JPS61291849A

JPS61291849A - クリ−ンル−ム

Info

Publication number: JPS61291849A
Application number: JP13188685A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Takagaki; 哲也高垣; Hiroshi Nishizuka; 西塚　弘
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1985-06-19
Filing date: 1985-06-19
Publication date: 1986-12-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［技術分野］本発明は、半導体装置製造工程等に必要とされる清浄環
境を提供する、いわゆるクリーンルームに適用して有効
な技術に関する。

［背景技術］半導体装置等の製造。においては、半導体ウェハにホト
リソグラフィ処理や拡散処理を行う、いわゆるウェハ処
理作業が行われているが、この作業中に前記ウェハの表
面に塵埃等の異物が付着すると、ウニハネ良の原因とな
る。そのため、前記ウェハ処理を行う作業環境への異物
の混入および温度、湿度等の変化を極力防止する必要が
ある。

このため、作業室の空気清浄化を主目的として種々のク
リーンルームに関する技術が提案されている。

ところで、上記クリーンルーム構造としては、第４図に
示すように、天井近傍にフィルター５１を取付けて、該
フィルターにより所定の清浄度にした調整空気５２を作
業室内の床部方向に流通させる構造のものが知られてい
る。

しかし、上記構造のクリーンルームでは、室内照、明等
の設置スペースを確保するために、前記フイルター面５
１ａの一部に螢光灯５３等の設置スペースを設けて、こ
の部分からは調整空気５２の吹出が行われないようにな
っている。すなわち、螢光灯５３の下の空間はフィルタ
ー５１の下の空間よりも負圧状態となる。そのため、フ
ィルター５１から吹き出した調整空気５２が螢光灯４３
の下で渦巻き流５４となり、ここが塵埃等の異物の滞留
領域となり、作業者の移動等によって前記異物が処理装
置上のウェハに付着するおそれのあることが本発明者に
よって明らかにされた。

なお、クリーンルームの技術として詳しく述べられてい
る例としては、特開昭５６−１６２３３５号公報および
特開昭５６−１６２２３６号公報がある。

また、これらのクリーンルーム方式については、株式会
社工業調査会、昭和５９年１１月２０日発行、［電子材
料１９８４年１１月号別冊、超ＬＳＩ製造・試験装置ガ
イドブックＪＰ１４０−ＰＩ４４に詳しい。

［発明の目的］本発明の目的は、クリーンルーム室内での乱流の発生を
防止して、清浄環境を向上させることにある。

本発明の他の目的は、異物の付着によるウニハネ良の発
生を防止して信鯨性の高い半導体装置を提供することに
ある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

［発明の概要］本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。

すなわち、作業室内の照明設備の幅をフィルターの枠幅
と同等もしくはそれよりも小さい構造のクリーンルーム
とすることにより、照明設備が原因となるクリーンルー
ム室内での乱流の発生を防止して、清浄環境を向上させ
ることができる。

このため、ウェハへの塵埃等の異物の付着を防止して信
親性の高い半導体装置を提供することができる。

［実施例１］第１図は本発明の実施例の一つであるクリーンルームの
天井近傍を示す概略断面図、第２図は実施例１のクリー
ンルームの全体を示す概略断面図である。

本実施例のクリーンルーム１はいわゆる全面ダウンフロ
一方式のクリーンルームであり、上から各々調整空気供
給室２、作業室３および排気室４に区画された建屋５を
有している。

調整空気供給室２はその一側部に空気流入口６が開設さ
れており、この空気流入口６には空気調整装置７からの
ダクト８が連結され、調整空気９を前記供給室２に送り
こむようになっている。

調整空気供給室２と前記作業室３とはフィルター１０に
より区画されており、このフィルターＩＯは、たとえば
ガラス繊維もしくはナイロン繊維からなるシートがリボ
ン状に折り畳まれた状態でアルミニウム合金からなる枠
部材１０ａに収納されたものを複数個並列に並べて結合
したものである。

このフィルター１０の作業室３側の所定位置には第２図
に示すように、照明装置としての螢光灯１１が取付けら
れている。この螢光灯１１は、グローランプおよびトラ
ンス等を収納した制御部１２と、螢光管１３の取付けら
れた照明部１４とからなるが、前記制御部１２は調整空
気供給室２内の天井２ａに取付けられている。また、照
明部１４は前記天井２ａに固定された制御部１２からフ
ィルター１０の枠部１０ａを経て作業室３内に吊り下げ
られた状態で取付けられている。ここで、照明部１４は
螢光管１３の上部に反射板１５が取付けられた構造とな
−っているが、この反射板１５の幅は前記枠部１０ａの
枠厚よりも小さいことが望ましい、すなわち、フィルタ
ー１０から吹き出された調整空気９の流通が反射板１５
により妨げられないようにするためである。

一方、作業室３は、リソグラフィ装置、拡散炉等の処理
装置１６を載置する処理空間３ａと作業者の位置する作
業空間３ｂとに区画されており、本実施例１では中央の
作業空間３ｂを介して一対の処理空間３ａが形成されて
おり、この各処理空間３ａには各々処理装置１６が載置
されている。

上記各空間３ａ、３ｂを有する作業室３の床部は全面が
すのこ状の通気構造の金属部材で構成されており、床部
全面が床下に形成された排気室４への排気口１７として
機能している。

床下に形成された排気室４の一側部には排気口１８が開
設されており、この排気口１８には空気調整装置７゛に
通じるダクト８が接続されている。

建屋５の外部には空気調整装置７が設けられており、こ
の空気調整装置７は前記排気室４よりの排気１９および
外気２０を混合して所定の温度、湿度に制御してファン
２１により加圧してダクト８に送り出すものである。

次に本実施例の作用について説明する。

まず、空気調整装置７によって温度、湿度が制御された
調整空気９はダクト８を経て調整空気供給室２に供給さ
れる。さらに、調整空気９はフィルター１０を経て所定
の清浄化が行われ、作業室３内部をダウンフロ一式に縦
の層流となって流通して各空間３ａ、３ｂを清浄化する
。このとき、本実施例によれば、前述のように螢光灯１
１の照明部１４、特に反射板１５はフィルター１０の枠
部１０ａよりも幅狭の構造で作業室３内に吊り下げられ
ているため、前記フィルター１０を経た調整空気９が乱
流となることはない、したがって、照明部１４近傍での
渦巻流の発生を防止して塵埃等の滞留を抑制することが
できるため、作業室３内を常に清浄環境に維持すること
ができる。

このようにして、作業室３内を流通した調整空気９（排
気１９）は床部の排気口１７から排気室４に流入され、
さらにダクト８を経て空気調整装置７に復流される。

［実施例２］第３図は本発明の他の実施例であるクリーンルームの螢
光灯取付は状態を示す部分断面図である。

本実施例２は、実施例１で説明したクリーンルームとほ
ぼ同様の構造を有するものであるが、螢光灯３１の取付
は状態が異なるものである。

すなわち、本実施例２では、第３図Ｃ示すように照明部
３４、すなわち螢光管３３と反射板３５がフィルター４
０の枠部４０ａに嵌合された状態で取付けられたもので
ある。すなわち、この螢光灯３１は、まず独立状態の各
フィルター４０の枠部にＬ字状の溝を形成して、各フィ
ルター４０を並列に接合する０次にこの各フィルター４
０の接合部分に形成されたＵ字状の凹部に照明部３４を
嵌合させることにより形成することが可能である。

なお、制御部３２は実施例１と同様、調整空気供給室２
の天井２ａに取付けられている。

このように、本実施例２によれば、作業室３の内部への
照明を行う照明部３４がフィルター４０の枠部４０ａに
嵌合された構造を有しているため、フィルター４０を経
て作業室３内を流通する調整空気９が照明部３４に妨害
されることはない、したがって、照明部３４近傍での渦
巻流の発生を防止して塵埃等の滞留を抑制できる。

また、照明部３４がフィルター４０の枠部４０ａに収容
されているため、作業室３内を効率良く使用することが
できる。

［効果１（１）０作業室内の照明設備の幅をフィルターの枠幅と
同等もしくはそれよりも小さい構造のクリーンルームと
することにより、照明設備が原因となる作業室内での乱
流の発生を防止して、清浄環境を向上させることができ
る。

（２）、前記（１１により、作業室内での異物の滞留が
防止できるため、ウェハへの異物の付着を防止して信頼
性の高い半導体装置を提供することができる。

（３）、照明部がフィルターの枠部に嵌合されている構
造のクリーンルームとすることにより、作業室内部に照
明設備が突き出さない構造とすることができるため、作
業室内を効率良く使用することができる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

たとえば、フィルターの枠部の材質についてはアルミニ
ウム合金を用いたものについてのみ説明したが、これに
限らずたとえば木製の枠であってもよい。また、フィル
ター構造も実施例に記載したものに限定されない。

さらに、実施例２では螢光管に反射板を取付けたものを
枠部に嵌合させた場合について説明したが、反射板を省
略して枠部の凹部面に直接白色系の塗装を施して反射面
としてもよい。

［利用分野］以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆる全面ダウンフロ一方式
のクリーンルームに適用した場合について説明したが、
これに限定されるものではなく、たとえばクリーントン
ネルモジュール方式もしくはクリーンベンチトンネル方
式等のクリーンルーム構造に適用しても有効な技術であ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例１であるクリーンルームの天井近傍を示
す概略断面図、第２図は実施例１のクリーンルームの全体を示す概略断
面図、第３図は実施例２のクリーンルームの螢光灯取付は状態
を示す部分断面図、第４図は従来例のクリーンルームの螢光灯取付は状態を
示す部分断面図である。１・・・クリーンルーム、２・・・調整空気供給室、３
・・・作業室、３ａ・・・処理空間、３ｂ・・・作業空
間、４・・・排気室、５・・・建屋、６・・・空気流入
口、７・・・空気調整装置、８・・・ダクト、９・・・
調整空気、工０・・・フィルター、１０ａ・・・枠部材
、１１・・・螢光灯、１２・・・制御部、１３・・・螢
光管、１４・・・照明部、１５・・・反射板、１６・・
・処理装置、１７・・・排気口、１８・・・排気口、１
９・・・排気、２０・・・外気、２１・・・ファン、３
１・・・螢光灯、３２・・・制御部、３３・・・螢光管
、３４・・・照明部、３５・・・反射板、４０・・・フ
ィルター、４０ａ・・・枠部、５１・・・フィルター、
５１ａ・・・フィルター面、５２・・・調整空気、５３
・・・螢光管、５４・・・渦巻き流。

Claims

【特許請求の範囲】１、フィルターを経て作業室内に調整空気を流通させる
クリーンルームであって、作業室内の照明設備の幅がフ
ィルターの枠幅と同等もしくはそれよりも小さいことを
特徴とするクリーンルーム。２、照明設備が制御部および照明部とからなる螢光灯照
明設備であり、かつ制御部がフィルターの上部に設けら
れた調整空気供給空間内に設置され、照明部が作業室内
部に取付けられていることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載のクリーンルーム。３、照明部がフィルターの枠と同等もしくは枠よりも小
さい照明器具を有し、フィルターの枠部に嵌合されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載のクリー
ンルーム。