JP2002359226A

JP2002359226A - バッチ式ウェット処理装置

Info

Publication number: JP2002359226A
Application number: JP2001162748A
Authority: JP
Inventors: Taishin Morito; 泰臣森戸; Yusuke Abe; 裕介阿部; Masafumi Takemori; 雅史竹森; Tetsushi Oishi; 哲士大石
Original assignee: SPC Electronics Corp
Current assignee: SPC Electronics Corp
Priority date: 2001-05-30
Filing date: 2001-05-30
Publication date: 2002-12-13

Abstract

(57)【要約】【課題】従来のバッチ式ウェット処理装置において
は、各種薬液が満されている処理槽から発生した気化ガ
ス、ミストあるいは搬送ロボットの駆動に伴って発生し
た塵等が装置内に拡散してしまい、処理薬液と化学反応
を起し、隣接する処理槽を汚染したり、搬送ロボットに
ダメージを与え、被処理物を汚染してしまうという問題
があった。【解決手段】被処理物をウェット処理する処理槽を載
置した処理室をケース内に複数個直列状に配置すると共
に、該処理室群の前面側に通路状の搬送ロボット室を設
け、該搬送ロボット室内のロボット移動レーンに処理槽
へ被処理物を搬送する搬送ロボットを設置したバッチ式
ウェット処理装置において、搬送ロボット室の上部にク
リーンエアユニットを設置し、搬送ロボット室へエアを
吹き下ろす様にすると共に、搬送ロボット室のロボット
移動レーンの側面に搬送ロボットの移動方向に沿って吸
気口を形成し、クリーンエアユニットから吹き下ろされ
たエアをここから吸引できる様にした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明はバッチ式ウェット
処理装置、詳しくは半導体や液晶等の製造過程において
被処理物表面に付着しているパーティクル、有機汚染
物、金属不純物などを洗浄処理する装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】半導体や液晶等の製造の際には加工途中
の被処理物表面に付着しているパーティクル、有機汚染
物、金属不純物などコンタミネーション（ｃｏｎｔａｍ
ｉｎａｔｉｏｎ）と称される物質を洗浄除去する工程が
必要であり、その為に各種処理装置が使用されている。

【０００３】これら処理装置の中でも、ウェットタイプ
の処理装置は、洗浄能力及び洗浄効率がすぐれていると
して広く用いられている。

【０００４】ウェットタイプの洗浄処理装置において
は、装置内にアンモニアや硫酸等複数種類の薬液によっ
て処理する為の処理槽及び純水による水洗洗浄を行う洗
浄槽が複数個並んで配列され、半導体ウエハー、液晶基
板などの被処理物はこれら処理槽群の前面側に配置され
た搬送ロボットによって順次別の処理槽へ搬送されなが
ら処理される様になっている。

【０００５】図１及び図２は従来のウェット処理装置の
一例を示したものであり、ケース１内には複数の処理室
２ａ、２ｂ、２ｃが直列状に並んで位置せしめられてお
り、該処理室２ａ、２ｂ、２ｃ内にはそれぞれ処理槽２
９ａ、２９ｂ、２９ｃが載置されており、該処理槽２９
ａ、２９ｂ、２９ｃの外側には該処理槽２９ａ、２９
ｂ、２９ｃからオーバーフローした処理液を捕集する外
槽３ａ、３ｂ、３ｃがそれぞれ設けられている。

【０００６】更に、このケース１内には、処理室２ａ、
２ｂ、２ｃに沿ってその前面側に搬送ロボット室４が形
成されており、この搬送ロボット室４内のロボット移動
レーン１５には搬送ロボット５が設置されており、搬送
ロボット５が左右方向に移動し、被処理物を処理室２
ａ、２ｂ、２ｃ内の処理槽２９ａ、２９ｂ、２９ｃへ自
動搬送する様になっている。

【０００７】図中６は移動機構が内蔵された搬送ロボッ
ト基部、７は支柱、８はワーク保持部である。叉、各処
理室２ａ、２ｂ、２ｃの上部及び各処理室２ａ、２ｂ、
２ｃと搬送ロボット室４の境の上方にはパーテーション
９及び１０がそれぞれ設けられている。

【０００８】更に、処理室２ａ、２ｂ、２ｃの上方に
は、清浄なエアを下方に向って吐出するクリーンエアユ
ニット１１ａ、１１ｂ、１１ｃがそれぞれ設置されてい
る。

【０００９】叉、外槽３ａ、３ｂ、３ｃの側面にはそれ
ぞれ吸気孔１２が設けられており、該吸気孔１２には外
槽３ａ、３ｂ、３ｃの側面外側に沿って下方に延設され
た排気ボックス１３に連通しており、吸気孔１２から排
気ボックス１３に流入した気体は排気ボックス１３を通
して外部に強制的に排出される様になっている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】この従来のバッチ式ウ
ェット処理装置においては、処理槽２内の処理液の加熱
によって生ずる蒸気やミスト、あるいは処理液として使
用される薬液の反応によって生ずるガスは上昇気流とな
って上昇するが、吸気孔１２には処理槽２９ａ、２９
ｂ、２９ｃの液面３０より下方に位置している為、吸気
孔１２からこれらミストやガスを十分に捕集吸引するこ
とは出来なかった。

【００１１】叉、被処理物を処理槽２９ａ、２９ｂ、２
９ｃにおいて薬液処理した後、被処理物を搬送ロボット
５によって処理槽２９ａ、２９ｂ、２９ｃの上方へ持ち
上げた際に、被処理物及び被処理物搬送トレイに付着し
ている薬液から発生する気化ガス、あるいは熱を帯びた
被処理物及び被処理物搬送トレイから発生する蒸気やミ
ストの制御は困難であった。これらガスやミストの上昇
気流は、隣接する別の処理槽２９ａ、２９ｂ、あるいは
２９ｃに侵入し、これら処理槽２９ａ、２９ｂ、あるい
は２９ｃで使用されている処理液と化学反応を引き起し
たり、この上昇気流によって隣接する別の処理槽２９
ａ、２９ｂ、２９ｃにパーティクルが運ばれ、これに混
入するといった問題もあった。

【００１２】更に、処理槽２９ａ、２９ｂ、２９ｃの処
理液から発生する気化ガスやミストを含んだ上昇気流が
搬送ロボット室４に流入し、搬送ロボット５に腐食等の
ダメージを与える場合があった。叉、逆に搬送ロボット
５の駆動時に搬送ロボット室４において発生した塵が処
理室２ａ、２ｂ、２ｃに侵入し、被処理物を汚染してし
まうこともあった。

【００１３】これら問題点は、いずれも処理液から発生
した気体やミストあるいは搬送ロボット４の駆動に伴っ
て生じた塵等の制御を十分に行えないことに起因するも
のであり、本発明は装置内の気流の流れの制御を十分に
行える様にし、処理室２ａ、２ｂ、２ｃから搬送ロボッ
ト室４及び隣接した他の処理室２ａ、２ｂ、２ｃへの気
流の侵入を制御し、処理液同士の化学反応による副成物
発生を押さえると共に、搬送ロボット５の腐食や搬送ロ
ボット５から処理室２ａ、２ｂ、２ｃへのパーティクル
の侵入を阻止し、被処理物や装置へのダメージをなく
し、被処理物の汚染を抑制したウェット処理装置を提供
せんとするものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】被処理物をウェット処理
する処理槽２９を載置した処理室２をケース内に複数個
直列状に配置すると共に、該処理室２群の前面側に通路
状の搬送ロボット室４を設け、該搬送ロボット室４内の
ロボット移動レーン１５に処理槽２９へ被処理物を搬送
する搬送ロボット５を設置したバッチ式ウェット処理装
置において、搬送ロボット室４の上部にクリーンエアユ
ニット１４を設置し、搬送ロボット室４へエアーを吹き
下ろす様にすると共に、搬送ロボット室４のロボット移
動レーン１５の側面に搬送ロボット５の移動方向に沿っ
て吸気口１６を形成し、クリーンエアユニット１４から
吹き下ろされたエアをここから吸引できる様にすること
により上記課題を解決せんとするものである。叉、処理
室２の背面側に搬送ロボット室４側を向いた吸気孔２５
を有する吸気ボックス２６を取付けること、吸気ボック
ス２６を上下可動として被処理物の位置に応じて吸気孔
２５の位置を変更できる様にすること、処理室２上部に
わずかに背面方向へ偏向してエアが吹き出すクリーンエ
アユニット３５を取付けること、クリーンエアユニット
３５からのエアの吹き出し方向を自由に調整できる様に
すること、搬送ロボット室４と処理室２との間に中間吸
気室２１を設けて両者間における気体や蒸気あるいはミ
スト又は塵の侵入を阻止できる様にすること、隣接する
処理室２、２の境界部にエアカーテン３４を形成するこ
と、更には、処理室２上方に搬送ロボット室４と対向す
る側の壁面が斜めあるいは円弧状に形成された整流板２
４を設けること、などによりそれぞれ上記課題を解決せ
んとするものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】図４はこの発明に係るバッチ式ウ
ェット処理装置の一実施形態の内部を透視して描いた正
面図、図５はその側面図である。

【００１６】図中、１はケースであり、このケース１内
には複数の処理室２ａ、２ｂ、２ｃが横方向に直列状に
並んで位置せしめられており、処理室２ａ、２ｂ、２ｃ
内には処理槽２９ａ、２９ｂ、２９ｃが載置せしめられ
ている。叉、該処理槽２９ａ、２９ｂ、２９ｃの外側に
は該処理槽２９ａ、２９ｂ、２９ｃからオーバーフロー
した処理液を捕集する外槽３ａ、３ｂ、３ｃがそれぞれ
設けられている。更に、このケース１内には処理室２
ａ、２ｂ、２ｃに沿ってその前面側に通路状の搬送ロボ
ット室４が形成されており、この搬送ロボット室４内の
ロボット移動レーン１５には搬送ロボット５が設置され
ており、搬送ロボット５が処理室２ａ，２ｂ、２ｃに沿
って横方向に移動し、被処理物を各処理槽２９ａ、２９
ｂ、２９ｃへ自動搬送する様になっている。

【００１７】叉、図中６は移動機構が内蔵された搬送ロ
ボット基部、７は支柱、８はワーク保持部である。な
お、これら各構造は従来のバッチ式ウェット処理装置の
ものと基本的には同一である。

【００１８】更に、搬送ロボット室４の上方には清浄な
エアを下方つまり搬送ロボット室４に向って吹き出すク
リーンエアユニット１４が設けられていると共に、搬送
ロボット室４のロボット移動レーン１５に沿って、その
側壁には図５に示す様に長孔状をした吸気口１６、１６
を有する吸気ボックス１７が対向して設けられている。

【００１９】なお、この吸気口１６は前述のクリーンエ
アユニット１４から吹き下ろされたエアを吸引するもの
であり、その位置は図４に示す様に、外槽３ａ、３ｂ、
３ｃの上縁とほぼ同じレベルとなっている。そして、こ
の吸気ボックス１７の下部には吸気ダクト１８が取付け
られており、この吸気ダクト１８を介して吸引したエア
をケース１外に強制的に排出するようになっている。

【００２０】一方、処理室２ａ、２ｂ、２ｃの上方には
清浄なエアを吹き出すクリーンエアユニット３５が背面
方向（図４において右側）にわずかに傾いて設置されて
おり、清浄なエアが図４に示す様に、わずかに背面方向
に偏向して吹き出す様になっている。

【００２１】なお、この実施の形態においては、クリー
ンエアユニット３５自体を背面方向に傾けることにより
空気流を背面方向に偏向させているが、クリーンエアユ
ニット３５の空気吹き出し口に整流板を取付けるなどし
て空気流を偏向させる様にしても良いことはもちろんで
ある。叉、エアの吹き出し方向を自由に設定、変更でき
る様にしても良い。

【００２２】更に、処理室２ａ、２ｂ、２ｃの上方の搬
送ロボット室４との境いには、ロボット移動レーン１５
に沿って一定の間隔を保って一対のパーテーション１
９、２０が、処理室２ａ、２ｂ、２ｃの境界にはパーテ
ーション３１がそれぞれ取付けられており、これらパー
テーション１９、２０、３１によって囲われた空間は中
間吸気室２１となっている。なお、図中３２は搬送ロボ
ット５のアーム３３が通過できる様にパーテーション１
９、２０に形成されたスリットである。そして、この中
間吸気室２１はその下部において、吸気ボックス１７を
介して吸気ダクト１８に連通しており、中間吸気室２１
によって捕集された気体は吸気ダクト１８を通ってケー
ス１の背面に排出される様になっている。なお、図中３
６は吸気ボックス１７に設けられた吸気孔である。

【００２３】一方、外槽３ａ、３ｂ、３ｃの側壁にも吸
気口２２があけられており、この吸気口２２に連通した
吸気ダクト２３を通って外槽３ａ、３ｂ、３ｃ内の気体
やミストはケース１の背面に排出される様になってい
る。

【００２４】更に、処理室２ａ、２ｂ、２ｃ背面上方の
ケース１内に空間には図４に示す様に円弧状に彎曲した
整流板２４がその曲率中心を搬送ロボット室４方向を向
く様に位置せしめられており、処理室２上方背面寄りの
気流を制御する様になっている。なお、この実施形態に
おいては整流板２４は円弧状に彎曲したものを用いたが
斜面状のものでも良い。

【００２５】叉、処理室２ａ、２ｂ、２ｃの背面側に
は、図６に示す様に搬送ロボット４側を向いたスリット
状の吸気孔２５を有する吸気ボックス２６が昇降可能に
位置せしめられており、該吸気ボックス２６は吸気ダク
ト２７に気体やミストをケース１の背面側に強制的に排
出する様になっている。

【００２６】なお、吸気ボックス２６は昇降自在となっ
ており、被処理物の上下移動に応じてその位置を自由に
変更できる様に配慮されている。更に、図３に示す様
に、隣接する処理室２ａ、２ｂ、２ｃの境界部の上方に
は、エアカーテン用ブロアー２８、２８がそれぞれ取付
けられており、境界部にエアカーテン３４を形成し、隣
接する処理室２ａ、２ｂ、２ｃ間における気流の流入/
流出を防いでいる。図７中、３７はエアカーテン用エア
吐出口、３８はクリーンエアユニット３５のエア吐出口
である。

【００２７】この発明に係るバッチ式ウェット処理装置
は上述の通りの構成を有するものであり、下記通りの作
用を有する。即ち、３つ設置された処理槽２９ａ、２９
ｂ、２９ｃのうち真ん中の処理槽２９ｂを純水によるリ
ンスの為のリンス槽とし、その両側の処理槽２９ａ、２
９ｃをそれぞれ違う種類の薬液による薬液処理槽として
用いる場合、一般にこれら薬液処理槽２９ａ、２９ｃは
加熱されるので、これら薬液処理槽２９ａ、２９ｃから
は薬液の一部が気化し上昇気流となって拡散する。これ
を防ぐ為、薬液処理槽２９ａ，２９ｂ、２９ｃは被処理
物の搬入、搬出時以外は原則として蓋をしておく。

【００２８】一方、被処理物の搬入、搬出時には処理槽
２９ａ、２９ｂ、２９ｃの蓋を開けなければならず、こ
の際、加熱された薬液の一部は気化して上昇気流になっ
て上昇拡散しようとするが、処理室２ａ、２ｂ、２ｃの
上方に位置したクリーンエアユニット３５からは下方に
向って清浄な空気が吹き下されているので、気化した薬
液の上昇は阻止される。クリーンエアユニット３５から
各処理室２ａ、２ｂ、２ｃへ向って吹き下される清浄な
エアの量は各処理槽２９ａ、２９ｂ、２９ｃから発生す
る上昇気流の流速に応じて設定される。これは各処理槽
２９ａ、２９ｂ、２９ｃから発生した気体やミストが他
の処理槽２９ａ、２９ｂ、２９ｃへ侵入しない様にする
為であり、この実施の形態においては、３つ設けられて
いる処理室２ａ、２ｂ、２ｃの内、真ん中のリンス用の
処理槽２９ｂを有する処理室２ｂへ吹き下ろす清浄なエ
アの量を多くし、このリンス用の処理室２ｂの内圧を両
側の薬液を用いた処理室２ａ、２ｃより高くし、加熱さ
れた薬液から発生する気体やミストがリンス用の処理槽
２９ｂへ侵入することを阻止する様にしている。

【００２９】同様に、クリーンエアユニット１４から搬
送ロボット室４へ吹き下ろす清浄なエアーの量も処理室
２ａ、２ｃへ吹き下ろすエアの量より多くしてその内圧
を高め、処理室２ａ、２ｃからの搬送ロボット室への気
体やミストの侵入を阻止している。叉、図５に示す様
に、搬送ロボット室４にはロボット移動レーン１５に沿
って長孔状をした吸気口１６、１６を有する吸気ボック
ス１７が対向して設けられており、クリーンエアユニッ
ト１４から吹き下ろされたエアはこの吸気口１６、１６
によって吸引されてケース１外に強制的に排出される。
従って、搬送ロボット５の駆動によって塵などが発生し
たとしても、これが処理室２ａ、２ｂ、２ｃに飛散する
ことは阻止される。

【００３０】叉、これら処理室２ａ、２ｂ、２ｃの上方
に位置したクリーンエアユニット３５は背面方向へ向っ
てわずかに傾いているので、これから吹き下ろされる清
浄なエアは背面方向つまり、搬送ロボット室４とは逆の
方向に向うので、この偏向した清浄なエアの吹き下ろし
によって、処理室２ａ、２ｂ、２ｃからの上昇気流が搬
送ロボット室４側へ流れ込むことは阻止される。更に、
背面側には吸気ボックス２６が設けられており、クリー
ンエアユニット１１から吹き下ろされたエアはこの吸気
ボックス２６によって吸引され、拡散せずに外部に排出
される。

【００３１】叉、この吸気ボックス２６は、上下可動式
となっており、搬送ロボット５によって被処理物を一つ
の処理槽２９ａ、２９ｂ、あるいは２９ｃから持ち上
げ、他の処理槽２９ａ、２９ｂ、あるいは２９ｃに移し
替える際には、搬送ロボット５の挙動に合せて上昇させ
ることが出来、被処理物保持冶具あるいは搬送ロボット
５のアーム３３などに薬液から気化した気体やミストが
付着する前にそれらをすばやく捕集してしまいその拡散
を防いでいる。

【００３２】更に、処理室２ａ、２ｂ、２ｃの上方背面
側には整流板２４が設けられているので、処理槽２９
ａ、２９ｂ、２９ｃから上昇した気体やミストはケース
１の上方内側隅部に滞溜することなくスムーズに吸気ボ
ックス２６方向へ誘導され、吸気ボックス２６で効率よ
く吸引される。

【００３３】一方、処理室２ａ、２ｂ、２ｃの前方の搬
送ロボット室４との境界部に設けられた吸気ボックス１
７からも処理室２ａ、２ｂ、２ｃ内の気体やミストの吸
引が行われるので、これらによって処理室２ａ、２ｂ、
２ｃから搬送ロボット室４への気体やミストの侵入は阻
止される。叉、処理室２ａ、２ｂ、２ｃ間の上方に設け
られているエアカーテン用ブロア２８からは下方に向っ
て空気が出され、エアカーテン３４が形成されているの
で、隣接する処理室２ａ、２ｂ、２ｃ相互間での気流や
ミストの侵入はない。

【００３４】更に、処理室２ａ、２ｂ、２ｃの境界部に
は、パーテーション１９、２０、３１によって中間吸気
室２１が形成されているので、この中間吸気室２１を通
って処理室２ａ、２ｂ、２ｃ内の気体やミストは相互に
混じり合うことなく、効率的に吸引、排出される。

【００３５】

【発明の効果】この様に、この発明に係るバッチ式ウェ
ット処理装置においては、処理槽が載置されている各処
理室及び搬送ロボット室内の気流の流れを入念かつ多重
的に制御しているので、各処理槽から発生する気体やミ
ストあるいは搬送ロボット室から発生するダスト等が拡
散されるのが有効に阻止され、より高品質なウェット処
理を高能率で行える効果を有し、極めて実用的なもので
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】バッチ式ウェット処理装置の従来例の内部を透
視して描いた正面図。

【図２】同じくその側面図。

【図３】この発明に係るバッチ式ウェット処理装置の一
実施形態の内部を透視して描いた正面図。

【図４】同じくその側面図。

【図５】同じくその要部だけを模式的に描いた参考斜視
図。

【図６】同じくその要部だけを模式的に描いた参考斜視
図。

【図７】同じくその要部だけを模式的に描いた参考斜視
図。

【符号の説明】

１ケース２ａ処理室２ｂ処理室２ｃ処理室３ａ外槽３ｂ外槽３ｃ外槽４搬送ロボット室５搬送ロボット６基部７支柱８ワーク保持部９パーテーション１０パーテーション１１クリーンエアユニット１２吸気孔１３排気ボックス１４クリーンエアユニット１５ロボット移動レーン１６吸気口１７吸気ボックス１８吸気ダクト１９パーテーション２０パーテーション２１中間吸気室２２吸気口２３吸気ダクト２４整流板２５吸気孔２６吸気ボックス２７吸気ダクト２８エアカーテン用ブロア２９ａ処理槽２９ｂ処理槽２９ｃ処理槽３０液面３１パーテーション３２スリット３３アーム３４エアカーテン３５クリーンエアユニット３６吸気孔３７エアカーテン用エア吐出口３８エア吐出口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者竹森雅史東京都調布市柴崎２−１−３島田理化工業株式会社内 (72)発明者大石哲士東京都調布市柴崎２−１−３島田理化工業株式会社内Ｆターム(参考） 5F043 DD10 EE36 EE37 EE40 GG10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理物をウェット処理する処理槽２９
を載置した処理室２をケース１内に複数個直列状に配置
すると共に、該処理室２群の前面側に通路状の搬送ロボ
ット室４を設け、該搬送ロボット室４内のロボット移動
レーン１５に処理槽２９へ被処理物を搬送する搬送ロボ
ット５を設置したバッチ式ウェット処理装置において、
搬送ロボット室４の上部にクリーンエアユニット１４を
設置し、搬送ロボット室４へエアを吹き下ろす様にする
と共に、搬送ロボット室４のロボット移動レーン１５の
側面に搬送ロボット５の移動方向に沿って吸気口１６を
形成し、クリーンエアユニット１４から吹き下ろされた
エアをここから吸引できる様にしたことを特徴とするバ
ッチ式ウェット処理装置。
【請求項２】処理室２の背面側に、搬送ロボット室４
側を向いた吸気孔２５を有する吸気ボックス２６が取付
けられていることを特徴とする請求項１記載のバッチ式
ウェット処理装置。
【請求項３】吸気ボックス２６が上下可動であり、被
処理物の位置に応じて吸気孔２５の位置を変更できる様
になっていることを特徴とする請求項２記載のバッチ式
ウェット処理装置。
【請求項４】処理室２上部に、わずかに背面方向へ偏
向してエアが吹き出すクリーンエアユニット３５を取付
けたことを特徴とする請求項１記載のバッチ式ウェット
処理装置。
【請求項５】クリーンエアユニット３５からのエアの
吹き出し方向が自由に調整できることを特徴とする請求
項４記載のバッチ式ウェット処理装置。
【請求項６】搬送ロボット室４と処理室２との間に中
間吸気室２１を設け、両者間における気体、蒸気、ミス
トあるいは塵の侵入を阻止する様にしたことを特徴とす
る請求項１記載のバッチ式ウェット処理装置。
【請求項７】隣接する処理室２、２の境界部にエアカ
ーテン３４を形成する様にしたことを特徴とする請求項
１記載のバッチ式ウェット処理装置。
【請求項８】処理室２上方に搬送ロボット室４と対向
する側の壁面が斜めあるいは円弧状に形成された整流板
２４が設けられていることを特徴とする請求項１記載の
バッチ式ウェット処理装置。