JPH0833876A - 液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents

液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置

Info

Publication number
JPH0833876A
JPH0833876A JP17921995A JP17921995A JPH0833876A JP H0833876 A JPH0833876 A JP H0833876A JP 17921995 A JP17921995 A JP 17921995A JP 17921995 A JP17921995 A JP 17921995A JP H0833876 A JPH0833876 A JP H0833876A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
cleaning liquid
cleaned
jet
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17921995A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiko Okamura
和彦 岡村
Takeshi Shindo
武 進藤
Takuya Miyagawa
拓也 宮川
Tatsuya Misawa
達也 三澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP17921995A priority Critical patent/JPH0833876A/ja
Publication of JPH0833876A publication Critical patent/JPH0833876A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】洗浄液中に形成した噴流を利用して、洗浄効率
が高く、洗浄液のミストが発生しない洗浄方法及ぴ洗浄
装置を実現すること。 【構成】洗浄装置1において、被洗浄部材8を、搬送べ
ルト4によって洗浄液3の液中を搬送し、浸漬させる。
この状態の被洗浄部材8に対して、洗浄液3の液中に配
置された噴射ノズル5から、洗浄液3の噴流を吹き付
け、洗浄液3の化学洗浄力と共に、噴流の物理力を利用
して被洗浄部材を洗浄する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、回路基板、液晶パ
ネル、半導体ウェーハー等に代表される平板状の部材、
あるいは金属部品、プラスチツク部品に代表される小形
部品を洗浄するための洗浄方法及び洗浄装置に関する。
さらに詳しくは、本発明は、洗浄液中において洗浄液の
噴流を形成し、この噴流を利用して上記の各種部品の洗
浄を行う液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】回路基板、液晶パネル、半導体ウエーハ
ー等に代表される平板状の部材、あるいは金属部品、プ
ラスチツク部品に代表される小形部品は、それぞれ形状
及び処理量を考慮して、連続式あるいはバッチ式の洗浄
装置によって洗浄される。
【0003】例えぱ、回路基板、液晶パネル、半導体ウ
ェーハー等の平板状の部材を連続的に洗浄する従来の洗
浄装置としては、以下に説明する装が利用されており、
この装置の構造を、図16及び図17を参照して、説明
する。
【0004】図16は、従来の洗浄装置の洗浄槽の斜視
図、図17はこの洗浄装置全体の断面図であり、洗浄装
置101の洗浄槽102には洗浄液103が貯留されて
いる。洗浄槽102の上方には、搬送ベルト104か配
置され、平板状の被洗浄部材105を洗浄液103の直
上にまで、順次、連続的に搬送可能になっている。さら
に、洗浄液103の直上には、配管106’に接続され
た噴射ノズル106が、被洗浄部材105の上下面に向
けてそれぞれ6個ずつ配置されており、これらの噴射ノ
ズル106は、洗浄液フイルター107及び加圧ポンブ
108を介して、洗浄槽102の洗浄液103と接続さ
れている。これにより洗浄時には、加圧ポンプ108か
ら圧送された洗浄液103が、噴射ノズル106から、
大気中で、被洗浄部材105の上下面に向けてジェット
噴射される。
【0005】一方、金属部品、プラスチック部品等の小
形部品を洗浄するための従来のバッチ式洗浄装置を、図
18を参照して、説明する。
【0006】図18は洗浄装置の断面図であり、洗浄装
置111の洗浄槽112にはヒータ一113が備えら
れ、洗浄液114を加温可能になっている。洗浄液11
4の液面上には、小形部品である被洗浄部材115が、
一括して、収容された洗浄カゴ116が吊り下げられて
いる。この洗浄カゴ116の側方には、一対の噴射ノズ
ル117が配置されており、これらの噴射ノズル117
は、洗浄液フィルター118及び加圧ポンプ119を介
して、洗浄槽112の洗浄液114に接続され洗浄時に
は、これらの噴射ノズル117から、大気中で、洗浄カ
ゴ116に向けて洗浄液114がジェット噴射される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の洗浄
装置においては、以下の問題点を有している。
【0008】大気中で被洗浄部材に対して洗浄液をジ
ェット噴射するため、被洗浄部材において、洗浄液が直
接に噴射された部分は洗浄されるが、洗浄液が直接噴射
されない部分は、未洗浄あるいは洗浄不足の状態にな
る。
【0009】洗浄効果を高める目的に、洗浄液を加温
する場合があるが、被洗浄部材は、洗浄液と接触してい
る時、被接触した部分のみ加温され、被洗浄部材全体は
加温されない。従って、洗浄液の加温による効果が充分
に発揮されない。
【0010】大気中でのジェット噴射によって、洗浄
液のミストが発生し、空気中に飛散するため、洗浄液の
消費が多い。また、洗浄液が臭気を有している場合に
は、作業環境の著しい低下を招き、特に洗浄液が引火性
を有している場合には、安全性が問題になる。
【0011】以上の問題点に鑑み、本発明の課題は、洗
浄液中に形成した洗浄液の噴流を利用して、洗浄効率が
高く、洗浄液のミストが発生しない洗浄方法及び洗浄装
置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明においては、洗浄する被洗浄部材を、順
次、あるいは一括して、洗浄槽内の洗浄液の中に浸漬
し、浸漬した状態の被洗浄部材に対して洗浄液の噴流を
吹き付けるようにしている。
【0013】また、一括して複数枚の被洗浄部材を洗浄
液の中に浸漬する場合には、相互に隙間をもたせて洗浄
液の中に浸漬し、これらの被洗浄部材の隙間に向けて洗
浄液の噴流を噴射することが好ましい。
【0014】ここで、これらの隙間を、洗浄液の噴流の
入ロ側が出口側よりも広くなるように設定することが好
ましい。
【0015】次に、本発明の洗浄装置は、洗浄液を貯留
した洗浄槽と、洗浄すべき被洗浄部材を、順次あるいは
一括して、洗浄槽内の洗浄液の中に浸漬させると共に、
そこから引き上げる搬送手段と、洗浄液の中に浸漬され
た被洗浄部材に対して洗浄液の噴流を吹き付ける噴流形
成手段とを有することを基本的な特徴としている。
【0016】また、一括して複数枚の板状の被洗浄部材
を洗浄液の中に浸漬する場合には、洗浄液を貯留した洗
浄槽と、洗浄すぺき被洗浄部材を複数枚担持可能な担持
手段と、この担持手段により担持された複数枚の被洗浄
部材を洗浄液の中に浸漬すると共に、そこから引き上げ
る搬送手段と、洗浄液中に浸漬された被洗浄部材に対し
て、洗浄液の噴流を吹き付ける噴流形成手段とを有し、
担持手段は、隣接する被洗浄部材の間に隙間が形成され
た状態に、複数枚の被洗浄部材を担持しており、噴流形
成手段は、隣接する被洗浄部材の間に形成された各隙間
に向けて洗浄液の噴流を噴射することが好ましい。
【0017】ここに、洗浄液の噴流が被洗浄部材の面に
垂直方向の物理力を与えるように、被洗浄部材の配列方
向が洗浄液の噴流に対して一定の角度を形成しているこ
とが好ましい。
【0018】また、担持手段は、被洗浄部材の間の隙間
が、洗浄液の噴流の入口側が出ロ側に比べて広くなるよ
うに、被洗浄部材を担持していることが望ましい。
【0019】ここに、洗浄液の噴流が被洗浄部材の隙間
から逸れないように、洗浄液の噴流通路としての被洗浄
部材の隙間が、被洗浄部材と、その外周縁側に配置され
た遮蔽部材とによって区画され、閉じ断面状態になって
いることが効果的である。
【0020】また、担持手段は、複数枚の被洗浄部材を
乗せる底面と、被洗浄部材の両端縁を保持する一対の保
持部を有し、寸法の異なる被洗浄部材を洗浄できるよう
に、これらの保持部の対向距離が調整可能になっている
ことが好ましい。
【0021】次に、本発明の洗浄装置において、さら
に、洗浄液の噴流に対向する洗浄槽の側壁側には、この
側壁に衝突する噴流を洗浄槽外に導き出して、この噴流
によって発生する洗浄液の液面の波立ちを緩和する緩和
手段を有していることが好ましく、このような緩和手段
は、例えぱ、洗浄槽の側壁からオーバーフローするも
の、あるいは洗浄槽の側壁側の位置で、噴流を洗浄槽外
に吸い出すものである。
【0022】さらに、本発明の洗浄装置が、洗浄液の中
から引き上げられる被洗浄部材に対して、空気を噴射す
る噴射空気流発生手段を有していることが好ましい。
【0023】
【作用】本発明による液中ジエツト洗浄方法及び洗浄装
置では、洗浄すぺき被洗浄部材を洗浄液槽内の洗浄液の
中に浸漬し、浸漬した状態の被洗浄部材に対して洗浄液
の噴流を吹き付ける。また、洗浄すべき平板状の複数の
被洗浄部材を、隙間をもって洗浄液槽内の洗浄液の中に
浸漬し、これらの被洗浄部材の隙間に対して洗浄液の噴
流を噴射する。従って、被洗浄部材の汚れを、洗浄液の
化学洗浄力と噴流による物理力によって洗浄できるの
で、洗浄効率が高い。しかも、被洗浄部材全体は、洗浄
中、常に洗浄液に接しているので、洗浄液の噴流を直接
受けない部分があっても、その部分は洗浄液の化学洗浄
力によって洗浄される。ここに、洗浄液は噴流によって
攪伴され、洗浄液中には渦流が発生しているため、上記
の部分も洗浄液の物理力を受けて洗浄されるので、被洗
浄部材全体を確実に洗浄できる。また、洗浄液中で噴流
を形成するため、洗浄液がミストになって飛散すること
がない。
【0024】また、洗浄液の中に浸漬された複数の平板
状の被洗浄部材が、洗浄液の噴流の入口側の隙間が出口
側の隙間に比べて広い状態になっている場合には、噴流
の出ロ側で、洗浄液の流速が低下しないので、噴流の出
ロ側も確実に洗浄できる。
【0025】さらに、本発明の洗浄装置が、洗浄液の噴
流が衝突する洗浄槽の側壁側には、噴流を洗浄槽外に導
き出して、この噴流によって発生する洗浄液の液面の波
立ちを緩和する緩和手段、例えぱ、洗浄液の噴流が衝突
する洗浄槽の側壁からオーバーフローするもの、あるい
は洗浄液の噴流が衝突する洗浄槽の側壁側で、この噴流
を洗浄槽外に吸い出すものを有している場合には、噴流
が洗浄槽の側壁に衝突して、波立ち、空気を巻き込むこ
とを防止できる。従って、洗浄液が発泡して、洗浄槽か
ら溢れることがなく、さらに、噴流が気泡を巻き込まな
いので、噴射圧力が低下しない。
【0026】さらに、本発明の洗浄装置が、洗浄液の中
から引き上げられる被洗浄部材に向けて空気流を噴射す
る噴射空気流発生手段を有している場合には、この空気
流によって、被洗浄部材は洗浄液の液面上で液切りされ
るので、洗浄液の持ち出しを抑制できる。
【0027】
【発明の実施の形態】
実施例1 次に、本発明の実施例lに係る洗浄装置を、図1を参照
して、説明する。
【0028】図1は、実施例1に係る洗浄装置の基本構
成を示す断面図である。
【0029】同図において、1は洗浄装置の本体であ
り、その洗浄槽2の内部には洗浄液3が貯留されてい
る。この洗浄液3の中を通過するように、ネット状の搬
送べルト4が配置され、洗浄液3の中にある搬送べルト
4の両側には、搬送ぺルト4の上下面に先端を向ける一
対の噴射ノズル5が2個ずつ配置されている。これらの
噴射ノズル5は、洗浄液フイルター6と加圧ポンプ7を
介して洗浄槽2の内部の洗浄液3に接続されており、洗
浄液フィルター6によって、洗浄液3から夾雑物、混入
物を除去可能になっている。また、加圧ポンブ7によっ
て、洗浄槽2から圧送された洗浄液3は、噴射ノズル5
から噴射されて、洗浄液3の液中で噴流を形成可能にな
っており、噴射された洗浄液3は洗浄槽2に戻って循環
する。
【0030】このような洗浄装置1において、未洗浄の
平板状の被洗浄部材8は、他工程との間に配置された搬
送装置4’から搬送べルト4に移動されて、1枚ずつ洗
浄槽2に向けて降下していき、洗浄液3の中に浸漬さ
れ、この状態のまま、噴射ノズル5によって形成された
洗浄液3の噴流を横切る。ここで、被洗浄部材8に吹き
付けられた洗浄液3の噴流によって、被洗浄部材8の上
下面に付着している汚れが除去される。さらに、洗浄さ
れた被洗浄部材8は、搬送ぺルト4によって洗浄液3の
液面上に搬送され、次工程に接続された搬送装置4”に
移動していく。
【0031】このように、本実施例に係る洗浄装置にお
いては、洗浄液3の中に洗浄液3の噴流が形成されてお
り、この噴流が形成されている位置に、搬送ぺルト4に
よって被洗浄部材8が搬送されてくるものである。よっ
て、被洗浄部材8は、洗浄液3の噴流を直接受けない位
置を移動しているときにも常に洗浄液3と接し、洗浄液
3の化学洗浄カによって洗浄される。ここに、洗浄液3
は、その噴流によって攪伴され、液中には渦流が発生し
ているので、渦流による物理力を受ける。よって、被洗
浄液3の洗浄力が高められており、洗浄液3の化学洗浄
力を最大限に活用できる。一方、洗浄液3の噴流を受け
る位置を移動しているときには、さらに噴流の物理力に
よる洗浄力が直接に加わる。従って、高い洗浄効果が得
られると共に、均一な洗浄が実現できる。
【0032】また、噴射ノズル5は、洗浄液3の液中で
ジェット噴流を形成しているので、洗浄液3のミストが
発生しない。そのため、洗浄液3がミストとなって飛散
しないので、洗浄液3の消費を抑えることができる。ま
た、洗浄液3が臭気を有していても、作業環境の低下を
最小限に止めることもでき、また引火性を有していて
も、洗浄液3の大気濃度を低く抑えることができ、安全
性が高い。
【0033】実施例2 次に、実施例1に係る洗浄装置の構成を基本にした実施
例2に係る平板状の被洗浄部材対応の連続式洗浄装置に
ついて、図2を参照して、説明する。
【0034】エアーノズル20は、圧力4kg/c
2、エアー流量700リットル/分の空気流を噴射し
て、洗浄液14の液中から出てくる搬送べルト15及び
被洗浄部材17から、洗浄液14を液切り可能になって
いる。
【0035】このような洗浄装置11において、被洗浄
部材17は、実施例1に係る洗浄装置と同様に、搬送べ
ルト15に載置されて、洗浄槽12に向けて、順次搬送
される。さらに、被洗浄部材17は、洗浄液14の液中
を搬送されて、浸潰し、この状態で、噴射ノズル16に
よって形成された洗浄液14の噴流の中を横切ってい
く。ここに、被洗浄部材17の上下面にそれぞれ2本ず
つ配置された4本の噴射ノズル16によって、洗浄液1
4の噴流は2か所に形成されており、この2か所で、被
洗浄部材17は洗浄液13の噴流を吹き付けられて洗浄
される。次に、洗浄された被洗浄部材17は、搬送ぺル
ト15に載置された状態のままで洗浄液14の液面上に
搬送され、ここで、濡れた状態の搬送べルト15及び被
洗浄部材17は、エアーノズル20から噴射される空気
流によって、液切りされて、洗浄槽12から外部へ移動
していく。
【0036】このように、本例に係る洗浄装置において
は、洗浄液l4の中には、2か所に噴流が形成されてお
り、この2か所で噴流の物理力を受けて洗浄される。し
かも、被洗浄部材17は、移動中も洗浄液14に浸潰さ
れた状態にあるため、加温された洗浄液14から熱伝導
を受ける。従って、被洗浄部材17は、均一に加温され
た状態になるため、より高い洗浄効果が得られ、洗浄処
理に要する時間を短縮できる。
【0037】また、洗浄液14によって濡れた状態の搬
送べルト15及び被洗浄部材17は、エアーノズル20
によって形成された噴射空気流によって、液切りされ
て、移動する。従って、この洗浄工程の後工程に、洗浄
槽12の洗浄液14が持ち込まれず、また洗浄液14の
持ち出しによる消費を抑えることができる。このような
水切り機構としては、エアーノズルによるエアーブロー
に代えて、エアーナイフを利用してもよい。
【0038】実施例3 次に、実施例3に係る平板状の被洗浄部材対応のバッチ
式洗浄装置を、図3〜図5を参照して、説明する。
【0039】図3は、本例に係る洗浄装置の洗浄槽の構
造を示す一部切欠斜視図であり、図4はその装置本体の
断面図であり、図5はその装置本休の平面図である。
【0040】これらの図において、21は本例に係る洗
浄装置であり、その洗浄槽22の内部には、ヒーター2
3が設置されており、洗浄液24を加温可能になってい
る。この洗浄液24の中には、5枚の平板状の被洗浄部
材25が収納されたカセット26が浸演され、このカセ
ット26の釣手部26aは、上下搬送ロボット27の搬
送アーム27aに接続されている。洗浄槽22の内部に
は、噴射角50°の充円錐型の噴射ノズル28が、上下
2列に、6個ずつ30mmピッチで配置されており、配
管28’で接続されている。これらの噴射ノズル28に
対向する洗浄槽22の側壁22aには、噴射ノズル28
の位置に対応してスリット22bが形成されており、そ
の背後の空間が洗浄液24の吸込ロ22cになってい
る。この吸込口22cは、洗浄液フィルター29を介し
て加圧ポンブ30に接続しており、加圧ボンプ30によ
り圧送された洗浄液24が、噴射ノズル28からジェッ
ト噴流を形成可能になっていると共に、洗浄液24が循
環するようになっている。
【0041】一方、洗浄液24の液面直上には、複数の
エアーノズル31が配置されており、圧力4kg/cm
2、エアー流量700リットル/分の空気流を噴射し
て、洗浄液24の液面に向かう空気流が形成されてい
る。
【0042】ここで、噴射ノズル28と被洗浄部材25
の位置関係、及びカセット26の構造について、図6を
参照して、説明する。
【0043】図6は、5枚の被洗浄部材25を、整列し
た状態で収納するカセット26の斜視図であり、カセッ
ト26は、対向する一対の2面が開放状態にある角形筒
状のものであって、その上板内面26a及び下板内面2
6bには、それぞれ5条の溝26a’,26b’が、平
行に、30mmビッチで形成されている。ここで、上板
内面2laの溝26a’と、下板内面2lbの溝26
b’の距離は、被洗浄部材25の縦寸法と略同寸法にな
っており、対応する溝に被洗浄部材25の両端縁を挿入
して、スライドさせることによって、5枚の被洗浄部材
25を平行に整列させて、担持可能になっている。この
状態にある被洗浄部材25の隙問に向けて、洗浄液24
の噴流を噴射可能な位置に噴射ノズル28が配置されて
いる。
【0044】このような構造からなる洗浄装置21にお
いて、被洗浄部材25をカセット26に整列させて収納
し、上方に移動した状態にある上下搬送ロボット27の
搬送アーム27aに接続する。次に、搬送アーム27a
を下降させ、カセット26を洗浄槽22に配置されたカ
セットガイド31に沿って、被洗浄部材25の隙間と噴
射ノズル28が一致するように下降させる。そして、カ
セット26が完全に洗浄液24の中に浸漬した状態で停
止させる。この状態で、カセット26に収納された被洗
浄部材25の隙間には、洗浄液24の噴流がジェット噴
射されており、この噴流によって、被洗浄部材25の表
面に付着している汚れは除去される。さらに、被洗浄部
材25の隙間を通過した洗浄液24はスリット22bを
通過して、吸込口22cから吸引され、洗浄液フイルタ
ー29によって夾雑物等が除去され、清浄化された後
に、再び加圧ポンプ30によって循環される。さらに、
所定の洗浄時間が経過した後に、搬送アーム27aは7
cm/秒で上昇し、カセット26は上昇していく。そし
て、所定の位置で停止して、カセット26は次工程(す
すぎ工程あるいは乾燥工程等)へ移送される。ここで、
カセット26が洗浄液24の液面から上昇するときに、
エアーノズル31によって形成された噴射空気流が、カ
セット26及び被洗浄部材25に吹きつけられ、これら
に付着している洗浄液24を液切りする。この液切りに
よって、カセット26及び被洗浄部材25からは洗浄液
24の約2/3の液量が除去され、液切りされた洗浄液
は、再び洗浄槽22に戻される。
【0045】以上のとおり、本例の洗浄装置21におい
ては、洗浄液24の中に浸漬した状態で、被洗浄部材2
5の隙間に対して洗浄液24の噴流を噴射するものであ
るので、洗浄液24のミストが発生することなく、洗浄
できる。しかも、被洗浄部材25は、カセット26に収
納されているので、複数の被洗浄部材25を、一括し
て、浸漬及び引上げすることができる。しかも、すべて
の被洗浄部材25の隙間に対して洗浄液24の噴流が形
成されているので、被洗浄部材25の表面に付着してい
る汚れは確実に、均一に洗浄される。また、被洗浄部材
25は、洗浄液24に浸漬された状態にあるので、常に
洗浄液24と接触している。また、洗浄液24は噴流に
よって撹拌され、渦流が形成されている。従って、被洗
浄部材25が、回路基板のように部品が搭載されて、凹
凸を有する場合であっても、凹部にも洗浄液24は行き
渡り、均一な洗浄を実現できる。しかも、被洗浄部材2
5は、洗浄液24から熱伝導を受けて同等の置度にまで
加温されている。さらに、洗浄液24の噴疏通路は、カ
セット26の四方壁面により、周囲から区画形成されて
いるので、周囲へ噴琉が逸れない。よって、高い洗浄効
率を実現できる。そして、洗浄液24の噴流は、対向す
る洗浄槽22の側壁22aに激しく衝突することなく、
スリット22bを通って、洗浄槽22の外に吸い出され
る。従って、洗浄液24の噴流が側壁22aに衝突し
て、液面が波打ち、洗浄液24が洗浄槽22から溢れた
り、洗浄液24か発泡して、泡が溢れたりすることかな
い。
【0046】このような洗浄装置21を用いて、フロー
ディップ法によってはんだ付けされた回路基板を被洗浄
部材25とし、1個当たりの噴射ノズル28からの噴射
圧力と、洗浄液24の流量とを変えて、洗浄結果との関
係を調査した。ここで、噴射ノズル28から噴射される
洗浄液24の噴射角は、被洗浄部材25の面に対して4
5°以下の角度に設定して洗浄した。洗浄液24には、
高級アルコール系洗浄液又はケン化剤を含む洗浄液を使
用した。
【0047】このような条件下において、洗浄時間1分
で、はんだ付けにより付着したフラックスの除去された
度合いで評価した結果、図7において斜線領域で示す条
件において、良好な洗浄結果が得られた。斜線領域以外
の条件では、洗浄時間をより長時間必要とする、または
回路基板にはんだ付けされた部品の損傷を招く等の問題
を有している。さらに、べアチップ実装された回路基板
及びリフローソルダリング法によりはんだ付けされた回
路基板を被洗浄部材として、洗浄を行ったが、いずれの
基板に対しても、噴射ノズル28からの噴射圧力と、洗
浄液24の流量とを設定することにより、均一な洗浄が
可能であった。
【0048】このような洗浄装置21において、さらに
洗浄液24の液中でカセット26を揺動または回転させ
る機構を付加することによって、より均一な洗浄を実現
できる。さらに、カセット26の溝26a’,26b’
を、噴流に対して角度をもつように形成してもよく、こ
の場合には、噴流は被洗浄部材25の面に角度をもって
当たるので、垂直な物理力を与えることができ、洗浄能
力が高まる。
【0049】実施例3の変形例 上記のバッチ式洗浄装置は、図8に示す構造を有してい
てもよい。
【0050】図8は、実施例3に係る洗浄装置の別の構
造を有する洗浄装置の構造を示す断面図である。
【0051】同図において、41は洗浄装置であり、そ
の洗浄槽42の内部には、両側に噴射ノズル43a,4
3bが配置され、これらの噴射ノズル43a,43b
は、配管43a’,43b”で接統されている。これら
の噴射ノズル43a,43bに対向する洗浄槽42の側
壁42a,42bには、噴射ノズル43a,43bの位
置に対応して、スリット42a’,42b”が形成され
ている。ここで、噴射ノズル43aは電磁バルブ44a
を介して、また噴射ノズル43bは電磁バルブ44bを
介して加圧ポンプ45に接続されている。一方、スリッ
ト42a’の背面側の吸込口42cは電磁バルブ44d
を介して、またスリット42b”の背面側の吸込ロ42
dは電磁バルプ44cを介して加圧ポンプ45に接統さ
れている。
【0052】ここで.電磁バルブ44aと電磁バルブ4
4cは同一状態で、開放、閉鎖状態に周期的に切り換わ
っており、一方電磁バルブ44bと電磁バルブ44dは
いずれも、電磁バルブ44aと電磁バルブ44cとは逆
の状態にある。従って、洗浄液46のジエツト噴流の方
向は、周期的に切り換わるようになっている。その他の
構造は実施例3に係る洗浄装置と同様である。
【0053】このような洗浄装置41においては、被洗
浄部材47がカセット48に収納されて、洗浄液46に
浸漬され、被洗浄部材47の隙間に対して、噴射ノズル
43a,43bから、交互に洗浄液46の噴流が形成さ
れる。従って、被洗浄部材47の幅方向(噴流の噴射方
向)において、均一な洗浄を行うことかできる。
【0054】また、実施例3の洗浄装置に使用したカセ
ット構造に代えて、図9一図10に示す構造のカセット
を採用してもよい。
【0055】図9は、カセツトを洗浄槽内の洗浄液中に
浸漬した状態を示す一部切欠斜視図であり、図10はカ
セットの構造を示す斜視図である。
【0056】これらの図において、51はカセツトであ
り、上板51a及び下板51bのいずれにも、平板状の
被洗浄部材52がスライドして、収納されるための6条
の溝51a’,51b”が形成されている。これらの溝
51a,,51”によって被洗浄部材52の上下端縁部
が保持されて、収納されるものである。ここで、側板5
1c,51dには、それぞれ上下方向に2条の長穴51
c’,51c”、51d’,51d”が形成されてお
り、これらの長穴51c’,51c”,51d’,51
d”を介して取り付けられたポルト53’,53”によ
って、上板51aは側板51C,51dに固定され、上
板51aと下板51bとか、被洗浄部材52の縦長さに
対応する距離に保持されている。
【0057】ここに、カセット51は、洗浄槽54のカ
セットガイド55に沿って洗浄液56に浸漬され、位置
決めされる。この状態で被洗浄部材52の隙間に、配管
57に接続された噴射ノズル58によって、洗浄液56
の噴流が形成され、被洗浄部材52が洗浄される。
【0058】このようなカセット51において、上板5
1aは、ポルト53’,53”を緩めることによって、
上下方向に長穴51c’,51c”,51d’,51
d”の範囲内で昇降することができ、上板5laと下板
5lbとの対面距離は可変構造になっているので、収納
される被洗浄部材52の縦方向の長さに応じて設定可能
である。従って、異なる縦方向の長さを有する被洗浄部
材を収納する場合にも、別の寸法のカセットを使用する
必要がない。さらに、被洗浄部材の整列位置は、図11
に示すものであってもよい。
【0059】図11はさらに別の構造の洗浄装置におけ
る被洗浄部材の整列位置を示す断面図であり、整列した
被洗浄部材61の隙間に対して、噴射ノズル62a,6
2bによって洗浄液の噴流が吹き付けられている。ここ
で、被洗浄部材61の隙間は、洗浄液の噴流の入口側が
30mmに、出ロ側が10mmに股定されており、噴流
の入口側の隙間が出口側の隙間に比べて広くなってい
る。
【0060】この整列状態で洗浄液の噴流を形成する
と、被洗浄部材61の表面に対して、噴流が一定の傾斜
で衝突する。従って、被洗浄部材61の面に対して垂直
方向の噴流による物理的作用力が及ぷ。この結果、被洗
浄部材61の面に付着した汚れがより確実に除去され
る。さらに、出口側では噴流通路としての隣接する被洗
浄部材61の隙間か狭くなっているため、噴流は出口側
においてもその流速が低下しない。従って、出口側でも
高い洗浄能力を維持できるので、被洗浄部材61の幅方
向(噴流方向)における洗浄を均一化できる。この被洗
浄部材61の隙間は、基板の形状、材質、汚れの付着状
態、汚れの種類などに応じて、最適な値に調整すぺき性
質のものである。
【0061】実施例4 次に、実施例4に係る小形部品洗浄対応のバッチ式洗浄
装置を、図12を参照して、説明する。
【0062】図12は、本例に係る洗浄装置の洗浄槽の
構造を示す断面図である。同図において、71は本例に
係る洗浄装置であり、その洗浄槽72の内部には、ヒー
ター73が設置され、洗浄液74を加温可能になってい
る。この洗浄液74には、小形部品からなる被洗浄部材
75が一括して収納された洗浄カゴ76が浸漬されてお
り、この洗浄カゴ76の釣手部76aは、上下搬送ロポ
ット77の搬送アーム77aに接続されている。ここ
で、洗浄槽72の内部には、噴射角50°の充円錐形状
の噴射ノズル78が配置されており、この噴射ノズル7
8には、配管78’を介して洗浄液フイルター79及び
加圧ポンプ80が接続されている。この加圧ポンプ80
は10〜50kg/cm2の高圧ポンプであって、これ
により圧送された洗浄液74が、噴射ノズル78から、
洗浄カゴ76に向って噴流を形成するようになってい
る。ここで、噴射ノズル78のl個当たりの流量は、約
10リットル/分である。
【0063】以上のとおり、本例の洗浄装置71におい
ては、被洗浄部材75を洗浄液74に浸漬した状態で、
被洗浄部材75に対して噴流を吹き付けるので、洗浄中
に洗浄液74のミストが発生しにくい。しかも、被洗浄
部材75は、洗浄カゴ76に収納されているので、それ
らを一括して、浸漬、引上げすることが容易である。
【0064】しかも、洗浄カゴ76の内部では、被洗浄
部材75が洗浄液74の噴流によって、舞い上げられて
それぞれ分離し、位置、姿勢を変えなから洗浄される。
従って、被洗浄部材75か凹凸を有する場合、または被
洗浄部材75同士が接触している場合にも、十分に均一
な洗浄が可能である。
【0065】このような洗浄装置71において、さらに
噴射ノズル78に可動機構を付けて、さらに、洗浄槽7
2の内部に超音波を伝播させ、噴流と併用すれぱ、さら
に高い洗浄能力を得ることかできる。
【0066】実施例の変形例 実施例4に係る洗浄装置71において、洗浄液の噴流を
形成すると、図13に示すように、噴流が洗浄槽72の
壁面に衝突して、洗浄液74の液面が波立つ。
【0067】この波立ちによって、洗浄液74の液中に
空気が巻き込まれ、洗浄液74か発泡する。このような
状態で、洗浄を行うと、洗浄槽72の内部に泡が充満
し、溢れる場合がある。また、洗浄液74は気液混合状
態になって、循環し、噴流圧力が低下する場合がある。
特に、界面活性剤等を含有する発泡性を有する洗浄液を
使用した場合に、上記の現象が顕著である。
【0068】そこで、上記の問題を解消するために、実
施例4に係る洗浄装置の洗浄槽に代えて、図14に示す
洗浄槽の構造を採用してもよい。
【0069】図14は実施例4の変形例に係る洗浄槽の
構造を示す断面図である。同図において、81は本例に
係る洗浄装置であり、その洗浄槽82は仕切り板83に
よって二重構造になっている。洗浄槽82の内側の洗浄
室82aでは、被洗浄部材84が、洗浄カゴ85に収容
された状態で洗浄液86に浸漬されている。この洗浄カ
ゴ85の両側には、配管87,87’に接続された一対
の噴射ノズル87a,87bが配置されており、この噴
射ノズル87a,87bには、加圧ポンプ88によっ
て、洗浄槽82の外側のオーバーフロー室82bから吸
い込まれた洗浄液86が圧送され、洗浄液86のジェッ
ト噴流が形成される。ここに、噴射ノズル87a,87
b,加圧ポンプ88及びオーバーフロー室82bを結ぶ
配管途中には4つの電磁バルブ89a,89b,89
c,89dが配置されており、これらの開閉操作によっ
て、周期的に切り換えられた噴流か、噴射ノズル87
a,87bから噴射される。
【0070】このような洗浄槽82において、洗浄液8
6の噴流を形成すると、噴流は対向する仕切り板83の
内面壁83a,83bに衡突し、側壁83a,83bに
沿って上方に洗浄液86を押し上げる。ここに、押し上
げられた洗浄液86は、仕切り板83からオーバーフロ
ーして、オーバーフロー室82bに流れ込む。従って、
洗浄液86の跳ね返りか抑制されて、液面の波立ち及び
空気の巻き込みが抑制されるので、洗浄室82aで洗浄
液86の泡立ちを防止できる。また、洗浄液86には泡
が多量に混入しないため、噴射圧力か低下しない。よっ
て、洗浄力を高く維持できる。
【0071】ここで、オーバーフロー部の構成は、直立
した構造に限らず、オーバーフロー室82bの側に傾斜
しているものであってもよく、仕切り板を利用したもの
に限らず、噴流か洗浄槽の側壁に衝突する力を緩和する
ものであれぱよい。
【0072】また、オーバーフローを利用した上記の波
立ちを緩和する機構に代えて、図15に示す洗浄槽構造
を採用してもよい。
【0073】図15は波立ちの緩和機構を備える洗浄槽
の構造を示す平面図である。同図において、洗浄槽91
は、配管92’に接続された噴射ノズル92が配置され
ている側から噴射方向に向けて先細り構造を有してお
り、その先端には、噴射ノズル92に洗浄液93を圧送
する加圧ポンブ94が配置されている。
【0074】このような構造の洗浄槽91においては、
洗浄液93の噴流は、被洗浄部材95の隙間を通過した
後は、洗浄槽91の先細り部分の側壁91aに案内され
て、加圧ポンプ94に吸い込まれる。従って、跳ね返る
ことがないので、洗浄液93の波立ちを抑制できる。
【0075】以上の実施例に係る洗浄装置においては、
被洗浄部材または噴射ノズルを、上下左右に揺動する機
構、あるいは回転する機構を付加させてもよい。また、
液切り用のエアーノズルも、より液切り効果を高めるた
めに、被洗浄部材に対して、上下左右に揺動するもの、
あるいは回転するものであってもよい。そして、洗浄装
置は、洗浄槽を1槽に限らず複数の備えるものであって
もよい。
【0076】
【発明の効果】上記のとおり、本発明による洗浄方法及
び洗浄装置では、洗浄する被洗浄部材を順次、あるいは
一括して、洗浄液槽内の洗浄液の中に浸漬し、浸漬した
状態の被洗浄部材に対して洗浄液の噴流を吹き付ける。
従って、本発明によれぱ、被洗浄部材は、洗浄液の化学
洗浄力に加えて、噴流の物理力を受けて洗浄されるた
め、高い洗浄効率を得ることができる。また、被洗浄部
材は、洗浄液に常時接しており、しかも、洗浄液は、噴
流によって攪伴されて、渦流ができている。従って、噴
流を直接受けない部分も、均一に洗浄される。また、噴
流は洗浄液中で形成されているため、洗浄液がミストに
なって飛散することを抑制できる。従って、洗浄液の消
費が抑制される。また、洗浄液が臭気を有していても、
作業環境の著しい低下を招かず、洗浄液が引火性を有し
ても、引火する危険性か低い。
【0077】また、本発明では、洗浄する乎板状の複数
の被洗浄部材を、隙間をもって洗浄液槽内の洗浄液の中
に浸漬し、これらの被洗浄部材の隙間を主として流れる
洗浄液の噴流を形成するようにしている。このため、い
ずれの被洗浄部材の面も、洗浄液の噴流を受けるため、
確実に洗浄できる。
【0078】ここに、被洗浄部材が洗浄液の噴流に対し
て角度をもつように配列されたものである場合には、被
洗浄部材の面に垂直方向に洗浄剤の噴流の物理力が作用
するので、洗浄効果を高めることかできる。
【0079】さらに、配列された被洗浄部材の隙間が出
ロ側では狭くなっている場合には、噴流の出ロ側でも洗
浄液の流速は低下しないので、被洗浄部材における噴流
の出口側も確実に洗浄できる。
【0080】また、洗浄液の噴流通路は、平板状の被洗
浄部材と、その外周縁側に配置された遮蔽部材とによっ
て区画されている場合には、洗浄液の噴流が、被洗浄部
材から逸れないので、より確実に洗浄できる。
【0081】ここに、担持手段か、対向距離を調盤可能
な保持部を有する場合には、平板状の被洗浄部材の寸法
に合わせて、保持部の対向距離を調整可能にできるの
で、寸法の異なる被洗浄部材を洗浄できる。
【0082】本発明の洗浄装置が、洗浄液の噴流が衝突
する洗浄槽の側壁側に、噴流によって発生する洗浄液の
液面の波立ちを緩和する緩和手段、例えぱ、洗浄槽の側
壁からオーバーフローするもの、あるいは洗浄槽の側壁
側で、この噴流を洗浄槽外に吸い出すものを有している
場合には、噴流が洗浄槽の側壁に衝突して、波立ち、空
気を巻き込むことを抑制できる。従って、洗浄液が発泡
して、洗浄槽から溢れることかなく、さらに、噴流が気
泡を巻き込まないので、噴射圧力か低下することを防止
できる。
【0083】さらに、被洗浄部材に噴射空気流発生手段
から空気か噴射されている場合には、この空気流によっ
て被洗浄部材が液切りされるので、洗浄液の持ち出しを
削減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1に係る洗浄装置の断面図であ
る。
【図2】本発明の実施例2に係る洗浄装置の断面図であ
る。
【図3】本発明の実施例3に係る洗浄装置の洗浄槽の一
部切欠斜視図である。
【図4】実施例3に係る洗浄装綴本体の断面図である。
【図5】実施例3に係る洗浄装置本体の平面図である。
【図6】実施例3に係る洗浄装置に使用したカセットの
斜視図である。
【図7】実施例3に係る洗浄装置における噴射圧力と洗
浄液流量の最適条件を示すグラフである。
【図8】実施例3に係る洗浄装置の別の構造を有する洗
浄装置の断面図である。
【図9】実施例3に係る洗浄装置の別の構造を有する洗
浄装置の洗浄槽内の一部切欠斜視図である。
【図10】実施例3に係る洗浄装置の別の構造を有する
洗浄装置に使用したカセットの斜視図である。
【図11】実施例3に係る洗浄装置のさらに別の構造の
洗浄装置における被洗浄部材の整列位置を示す断面図で
ある。
【図12】本発明の実施例4に係る洗浄装置の洗浄槽の
構造を示す断面図である。
【図13】実施例4に係る洗浄装置の洗浄槽の構造を示
す断面図である。
【図14】実施例4の変形例に係る洗浄装置の洗浄槽の
構造を示す断面図である。
【図15】実施例4の変形例に係る洗浄装置の洗浄槽の
構造を示す平面図である。
【図16】従来の洗浄装置の斜視図である。
【図17】従来の洗浄装置の断面図である。
【図18】従来の別構造の洗浄装置の断面図である。
【符号の説明】
1,11,21,41,71,81・・・洗浄装置 2,12,22,42,54,72,82,91・・・
洗浄槽 3,14,24,46,56,74,86,93・・・
洗浄液 4,15・・・搬送ぺルト(搬送手段) 5,16,28,43a,43b,58,62,78,
87a,87b・・・噴射ノズル 8,17,25,47,52,61,75,84,95
・・・被洗浄部材 26,48,51・・・カセット(担持手段)
フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平2−318802 (32)優先日 平2(1990)11月22日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平2−318803 (32)優先日 平2(1990)11月22日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平2−318804 (32)優先日 平2(1990)11月22日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平2−321784 (32)優先日 平2(1990)11月26日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平2−321785 (32)優先日 平2(1990)11月26日 (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願平2−321787 (32)優先日 平2(1990)11月26日 (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 三澤 達也 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄すべき被洗浄部材を洗浄液の中に浸
    漬し、この状態の被洗浄部材に対して洗浄液の噴流を吹
    き付けることを特徴とする液中ジェット洗浄方法。
  2. 【請求項2】 洗浄液を貯留した洗浄槽と、洗浄すべき
    被洗浄部材を前記洗浄槽内の洗浄液の中に浸漬するとと
    もに、そこから引き上げる搬送手段と、洗浄液の中に浸
    漬された被洗浄部材に対して洗浄液の噴流を吹き付ける
    噴流形成手段とを有することを特徴とする液中ジェット
    洗浄装置。
JP17921995A 1990-03-14 1995-07-14 液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置 Pending JPH0833876A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17921995A JPH0833876A (ja) 1990-03-14 1995-07-14 液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置

Applications Claiming Priority (19)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6386590 1990-03-14
JP22770090 1990-08-29
JP22770190 1990-08-29
JP31880390 1990-11-22
JP31880490 1990-11-22
JP31880290 1990-11-22
JP2-321784 1990-11-26
JP2-318804 1990-11-26
JP2-321787 1990-11-26
JP2-318802 1990-11-26
JP2-63865 1990-11-26
JP32178490 1990-11-26
JP32178590 1990-11-26
JP32178790 1990-11-26
JP2-227701 1990-11-26
JP2-321785 1990-11-26
JP2-318803 1990-11-26
JP2-227700 1990-11-26
JP17921995A JPH0833876A (ja) 1990-03-14 1995-07-14 液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1029491A Division JPH04215878A (ja) 1990-03-14 1991-01-31 液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0833876A true JPH0833876A (ja) 1996-02-06

Family

ID=27580068

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17921995A Pending JPH0833876A (ja) 1990-03-14 1995-07-14 液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0833876A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006038341A1 (ja) * 2004-10-07 2006-04-13 S.E.S. Co., Ltd. 基板処理装置
US8454760B2 (en) * 2009-06-01 2013-06-04 Micron Technology, Inc. Wafer cleaning with immersed stream or spray nozzle
JP2015028971A (ja) * 2013-07-30 2015-02-12 パナソニックIpマネジメント株式会社 ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法
CN114789177A (zh) * 2022-04-02 2022-07-26 蚌埠高华电子股份有限公司 一种tft-lcd玻璃基板蚀刻浸泡漂洗装置及方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006038341A1 (ja) * 2004-10-07 2006-04-13 S.E.S. Co., Ltd. 基板処理装置
US8454760B2 (en) * 2009-06-01 2013-06-04 Micron Technology, Inc. Wafer cleaning with immersed stream or spray nozzle
JP2015028971A (ja) * 2013-07-30 2015-02-12 パナソニックIpマネジメント株式会社 ウエハ洗浄装置およびウエハ洗浄方法
CN114789177A (zh) * 2022-04-02 2022-07-26 蚌埠高华电子股份有限公司 一种tft-lcd玻璃基板蚀刻浸泡漂洗装置及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0578824B1 (en) Continuous ultrasonic cleaning apparatus
KR100212074B1 (ko) 기판의 액제거장치
JP5089628B2 (ja) 洗浄装置、洗浄方法および被洗浄体
KR101335885B1 (ko) 비접촉 부상 반송 기능을 가지는 기판 처리 장치
JP2004335838A (ja) 洗浄装置、洗浄システム及び洗浄方法
KR19990013579A (ko) 액처리장치
CN111424268B (zh) 表面处理装置
JP2002045802A (ja) チップ型電子部品分離洗浄乾燥装置
KR0149205B1 (ko) 유체 처리 장치 및 방법
JP3200876B2 (ja) 回路基板洗浄方法及び洗浄装置
JPH0833876A (ja) 液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置
TWI413203B (zh) Substrate processing device
JP2014017316A (ja) 現像処理装置及び現像処理方法
JP2001044106A (ja) ウエット装置
JPH04215878A (ja) 液中ジェット洗浄方法及び洗浄装置
JPH07249605A (ja) 基板洗浄装置
JPWO2022210507A5 (ja)
JP4009909B2 (ja) 果菜食品等の手洗い機
US10994311B2 (en) Specific device for cleaning electronic components and/or circuits
JP2000173962A (ja) ウエハ洗浄装置及び洗浄方法
JPH10117988A (ja) 食器洗浄装置
JPH04338274A (ja) 部品洗浄方法及び洗浄装置
JP2004016997A (ja) 基板の処理装置及び処理方法
JP2568799Y2 (ja) ウエハー処理装置
JP2003017463A (ja) 基板乾燥装置