JPH07183262A

JPH07183262A - 洗浄装置

Info

Publication number: JPH07183262A
Application number: JP34787093A
Authority: JP
Inventors: Kinya Ueno; 欽也上野; Yoshio Kumagai; 佳夫熊谷
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1993-12-24
Filing date: 1993-12-24
Publication date: 1995-07-21
Anticipated expiration: 2016-06-04
Also published as: JP3172023B2

Abstract

(57)【要約】【目的】薬液雰囲気拡散の防止をおこない、パーティ
クルの流入等を防止する。【構成】側板によって形成された領域内に被処理体を
洗浄する複数の処理槽を配列し、かつ前記処理槽の前面
側に位置して前記被処理体を前記複数の処理槽の配列方
向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有する洗浄
装置において、前記搬送装置に被処理体を搬送中の洗浄
雰囲気の拡散を防止する雰囲気拡散防止機構を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】例えばＬＳＩ等の半導体デバイスの製造
工程における洗浄処理は、従来から半導体ウエハ（以
下、「ウエハ」という）表面のパーティクル、有機汚染
物、金属不純物等のコンタミネーションを除去するため
に洗浄処理装置が使用されており、その中でもとりわけ
ウエットタイプの洗浄装置は、前記コンタミネーション
を効果的に除去できしかもスループットが良好であるこ
とから、その需要が多い。

【０００３】従来この種のウエットタイプの洗浄装置に
おいては、個々の槽内においてウエハに対してアンモニ
アやフッ酸などの薬液によって薬液洗浄処理を行った
り、純水によって水洗洗浄処理を行ったりする処理槽が
複数配列されている。そして被処理体であるウエハは、
これら処理槽の前面側に配置された搬送装置によって順
次搬送されて、例えば薬液洗浄と水洗洗浄とに交互に付
されていく。

【０００４】ところでこのような洗浄装置は、薬液のミ
ストが装置外部に飛散しないように、一般に四側に側板
を有し、かつ上部には天板が設けられて、装置外部との
雰囲気の遮断がある程度図られている。そして装置内部
においても、パーティクルや薬液槽からの薬液ミストが
装置内全体に拡散してウエハや他の装置部材を汚染する
ことのないように、前記天板にはさらに例えばＦＦＵ
（Fan Filter Unit）などの吹出し装置を設けて下方の
処理槽に気流を吹き出させるようにし、また同時に処理
槽周囲の下部から排気するようにして、常にダウンフロ
ー雰囲気を創出するようにしていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
の洗浄装置においては、処理槽上部と処理槽前面に位置
する搬送装置の移動スペースとを格別仕切るための遮蔽
物等がないため、装置内部全体が同一の雰囲気となって
おり、そのため前記したパーティクル、薬液ミストの拡
散防止を図るためには、前記ＦＦＵからの給気量及びそ
れに応じた排気量を多くしなければならなかった。

【０００６】また搬送装置の移動スペースと同一雰囲気
内に処理槽が位置しているので、搬送装置の移動にとも
なって気流が乱れ、前記したダウンフローの効果が減殺
されてしまい、搬送装置の移動スペース内で発生したパ
ーティクルが、処理槽側へと巻き込まれることもあっ
た。

【０００７】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、必要な給気量、排気量を少なくさせつつ、かつ薬
液ミストやパーティクルの拡散を効果的に抑えることが
でき、また他方、搬送装置の移動スペースと処理槽側と
の雰囲気をある程度分離させるようにするなどして、処
理槽側へのパーティクル流入等を防止できる洗浄装置を
提供して、前述の問題の解決を図ることを目的とするも
のである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、第１の発明の洗浄装置は、側板によって形成された
領域内に被処理体を洗浄する複数の処理槽を配列し、か
つ前記処理槽の前面側に位置して前記被処理体を前記複
数の処理槽の配列方向に沿って搬送する搬送装置を前記
領域内に有する洗浄装置において、前記搬送装置に被処
理体を搬送中の洗浄雰囲気の拡散を防止する雰囲気拡散
防止機構を設けたことを特徴とする。

【０００９】また、第２の発明の洗浄装置は、側板によ
って形成された領域内に被処理体を洗浄する複数の処理
槽を配列し、かつ前記処理槽の前面側に位置して前記被
処理体を前記複数の処理槽の配列方向に沿って搬送する
搬送装置を前記領域内に有する洗浄装置において、前記
処理槽の前端上部に、切欠凹部を上端から有する遮蔽板
を設け、さらにこの遮蔽板を覆うとともに前記搬送装置
を覆う被処理体を搬送中の洗浄雰囲気の拡散を防止する
雰囲気拡散防止機構を設けたことを特徴とする。

【００１０】また、第３の発明の洗浄装置は、多数枚の
被処理洗浄体を処理槽に搬入して同時に洗浄する洗浄装
置において、前記処理槽の上方からフィルターを介して
クリーンエアーを下方に流し、前記処理槽の外側壁面に
沿って流速を高速化し、前記処理槽の下方から排気する
よう排気口を設けたことを特徴とする。

【００１１】

【作用】本発明の洗浄装置によれば、雰囲気拡散防止機
構をもうけたので処理槽のミストがその上部から拡散す
ることはない。従って従来よりも少ない給気量、排気量
で薬液雰囲気の拡散防止が図れる。

【００１２】ところで前記処理槽の前面に配置されてウ
エハを搬送する搬送装置は、一般的に処理槽前の所定位
置にて、ウエハチャックなどの把持装置を処理槽内に下
降させる如く構成されているが、前記したように処理槽
の前端上部に設けられた遮蔽板は、その上端から切欠凹
部を有しているので、把持装置におけるアームなどの支
持部材は、この切欠凹部にて上下動でき、そのような下
降が妨げられることはない。

【００１３】

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。本実施例は半導体ウエハ（以下、「ウエハ」
という）の洗浄装置に適用された例である。まずその洗
浄装置全体について説明する。この洗浄装置１は、図１
に示したように、大別して洗浄処理前のウエハをキャリ
ア単位で搬入するための搬入部２と、ウエハの洗浄処理
が行われる洗浄処理部３と、洗浄処理後のウエハをキャ
リア単位で搬出すための搬出部４の、計３つのゾーンに
よって構成されている。

【００１４】前記搬入部２には、未洗浄処理のウエハが
所定枚数、例えば２５枚収納されたキャリアＣを搬送ロ
ボットなどにより自動的に搬入し、予め定められた位置
に載置させる載置部５と、載置されたキャリアＣを保持
装置６へ自動的に移送するための移送装置７が設けられ
ている。また前記洗浄処理部３には、その前面側（図１
における手前側）に例えば３つの搬送装置１１、１２、
１３が同一移動方向に配列されている。これら各搬送装
置１１、１２、１３には夫々に対応する材質例えば石英
から成るウエハチャック１４、１５、１６が設けられて
いる。すなわち、各搬送装置１１、１２、１３は未処理
ウエハ、洗浄処理中ウエハ、処理済ウエハとそれぞれの
クロスコンタミを防止する構成になっている。そして前
記搬送装置１１のウエハチャック１４は、保持装置６か
ら例えばキャリア２つ分のウエハ（５０枚）を各キャリ
アからウエハを突き上げ、上昇したウエハ列を同時に把
持する。その後これら５０枚のウエハを一括して後述の
洗浄処理槽へ搬送していくように構成されている。

【００１５】さらに前記搬出部４においても、前記載置
部５とほぼ同様な構成を有す載置部８、前記保持装置６
と同一構成の保持装置（図示せず）、前記移送装置７と
同一構成の移送装置（図示せず）が夫々設けられて洗浄
処理済の５０枚のウエハ列を一括して自動的に搬出する
ように構成されている。

【００１６】そして前記洗浄処理部３の前面側には前側
板１７が配置され、また洗浄装置１全体における載置部
５側の側面と載置部８側の側面には、夫々側板１８、１
９が設けられ、さらにこの洗浄装置１の背面側には材質
例えばテフロンにて構成された背面板２０が設けられて
いる。

【００１７】前記洗浄処理部３には、前記載置部５側か
ら順に、前記搬送装置１１のウエハチャック１４を洗
浄、乾燥するチャック洗浄・乾燥処理槽２１、ウエハ表
面の有機汚染物、金属不純物、パーティクル等の不純物
質を薬液によって洗浄処理する薬液洗浄処理槽２２、前
記薬液洗浄処理槽２２で洗浄されたウエハを例えば純水
によって洗浄する２つの水洗洗浄処理槽２３、２４、前
記薬液洗浄処理槽２２における薬液とは異なった薬液で
洗浄処理する薬液洗浄処理槽２５、前記薬液洗浄処理槽
２５で洗浄されたウエハを例えば純水によって洗浄する
２つの水洗洗浄処理槽２６、２７、前記搬送装置１３の
ウエハチャック１６を洗浄、乾燥するチャック洗浄・乾
燥処理槽２８、及び前記不純物質が除去されたウエハ
を、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等で蒸気
乾燥させるための乾燥処理槽２９が夫々直線的に配設さ
れている。従って、これら各処理槽間の搬送系の搬送路
も沿って直線状に設けられる。

【００１８】そして前記薬液洗浄処理槽２２、２５は、
夫々の洗浄処理液がオーバーフローして循環し、この循
環時にそれぞれの洗浄処理液内に蓄積された不純物がフ
ィルターなどの機構を設けて除去されるように構成され
ている。

【００１９】また前記洗浄装置１の天井部には、別設の
空気調和機から供給される清浄な空気を、この洗浄装置
１における前記洗浄処理部３内下方に吹き出すファン・
フィルタ・ユニット（Fan Filter Unit）Ｆ₁〜Ｆ₉が設
けられている。即ちこれら各ファン・フィルタ・ユニッ
トＦ₁〜Ｆ₉は、各々前記各洗浄処理槽の上方に対応して
て設けられている。そしてこれら各ファン・フィルタ・
ユニットＦ₁〜Ｆ₉は、例えば図２に示したファン・フィ
ルタ・ユニットＦ₅について図示したように、薬液洗浄
処理槽２５と搬送装置１２の上方に跨って配置されてお
り、このファン・フィルタ・ユニットＦ₅からの吹き出
し気流は、同図に示したように、夫々薬液洗浄処理槽２
５側と搬送装置１２側に向けて吹き出されるようになっ
ている。

【００２０】さらに図３に示した前記薬液洗浄処理槽２
５、及びその両側に位置する水洗洗浄処理槽２４、２６
を例にとって各洗浄処理槽周りの構成を説明すると、前
記薬液洗浄処理槽２５は、外側の外槽２５ａと、薬液が
供給されてウエハＷがその中に浸漬される内槽２５ｂと
によって構成される。

【００２１】そしてこの外槽２５ａの後端部には仕切板
３１が位置し、また前端部には遮蔽板（ミストセパレー
タ）３２が設けられている。前記仕切板３１は、図２に
示したように、天井部に位置するファン・フィルタ・ユ
ニットＦ₅から吊設され、また前記遮蔽板３２は、外槽
２５ａの外側にボルト等で固着されている。これら仕切
板３１や遮蔽板３２は耐薬液性に優れた材質で構成され
ている。また前記仕切板３１のさらに背面側には、前出
背面板２０との間に後側板３３が配設されており、この
後側板３３と背面板２０との間の空間は、各種配管用ス
ペースＳとなっている。

【００２２】前記遮蔽板３２は、全体として略Ｕ字型に
成形されており、その略中央部には切欠凹部３２ａを有
している。またこの切欠凹部３２ａは、搬送装置１２の
ウエハチャック１５の上下動の動きに合わせた大きさと
なっている。なおこの切欠凹部３２ａの角部や隅部は、
例えば図３の破線で示されたように、Ｒをつけて形成す
れば、搬送装置１２のウエハチャック１５は効率よく動
くことができる。

【００２３】前記搬送装置１２は、図２と図３と図７
（ａ）に示すように、例えば５０枚のウエハＷを一括し
て把持する左右一対の把持部材によって構成されるウエ
ハチャック１５と、このウエハチャック１５を支持する
支持体４１と、この支持体４１と前記ウエハチャック１
５を覆う雰囲気拡散防止機構たとえばカバー体１００お
よびこのカバー体１００の上部に設けられたファンフィ
ルターユニット１０１と、前記支持体４１を上下方向
（Ｚ方向）に昇降させると共に、前後方向（Ｙ方向）に
も移動させる駆動機構４２と、この駆動機構４２を洗浄
処理部３の長手方向（Ｘ方向）に沿って移動させるため
の搬送ベース４３（図１、図２において図示される）と
によって構成されており、ウエハチャック１５によって
把持したウエハＷを内槽２５ｂ内のボートと呼ばれる保
持具に保持させて、前記ウエハＷを内槽２５ｂ内に供給
される薬液で洗浄処理するようになっている。この場
合、遮蔽板３２には前出切欠凹部３２ａが形成されてい
るので、ウエハチャック１５はこの切欠凹部３２ａ内で
下降することができる。また、前記カバー体１００には
切り欠き凹部１０２が設けられているので、前記カバー
体１００は、遮蔽板３２に接触することなく洗浄処理部
３の長手方向（Ｘ方向）に沿って移動させることが出来
る。

【００２４】なおこの遮蔽板３２の形態に関しては、ウ
エハチャック１５の一対のアーム部分のうち各アーム部
分がそれぞれ独立して上下動できる形状の、前記切欠凹
部３２ａよりも幅狭の略Ｕ字型の切欠凹部を２カ所に形
成して、例えば全体として略Ｗ字型として形成してもよ
い。かかる場合には切欠凹部の面積が必要最小限とな
り、さらに雰囲気分離、ミストの拡散防止を向上させる
ことが可能である。即ち、雰囲気拡散防止機構は、各槽
２２、２５の上方から下方にクリーンな気流を形成し、
この気流が主として各槽２２、２５の外側壁面に沿うよ
うに気流路を形成する。この気流路を形成する手段が、
この実施例では壁１００、１０２、２５ａにより排気口
６１、６２に設けている。

【００２５】この気流の流速は大きい方がよく、０．３
ｍ／ｓｅｃ〜０．７ｍ／ｓｅｃが好適である。最大流速
を越えると、チャックウエハの落下や位置ずれを発生す
る。さらに、湿度についても無制限ではなく、４０％〜
６０％が良い。さらに、装置内のクリーン度についても
１０以下がよい。このように、洗浄作業工程に伴う各槽
で発生するミストの拡散を防止する構成により、とくに
他の機構への塵埃などの悪影響から回避できる。

【００２６】前記外槽２５ａの両側端部上縁には、夫々
ドレンパン４４、４４が設けられている。このドレンパ
ン４４は、図４に示したように、一側に向けて傾斜した
底板４５の四側に側板４６、４７、４８、４９を有し、
さらにこの底板４５の裏面には一対の係止部５０が設け
られ、またこの底板４５における傾斜下端部には、適宜
の排水孔５１が適宜数穿設された構成を有している。そ
してこのドレンパン４４、４４を夫々その排水孔５１
が、隣接した水洗洗浄処理槽２４、２６における排水槽
（図示せず）の上方に位置するようにして、前記係止部
５０を前記外槽２５ａの両側端部上縁に各々係止固定さ
せてある。従って、この各ドレンパン４４、４４上に落
下した液体は、傾斜した底板４５の傾斜下端部にある前
記排水孔５１から、夫々各水洗洗浄処理槽２４、２６に
おける排水槽を通じて排出されるようになっている。ま
たドレンパン４４は、薬液処理槽２２、２５の上方まで
延ばすことにより、排気効率を向上させ、薬液ミストの
飛散を防止することも可能である。

【００２７】前記薬液洗浄処理槽２５の内槽２５ｂの前
後端部各外側には、夫々内槽２５ｂから溢れ出る薬液を
受容する受容小槽５２、５３が設けられ、さらにこの内
槽２５ｂの左右両外側には、オートカバー５４、５５が
設けられており、薬液洗浄処理中は、これら各オートカ
バー５４、５５によって内槽２５ｂの上面が覆われ、薬
液ミストの外部への飛散が防止されるように構成されて
いる。なお図２に示したように、内槽２５ｂの外側底面
に設けられているのは、内槽２５ｂ内に供給される薬液
の温度を制御するための加熱装置５６である。

【００２８】前記内槽２５ｂの下方には、図２、図５に
示したように空間Ｐが存在し、この空間Ｐ内には、前記
した薬液の供給、回収など水系の配管が納められている
が、この空間Ｐ内は、外槽２５ａの下方に設けられた排
気口６１、さらに背面板２０の下方に設けられた排気口
６２を通じて、集中排気装置（図示せず）から排気され
るように構成されている。

【００２９】またこの外槽２５ａにおける前面側（搬送
装置１２側）上方付近には、図６に示したような排気板
６３が設けられている。この排気板６３は、同図に示さ
れるように、複数の排気孔６４を有しており、さらにこ
れら排気孔６４には、摺動自在なシャッタ６５が設けら
れている。従ってこのシャッタ６５を適宜摺動させるこ
とにより、これら排気孔６４の開度を、０〜１００％の
間の任意の値で調節自在である。

【００３０】一方前出各水洗洗浄処理槽２４、２６は、
基本的には、叙上の薬液洗浄処理槽２５と同一の構成を
有しており、また各水洗洗浄処理槽２４、２６は相互に
同一構成である。そして水洗洗浄処理槽２４２４ａの前
後端には、前出各遮蔽板３２、仕切板３１と各々同様な
構成を有する遮蔽板７１、仕切板７２が設けられ、また
水洗洗浄処理槽２６の前後端にも遮蔽板７３、仕切板７
４が設けられている。

【００３１】そして前出各遮蔽板３２、７１、７３相互
は気密に接続され、また仕切板３１、７２、７４相互も
気密に接続されており、この洗浄装置１における既述の
他の各処理槽の前後にも、前記遮蔽板３２、７１、７３
や仕切板３１、７２、７４と同様にして、夫々遮蔽板と
仕切板が設けられている。従ってこの洗浄装置１の洗浄
処理部３内は、図２に示したように、遮蔽板列を境とし
て、前面側が搬送装置が移動するスペース領域の駆動エ
リアＸと、背面側が各処理槽が存在する処理エリアＹと
に区分され、雰囲気分離されることになる。

【００３２】本実施例にかかる洗浄装置１は以上のよう
に構成されており、次にその動作について説明すると、
まず未処理のウエハＷを２５枚ずつ収納したキャリアＣ
が搬送ロボット（図示せず）によって、図１に示したよ
うに、載置部５の所定位置に載置されると、この載置部
５内に収納された移動機構（図示せず）によって前記キ
ャリアＣは、後方側へと移動され、また次のキャリアＣ
が前記所定位置に載置されると、同様に後方側へと移動
され、２つのキャリアＣが前後に配列状態となる。この
状態から、これら２つのキャリアＣは、移送装置７によ
って同時に挟持され、保持装置６の保持部（図示せず）
へと移送され、ウエハＷ（５０枚）のみが予め定められ
た方向例えばオリエンテーションフラットが予め定めら
れた方向例えば上方に整列した状態で上記保持具６で保
持する（把持する）。その後各搬送装置１１、１２、１
３によって、これらウエハＷをそれぞれの位置専用の搬
送装置により順次各洗浄処理槽へと搬送する。５０枚の
ウエハ列のみ処理槽内に残す。この時の各ウエハ間の間
隙がほぼ上記キャリアＣの間隔である。所定の期間洗浄
処理を行う洗浄処理後、上記５０枚のウエハを搬出す
る。

【００３３】この５０枚のウエハの搬入搬出時、例えば
前記薬液洗浄処理槽２５付近での雰囲気について説明す
ると、まず内槽２５ｂの前後には、夫々遮蔽板３２と仕
切板３１とが位置し、さらに上方からファン・フィルタ
・ユニットＦ₅によって清浄な空気が下方に向けて吹き
出され、特に処理槽の側壁近傍で流速が高速化されてい
るとともに、カバー体１００によってウエハチャック１
５が覆われているので、ウエハチャック１５の上下動の
際などに発生する薬液ミストは、外槽２５ａと内槽２５
ｂの間の空隙から、内槽２５ｂ下方の空間Ｐを経て効率
よく排気口６２から排気される。従って前記薬液ミスト
が装置内に拡散することが防止される。

【００３４】このとき内槽２５ｂの後方は仕切板３１に
よって完全に遮られ、一方前方側も遮蔽板３２とカバー
体１００によって相当程度遮られているから、前記薬液
ミストは気流共々極めて効率よく排気される。換言すれ
ば、これら仕切板３１や遮蔽板３２とカバー体１００が
ない場合と比較すれば、前記薬液ミストを排気するため
の給気量、排気量が少なくて済むものである。従って例
えばファン・フィルタ・ユニットＦ₅自体も、従来より
定格の小さい小型のものを使用することが可能である。

【００３５】さらに各処理槽が存在する洗浄処理部３内
の雰囲気は、既述の如く、遮蔽板列によって駆動エリア
Ｘと処理エリアＹとに分離され、しかも各エリアに対し
て夫々ファン・フィルタ・ユニットＦ₅から給気される
一方、駆動エリアＸについては排気板６３から排気さ
れ、また処理エリアＹについては前記したように外槽２
５ａと内槽２５ｂの間の空隙から排気されている。従っ
て各エリア毎に給排気量を制御して、個々のエリアに最
適な雰囲気を創出することが可能である。従って、洗浄
装置１内における雰囲気をコントロールして、よどみの
ない気流雰囲気が実現可能であり、洗浄装置１内に薬液
ミストやパーティクルが拡散するのを効果的に防止でき
る。

【００３６】かかる場合、ファン・フィルタ・ユニット
Ｆ₅側の給気量の調整だけでなく、例えば排気板６３の
シャッタ６５による開度調整によってそのような制御が
実施できる。もちろん排気口６１側にも開度調整のバル
ブ等を設けておくことにより、さらに微調整が可能であ
る。

【００３７】ところでウエハチャック１５によってウエ
ハＷを把持してこれを搬送する場合、例えば薬液洗浄処
理槽２５での薬液洗浄処理が終了した後のウエハＷを搬
送する場合、ウエハＷの表面には薬液が付着しており、
次の水洗洗浄処理槽２６への搬送途中に当該薬液の滴が
落下して、外槽２５ａ、２６ａの表面に付着したり、あ
るいはそのまま飛散して装置内に拡散して、汚染を引き
起こすおそれがある。

【００３８】しかしながら、前記薬液洗浄処理槽２５と
の水洗洗浄処理槽２６との間には、ドレンパン４４が設
けてあるので、落下した滴はこのドレンパン４４で受容
され、そのまま底板４５の排気孔５１から、水洗洗浄処
理槽２６の排水槽へと排出される。したがって、前記の
ような汚染を防止することができる。

【００３９】しかも前記ドレンパンは薬液洗浄処理槽２
５との水洗洗浄処理槽２６における各外槽２５ａ、２６
ａと内槽２５ｂ、２６ｂとの間の隙間を、相当程度塞い
でおり、結果的にかかる領域での排気量を少なくするこ
とに寄与している。換言すれば、必要以上に前記隙間か
らの排気量を抑えている。したがって、既述した遮蔽板
３２、７３や仕切板３１、７４の作用効果と相まって、
さらに必要給排気量の減少化が図られているものであ
る。

【００４０】なお前記した実施例においては、遮蔽板列
によって洗浄処理部３が駆動エリアＸと処理エリアＹと
に雰囲気分離されていたが、図２に示したように、遮蔽
板３２の上方に、ウエハチャック１５の移動スペースを
開けてさらに上部遮蔽板８１をファン・フィルタ・ユニ
ットＦ₅から吊設すれば、駆動エリアＸと処理エリアＹ
との雰囲気分離の程度がさらに高まる。しかも当該上部
遮蔽板８１は、ファン・フィルタ・ユニットＦ₅の整流
板としても機能するので、駆動エリアＸと処理エリアＹ
に対して吹き出される気流相互が干渉することはなく、
さらに良好な各エリアでの気流制御が可能となる。

【００４１】また前記した実施例においては、駆動エリ
アＸ側の排気を担う排気板６３が、例えば薬液洗浄処理
槽２５についていうと、その外槽２５ａの前面側上部に
設けられていたが、これに限らず該外槽２５ａの前面側
下部に設けてもよく、また例えば図５に示したように、
前側板１７の下部に設けた排気板６３’としてもよい。

【００４２】また、図７（ｂ）に示すように、カバー体
１００の内側部に前記ウエハチャック１５に保持された
ウエハ或いはカバー体１００の内壁に純水を噴射する純
水噴射ノズル１０５を例えば３個設け、純水を噴射して
雰囲気拡散を防止してもよい。

【００４３】なお上記実施例はウエハの洗浄装置におい
て適用した例であったが、本発明はこれに限らず、他の
洗浄装置、例えばＬＣＤガラス基板を洗浄処理する洗浄
装置に対しても適用可能である。

【００４４】

【発明の効果】請求項１に記載の洗浄装置によれば、給
気量、排気量を従来よりも軽減させつつ薬液ミストの洗
浄装置内の拡散を防止させることが可能である。従って
効率よくかつ効果的に被処理体の洗浄を実施することが
できる。

【００４５】請求項２に記載の洗浄装置によれば、搬送
装置が存在してパーティクルが発生しやすいエリアを、
処理槽側領域と分離させて、前記エリア内のパーティク
ル等の処理槽側領域への侵入を防止することが可能であ
り、被処理体の洗浄をより清浄な雰囲気の中で実施する
ことができる。

【００４６】請求項３に記載の洗浄装置によれば、前記
エリア内で発生したパーティクルを独立して排気させる
ことができるなど、前記エリア内での気流制御が独立し
て可能となり、しかも洗浄装置全体としての給気、排気
のバランスを最適な状態にして装置を稼働させることが
可能となる。

【００４７】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の一部破断斜視図である。

【図２】本発明の実施例の断面を模式的に示した説明図
である。

【図３】本発明の実施例における薬液処理槽付近の斜視
図である。

【図４】本発明の実施例で用いたドレンパンの斜視図で
ある。

【図５】本発明の実施例における気流の様子を示す説明
図である。

【図６】本発明の実施例で用いた排気板の正面図であ
る。

【図７】（ａ）本発明の実施例で用いた雰囲気拡散防止
機構の概略断面図である。（ｂ）本発明の実施例で用いた雰囲気拡散防止機構の他
の概略断面図である。

【符号の説明】

１洗浄装置３洗浄処理部１１、１２、１３搬送装置１７前側板１８、１９側板２０背面板２２、２５薬液洗浄処理槽３１、７２、７４仕切板３２、７１、７３遮蔽板３２ａ切欠凹部４４ドレンパン６１、６２排気口６３排気板Ｆ₁〜Ｆ₉ ファン・フィルタ・ユニットＷウエハ１００雰囲気拡散防止機構

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】側板によって形成された領域内に被処理
体を洗浄する複数の処理槽を配列し、かつ前記処理槽の
前面側に位置して前記被処理体を前記複数の処理槽の配
列方向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有する
洗浄装置において、前記搬送装置に被処理体を搬送中の
洗浄雰囲気の拡散を防止する雰囲気拡散防止機構を設け
たことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】側板によって形成された領域内に被処理
体を洗浄する複数の処理槽を配列し、かつ前記処理槽の
前面側に位置して前記被処理体を前記複数の処理槽の配
列方向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有する
洗浄装置において、前記処理槽の前端上部に、切欠凹部を上端から有する遮
蔽板を設け、さらにこの遮蔽板を覆うとともに前記搬送
装置を覆う被処理体を搬送中の洗浄雰囲気の拡散を防止
する雰囲気拡散防止機構を設けたことを特徴とする洗浄
装置。
【請求項３】多数枚の被処理洗浄体を処理槽に搬入し
て同時に洗浄する洗浄装置において、前記処理槽の上方
からフィルターを介してクリーンエアーを下方に流し、
前記処理槽の外側壁面に沿って流速を高速化し、前記処
理槽の下方から排気するよう排気口を設けたことを特徴
とする洗浄装置。