JPH0669312A

JPH0669312A - 可搬式密閉コンテナ移送式の電子基板処理システム

Info

Publication number: JPH0669312A
Application number: JP4221474A
Authority: JP
Inventors: Teppei Yamashita; 哲平山下; Masanao Murata; 正直村田; Miki Tanaka; 幹田中; Akiya Morita; 日也森田; Hitoshi Kono; 等河野; Michihiro Hayashi; 満弘林; Atsushi Okuno; 敦奥野; Akio Nakamura; 昭生中村
Original assignee: Shinko Electric Co Ltd
Current assignee: Shinko Electric Co Ltd
Priority date: 1992-08-20
Filing date: 1992-08-20
Publication date: 1994-03-11

Abstract

(57)【要約】【目的】装置間相互の時間的制約を無くして工程の自
由度を向上することができ、生産性を高めることができ
る可搬式密閉コンテナ移送式の半導体処理システムを提
供することを目的とする。【構成】電子基板Ｗの処理装置１００と洗浄装置２０
０を備える電子基体処理システムにおいて、パージステ
ーション３００と保管庫４００を有し、上記洗浄装置で
洗浄を終えた電子基板もしくは当該電子基板を収納した
カセット７０は上記パージステーション内で可搬式密閉
コンテナ３０に収納かつ不活性なガスによるガスパージ
され、上記可搬式密閉コンテナは上記保管庫で保管され
ることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルームに用い
られる可搬式密閉コンテナ等を用いた可搬式密閉コンテ
ナ移送式の電子基板処理システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】電子基板、例えば、半導体の製造は、内
部雰囲気を清浄化したクリーンルーム内において行なわ
れ、この内部雰囲気の清浄度を高めることにより歩留り
の向上を図っていた。

【０００３】しかし、半導体集積回路の集積度が高密度
になるに伴い、一部の製造工程においては、例えば、こ
れから製膜処理するウエハの表面の自然酸化膜生成の度
合い、またウエハ表面の大気中に含まれる金属イオンに
よる汚染等が歩留りに影響する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】製膜処理に当たって
は、その前段階で、ウエハを洗浄装置で洗浄するが、こ
の製膜処理には数十分〜数時間を要し、この処理状況に
合わせて洗浄を行なう必要がある。何故なら、洗浄済み
のウエハは自然酸化膜の生成の度合いが早く、大気中の
イオンにより汚染されやすいから、上記製膜処理時に次
に処理するウエハを上記内部雰囲気に曝しておくと、自
然酸化膜が成長し（一時間程度で成長率が急増する）、
また金属イオンが付着してウエハの汚染が進むからであ
る。

【０００５】また、上記洗浄装置による洗浄も数十分か
かる場合もあるので、従来の製造システムでは、工程に
自由度が無く、生産性を向上し難いという問題があっ
た。

【０００６】本発明はこの問題を解消するためになされ
たもので、装置間相互の時間的制約を無くして工程の自
由度を向上することができ、生産性を高めることができ
る可搬式密閉コンテナ移送式の電子基板処理システムを
提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１では、電子基板の処理装置と洗浄装置を備
える電子基板処理システムにおいて、パージステーショ
ンと保管部を有し、上記洗浄装置で洗浄を終えた電子基
板もしくは当該電子基板を収納したカセットは上記パー
ジステーション内で可搬式密閉コンテナに収納かつ不活
性なガスによりガスパージされ、上記可搬式密閉コンテ
ナは上記保管部で保管される構成とした。

【０００８】請求項２では、電子基板保管部は、システ
ム内の指定された場所である構成とした。

【０００９】請求項３では、システム内の指定された場
所は、移載装置を内蔵する保管庫である構成とした。

【００１０】請求項４では、電子基板もしくは当該電子
基板を収納したカセットは、保管庫から処理装置へは、
可搬式密閉コンテナに収納されて搬送され、当該処理装
置で上記可搬式密閉コンテナから取り出される構成とし
た。

【００１１】請求項５では、電子基板もしくは当該電子
基板を収納したカセットは、保管庫から処理装置へは、
保管庫内で上記可搬式密閉コンテナから取り出されて搬
送される構成とした。

【００１２】請求項６では、パージステーションは洗浄
装置に組み込まれている構成とした。

【００１３】請求項７では、パージは、カセット内の電
子基板にとり不活性なガスによるガスパージもしくは真
空引き後の不活性なガスによるガスパージであることを
特徴とする。

【００１４】

【作用】本発明では、カセットが、密閉コンテナに入れ
て装置から装置へ搬送されるので、電子基板は、クリー
ンルーム内の雰囲気に曝されることがなく、その上、カ
セットはパージされた密閉コンテナに入れて保管される
ので、装置間相互の時間的制約が無くなり、工程の自由
度が向上する。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の１実施例を図面を参照して説
明する。

【００１６】図１において、１００はクリーンルーム内
に配設された製膜装置、２００はウエハ洗浄装置、３０
０はパージステーション、４００は保管庫、５００は移
載装置５００Ａを搭載した移動ロボット、３０は可搬式
の密閉コンテナである。

【００１７】図２はパージステーション３００の１例を
示したものである。

【００１８】図２において、１は直方体のケースであっ
て、前壁１Ａに窓２を有している。３はパージユニット
であって、図３に示すような密閉ボックス２０内に、当
該密閉ボックス２０内と可搬式密閉コンテナ３０内とを
連通／遮断するためのコンテナ開閉機構を収納してい
る。４は給ガス配管であって、一端４Ａはケース１外へ
伸び、他端４Ｂは密閉ボックス２０内に開口し、途中に
電磁開閉弁５が介装されている。６は排ガス配管であっ
て、一端６Ａはケース１外へ伸び、他端６Ｂは密閉ボッ
クス２０内に開口し、途中に電磁開閉弁７が介装されて
いる。９は高性能フィルタ、１０はパージユニット制御
装置（コントローラ）である。この制御装置１０は電磁
開閉弁５、７の開閉制御と、上記コンテナ開閉機構の駆
動制御を司る。密閉ボックス２０の上壁には開口２０Ａ
が形成され、当該開口２０Ａの周部がコンテナ３０を置
く台部２０Ｂとなっている。６０は図４に示すコンテナ
本体３１を昇降するコンテナ本体昇降装置であって、本
実施例では、シリンダ装置が使用されている。給ガス配
管４の一端４Ａは不活性ガスボンベ１００Ｂに接続さ
れ、排ガス配管６の一端６Ａはクリーンルームの床下を
伸びる排気管等に接続される。

【００１９】図３において、２１は昇降装置、２２はロ
ッド、２３は昇降台である。昇降台２３は開口２０Ａよ
り径の大きいフランジ２３Ａを有し、常時は、フランジ
２３Ａがシール材２４を介して開口２０Ａの下面周部に
圧接するまで当該開口２０Ａに嵌入され、開口２０Ａの
周面との間に隙間を区画している。７０は半導体ウエハ
Ｗを収納したウエハカセットである。

【００２０】図３において、可搬式の密閉コンテナ３０
の本体３１は、フランジ３２付の開口３３を有してい
る。３４、３５ははシール材、３６は把手、４０は密閉
コンテナの底蓋である。

【００２１】上記密閉コンテナの底蓋４０は中空体であ
って、例えば図４に示すような錠機構を有している。４
４はカムで、４５は板状のロックアームであって、転動
子４５ａを有し、長手方向進退可能かつ傾倒可能に片持
ち支持されている。４６は支点部材、４７はばねであ
る。カム軸４８は昇降台２３の上壁中央から底蓋４０内
に伸び、昇降台２３に底蓋４０が同心に載置された時に
カム４４とスプライン係合する。昇降台２３はカム軸４
８を所定角度だけ回動するカム軸駆動機構４９を内蔵し
ており、このカム軸駆動機構４９とカム軸４８は解錠／
施錠機構を構成している。なお、本体３１の開口３３内
周面には、ロックアーム４５が係合する凹所３３Ａが形
成されている。

【００２２】この構成において、製膜処理を行なうウエ
ハを段々に収納したウエハカセットは移動ロボット５０
０の移載装置５００Ａによりウエハ洗浄装置２００の搬
入口２００Ａにある台部上へ搬入される。

【００２３】（１）ウエハ洗浄装置２００はそのケース
内に、複数の薬液槽や純水槽および乾燥部を内蔵してお
り、搬入されたウエハカセットを所定順序で並ぶ上記槽
に図示しない移載装置で順々に浸漬して洗浄し、最後に
上記乾燥部で乾燥して搬出口２００Ｂの台部上へ移載す
る。

【００２４】（２）洗浄済みのウエハカセット７０が
搬出口２００Ｂの台部上へ移載されると、この搬出口２
００Ｂの前まで移動してきた移動ロボット５００が当該
ウエハカセットをパージステーション３００の窓２から
当該パージステーション３００内に搬入し、密閉ボック
ス２０の台部２０Ｂ上へ移載する。

【００２５】（３）コンテナ本体昇降装置６０のロッド
６１が下降してロッド先端の把持部６２でコンテナ本体
３１の把手３６を掴み、コンテナ本体３１を台部２０Ｂ
上へ押圧する。

【００２６】（４）上記施錠／解錠機構が作動し、ロッ
クアーム４５が退同して凹所３３Ａから外れ、コンテナ
本体３１と底蓋４０とのロックが解かれる。

【００２７】（５）コンテナ本体３１と底蓋４０とのロ
ックが解かれるとコンテナ本体昇降装置６０のロッド６
１が上昇してコンテナ本体３１を所定高さまで持ち上げ
る。

【００２８】（６）別の装置で処理を終えたウエハを収
納したウエハカセット７０が、上記移動ロボットでケー
ス１まで搬送されてきており、コンテナ本体３１が所定
高さまで持ち上げられたのち、上記移載装置で、ケース
１の窓２からケース１内へ搬入され、昇降台２３上に残
っている底蓋４０上へ移載する。

【００２９】（７）この移載が終わると、コンテナ本体
昇降装置６０のロッド６１が下降してコンテナ本体３１
を台部２０Ｂ上へ、圧接するように置き、コンテナ本体
３１内Ｓ外部とを気密に遮断させる。

【００３０】（８）次いで、電磁開閉弁５、７が開弁さ
れる。これにより、給ガス配管４の一端４Ｂから密閉ボ
ックス２０内に不活性ガス（本実施例では、Ｎ₂ガス）
が密閉ボックス２０内に噴出し、密閉ボックス２０内の
大気は排ガス配管６を通してケース１外へ排出され、密
閉ボックス２０内は不活性ガスで置換される。

【００３１】（９）所定時間の経過の後、昇降台２３が
若干だけ下降する。これにより、底蓋４０によるコンテ
ナ本体開口３３の遮蔽が無くなり、コンテナ本体３１内
が密閉ボックス２０内と連通し、コンテナ本体３１は不
活性ガスで置換される。

【００３２】（１０）設定時間が経過すると、昇降台２
３が元の高さまで上昇し前記した解錠／施錠機構が作動
して、ロックアーム４５が凹所３３Ａ内に係合し底蓋４
０はコンテナ本体３１の開口に気密にロックされ、電磁
開閉弁５と７は閉弁される。

【００３３】（１１）このロックが終わると、コンテナ
本体昇降装置６０のロッド６１が上昇し、移載装置５０
０Ａがコンテナ３０を移動ロボット５００へ移載する。

【００３４】（１２）この移動ロボット５００はパージ
済みの上記コンテナ３０を保管庫４００のエプロン４０
０Ａ上へ搬入し、パージ済みのこのコンテナ３０は保管
庫４００内の移載機構４００Ｂにより棚４００Ｃ上に移
載される。

【００３５】（１３）保管庫４００に保管された複数の
コンテナのうち、指定されたコンテナは上記移載機構４
００Ｂにより上記棚から降ろされ、移動ロボット５００
に渡される。

【００３６】（１４）移動ロボット５００はこのコンテ
ナ３０を製膜装置１００の搬入／搬出口を構成している
コンテナインターフェース１０１まで搬送する。

【００３７】（１５）製膜装置１００では、コンテナイ
ンターフェースにより、受け取ったコンテナ３０からウ
エハカセット７０を取り出し、図示しないＣＶＤ炉等へ
搬入して製膜処理を行なう。

【００３８】本実施例では、洗浄装置２００で洗浄およ
び乾燥を終えたウエハカセット７０は、パージステーシ
ョン３００へ搬送されてコンテナ３０に収納されるとと
もに、ウエハにとって不活性なガスでガスパージされ、
以後、ウエハは不活性なガスが充満しているコンテナ３
０内に保持される。ウエハは、洗浄装置２００からパー
ジステーション３００へ移す時に大気に触れるが、これ
は微小な時間であるので、自然酸化膜の成長は殆ど無
い。

【００３９】本実施例では、ウエハカセット７０をコン
テナ７０に入れたまま保管庫４００で保管するから、装
置間相互の時間的制約が無くなり、洗浄済みウエハカセ
ットの待ち時間を無くすために製膜装置１００の処理状
況に合わせて洗浄する必要がない。

【００４０】なお、コンテナがコンテナインターフェー
スを有しない場合は、ウエハは、保管庫４００でウエハ
カセット７０から取り出されて移動ロボット５００に渡
され、大気に曝らされながら製膜装置１００へ搬送され
るが、その搬送に要する時間は短いので、自然酸化膜の
成長は微小である。

【００４１】図５に、上蓋形の可搬式密閉コンテナ６０
０用のパージステーションの１例を示す。

【００４２】図５において、６０１はコンテナ本体、６
０２は上蓋、６０３は把手、６０４は蓋開閉機構、６０
５はコンテナ６００を置くための台部、６０６はパージ
室である。

【００４３】上記実施例では、パージステーションは洗
浄装置と別体であるが、図６に示すように洗浄装置７０
０にパージ機能を持たせてもよい。

【００４４】図６において、７１１はケーシング、７１
２は前壁７１１Ａに形成されたカセット搬入口、７１３
は前壁７１１Ａに形成されたコンテナ搬出口、７１６は
カセット台部、７２１〜７２４は薬液槽、７２５は乾燥
器、７３０は搬送装置であって、ハンドリングアーム７
３２を有し、レール７３１に左右動自在に係合してい
る。７３３はウエハカセット７０の耳部に係合可能なハ
ンド部である。３５は乾燥器７２５からウエハカセット
７０を取り出してパージユニット３へ移載するための移
載装置、７３６はコンテナ本体昇降装置（本例では、シ
リンダ装置）である。

【００４５】また、保管庫４００を使用しているが、保
管庫４００を使用せず、ウエハカセット７０の保管はク
リーンルーム内の特定の場所としてもよい。

【００４６】また、保管庫４００を使用しているが、パ
ージ済みのコンテナを必ず保管庫４００に保管する必要
はなく、工程の進み具合によっては、パージステーショ
ンから製膜装置等へ、また製膜装置等の近傍に設けた保
管場所へ直接搬送する。この場合、コンテナ自身が保管
機能を果たすことになる。

【００４７】上記実施例では、Ｎ₂ガス等の不活性ガス
でガスパージする場合について述べたが、乾燥空気や加
熱したＮ₂ガス等でガスパージする場合もあり、ガスパ
ージする前にコンテナ３０内を真空引きする場合もあ
る。この真空引きを行なう場合は、不活性ガス源に接続
する配管４の他に図示しない真空源に接続する配管を密
閉ボックス２０内へ引き込む。

【００４８】

【発明の効果】本発明は以上説明した通り、ウエハ等の
半導体基板等をクリーンルーム内の雰囲気に曝すことな
く、装置から装置へ、また工程から工程へ搬送または保
管することができるので、ウエハの汚染を確実に防止す
ることができ、装置間相互の時間的制約が無くなるの
で、工程の自由度を向上することができ、従来に比し、
生産性を大幅に高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例を示すケースの斜視図である。

【図２】上記実施例におけるパージステーションを示す
図である。

【図３】上記実施例における密閉コンテナとパージユニ
ットの１例を示す図である。

【図４】上記密閉コンテナの施錠／解錠機構を説明する
ための図である。

【図５】本発明において使用するパージステーションの
他の例を示す図である。

【図６】パージ機能を備えた洗浄装置の１例を示す図で
ある。

【符号の説明】

１パージステーションのケース１Ｃコンテナ保管室１Ｄ棚１Ｆコンテナ仮置き台２窓２Ａ台部３パージユニット４パージ用配管でる給ガス配管６排ガス配管５、７電磁開閉弁９フィルタ１０制御装置２０密閉ボックス２０Ｂ台部２３昇降台２９蛇腹型のスカート３０底蓋型の密閉コンテナ４０密閉コンテナの底蓋６０、８０、９０コンテナ本体昇降装置７０ウエハカセット９１ファン９２フィルタ１００Ｂパージ源である不活性ガスボンベ１００製膜装置２００洗浄装置３００パージステーション４００保管庫５００移動ロボット５００Ａ移載装置６００上蓋型の密閉コンテナ６０１コンテナ本体６０４蓋開閉機構７００パージ機能を持つ洗浄装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者森田日也三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地神鋼電機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者河野等三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地神鋼電機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者林満弘三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地神鋼電機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者奥野敦三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地神鋼電機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者中村昭生三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地神鋼電機株式会社伊勢製作所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】半導体ウエハや液晶基板等電子電子基板
の処理装置と洗浄装置を備える電子基板処理システムに
おいて、パージステーションと保管部を有し、上記洗浄装置で洗
浄を終えた電子基板もしくは当該電子基板を収納したカ
セットは上記パージステーション内で可搬式密閉コンテ
ナに収納かつ不活性なガスによりガスパージされ、上記
可搬式密閉コンテナは必要に応じ上記保管部で保管され
ることを特徴とする可搬式密閉コンテナ移送式の電子基
板処理システム。
【請求項２】電子基板保管部は、システム内の指定さ
れた場所であることを特徴とする請求項１記載の可搬式
密閉コンテナ移送式の電子基板処理システム。
【請求項３】システム内の指定された場所は、移載装
置を内蔵する保管庫であることを特徴とする請求項２記
載の可搬式密閉コンテナ移送式の電子基板処理システ
ム。
【請求項４】電子基板もしくは当該電子基板を収納し
たカセットは、保管部から処理装置へは、可搬式密閉コ
ンテナに収納されて搬送され、当該処理装置で上記可搬
式密閉コンテナから取り出されることを特徴とする請求
項１または３記載の記載の可搬式密閉コンテナ移送式の
電子基板処理システム。
【請求項５】電子基板もしくは当該電子基板を収納し
たカセットは、保管部から処理装置へは、保管部内で上
記可搬式密閉コンテナから取り出されて搬送されること
を特徴とする請求項１または３記載の可搬式密閉コンテ
ナ移送式の電子基板処理システム。
【請求項６】パージステーションは洗浄装置に組み込
まれていることを特徴とする請求項１記載の可搬式密閉
コンテナ移送式の電子基板処理システム。
【請求項７】パージは、カセット内の電子基板にとり
不活性なガスによるガスパージもしくは真空引き後の不
活性なガスによるガスパージであることを特徴とする請
求項１記載の可搬式密閉コンテナ移送式の電子基板処理
システム。