り、特に、半導体ウエハの受渡し
を無人化・自動化するのに好適なものに関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体素子の製造にあっては、
製造現場全体を高クリーン状態に保った条件の下で生産
されるのが主流である。そして、その中で使用される装
置類も全て高クリーン度が要求される一方、その中で作
業する作業員による塵埃等の問題が大きかった。このよ
うな状況で、生産スループットを上げる目的から、ウエ
ハを収容したウエハカセットの搬送を自動化する従来技
術として、例えば特公昭８−１９２３号公報，同８−１
９２４号公報に示される技術のものがある。

【０００３】この従来技術のものは、半導体ウエハの製
造工程において、該半導体ウエハが汚染されるのを防止
するため、ウエハを一枚ずつ保護材により覆い、その覆
ったままで半導体ウエハを所定位置にベルトコンベアで
搬送するようにすることが記載されている。

【０００４】また、製造現場全体を高クリーン状態にす
ると、それたけ設備がかさむばかりでなく、コストの著
しい増大を招くので、今日では、クリーンルームの構造
を変更し、局所的にクリーン化する傾向にある。そし
て、この局所クリーン化環境下においては、ウエハを搬
送する場合、ウエハを収納するウエハカセットや該ウエ
ハカセットを収容するポッド自体について種々提案され
ると共に、それらのオプション的なものも提案されてい
る。さらに、ウエハ等の搬送についてはＳＥＭＩでの標
準化も進められている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記に示す
従来技術では、ウエハ一枚一枚を保護し、これを一枚ず
つ搬送するので、それだけ手間を要する結果、生産スル
ープットを高めることができない問題があるばかりでな
く、ウエハ製造現場を局所クリーン化することについて
開示されていない。

【０００６】また、ウエハ製造現場で局所クリーン化す
る場合、生産スループットの向上から、ウエハを高クリ
ーン度を保った状態で自動搬送しようとすると、以下に
述べる問題がある。

【０００７】即ち、（１）ウエハをウエハカセットに収
納して搬送するだけでは、ウエハが周囲に晒され、汚染
するおそれがあるので、ウエハカセットの保護を如何に
するか。

【０００８】（２）ウエハカセットをカセットポッドに
対し出し入れする場合、クリーン度の高い環境とクリー
ン度の低い環境との下で、ウエハカセットの出し入れを
どのようにするか。

【０００９】（３）局所クリーン化された高クリーン度
の処理装置に対し、ウエハカセットを高クリーン度を保
った状態で如何に搬入・搬出するか。

【００１０】（４）高クリーン度の処理装置に対するウ
エハカセットの搬入・搬出の自動化を如何にして達成で
きるか。

【００１１】本発明の目的は、上記従来技術の問題点に
鑑み、局所クリーンルーム方式を採用した製造現場にお
いて、ウエハを収納するウエハカセットのハンドリング
及び搬送を高クリーン状態のままで実現し得る搬送方法
を提供することにあり、他の目的は、上記方法を的確に
実施し得る搬送装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明方法は、局所的に
高クリーン状態の環境下に保たれかつロット単位でウエ
ハを処理する処理装置を有するクリーンルームの所定位
置に対し、複数のウエハを収納したカセットを出し入れ
する搬送方法であって、Ａ）予め、局所クリーンルーム
より低いクリーン状態の雰囲気に生成された外部で走行
可能で、かつ内部に本体室とこれと気密状態に保たれる
と共にウエハカセットを収容するカセットポットが投入
されるポッド室とを夫々形成した搬送ユニット設けてお
くこと、Ｂ）搬送ユニットのポッド室に、処理装置で処
理すべきウエハ収納のウエハカセットを収容したカセッ
トポッドを投入したとき、ポッド室内の空気を外部に排
気すること、Ｃ）次いで、搬送ユニットを局所クリーン
ルームに移動し、搬送ユニットのカセット出入口を局所
クリーンルームのカセット出入口に接続した時点で、両
カセット出入口間の空気を外部に排気すること、Ｄ）そ
の後、ポッド室内のカセットポッドからウエハカセット
を本体室内に取り出し、該取り出したウエハカセットを
把持すると共に、本体室から前記両カセット出入口を経
て局所クリーンルームの所定位置に搬送して受け渡すこ
と、Ｅ）また、処理装置によって処理されたウエハを収
納したウエハカセットが局所クリーンルーム内の所定位
置にセットされると共に、空のカセットポッドが搬送ユ
ニットのポッド室に投入されたとき、ポッド室内の空気
を外部に排気すること、Ｆ）次いで、搬送ユニットを局
所クリーンルームに移動し、搬送ユニットのカセット出
入口を局所クリーンルームのカセット出入口に接続した
時点で、両カセット出入口間の空気を外部に排気するこ
と、Ｇ）局所クリーンルーム内の所定位置にセットさ
れ、かつ処理装置によって処理されたウエハを収納して
いるウエハカセットを、把持して本体室に搬送するこ
と、Ｈ）その後、本体室内のウエハカセットをポッド室
に入れて該ポッド室内のカセットポッドに収容すること
を特徴とするものである。

【００１３】また、本発明装置においては、局所的に高
クリーン状態の環境下に保たれ、かつロット単位でウエ
ハを複数処理する処理装置を有するクリーンルームに対
し、ウエハを収納したカセットを出し入れする搬送装置
であって、該クリーンルーム内の処理装置の近傍位置に
設けられ、ウエハを収納したウエハカセットをセットす
るカセット置き台と、クリーンルームの外側部に形成さ
れ、カセットを出し入れするカセット出入口と、クリー
ンルームより低クリーン状態に生成された外部に走行可
能に設けられ、かつ内部に本体室とこれと気密状態に保
たれると共にカセットを収容するカセットポッドを投入
するポッド室とを夫々形成した搬送ユニットとを備えて
いる。

【００１４】そして、該搬送ユニットは、本体室の外側
部に形成され、ウエハカセットを出し入れすると共に、
局所クリーンルームのカセット出入口と接続されるカセ
ット出入口と、本体室とポッド室との間の境界部位に配
置され、ポッド室内のカセットポッドを支持するポッド
受け台と、ポッド受け台を移動させ、ポッド室内のカセ
ットポッドからウエハカセットを取り出して本体室内に
移動する一方、本体室のウエハカセットをポッド室に入
れて該ウエハカセットをカセットポッドに収容させる出
し入れ手段と、局所クリーンルーム用のカセット出入口
と搬送ユニット用のカセット出入口とが接続されたと
き、局所クリーンルーム内のカセット置き台と本体室内
の出し入れ手段との両者間において、何れか一方のカセ
ットを把持しながら移動し、クリーンルーム用のカセッ
ト出入口，搬送ユニット用のカセット出入口間を経て他
方に受け渡すハンドリング手段と、ポッド室にカセット
ポットが外部から投入されたとき、ポッド室内の空気を
外部に排気する一方、クリーンルーム用のカセット出入
口と搬送ユニット用のカセット出入口とが接続された時
点で、両カセット出入口間の空気を外部に排気する浄化
手段と、搬送ユニットを所定位置に走行させる走行手段
とを具えていることを特徴とするものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図１〜
図６により説明する。図１〜図４は本発明の搬送方法を
実施するための搬送装置の一実施例を示している。

【００１６】図中、符号１は局所クリーンルームであっ
て、クラス１以下の清浄空気が超高性能のフィルタ（例
えばＨＥＰＡフィルタ或いは化学的フィルタ）を有する
再循環式の送風装置２により、内部に設置されたプロセ
ス装置３の周りに局所的に供給されるようにしている。
このプロセス装置３は、本例では１２インチの薄膜液晶
基板からなるウエハをロット単位で処理するものであ
る。

【００１７】そして、本発明の搬送方法を実施するため
の搬送装置の一実施例は、局所クリーンルーム１内のプ
ロセス装置３に対し、ウエハ５を収納したウエハカセッ
ト６を出し入れするためのものである。即ち、この搬送
装置は、まず、局所クリーンルーム１内におけるプロセ
ス装置３の側部にカセット置き台４が設けられ、該カセ
ット置き台４にウエハ５を収納したウエハカセット６が
セットされている。

【００１８】また、局所クリーンルーム１においてカセ
ット置き台４と対応する外側部にはカセット出入口７が
設けられている。この局所クリーン側のカセット出入口
７は、開閉扉８と、密着カップリング９とを有し、該密
着カップリング９により後述する搬送ユニット１０と接
続しかつ開閉扉８が開いたとき、該カセット置き台４上
のウエハカセットを外部に運搬したり、外部からのウエ
ハカセットをカセット置き台４上にセットされるように
している。

【００１９】局所クリーンルーム１の外部は低クリーン
状態（約１０００〜１００００の範囲）に保たれてお
り、走行可能な搬送ユニット１０が設けられている。こ
の搬送ユニット１０は、全体として箱形をなしており、
ウエハ５を収納しているウエハカセット６をプロセス装
置２との間で受け渡すように構成されている。

【００２０】搬送ユニット１０について詳細に述べる
と、この搬送ユニット１０は底部に車輪１２が取付けら
れ、走行手段１１によって車輪１２が駆動されることに
より、低クリーンルームＢ内を全体移動する。走行手段
１１は、搬送ユニット１０の内部に設置された全体制御
装置１３により制御され、必要に応じ図示しない部分が
上下に伸縮することにより、搬送ユニット１０の高さも
調節可能に構成されている。

【００２１】また、搬送ユニット１０は、その内部が後
述するカセット出入口１４と連通する本体室１５Ａと、
これと仕切壁１５Ｃを介し区画されたポッド室１５Ｂと
を有し、全体として箱形をなしている。ポッド室１５Ｂ
は、ウエハ５を収納したウエハカセット６を局所クリー
ンルーム１のカセット置き台４に搬送するとき、或いは
カセット置き台４上のウエハカセット６を取り出す場
合、ウエハカセット６全体を収容するカセットポッド１
７をセットする空間部であり、開閉扉１８を有してい
る。開閉扉１８はウエハカセット６全体を収容するカセ
ットポッド１７をポッド室１５Ｂに出し入れするための
ものである。そして、本体室１５Ａとポッド室１５Ｂと
の境界部位にはポッド受け台１９が設けられている。こ
のポッド受け台１９は、カセットポッド１７をポッド室
１５Ｂにセットしたとき、そのカセットポッド１７の底
蓋１７Ａを支持するものである。

【００２２】なお、本例で取り扱うカセットポッド１７
は図１に示すように、ウエハカセット６を搭載する底蓋
１７Ａと、ウエハカセット６に上から被せ、これを覆う
上蓋１７Ｂとからなっている。

【００２３】さらに、搬送ユニット１０において本体室
１５Ａと連絡する側部にはカセット出入口１４が設けら
れている。この搬送ユニット側１０のカセット出入口１
４は、局所クリーンルーム側のカセット出入口７と同様
に開閉扉１５と密着カップリング１６とを有する。開閉
扉１５は通常では閉じており、プロセス装置３との間で
ウエハカセット６を受け渡すときに開く。密着カップリ
ング１６は、搬送ユニット１０が局所クリーンルーム側
のカセット出入口７に移動したとき、そこで密着カップ
リング９と結合することにより、局所クリーンルーム１
と搬送ユニット１０とを接続するようにしている。従っ
て、密着カップリング９と１６とで接続手段を構成して
おり、この接続手段も全体制御装置１３により制御され
る。

【００２４】そして、この搬送ユニット１０は、ポッド
受け台１９を移動させ、ポッド室１５Ｂ内のカセットポ
ッド１７から本体室１５Ａ内にウエハカセット６を取り
出し、また本体室１５Ａ内のウエハカセット６をポッド
室１５Ｂのカセットポッド１７に入れる出し入れ手段
（符示せず）を有している。

【００２５】該出し入れ手段は、図２に示すように、ポ
ッド室１５Ｂ内のカセットポッド１７の上蓋１Ｂをその
ままの位置に固定させる上蓋固定機構２０と、カセット
ポッド１７の上蓋１７Ｂと底蓋１７Ａとを組付けたり、
その組付けを解除したりする開閉機構２１と、ポッド受
け台１９を支持し、かつ上蓋１７Ｂと底蓋１７Ａとが開
いているとき、ポッド受け台１９を下降させることによ
って底蓋１７Ａ及びカセットウエハ６をポッド室１５Ｂ
から本体室１５Ａに取り出し、またポッド受け台１９を
昇降させることによって底蓋１７Ａ上のカセットウエハ
６をポッド室１５Ｂに入れる上下移動体２２とを具えて
いる。即ち、この出し入れ手段は、搬送ユニット側の密
着カップリング１６と局所クリーンルーム側の密着カッ
プリング９とが結合することによって搬送ユニット１０
が局所クリーンルーム１に接続状態にある場合、上蓋固
定機構２０が図３に示す如く、カセットポッド１７の上
蓋１７Ｂ方向に移動しして該上蓋１７Ｂをそのままの位
置に固定すると共に、開閉機構２１により上蓋１７Ｂと
底蓋１７Ａとの組付けを解除すると、図２に示すよう
に、上下移動体２２の駆動でポッド受け台１９が降下す
ることにより、底蓋１７Ａ及びウエハカセット６をポッ
ド室１５Ｂから本体室１５Ａに取り出すようにしてい
る。そして、その状態から上下移動体２１の駆動でポッ
ド受け台１９が昇降し、該受け台１９が仕切壁１５Ｃの
位置に復帰した時点で、開閉機構２１により底蓋１７Ａ
と上蓋１７Ｂとが組付けられると共に、上蓋固定機構２
０が上蓋１７Ｂを開放することにより、ウエハカセット
６をポッド室１５Ｂに入れ、かつカセットポッド１７に
収容させるようにしている。その際、ポッド受け台１９
は仕切壁１５Ｃとの間に気密状態を保てるようにシール
部２３が設けられている。これら出し入れ手段の上蓋固
定機構２０，開閉機構２１，上下移動体２２も全体制御
機構１３により制御される。なお、上下移動体２２は本
例ではシリンダで構成され、そのロッドの先端部にパッ
ド受け台１９を一体的に装着しているが、別体で形成
し、これを必要に応じ吸着したり吸着解除するように構
成してもよい。

【００２６】また搬送ユニット１０は、ウエハカセット
６を把持し、かつ該ウエハカセット６を本体室１５Ａ内
のポッド受け台１９と局所クリーンルーム１内のカセッ
ト置き台４との間で受け渡すハンドリング手段（符示せ
ず）を有している。

【００２７】このハンドリング手段は多関節タイプのロ
ボットからなっている。即ち、ハンドリング手段は図４
に示すように、ベース２４と、これに矢印の如く水平方
向に移動可能に取付けられた移動部２５と、該移動部２
５に回転軸を介し一端が取付けられた第一アーム２６
と、第一アーム２６の他端に回転軸を介し一端が取付け
られた第二アーム２７と、第二アーム２７の他端に回転
軸を介し取付けられ、かつウエハカセット６を把持する
一方、ウエハカセット６の把持を解除するハンド２８と
を具えている。

【００２８】このハンドリング手段は、図４に示す如く
上下移動体２２によって底蓋１７Ａ及びカセットウエハ
６を支持したポッド受け台１９が降下したとき、移動部
２５による移動と第一アーム２６，第二アーム２７の回
動とによってハンド２８がウエハカセット６の位置まで
移動し、かつハンド２８がウエハカセット６を把持する
と、ハンド２８がウエハカセット６を把持した状態のま
まで移動し、図３に示すように、搬送ユニット側のカセ
ット出入口１４及び局所クリーンルーム側のカセット出
入口７を経てカセット受け台４上にセットするようにし
ている。

【００２９】一方、前記ハンドリング手段は、ウエハカ
セット６がカセット置き台４上にセットされたとき、ハ
ンド２８がカセット出入口１４及びカセット出入口７を
経てウエハカセット６の位置まで移動し、かつ該ウエハ
カセット６を把持すると、その把持状態のままでカセッ
ト出入口７，１４を経て、降下しているポッド受け台１
９上のカセットポッド１７の底蓋１７Ａ上に搬送するよ
うにしている。その場合、前記出し入れ手段は、ポッド
底蓋１７Ａ上にウエハカセット６が搭載されると、移動
体２２が昇降し、ポッド受け台１９が本体室１５Ａとポ
ッド室１５Ｂ間の所定位置に戻り、また上蓋固定機構２
０がカセットポッド１７の上蓋１７Ｂの固定を解除する
と共に、開閉機構２１が上蓋１７Ｂと底蓋１７Ｂとを閉
じることにより、ウエハカセット６をカセットポッド１
７内に収容するようにしている。ハンドリング手段も全
体制御装置１３により制御される。

【００３０】さらに、搬送ユニット１０は、ポッド室１
５Ｂ，本体室１５Ａの内部空気を排気し、クリーン状態
に生成する浄化手段（符示せず）を有している。該浄化
手段は、搬送ユニット１０のポッド室１５Ｂの底部に設
けられた真空バルブ２９と、カセット出入口１４に設け
られた真空バルブ３０と、これらバルブ２９，３０と接
続された真空ポンプ３１とを具えている。即ち、この浄
化手段は、開閉扉１８が開くことによってポッド室１５
Ｂ内が汚染（低クリーン状態になる）されるので、カセ
ットポッド１７がポッド室１５Ｂに投入され時点で開閉
扉１８が閉じたとき、真空バルブ２９を開くと共に真空
ポンプ３１を駆動することにより、低クリーン状態の空
気を吸込み、外部に排気するようにしている。またこの
浄化手段は、搬送ユニット１０の密着カップリング１６
と局所クリーンルーム１の密着カップリング１６とが結
合したとき、真空バルブ３０を開くと共に真空ポンプ３
１を駆動することにより、双方のカセット出入口７，１
４間の低クリーン空気を外部に排気するようにしてい
る。この浄化手段も全体制御装置１３により制御され
る。

【００３１】またさらに、搬送ユニット１０は、前記出
し入れ手段，ハンドリング手段，浄化手段の他、超純中
性ガスを本体室１５Ａ及びポッド室１５Ｂ内に供給する
ガス発生装置３２を具えている。このガス発生装置３２
は、例えば窒素ガスを供給するものであり、例えば出し
入れ手段の上下移動体２２の駆動によりポッド受け台１
９をポッド室１５Ｂ側に移動するとき、窒素ガスをポッ
ド受け台１９方向（上方）に向けて噴出し、本体室１５
Ａ及びポッド室１５Ｂ内に供給することにより、ポッド
受け台１９の周囲をより高クリーン雰囲気に保つように
している。このガス発生装置３２も全体制御装置１３に
より制御される。

【００３２】従って、全体制御装置１３は、プロセス装
置３でウエハ５をプロセス処理するため、該ウエハ収納
のウエハカセット６を収容しているカセットポッド１７
がポッド室１５Ｂに投入された場合、またプロセス装置
３でプロセス処理されたウエハ５を収納しているウエハ
カセット６が、カセット置き台４にセットされたときで
あって、かつポッド室１５Ｂに空のカセットポッド１７
が投入された場合、前記走行手段１１，出し入れ手段，
ハンドリング手段，浄化手段，ガス発生装置３２を予め
定められた手順で作動させるように設定されている。

【００３３】実施例の搬送装置は、上記の如き構成より
なるので、次にその動作に関連して本発明方法の一実施
例を図５，図６を用いて説明する。

【００３４】まず、ウエハ５を収納したウエハカセット
６を局所クリーンルーム１に搬送する場合について述べ
る。

【００３５】即ち、搬送ユニット１０の開閉扉１８が開
き、ウエハ５を収納したウエハカセット６が搬送ユニッ
ト１０のポッド室１５Ｂ内に人手或いは自動で投入され
ることによりウエハカセット６がポッド受け台１９上に
支持され（５０１）、その後、その開閉扉１８を閉じる
（５０２）。このとき、開閉扉１８が開いたときにポッ
ド室１５Ｂ内に外部空気である低クリーン度の空気が入
り込むので、真空バルブ２９を開くと共に、真空ポンプ
３１が駆動されることにより、ポッド室１５Ｂ内の空気
を外部に排気してポッド室１５Ｂをクリーンな状態にす
る（５０３）。

【００３６】次いで、搬送ユニット１０は、走行手段１
１の駆動によって局所クリーンルーム１側に図１に示す
如く移動し、局所クリーンルーム１側のカセット出入口
７に対し搬送ユニット側のカセット出入口１４が位置決
めされ（５０４）、該カセット出入口１４の密着カップ
リング１４とカセット出入口７の密着カップリング９と
が結合されると（５０５）、カセット出入口１４側の真
空バルブ３０が開くと共に、真空ポンプ３１が駆動され
ることにより、局所クリーンルーム側のカセット出入口
７と搬送ユニット側のカセット出入口１４間の空気を外
部に排気し、その両者７，１４間をクリーンな状態にす
る（５０６）。

【００３７】その後、搬送ユニット１０のポッド室１５
Ｂにおいては、出し入れ手段の上蓋固定機構２０がカセ
ットポッド１７の上蓋１７Ｂをそのままの位置に固定す
ると共に（５０７）、開閉機構２１がカセットポッド１
７の上蓋１７Ｂと底蓋１７Ａとの組付けを解除して分離
すると（５０８）、図２に示す如く、上下移動体２２の
駆動によりポッド受け台１９が降下することにより、カ
セットポッド１７の底蓋１７Ａ及びウエハカセット６が
ポッド室１５Ｂから本体室１５Ａに取り出される（５０
９）。

【００３８】その場合、ポッド受け台１９の降下時に
は、ガス発生装置３２により窒素ガスが発生し、その窒
素ガスがポッド受け台１９のウエハカセット６に向かっ
て供給されるので、ウエハカセットの周囲がより高クリ
ーン状態に保たれる。なお、降下位置は、ハンドリング
手段のハンド２８によりウエハカセット６が把持される
位置である。

【００３９】上述の如く、ウエハカセット６がポッド室
１５Ｂから本体室１５Ａに取り出されると、ハンドリン
グ手段が駆動され、そのハンド２８が図４に示すよう
に、ポッド受け台１９上のウエハカセット６を掴み（５
１０）、また局所クリーンルーム側のカセット出入口７
の開閉扉８と搬送ユニット側のカセット出入口１４の開
閉扉１５との双方が開くので（５１１）、ハンド２８は
掴んだウエハカセット６を、図３に示すように、本体室
１５Ａからそのカセット出入口１４及び局所クリーンル
ーム側のカセット出入口７を経て局所クリーンルーム１
側に移動することにより、プロセス装置３のカセット置
き台４上に位置決めし、掴むのを解除してカセット置き
台４にセットする（５１２）。これにより、プロセス装
置３は、ウエハカセット６内のウエハ５を処理すること
ができる。

【００４０】この場合、局所クリーンルーム側の開閉扉
８と搬送ユニット側の開閉扉１５とが開くと、局所クリ
ーンルーム側の空気と本体室１５Ａ内の空気とが混合さ
れることとなるが、本体室１５Ａ内の空気が所定の高ク
リーン度に保たれているので、局所クリーンルーム１の
高クリーン状態が維持される。

【００４１】そして、ハンド２８は、ウエハカセット６
をカセット置き台４にセットした後、局所クリーンルー
ム１からそのカセット出入口７及び搬送ユニット１０の
カセット出入口１４を経て本体室１５Ａの元の位置に戻
ることにより、退避する（５１３）。次いで、局所クリ
ーンルーム１側のカセット出入口７の開閉扉８と搬送ユ
ニット１０のカセット出入口１４の開閉扉１５との双方
が閉じると（５１４）、本体室１５Ａ内のガス発生装置
３２により窒素ガスを噴射し、該窒素ガスをポッド受け
台１９及びポッド室１５Ｂ方向に供給し、搬送ユニット
１０内を高クリーン状態にしておく（５１５）。

【００４２】その後、出し入れ手段の上下移動体２２の
駆動によってポッド受け台１９が上昇し、本体室１５
Ａ，ポッド室１５Ｂ間の仕切壁１５Ｃの部分まで位置す
ると（５１６）、開閉機構２１によりポッド受け台１９
上の底蓋１７Ａと上蓋１７Ｂとが組付けられることによ
りカセットポッド１７を形成すると共に（５１７）、上
蓋固定機構２０が上蓋１７Ｂを開放する（５１８）。

【００４３】上蓋１７Ｂの解放後、ポッド室１７Ｂの開
閉扉１８を開き（５１９）、空のカセットポッドを取り
出すことにより、終了する。

【００４４】従って、搬送ユニット１０は、ウエハカセ
ット６を収容したカセットポッド１７がポッド室１５Ｂ
に投入され、かつ開閉扉１８が閉じると、そのカセット
ポッド１７からウエハカセット６を本体室１５Ａに取り
出し、局所クリーンルーム１内のカセット置き台４にセ
ットするので、ウエハカセット６を局所クリーンルーム
１に搬送するのに高クリーン状態のままで容易に搬送す
ることができる。

【００４５】次に、局所クリーンルーム１のプロセス装
置３で処理されたウエハ５を収納したウエハカセット６
を、取り出す場合について述べる。まず、搬送ユニット
１０の開閉扉１８を開き、そのポッド室１５Ｂ内に空の
カセットポッド１７を投入すると（６０１）、その後
は、前述し５０２〜５０９までの処理手順と同様の処理
手順となる（６０２〜６０９）。但し、６０９におい
て、上下移動体２２の下降時には、ポッド受け台１９上
にカセットポッド１７の底蓋１７Ａのみが搭載されてい
るだけである。

【００４６】そして、底蓋１７Ａのみが搭載されている
ポッド受け台１９が下降すると（６０９）と、搬送ユニ
ット側のカセット出入口１４の開閉扉１５と局所クリー
ンルーム１側のカセット出入口７の開閉扉８とが開く
（６１０）。次いで、本体室１５Ａ内のハンドリング手
段が動作することによりハンド２８が局所クリーンルー
ム１内に移動し（６１１）、このハンド２８は、プロセ
ス装置３によって処理されたウエハ５を収納しているウ
エハカセット６を掴むと（６１２）、掴んだままの状態
でカセット出入口７及びカセット出入口１４を経て本体
室１５Ａ内に移動し、出し入れ手段の上下移動体２２上
のポッド受け台１９上に支持されている底蓋１７Ａにウ
エハカセット６をセットする（６１３）。

【００４７】その後、双方のカセット出入口７，１４の
開閉扉８，１５が閉じ（６１４）、また本体室１５Ａ内
のガス発生装置３２により窒素ガスをウエハカセット６
方向に向けて噴射し、ウエハカセット６の周囲を高クリ
ーン状態にしておく（６１５）。次いで、上下移動体２
２を昇降し、ポッド受け台１９を本体室１５Ａとポッド
室１５Ｂ間の仕切壁１５Ｃの部分まで位置させ、ポッド
受け台１９によりポッド室１５Ｂと本体室１５Ａとが遮
断されると（６１６）、開閉機構２１により底蓋１７Ａ
と上蓋１７Ｂとが組付けられると共に（６１７）、上蓋
固定機構２０が上蓋１７Ｂを開放することにより（６１
８）、ポッド室１５Ｂ内でカセットポッド１７にウエハ
カセット６が収容される。

【００４８】さらにその後、搬送ユニット１０の開閉扉
１８が開き（６１９）、カセットポッド１７が取り出さ
れる（６２０）。

【００４９】従って、局所クリーンルーム１のプロセス
装置３で処理されたウエハ５が、ウエハカセット６に収
納されてカセット置き台４上にセットされると、そのウ
エハカセット６は、搬送ユニット１０により高クリーン
状態を保った状態のままでハンドリングされ、かつ搬送
されてカセットポッド１７に収容されるので、ウエハカ
セット６に収納されているウエハ５を汚染するおそれが
全くない。

【００５０】その結果、局所クリーンルーム１内のプロ
セス装置３に対し、処理すべきウエハ５を収納したウエ
ハカセット６を外部から搬送するとき、またプロセス装
置３で処理されたウエハ５を収納したウエハカセット６
を外部に搬送するとき、そのウエハカセット６を高クリ
ーン状態を維持したままで搬送することができるので、
しかも、ウエハカセット６をカセットポッド１７から取
り出すときや、カセットポッド１７に収容するときでも
高クリーン状態を保つことができるので、ウエハカセッ
ト６内のウエハ５が全く汚染されるおそれがなく、カセ
ット搬送の無人化・自動運転化を実現し得る。

【００５１】また、局所クリーン化しているプロセス装
置３に対して、ウエハカセット６を安全に搬入・搬出で
きるので、それだけ設備数を削減できると共に、コスト
の低廉化を図ることができる。しかもウエハカセット６
に複数のウエハ６を収納し、一括的な搬入・搬出を行え
るので、生産スループットを確実に図り得る。

【００５２】さらに図示実施例では、搬送ユニット１０
の本体室１５Ａ内に多関節ロボットからなるハンドリン
グ手段が設置され、該ハンドリング手段のハンド２８に
よってウエハカセット６を把持し、かつ所望位置に搬送
するので、１２インチ程度の大きなウエハ５を取り扱う
場合であっても、ウエハカセット６のハンドリング及び
搬送を的確に行うことができる。また、上述の如きハン
ド２８によって搬送すると、局所クリーンルーム側のカ
セット出入口７及び搬送ユニット側のカセット出入口１
４を可及的に小さくできることから、双方のカセット出
入口７，１４の接続構造を確実にかつ簡単にすることが
できる等の効果もある。

【００５３】さらに図示例では、カセットポッド１７が
底蓋１７Ａと上蓋１７Ｂとを上下方向で分離・組付けす
るように構成されているため、搬送ユニット１０の本体
室１５Ａとポッド室１５Ｂとを上下方向に配置した例を
示したが、要は初期の機能を有するものであればよく、
図示実施例に限定されるものではない。

【００５４】またさらに図示例では、搬送ユニット１０
が走行可能に構成された例を示したが、搬送ユニット１
０を局所クリーンルーム１に設置する、いわゆるビルト
インタイプに構成すれば、搬送ユニット１０の走行動作
が不要になるので、それだけ構成の簡素化を図ることが
できると共に、上述した効果を果たすことができる。

【００５５】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の請求項１に
よれば、局所クリーンルーム内の処理装置に対し、処理
すべきウエハを収納したウエハカセットを外部から搬送
するとき、また処理装置で処理されたウエハを収納した
ウエハカセットを外部に搬送するとき、そのウエハカセ
ットを高クリーン状態を維持したままで搬送することが
でき、しかも、ウエハカセットをカセットポッドから取
り出すときや、カセットポッドに収容するときでも高ク
リーン状態を保つことができるように構成したので、ウ
エハカセット内のウエハが全く汚染されるおそれがな
く、カセット搬送の無人化・自動運転化を実現し得る効
果がある。

【００５６】また、請求項２によれば、請求項１の方法
を的確に実施することができる降下がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明方法を実施するための搬送装置の一実施
例を示す全体構成図。

【図２】搬送ユニットのポッド内のカセットポッドから
ウエハカセットを取り出し、本体内に移動するときの状
態を示す説明図。

【図３】搬送ユニットの本体内から局所クリーンルーム
内のカセット置き台上にウエハカセットをセットする状
態を示す説明図。

【図４】搬送ユニット内の上下移動体とハンドリング装
置とを示す説明図。

【図５】ウエハカセットを収容したカセットポッドか
ら、ウエハカセットを局所クリーンルーム内に搬送する
手順を示すフローチャート。

【図６】局所クリーンルーム内からウエハカセットを搬
送ユニットに搬送し、カセットポッドに収容する手順を
示すフローチャート。

【符号の説明】

１…局所クリーンルーム、３…プロセス装置、４…カセ
ット置き台、５…ウエハ、６…ウエハカセット、７…局
所クリーンルーム側のカセット出入口、１０…搬送ユニ
ット、１１…走行手段、１３…全体制御装置、１４…搬
送ユニット側のカセット出入口、１５Ａ…本体室、１５
Ｂ…ポッド室、９，１６…密着カップリング、１７…カ
セットポッド、１９…ポッド受け台、２０〜２２…出し
入れ手段、２５〜２８…ハンドリング手段、２９〜３１
…浄化手段、３２…ガス発生装置。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 局所的に高クリーン状態の環境下に保た
   れかつロット単位でウエハを処理する処理装置を有する
   クリーンルームの所定位置に対し、複数のウエハを収納
   したカセットを出し入れする搬送方法であって、 Ａ）予め、局所クリーンルームより低いクリーン状態の
   雰囲気に生成された外部で走行可能で、かつ内部に本体
   室とこれと気密状態に保たれると共にウエハカセットを
   収容するカセットポットが投入されるポッド室とを夫々
   形成した搬送ユニット設けておき、 Ｂ）搬送ユニットのポッド室に、処理装置で処理すべき
   ウエハ収納のウエハカセットを収容したカセットポッド
   を投入したとき、ポッド室内の空気を外部に排気し、 Ｃ）次いで、搬送ユニットを局所クリーンルームに移動
   し、搬送ユニットのカセット出入口を局所クリーンルー
   ムのカセット出入口に接続した時点で、両カセット出入
   口間の空気を外部に排気し、 Ｄ）その後、ポッド室内のカセットポッドからウエハカ
   セットを本体室内に取り出し、該取り出したウエハカセ
   ットを把持すると共に、本体室から前記両カセット出入
   口を経て局所クリーンルームの所定位置に搬送して受け
   渡し、 Ｅ）また、処理装置によって処理されたウエハを収納し
   たウエハカセットが局所クリーンルーム内の所定位置に
   セットされると共に、空のカセットポッドが搬送ユニッ
   トのポッド室に投入されたとき、ポッド室内の空気を外
   部に排気し、 Ｆ）次いで、搬送ユニットを局所クリーンルームに移動
   し、搬送ユニットのカセット出入口を局所クリーンルー
   ムのカセット出入口に接続した時点で、両カセット出入
   口間の空気を外部に排気し、 Ｇ）局所クリーンルーム内の所定位置にセットされ、か
   つ処理装置によって処理されたウエハを収納しているウ
   エハカセットを、把持して本体室に搬送し、 Ｈ）その後、本体室内のウエハカセットをポッド室に入
   れて該ポッド室内のカセットポッドに収容することを特
   徴とする搬送方法。
2. 【請求項２】 局所的に高クリーン状態の環境下に保た
   れ、かつロット単位でウエハを複数処理する処理装置を
   有するクリーンルームに対し、ウエハを収納したカセッ
   トを出し入れする搬送装置であって、該クリーンルーム
   内の処理装置の近傍位置に設けられ、ウエハを収納した
   ウエハカセットをセットするカセット置き台と、クリー
   ンルームの外側部に形成され、カセットを出し入れする
   カセット出入口と、クリーンルームより低クリーン状態
   に生成された外部に走行可能に設けられ、かつ内部に本
   体室とこれと気密状態に保たれると共にカセットを収容
   するカセットポッドを投入するポッド室とを夫々形成し
   た搬送ユニットとを備え、かつ該搬送ユニットは、本体
   室の外側部に形成され、ウエハカセットを出し入れする
   と共に、局所クリーンルームのカセット出入口と接続さ
   れるカセット出入口と、本体室とポッド室との間の境界
   部位に配置され、ポッド室内のカセットポッドを支持す
   るポッド受け台と、ポッド受け台を移動させ、ポッド室
   内のカセットポッドからウエハカセットを取り出して本
   体室内に移動する一方、本体室のウエハカセットをポッ
   ド室に入れて該ウエハカセットをカセットポッドに収容
   させる出し入れ手段と、局所クリーンルーム用のカセッ
   ト出入口と搬送ユニット用のカセット出入口とが接続さ
   れたとき、局所クリーンルーム内のカセット置き台と本
   体室内の出し入れ手段との両者間において、何れか一方
   のカセットを把持しながら移動し、クリーンルーム用の
   カセット出入口，搬送ユニット用のカセット出入口間を
   経て他方に受け渡すハンドリング手段と、ポッド室にカ
   セットポットが外部から投入されたとき、ポッド室内の
   空気を外部に排気する一方、クリーンルーム用のカセッ
   ト出入口と搬送ユニット用のカセット出入口とが接続さ
   れた時点で、両カセット出入口間の空気を外部に排気す
   る浄化手段と、搬送ユニットを所定位置に走行させる走
   行手段とを具えていることを特徴とする搬送装置。