JP3098547B2 - キャリアストッカ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被処理体を搭載したキ
ャリアをクリーン雰囲気で保管するキャリアストッカに
関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば半導体製造装置を例に挙げれば、
被処理体である半導体ウエハに多数工程の各種処理が行
われ、この各工程に半導体ウエハを搬送するために、複
数枚例えば２５枚のウエハを搭載したキャリアが使用さ
れる。そして、各処理の前後に行われるウエハ洗浄又は
ＣＶＤ，拡散熱処理等では装置内にキャリアストッカが
設けられ、処理前のウエハを搭載した多数のキャリアが
ストッカ内に保管される。このため、一般にこの種のキ
ャリアストッカは多段の棚部を有し、エレベータ機構に
より各段へのキャリアの搬入出が可能となっている。

【０００３】この種のキャリアストッカでは、クリーン
な雰囲気にてウエハを保管する必要があり、ウエハ面と
平行な方向にクリーンエアーによるフローが実施されて
いる。フロー方式は２種類あり、一般に、ウエハ面を垂
直にして保管する場合にはダウンフローが実施され、ウ
エハ面を水平にして保管する場合にはサイドフローが実
施される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】多段構成のキャリア保
管部にてダウンフローを実現する場合、最上段の保管部
から最下段の保管部までダウンフローを通すと、下段に
向かうに従いフローエアが汚染され、各段を均一なクリ
ーン度に保つことができない。一方、ウエハ面を水平に
した場合には各段に対してクリーンエアによるサイドフ
ローが実施され、上述した問題は生じないが、サイドー
フローされたクリーンエアの排気を適切に行わないとゴ
ミの舞い上がりが生じ、クリーン雰囲気が阻害されてし
まう。

【０００５】さらに、本発明者等は発塵源となるエレベ
ータ機構の周囲の雰囲気即ちキャリア昇降経路の雰囲気
汚染が、各段の保管部の雰囲気汚染に大きく影響するこ
とに着目した。特に、近年素子の高密度化が進み、わず
かな不純物の付着でも製品歩留まりに影響があり、キャ
リアストッカ内にて高いクリーン度が要求されつつあ
る。

【０００６】そこで、本発明の目的とするところは、発
塵源となるエレベータ機構が不可欠な多段構成のキャリ
アストッカにおいても、各段のキャリア保管部を均一な
クリーン度に保つことができる装置を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、複数の被処理
体を搭載したキャリアを保管する多段の保管部と、各段
の上記保管部に上記キャリアを搬入出するために、上記
キャリアを昇降するエレベータ機構と、を有するキャリ
アストッカにおいて、塵を除去してクリーンエアを上記
被処理対面と平行な方向に沿って送出して第１のダウン
フローを形成する第１のフィルタを、各段の上記保管部
毎に独立して設け、かつ、上記エレベータ機構によるキ
ャリア昇降経路の上部に、塵を除去してクリーンエアを
送出する第２のフィルタを設け、各段の上記保管部のキ
ャリア搬入出口に臨んでクリーンエアによる第２のダウ
ンフローを形成し、上記第１のフィルターは、上記第２
のダウンフローの一部を取り込んで、上記第１のダウン
フローを形成することで、各段の上記保管部内の圧力
が、上記キャリア昇降経路の雰囲気圧力よりも陽圧に設
定されていることを特徴とする。

【０００８】

【作用】本発明では、多段の各段のキャリア保管部にそ
れぞれクリーンエア送出用の第１のフィルタを設け、各
段の保管部毎に独立したクリーンエアの第１のダウンフ
ローを実現しているので、各段の保管部にて均一なクリ
ーン度が確保される。

【０００９】さらに、発塵源となるエレベータ機構によ
るキャリア昇降経路の上部に第２のフィルタを設け、各
段の保管部のキャリア搬入出口に臨んでクリーンエアに
よる第２のダウンフローを実現しているので、エレベー
タ機構で発生した塵等が各段の保管部に飛散することを
防止できる。しかも、第１のフィルターは、第２のダウ
ンフローの一部を取り込んで第１のダウンフローを形成
するので、各段の保管部内の圧力が、上記キャリア昇降
経路の雰囲気圧力よりも陽圧に設定することができる。
これにより、外部エアが各保管部に流入することをより
確実に防止できる。

【００１０】請求項２によれば、第１のダウンフローの
風速よりも、第２のダウンフローの風速を速く設定して
いるので、各段の保管部よりも距離の長いキャリア昇降
経路にて乱流を生じずに、第２のダウンフローを層流状
態に確保することが出来る。

【００１１】

【実施例】以下、本発明を半導体ウエハの洗浄装置にお
けるキャリアストッカに適用した一実施例について、図
面を参照して具体的に説明する。

【００１２】洗浄装置１０は、図２に示すように、大別
してＩ／Ｏポート１２，搬送ステージ１４，キャリアス
トッカ１６，移し換えステージ１８および洗浄処理部２
０から構成されている。前記Ｉ／Ｏポート１２は、被処
理体例えば半導体ウエハを複数枚例えば２５枚収容した
搬送用容器としてのキャリア３０を、前記洗浄装置１０
に搬入出するためのものである。このキャリア３０は、
例えば合成樹脂にて成形され、２５枚のウエハｗを等間
隔にて垂直状態に挿入支持するための溝３２を有してい
る（図３参照）。また、ウエハｗを収容するキャリア３
０の下端側は切欠部３４として切欠かれ、後述する押上
機５０によりキャリア３０内のウエハｗを一括して押し
上げ可能となっている。

【００１３】前記搬送ステージ１４は、Ｉ／Ｏポート１
２と移し換えステージ１８との間で前記キャリア３０を
搬送するためのもので、余分なキャリア３０は隣接する
キャリアストッカ１６に移動される。

【００１４】このキャリアストッカ１６は、図１に示す
ように多段例えば２段の保管部１００，１００を有し、
その各搬入出口１０２に臨んだ昇降経路に沿ってキャリ
ア３０を昇降駆動するエレベータ機構１２０が設けられ
ている。このエレベータ機構１２０は昇降アーム１２２
によりキャリア３０を支えて昇降経路１２４に沿って昇
降し、その下限位置にて前記搬送ステージ１４との間で
キャリア３０の受け渡しが可能であり、その上限及び中
間位置にて上下２段の保管部１００，１００との間でキ
ャリア３０の受け渡しが可能である。なお、エレベータ
機構１２０の外囲カバー内部を排気して、稼動に伴って
発生するゴミを外部に強制排気するようにしても良い。

【００１５】２つの保管部１００，１００はそれぞれ同
一の構成を有し、天壁１０４，底壁１０６及び前記搬入
出口１０２の背面である側壁１０８を有する断面コ字状
を成している。各壁１０４，１０６，１０８は連通する
中空部を有し、天壁１０４の下面にはエア吹出開口１０
４ａが形成され、この開口１０４ａに臨んで第１のフィ
ルタ１１０が設けられ、その背面にはファン１１２が設
けられている。なお、第１のフィルタ１１０は例えば静
電防止樹脂で形成されたＨＥＰＡフィルタが採用され
る。一方、底壁１０６の第１のフィルタ１１０と対向す
る位置にはエア吸引開口１０６ａが形成されている。そ
して、ファン１１２により送風されるエアは第１のフィ
ルタ１１０によりクリーンエアとされ、前記キャリア３
０内に垂直状態にて平行に配列収納されたウエハｗに対
してダウンフロー１１４が形成される。このエアは底壁
１０６の吸引開口１０６ａを介して底壁１０６内に取り
込まれる。そして、ファン１１２の上流にそのエアを循
環させるために、各壁１０４〜１０８内を連通するエア
循環経路１１６が設けられている。

【００１６】この洗浄装置１０はクリーンルームに配置
され、従ってキャリアストッカ１６もクリーンルーム内
に設置される。そして、このキャリアストッカ１６を構
成する筐体１６ａには、前記エレベータ機構１２０にお
けるキャリア昇降経路１２４と上方にて対向する位置に
は、クリーンルームと連通するエアー吹出開口１６ｂが
設けられている。このエアー吹出開口１６ｂに臨んで例
えばＨＥＰＡで構成された第２のフィルタ１３０が設け
られている。この第２のフィルタ１３０の背面側にはフ
ァン１３２が設置されている。さらに、キャリアストッ
カ１６の床壁１６ｃには、前記エアー吹出開口１６ｂと
対向する位置にエアー吸引開口１６ｄが形成されてい
る。従って、ファン１３２の回転によりクリーンルーム
から取り込まれたエアーは、第２のフィルタ１６ｂによ
りクリーンエアーとされ、キャリア昇降経路１２４に沿
ってダウンフロー１３４が形成されることになる。この
ダウンフロー１３４は、エアー吸引開口１６ｄを介して
外部に排気される。

【００１７】各保管部１００，１００内にて形成される
ダウンフロー１１４，１１４の風速としては、第１のフ
ィルタ１００の吹出面から距離１００mmの位置にて、好
ましくは0.1 〜1.5 ｍ/sec、さらに好ましくは0.25〜0.
3 ｍ/secとするものがよい。一方、キャリア昇降経路１
２４に沿って形成されるダウンフロー１３４の風速とし
ては、第２のフィルタ１３０の吹出面からの距離１００
mmの位置にて、好ましくは0.2 〜３ｍ/secさらに好まし
くは0.35〜0.4 ｍ/secとするものがよい。ダウンフロー
１３４の風速がダウンフロー１１４の風速よりも速くな
っているのは、ダウンフロー１３４として確保される距
離が長いためであり、この長い距離にわたって乱流を生
じずに層流状態のダウンフロー１３４を確保する必要が
あるからである。このような各ダウンフロー１１４，１
３４の風速設定は、装置稼動前にキャリアストッカ１６
内部にて乱流を生じないような調整を行えることが好ま
しく、特に、この風速設定にあたって各保管部１００，
１００内の圧力が、その外部の圧力よりも陽圧となるよ
うに設定するものが好ましい。本実施例では各保管部１
００，１００内を陽圧に設定するために、例えば天壁１
０４に外気と通じるスリット１１８を設け、このスリッ
ト１１８からのエアー取り込み流量を調整できる弁例え
ばスロットル弁１１９を天壁１０４の中空部内に設けて
いる。このように、外気から若干のエアーを取り入れて
ダウンフロー１１４を形成することで、各保管部１０
０，１００内をその外部より陽圧にしている。

【００１８】前記洗浄処理部２０は、移し換えステージ
１８にてキャリア３０より洗浄用容器４０（図３参照）
に移し換えられたウエハｗを洗浄処理するためのもので
ある。この洗浄処理部２０は、薬品洗浄槽２２ａおよび
水洗洗浄槽２２ｂを１組とし、１組または複数組の薬品
／水洗洗浄終了後に、洗浄の最終工程を行うための水洗
ファイナルリンス洗浄槽２２ｃおよび乾燥処理部２２ｄ
を有して構成されている。前記薬品洗浄槽２２ａとして
は、アンモニアまたはフッ酸等の薬品による洗浄が実施
され、水洗洗浄槽２２ｂでは純水を用いて例えばクィッ
ク・ダンプ・リンス（ＱＤＲ）方式による洗浄が実施さ
れる。洗浄用容器４０は、例えばキャリア３０と同様に
２５枚のウエハｗを挿入支持する溝４２と、切欠部４４
とを有して構成されている。この洗浄用容器４０の材質
としては、特に薬品洗浄槽２２にて用いられる薬品例え
ばフッ酸等に対する耐蝕性を有することが必要であり、
本実施例では石英にて構成している。

【００１９】次に、移し換えステージ１８について説明
する。

【００２０】図３〜図６に示すように、移し換えステー
ジ１８の上方位置に並設して搬入用チャック６０および
搬出用チャック７０を有している。搬入用チャック６０
は、平行に離間して配置された一対のチャック片６２，
６４を有し、この一対のチャック片６２，６４の対向す
る面にはそれぞれ前記ウエハｗを支持するための溝６６
が形成されている（図４参照）。搬出用チャック７０も
同様に、それぞれ溝７６を有する一対のチャック片７
２，７４で構成されている（図６参照）。そして、搬入
用チャック６０および搬出用チャック７０は、一対のチ
ャック片６２，６４および７２，７４の各対向間距離が
可変であり、ウエハｗを支持する際にはその距離が縮め
られ、ウエハｗを離脱する際にはその距離が広げられ
る。

【００２１】前記搬入用チャック６０は、キャリア３０
に搭載されたウエハｗを洗浄用容器４０に移し換える時
にのみ用いられ、この搬入用チャック６０の一対のチャ
ック片６２，６４には常に洗浄前のウエハｗがチャック
される。一方、搬出用チャック７０は、洗浄用容器４０
に搭載されたウエハｗをキャリア３０に移し換える時に
のみ用いられ、搬出用チャック７０の一対のチャック片
７２，７４には常に洗浄処理後のウエハｗがチャックさ
れる。

【００２２】押上機５０は、前記搬入用チャック６０お
よび搬出用チャック７０と対向する下方位置に、それぞ
れ押上片５２および押上片５４を有して構成されてい
る。各押上片５２，５４は、２つの容器の最大収容枚数
である５０枚のウエハｗを立設支持するための溝５２
ａ，５４ａをそれぞれ有している。各押上片５２，５４
は、昇降軸５６，５８の上端にそれぞれ固着され、昇降
軸５６，５８の昇降移動に伴って上下動できる。２本の
昇降軸５６，５８の昇降駆動を１つの駆動源により行う
ことも可能である。押上機５０における２つの押上片５
２，５４の昇降経路を確保するために、前記移し換えス
テージ１８の天板には切欠部１８ａ，１８ｂが形成され
ている（図３参照）。

【００２３】本実施例における搬入用チャック６０およ
び搬出用チャック７０は、水平搬送されることはなく、
この各チャック６０，７０の直下にキャリア３０または
洗浄用容器４０が搬送されるように構成されている。こ
のキャリア３０または洗浄用容器４０の搬送手段につい
ては図示していないが、アーム搬送方式またはベルト搬
送方式等の各種水平搬送機構を採用することができる。

【００２４】また、前記移し換えステージ１８の前記搬
入用チャック６０および搬出用チャック７０の上方に
は、例えばＨＥＰＡフィルタで構成された第３のフィル
タ８０が設けられている。そして、第３のフィルタ８０
を介してクリーンエアーを下向き方向に流出させること
で、ウエハｗの移し換え位置においてダウンフロー８２
を実現している。

【００２５】次に、作用について説明する。

【００２６】図１に示すＩ／Ｏポート１２より搬入され
たキャリア３０は、搬送ステージ１４を介してキャリア
ストッカ１６に一旦収容される。

【００２７】キャリアーストッカ１６へのキャリア３０
の格納は、搬送ステージ１４上のキャリア３０を昇降ア
ーム１２２によって支持し、昇降アーム１２２の上昇移
動により、いずれか一方の保管部１００の高さ位置まで
上昇させ、昇降アーム１２２の例えば伸長駆動により、
キャリア３０を保管部１００上に設定する。

【００２８】この保管部１００では、上下２段にて独立
してそれぞれダウンフロー１１４を実施している。すな
わち、ファン１１２が回転すると、循環経路１１６内の
エアーが第１のフィルタ１１０内に取り込まれ、この第
１のフィルタにて塵等が除去され、クリーンエアーとし
て垂直下方に送出される。この第１のフィルタ１１０か
ら送出されたエアーは、ダウンフロー１１４となり、キ
ャリア３０内部にて垂直状態で立設支持されたウエハｗ
間を抜けて下方に通り、底壁１０６に形成したエアー吸
引開口１０６ａに取り込まれることになる。このように
して、保管部１００内に設定されたキャリア３０の２５
枚のウエハｗに対して、層流状態でのダウンフロー１１
４が連続して形成されるので、保管部１００内を所望の
クリーン度に保つことができ、ウエハｗへのゴミの付着
を防止することが可能となる。本実施例ではエアー吸引
開口１０６ａより取り込まれたエアーが、循環経路１１
６によってファン１１２の上流に導かれることになる。
そして、ファン１１２によって再度第１のフィルタ１１
０に送出され、クリーンエアーとされてダウンフロー１
１４を形成することになる。このように、各保管部１０
０内にてエアーを循環させることで、外部からの比較的
汚染度の高いエアーの取り込みを極力少なくでき、第１
のフィルタ１１０のフィルタ特性以上のクリーン度を保
つことが可能となる。また、このようにクリーン度が高
まるため、第１のフィルタ１１０の汚染が少なくなり、
第１のフィルタ１１０の長寿命化を図ることが可能とな
る。このように、上下２段の各保管部１００，１００に
て、独立したダウンフロー１１４，１１４を形成するこ
とにより、各保管部１００，１００にてそれぞれ均一な
クリーン度を確保することが可能となる。

【００２９】各保管部１００，１００のクリーン度が乱
される原因としては、その各搬入出口１０２からの外部
エアーの取り込みである。すなわち、この各搬入出口１
０２，１０２は、発塵源であるエレベータ機構１２０の
キャリア昇降経路１２４と隣接しているからである。こ
の各搬入出口１０２，１０２からの外部エアーの取り込
みを極力少なくするために、本実施例では昇降経路１２
４に沿ってダウンフロー１３４を実現している。すなわ
ち、この昇降経路１２４の上部には、キャリアストッカ
１６の外部雰囲気であるクリーンルームと連通する第２
のフィルタ１３０が設けられ、その背面側にてファン１
３２を回転駆動することで、クリーンルーム内のエアー
を第２のフィルタ１３２に導き、このフィルタによって
クリーンエアーとされたエアーを鉛直方向下方に向けて
吹き出すことで、昇降経路１２４に沿ってダウンフロー
１３４を実現している。従って、各保管部１００，１０
０の各搬入出口１０２，１０２に臨んで、常時ダウンフ
ロー１３４が形成されるので、たとえエレベータ機構１
２０の可動部にて塵等が発生したとしても、この塵等は
ダウンフロー１３４に沿って下方に流され、エアー吸引
開口１６ｄを介して外部に排気されることになる。この
ように、多段構成のキャリアストッカ１６にて発塵源な
るエレベータ機構１２０が不可欠となるが、各保管部１
００，１００の搬入出口１０２，１０２に臨んでダウン
フロー１３４を形成することで、その悪影響を十分に低
減することが可能となる。

【００３０】特に、本実施例ではスリット１１８を介し
て、スロットル弁１１９により調整された流量の若干の
外部エアーを循環経路１１６内に取り入れているので、
ダウンフロー１１４が形成される各保管部１００，１０
０の圧力を、ダウンフロー１３４が形成されている外部
の圧力よりも陽圧に設定できる。従って、その圧力関係
から、保管部１００内部に外部からのエアーが流入する
ことを防止でき、上下２段の各保管部１００，１００内
のクリーン度をより一層高めることが可能となる。

【００３１】次に、このキャリアストッカ１６からは、
予め定められたプログラムに従い２つのキャリア３０が
取り出され、搬送ステージ１４を介して移し換えステー
ジ１８上の搬入位置Ａに配置される。この状態を図３の
実線にて示している。図３の実線状態では押上機５０の
押上片５２はキャリア３０の下方にて待機され、搬入用
チャック６０は一対のチャック片６２，６４の対向間距
離を広げた開放状態となっている。この状態から押上機
５０を上昇駆動させると、一方の押上片５２の上昇過程
において２つキャリア３０内の５０枚のウエハｗと接触
し、その接触後は押上片５２と共にキャリア３０内の５
０枚のウエハｗが図２の鎖線位置まで上昇されることに
なる。そして、押上機５０の駆動停止後、搬入用チャッ
ク６０の一対のチャック片６２，６４の対向間距離を狭
めるように閉鎖駆動することで、同図の鎖線に示すよう
に５０枚のウエハｗを搬入用チャック６０にて支持する
ことが可能となる。チャック後は押上機５０の下降駆動
を行う。

【００３２】次に、ウエハｗを搬入用チャック６０にて
支持した状態で、空のキャリア３０を高速搬送して搬送
ステージ１４側に待機させ、空の洗浄用容器４０を高速
搬送して移し換えステージ１８の搬入位置Ａに配置す
る。このキャリア３０，洗浄用容器４０の入れ替えは、
共に空容器であるので高速搬送ができ、干渉検出センサ
などを設けて容器同士が干渉しない比較的少ない時間差
で容器の入れ替えを実現すれば、よりスループットが向
上する。

【００３３】次に、図４に示すように、押上機５０にお
ける押上片５２を、切欠部１８ａ，４４を介して再度上
方に押し上げ、同図の実線で示すように、搬入用チャッ
ク６０に支持されたウエハｗの下端を押上片５２の溝５
２ａに挿入する。その後、搬入用チャック６０の一対の
チャック片６２，６４を開放駆動し、さらに押上片５２
を下降駆動することで、同図の鎖線に示すように、２つ
の洗浄用容器４０内に各２５枚のウエハｗを移し換える
ことが可能となる。

【００３４】２５枚ずつのウエハｗをそれぞれ搭載した
２つの洗浄用容器４０は、図示しない搬送手段を介して
洗浄処理部２０に搬入され、洗浄槽の配列順に従って薬
品洗浄，水洗洗浄が行われ、その最終工程として水洗フ
ァイナルリンスおよび乾燥工程を経て１サイクルの洗浄
工程が終了する。そして、洗浄工程の終了したウエハｗ
を搭載した洗浄用容器４０は、再度移し換えステージ１
８に設定され、その搬出位置Ｂに載置される。この状態
を図５の実線にて示している。すなわち、洗浄の終了し
たウエハｗを搭載した洗浄用容器５０からキャリア３０
への移し換えは、搬出位置Ｂの上下に対向配置された搬
出用チャック７０および押上片５４を用いて実施され
る。移し換え動作は前述した搬入位置Ａにおける移し換
え動作と同様であり、まず２つの洗浄用容器４０に搭載
された５０枚のウエハｗを押上片５４により押し上げ、
上方に待機していた搬出用チャック７０の一対のチャッ
ク片７２，７４の閉鎖駆動により、ウエハｗを一端上方
にて支持し、押上片５４を下降させる。また、図６に示
すように、２つのキャリア３０が搬出用チャック７０の
下方位置に配置され、押上片５４の上昇移動，一対のチ
ャック片７２，７４の開放駆動および押上片５４の下降
駆動により、同図に示すように２つのキャリア３０への
５０枚の洗浄済ウエハｗの移し換え動作が完了すること
になる。この後は、搬送ステージ１４を介してＩ／Ｏポ
ート１２に搬出され、次工程に移行することになる。

【００３５】このように、本実施例によれば、キャリア
ストッカ１６内の上下２段の各保管部１００，１００内
にてこれと隣接して配置された発塵源としてのエレベー
タ機構１２０の周囲の雰囲気からの悪影響を防止して、
各保管部１００，１００内にてそれぞれ均一なクリーン
度を確保することができ、しかも、ウエハｗの移し替え
ステージ１８においても、第３のフィルタ８０によりダ
ウンフロー８２を形成しているので、ゴミ等の付着によ
るウエハｗの処理の歩留り低下を著しく低減することが
可能となる。さらに、本実施例では洗浄前のウエハｗの
移し換えは、搬入用チャック６０および押上片５２を１
組として専用的に用い、一方、洗浄済ウエハｗの移し換
えには、搬出用チャック７０および押上片５４を１組と
して専用的に用いることで、同一のチャックを搬入出に
兼用した場合のようなクロスコンタミネーションを防止
することが可能となる。また、２つの容器分のウエハｗ
を１度に移し換えているので、ウエハ移し換えの際のス
ループットを向上することができる。さらに、本実施例
装置では、搬入用，搬出用チャック６０，７０の水平搬
送を行わず、この各チャック６０，７０が配置されてい
る下方位置に、キャリア３０または洗浄用容器４０を搬
送するようにしている。搬入用，搬出用チャック６０，
７０にてウエハｗを支持した状態で、これら各チャック
６０，７０の水平搬送によりキャリア３０または洗浄用
容器４０の上方位置まで移動させた場合には、チャック
６０，７０の溝６６または７６とウエハｗとの衝突に伴
うチッピングが生じ、不純物の飛散によるクリーン雰囲
気の汚染と、ウエハｗの破損が生じてしまう。これを防
止するためには、チャック６０，７０をかなり低速にて
水平搬送せざるを得ず、移し換えのためのスループット
が低下してしまう。本実施例では、一旦キャリア３０ま
たは洗浄用容器４０をチャックの下方位置に設置した後
は、空状態のキャリア３０または洗浄用容器４０をチャ
ックの下方に搬入するだけでよいので、チッピング等は
一切生じず、空容器であるので高速にて搬送することが
可能となりスループットが向上する。

【００３６】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が
可能である。

【００３７】例えば、上記実施例ではキャリアストッカ
１６内の保管部１００を上下２段構成としたが、３段以
上の保管部１００を有するものでもよく、保管部１００
内にてウエハｗを水平にして保持するキャリアを用いる
場合には、保管部１００内にてそのウエハｗの面と平行
なサイドフローを実現すればよい。この際、相対向する
側壁の一方のエアー吹出開口に第１のフィルタ１１０を
設け、その他方の側壁にエアー吸引開口を形成し、吸引
されたエアーを天壁または底壁の中空部を介して第１の
フィルタ１１０の背面側のファン１１２に循環させるも
のが好ましい。このようにすれば、サイドフローが保管
部１００の外部に流出することを防止でき、キャリアス
トッカ１６内にてゴミの舞い上り等の弊害を低減するこ
とが可能となる。

【００３８】上記実施例は本発明を半導体ウエハの洗浄
装置に適用した例を示したが、熱処理装置などのキャリ
アストッカにも同様に適用でき、半導体ウエハに限らず
キャリアに搭載されてクリーン雰囲気に格納される各種
被処理体のキャリアストッカにも本発明を同様に適用し
得る。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、多
段の各段のキャリア保管部にて独立したクリーンエアに
よるフローを実現して各段を均一なクリーン度に保ち、
かつ、発塵源であるエレベータ機構によるキャリア昇降
経路と隣接する各段の保管部の搬入出口に臨んで、ダウ
ンフローを実現することで、外部からの各保管部へのゴ
ミ等の混入を防止でき、クリーン度の高いキャリアスト
ッカを実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例にかかわる半導体ウエハの洗
浄装置におけるキャリアストッカの概略断面図である。

【図２】実施例に係わる洗浄装置全体の概略平面図であ
る。

【図３】図２に示す装置において、搬送用容器から搬入
用チャックへの洗浄前のウエハの移し換えを説明するた
めの動作説明図である。

【図４】図２に示す装置において、搬入用チャックから
洗浄用容器に洗浄前のウエハを移し換える動作を説明す
る動作説明図である。

【図５】図２の装置において、洗浄用容器から搬出用チ
ャックに洗浄後のウエハを移し換える動作を説明するた
めの動作説明図である。

【図６】図２に示す装置において、搬出用チャックから
搬送用容器へ洗浄後のウエハを移し換える動作を説明す
るための動作説明図である。

【符号の説明】

ｗ ウエハ １０ 洗浄装置 ３０ 搬送用容器 １００ 保管部 １０２ 搬入出口 １１０ 第１のフィルタ １１２ ファン １１６ エア循環経路 １２０ エレベータ機構 １２４ キャリア昇降経路 １３０ 第２のフィルタ １３２ ファン １３４ ダウンフロー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/68 F24F 7/06

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の被処理体を搭載したキャリアを保
   管する多段の保管部と、 各段の上記保管部に上記キャリアを搬入出するために、
   上記キャリアを昇降するエレベータ機構と、 を有するキャリアストッカにおいて、 塵を除去してクリーンエアを上記被処理対面と平行な方
   向に沿って送出して第１のダウンフローを形成する第１
   のフィルタを、各段の上記保管部毎に独立して設け、か
   つ、 上記エレベータ機構によるキャリア昇降経路の上部に、
   塵を除去してクリーンエアを送出する第２のフィルタを
   設け、各段の上記保管部のキャリア搬入出口に臨んでク
   リーンエアによる第２のダウンフローを形成し、上記第１のフィルターは、上記第２のダウンフローの一
   部を取り込んで、上記第１のダウンフローを形成するこ
   とで、各段の上記保管部内の圧力が、上記キャリア昇降
   経路の雰囲気圧力よりも陽圧に設定されている ことを特
   徴とするキャリアストッカ。
2. 【請求項２】 請求項１において、上記第１のダウンフローの風速よりも、上記第２のダウ
   ンフローの風速を速く設定した ことを特徴とするキャリ
   アストッカ。