JP2009293864A - クリーンルーム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ケミカル汚染物質を発生し得る製造装置5が配置される第1製造スペース3と、製造装置5が配置されない第2製造スペース4を設定し、天井スペース3a、4aの相互間及び床下スペース3b、4bの相互間に区画壁10、11を設ける。天井スペース3a、第1製造スペース3、及び床下スペース3bを還流する気流を形成するFFU30と、天井スペース4a、第2製造スペース4、及び床下スペース4bを還流する気流を形成するFFU31と、第2製造スペース4から境界7を経て第1製造スペース3に至る気流を形成する外調機32と、排気ファン33aと、第1製造スペース3の空気からケミカル汚染物質を除去して当該第1製造スペース3に還流させるケミカル汚染物質除去循環空調機34を備える。
【選択図】図1
Description
最初に、実施の形態1について説明する。図1は、本実施の形態1に係るクリーンルームの全体構成を示す側面図である。半導体や医薬品の製造工場の建屋1の内部に、クリーンルーム2が配置されている。このクリーンルーム2は、高い清浄度が要求される各種の製造装置が設置されるスペース(以下「製造スペース」)を備える。この製造スペースとしては、第1製造スペース3と第2製造スペース4が設定されている。これら第1製造スペース3と第2製造スペース4は、例えばクラス10から10000の清浄度の領域であり、第1製造スペース3には、ケミカル汚染物質を発生し得る製造装置5が配置され、第2製造スペース4には、ケミカル汚染物質を発生しない製造装置6が配置される。図1には、これら第1製造スペース3と第2製造スペース4の概念上の境界7を説明の便宜上示しているが、この境界7には固定的な間仕切り壁は形成されておらず、この境界7を跨ぐように各種のベルトコンベアや搬送用ロボットの如き自動搬送設備を設けること等が可能となっており、人や物が第1製造スペース3と第2製造スペース4をスムーズに往来することが可能となっている。
次に、実施の形態2について説明する。この実施の形態2は、床下チャンバを省略した形態である。なお、実施の形態2の構成は、特記する場合を除いて実施の形態1の構成と略同一であり、実施の形態1の構成と略同一の構成についてはこの実施の形態1で用いたのと同一の名称又は符号を必要に応じて付して、その説明を省略する(実施の形態3に関しても同様)。
次に、実施の形態3について説明する。この形態3は、ケミカル汚染物質除去循環空調機のフィルタを再生するためのフィルタ再生手段を設けた形態である。
2、100 クリーンルーム
3 第1製造スペース
4 第2製造スペース
3a、4a 天井チャンバ
3b、4b 床下チャンバ
3c、4c 側部チャンバ
5、6、104、105 製造装置
7 境界
10、11、101 区画壁
30、31 FFU
32 外調機
32a、34a、40a ケミカルフィルタ
32b、34b 送風機
33 排気ダクト
33a 排気ファン
34、40 ケミカル汚染物質除去循環空調機
35 除害設備
40b 第1の送風機
40c 回転軸
40d 第2の送風機
102、103 設置スペース
Claims (3)
- 製造装置が配置される製造スペースに、ケミカル汚染物質を発生し得る製造装置が配置される第1製造スペースと、前記製造装置が配置されない第2製造スペースを設定し、
前記第1製造スペースの天井スペースと前記第2製造スペースの天井スペースの相互間、及び前記第1製造スペースの床下スペースと前記第2製造スペースの床下スペースの相互間に、空気の流通を防止するための区画壁を設け、
前記第1製造スペースの天井スペース、当該第1製造スペース、及び当該第1製造スペースの床下スペースを順次介して、当該第1製造スペースの天井スペースに循環する気流を形成する第1循環空調機と、
前記第2製造スペースの天井スペース、当該第2製造スペース、及び当該第2製造スペースの床下スペースを順次介して、当該第2製造スペースの天井スペースに循環する気流を形成する第2循環空調機と、
前記第2製造スペースに対して外気を導入することにより、当該第2製造スペースから、当該第2製造スペースと前記第1製造スペースとの境界を経て、当該第1製造スペースに至る気流を形成する外調機と、
前記第1製造スペースの空気の一部を、当該第1製造スペースの外部に排気する排気ファンと、
前記ケミカル汚染物質を除去するケミカルフィルタを有するもので、前記第1製造スペースの空気のうち、前記排気ファンにて排気された空気を除く空気の少なくとも一部の空気を、前記ケミカルフィルタを介して当該第1製造スペースに還流させるケミカル汚染物質除去循環空調機と、
を備えることを特徴とするクリーンルーム。 - 製造装置が配置される製造スペースに、ケミカル汚染物質を発生し得る製造装置が配置される第1製造スペースと、前記製造装置が配置されない第2製造スペースを設定し、
前記第1製造スペースの天井スペースと前記第2製造スペースの天井スペースの相互間に、空気の流通を防止するための区画壁を設け、
前記第1製造スペースの天井スペースと当該第1製造スペースを順次介して、当該第1製造スペースの天井スペースに循環する気流を形成する第1循環空調機と、
前記第2製造スペースの天井スペースと当該第2製造スペースを順次介して、当該第2製造スペースの天井スペースに循環する気流を形成する第2循環空調機と、
前記第2製造スペースに外気を導入することにより、当該第2製造スペースから、当該第2製造スペースと前記第1製造スペースとの境界を経て、当該第1製造スペースに至る気流を形成する外調機と、
前記第1製造スペースの空気の一部を、当該第1製造スペースの外部に排気する排気ファンと、
前記ケミカル汚染物質を除去するケミカルフィルタを有するもので、前記第1製造スペースの空気のうち、前記排気ファンにて排気された空気を除く空気の少なくとも一部の空気を、前記ケミカルフィルタを介して当該第1製造スペースに還流させるケミカル汚染物質除去循環空調機と、
を備えることを特徴とするクリーンルーム。 - 前記ケミカル汚染物質除去循環空調機に、前記ケミカルフィルタにて吸着された前記ケミカル汚染物質を当該ケミカルフィルタから除去するためのフィルタ再生機構を設けたこと、
を特徴とする請求項1又は2に記載のクリーンルーム。
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