JPH0593535A - クリーンルームおよびクリーンルームシステム - Google Patents
クリーンルームおよびクリーンルームシステムInfo
- Publication number
- JPH0593535A JPH0593535A JP3253396A JP25339691A JPH0593535A JP H0593535 A JPH0593535 A JP H0593535A JP 3253396 A JP3253396 A JP 3253396A JP 25339691 A JP25339691 A JP 25339691A JP H0593535 A JPH0593535 A JP H0593535A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- area
- pollutant
- clean room
- floor
- ceiling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単で作業性がよく、汚染の影響の少ないク
リーンルームおよびクリーンシステムを提供する。 【構成】 ワーキングエリア１に設置された設備７より
発生した汚染物９は床のグレーティング８を通って床下
のサービスエリア２に移動する。床下では、遮蔽板２１
に遮られ、汚染物９は発生した設備７の属するクリーン
システムのリターンエリア４に導かれ、さらにチャンバ
ーダクト３へと移動する。天井裏の遮蔽板２１によって
遮られた汚染物９は再びワーキングエリア１に導かれる
が、必ず、汚染物９を発生した設備７近傍のワーキング
エリア１に導かれる。汚染物９を発生する可能性のない
エリア２３の圧力を、発生するエリアよりも高くするこ
とにより、エアーの流れ２２は矢印方向のようになり、
エリア２３の領域には汚染物９が移動しない。このため
汚染物９によるクリーンルームへの影響を最少限にとど
めることができ、安全上にも良い。またワーキングエリ
ア１に遮蔽板を設けないため、作業性もよい。
リーンルームおよびクリーンシステムを提供する。 【構成】 ワーキングエリア１に設置された設備７より
発生した汚染物９は床のグレーティング８を通って床下
のサービスエリア２に移動する。床下では、遮蔽板２１
に遮られ、汚染物９は発生した設備７の属するクリーン
システムのリターンエリア４に導かれ、さらにチャンバ
ーダクト３へと移動する。天井裏の遮蔽板２１によって
遮られた汚染物９は再びワーキングエリア１に導かれる
が、必ず、汚染物９を発生した設備７近傍のワーキング
エリア１に導かれる。汚染物９を発生する可能性のない
エリア２３の圧力を、発生するエリアよりも高くするこ
とにより、エアーの流れ２２は矢印方向のようになり、
エリア２３の領域には汚染物９が移動しない。このため
汚染物９によるクリーンルームへの影響を最少限にとど
めることができ、安全上にも良い。またワーキングエリ
ア１に遮蔽板を設けないため、作業性もよい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体等の製造時に使
用するクリーンルームおよびクリーンルームシステムに
関する。
用するクリーンルームおよびクリーンルームシステムに
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、クリーンルームのクリーンレベル
を上げると共にランニングコストの安い構造としてＦＦ
Ｕ（ファン・フィルター・ユニット）を用いた全面ダウ
ンフローの３層構造が普及している。以下に従来のクリ
ーンルーム構造について述べる。
を上げると共にランニングコストの安い構造としてＦＦ
Ｕ（ファン・フィルター・ユニット）を用いた全面ダウ
ンフローの３層構造が普及している。以下に従来のクリ
ーンルーム構造について述べる。
【０００３】図２は従来のクリーンルームの構造を表わ
す。図において、１はクリーン度の良いワーキングエリ
ア、２は床下のサービスエリア、３はチャンバーダク
ト、４はリターンエリア、５はＦＦＵ（ファン・フィル
ター・ユニット）、６はドライコイル、７は設備、８は
グレーチング、９は汚染物（パーティクル，ガスな
ど）、１０は天井裏に拡散した汚染物、１１はワーキン
グエリア１に拡散した汚染物である。
す。図において、１はクリーン度の良いワーキングエリ
ア、２は床下のサービスエリア、３はチャンバーダク
ト、４はリターンエリア、５はＦＦＵ（ファン・フィル
ター・ユニット）、６はドライコイル、７は設備、８は
グレーチング、９は汚染物（パーティクル，ガスな
ど）、１０は天井裏に拡散した汚染物、１１はワーキン
グエリア１に拡散した汚染物である。
【０００４】以上のように構成されたクリーンルームに
ついて以下どの動作について説明する。ワーキングエリ
ア１に設置された設備７から発生した汚染物（パーティ
クル，ガスなど）９は層流のエアーの流れにのって、床
下のサービスエリア２に拡散する。さらに汚染物９はリ
ターンエリア４を通りチャンバーダクト３内に拡散す
る。拡散された汚染物は、ＦＦＵ５を通ってワーキング
エリア１全体に拡散する。
ついて以下どの動作について説明する。ワーキングエリ
ア１に設置された設備７から発生した汚染物（パーティ
クル，ガスなど）９は層流のエアーの流れにのって、床
下のサービスエリア２に拡散する。さらに汚染物９はリ
ターンエリア４を通りチャンバーダクト３内に拡散す
る。拡散された汚染物は、ＦＦＵ５を通ってワーキング
エリア１全体に拡散する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来の構成で
は、１台の設備から発生した汚染物がたちどころにクリ
ーンルーム全体に拡散されてしまう。汚染物の内容によ
っては、生命に危険のある場合やクリーンルームすべて
を汚染して使用不可能にしてしまう場合がある。
は、１台の設備から発生した汚染物がたちどころにクリ
ーンルーム全体に拡散されてしまう。汚染物の内容によ
っては、生命に危険のある場合やクリーンルームすべて
を汚染して使用不可能にしてしまう場合がある。
【０００６】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で、簡単で汚染物の影響を最少限に抑えると共に、使用
しやすいワーキングエリアを有するクリーンルームおよ
びクリーンルームシステムを提供することを目的とす
る。
で、簡単で汚染物の影響を最少限に抑えると共に、使用
しやすいワーキングエリアを有するクリーンルームおよ
びクリーンルームシステムを提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、天井裏エリアおよび床下エリアに遮蔽板を
設けた構成である。さらにワーキングエリア内の所定部
間に圧力差を設けて作動させると一層効果がでる。
に本発明は、天井裏エリアおよび床下エリアに遮蔽板を
設けた構成である。さらにワーキングエリア内の所定部
間に圧力差を設けて作動させると一層効果がでる。
【０００８】
【作用】この構成によって、簡素で使いやすく汚染の影
響のないワーキングエリアを有するクリーンルームおよ
びクリーンルームシステムが可能となる。
響のないワーキングエリアを有するクリーンルームおよ
びクリーンルームシステムが可能となる。
【０００９】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。図１において、図２は従来例と同一
部分には同一番号を付し、説明を省略する。すなわち本
発明の特徴は遮蔽板２１を設けたこと、エアーの流れ２
２が矢印方向となるようにワーキングエリア１内の所定
時間に圧力差を設けたことである。２３は汚染物を発生
する可能性のないエリアである。
しながら説明する。図１において、図２は従来例と同一
部分には同一番号を付し、説明を省略する。すなわち本
発明の特徴は遮蔽板２１を設けたこと、エアーの流れ２
２が矢印方向となるようにワーキングエリア１内の所定
時間に圧力差を設けたことである。２３は汚染物を発生
する可能性のないエリアである。
【００１０】以上のように構成されたクリーンルームに
ついて、以下その動作を説明する。ワーキングエリア１
に設置された設備７より発生した汚染物９は床のグレー
ティング８を通って床下のサービスエリア２に移動す
る。床下では、遮蔽板２１に遮られ、汚染物９は発生し
た設備７の属するクリーンシステムのリターンエリア４
に導かれ、さらにチャンバーダクト３へと移動する。天
井裏の遮蔽板２１によって遮られた汚染物９は再びワー
キングエリア１に導かれるが、必ず、汚染物９を発生し
た設備７近傍のワーキングエリア１に導かれる少なくと
も汚染物９を発生する可能性のないエリア２３の圧力
を、発生するエリアよりも高くすることにより、エアー
の流れ２２は矢印方向のようになり、エリア２３の領域
には汚染物９が移動しない。このため汚染物９によるク
リーンルームへの影響を最少限にとどめることができ、
安全上にも良い。またワーキングエリア１に遮蔽板を設
けないため、作業性もよい。遮蔽板２１を天井裏にのみ
設けた構造の場合、床下での作業性はさらに増す。外気
の取り込み量を変えることにより、十分な圧力差が保て
る場合、天井裏のみ遮蔽板２１を設ける構造がとれる。
ついて、以下その動作を説明する。ワーキングエリア１
に設置された設備７より発生した汚染物９は床のグレー
ティング８を通って床下のサービスエリア２に移動す
る。床下では、遮蔽板２１に遮られ、汚染物９は発生し
た設備７の属するクリーンシステムのリターンエリア４
に導かれ、さらにチャンバーダクト３へと移動する。天
井裏の遮蔽板２１によって遮られた汚染物９は再びワー
キングエリア１に導かれるが、必ず、汚染物９を発生し
た設備７近傍のワーキングエリア１に導かれる少なくと
も汚染物９を発生する可能性のないエリア２３の圧力
を、発生するエリアよりも高くすることにより、エアー
の流れ２２は矢印方向のようになり、エリア２３の領域
には汚染物９が移動しない。このため汚染物９によるク
リーンルームへの影響を最少限にとどめることができ、
安全上にも良い。またワーキングエリア１に遮蔽板を設
けないため、作業性もよい。遮蔽板２１を天井裏にのみ
設けた構造の場合、床下での作業性はさらに増す。外気
の取り込み量を変えることにより、十分な圧力差が保て
る場合、天井裏のみ遮蔽板２１を設ける構造がとれる。
【００１１】
【発明の効果】以上のように本発明は、天井裏および床
下に遮蔽板を設けた構成により、またさらにワーキング
エリア内の所定部間に圧力差を設けて作動させることに
よって、簡素で作業性がよく、汚染の影響のないワーキ
ングルームを有するクリーンルームおよびクリーンルー
ムシステムを提供できる。
下に遮蔽板を設けた構成により、またさらにワーキング
エリア内の所定部間に圧力差を設けて作動させることに
よって、簡素で作業性がよく、汚染の影響のないワーキ
ングルームを有するクリーンルームおよびクリーンルー
ムシステムを提供できる。
【図１】本発明のクリーンルームの概略断面図
【図２】従来のクリーンルームの概略断面図
１ ワーキングエリア ２ サービスエリア ３ チャンバーダクト ４ リターンエリア ５ ＦＦＵ（ファン・フィルター・ユニット） ６ ドライコイル ７ 設備 ８ グレーティング ９ 汚染物 ２１ 遮蔽板 ２２ エアーの流れ ２３ 汚染物を発生する可能性のないエリア
Claims (3)
- 【請求項１】 全面ダウンフローの３層構造からなるク
リーンルームにおいて、天井裏エリアと床下エリアの所
定部に形成されたエアーの流れを遮る遮蔽板を有するこ
とを特徴とするクリーンルーム。 - 【請求項２】 全面ダウンフローの３層構造からなるク
リーンルームにおいて、天井裏エリアのみの所定部に形
成されたエアーの流れを遮る遮蔽板を有することを特徴
とするクリーンルーム。 - 【請求項３】全面ダウンフローの３層構造からなるクリ
ーンルームシステムにおいて、天井裏エリアおよび床下
エレアのうち少なくとも一つのエリアの所定部に形成さ
れたエアーの流れを遮る遮蔽板を有し、かつ少なくとも
ワーキングエリア内の所定部門に圧力差を設けて作動す
ることを特徴とするクリーンルームシステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3253396A JPH0593535A (ja) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | クリーンルームおよびクリーンルームシステム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3253396A JPH0593535A (ja) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | クリーンルームおよびクリーンルームシステム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0593535A true JPH0593535A (ja) | 1993-04-16 |
Family
ID=17250793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3253396A Pending JPH0593535A (ja) | 1991-10-01 | 1991-10-01 | クリーンルームおよびクリーンルームシステム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0593535A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009293864A (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Takenaka Komuten Co Ltd | クリーンルーム |
-
1991
- 1991-10-01 JP JP3253396A patent/JPH0593535A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009293864A (ja) * | 2008-06-05 | 2009-12-17 | Takenaka Komuten Co Ltd | クリーンルーム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |