JPH1096333A - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
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- JPH1096333A JPH1096333A JP8251768A JP25176896A JPH1096333A JP H1096333 A JPH1096333 A JP H1096333A JP 8251768 A JP8251768 A JP 8251768A JP 25176896 A JP25176896 A JP 25176896A JP H1096333 A JPH1096333 A JP H1096333A
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- chemical
- cleanliness
- ceiling
- clean room
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体装置製造工程において、半導体ウェハ
の搬送時や保管時のケミカル汚染を防止できると共に、
必要に応じた空調管理を部分的に行えるクリーンルーム
を提供する。 【解決手段】 外調機２により取り入れられた温湿度が
制御されたエアは、ＨＥＰＡあるいはＵＬＰＡフィルタ
等の天井フィルタ８を通して作業ゾーン４に供給され、
グレーチィング１０床を通して吸引されるクリーンルー
ム１において、作業ゾーン４に配置された天井走行方式
の搬送装置５および保管装置６の上方にのみ天井フィル
タ８とケミカルフィルタおよび送風ファンから構成され
たファンフィルタユニット９を追加配置し、ケミカル汚
染の原因となるケミカルミストを除去したケミカルフリ
ーエアを搬送装置５および保管装置６に供給する。
の搬送時や保管時のケミカル汚染を防止できると共に、
必要に応じた空調管理を部分的に行えるクリーンルーム
を提供する。 【解決手段】 外調機２により取り入れられた温湿度が
制御されたエアは、ＨＥＰＡあるいはＵＬＰＡフィルタ
等の天井フィルタ８を通して作業ゾーン４に供給され、
グレーチィング１０床を通して吸引されるクリーンルー
ム１において、作業ゾーン４に配置された天井走行方式
の搬送装置５および保管装置６の上方にのみ天井フィル
タ８とケミカルフィルタおよび送風ファンから構成され
たファンフィルタユニット９を追加配置し、ケミカル汚
染の原因となるケミカルミストを除去したケミカルフリ
ーエアを搬送装置５および保管装置６に供給する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体装置等の
製造が行われるクリーンルームにおいて、局所クリーン
化を行えるクリーンルームに関するものである。
製造が行われるクリーンルームにおいて、局所クリーン
化を行えるクリーンルームに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体装置は、クリーンルーム環
境からの汚染により製品歩留りが低下するため、温湿度
が制御されると共に通常数ミクロンレベルの異物が除去
されたクリーンルーム内で製造されている。
境からの汚染により製品歩留りが低下するため、温湿度
が制御されると共に通常数ミクロンレベルの異物が除去
されたクリーンルーム内で製造されている。
【０００３】図９は従来のクリーンルームを示す図であ
る。図において、１はクリーンルーム、２は外気を取り
入れ温湿度を制御後クリーンルーム１にエアを供給する
外調機である。クリーンルーム１は、外調機２からエア
が供給される天井チャンバー３と、生産装置等が配置さ
れ作業が行われる作業ゾーン４と、動力供給設備や環境
保全設備等が配置されたユーティリティゾーン７から構
成されており、天井チャンバー３と作業ゾーン４の間に
は、天井チャンバー３のエアから数ミクロンレベルの塵
埃等の異物を除去するＨＥＰＡ（High Efficiency Part
iculate Air ）フィルタあるいはＵＬＰＡ（Ultra Low
Penetration Air ）フィルタ等の天井フィルタ８が配置
され、作業ゾーン４は、床面のグレーチィング１０を介
してユーティリティゾーン７と接し、ユーティリティゾ
ーン７には、作業ゾーン４のエアをグレーチィング１０
を通して吸引し、ユーティリティゾーン７から天井チャ
ンバー３にエアを循環させる循環ダクト１１が配置され
ている。また、クリーンルーム１は、外気からの異物侵
入を防止するために外気よりも陽圧状態としているが、
ドアの開閉や装置からの排気等によりクリーンルーム１
内の気圧が低下するため、常時クリーンルーム１内の気
圧を検出し、外調機２の送風ファンの回転数を変化させ
て外気よりも一定値陽圧状態になるよう圧力をコントロ
ールしている。
る。図において、１はクリーンルーム、２は外気を取り
入れ温湿度を制御後クリーンルーム１にエアを供給する
外調機である。クリーンルーム１は、外調機２からエア
が供給される天井チャンバー３と、生産装置等が配置さ
れ作業が行われる作業ゾーン４と、動力供給設備や環境
保全設備等が配置されたユーティリティゾーン７から構
成されており、天井チャンバー３と作業ゾーン４の間に
は、天井チャンバー３のエアから数ミクロンレベルの塵
埃等の異物を除去するＨＥＰＡ（High Efficiency Part
iculate Air ）フィルタあるいはＵＬＰＡ（Ultra Low
Penetration Air ）フィルタ等の天井フィルタ８が配置
され、作業ゾーン４は、床面のグレーチィング１０を介
してユーティリティゾーン７と接し、ユーティリティゾ
ーン７には、作業ゾーン４のエアをグレーチィング１０
を通して吸引し、ユーティリティゾーン７から天井チャ
ンバー３にエアを循環させる循環ダクト１１が配置され
ている。また、クリーンルーム１は、外気からの異物侵
入を防止するために外気よりも陽圧状態としているが、
ドアの開閉や装置からの排気等によりクリーンルーム１
内の気圧が低下するため、常時クリーンルーム１内の気
圧を検出し、外調機２の送風ファンの回転数を変化させ
て外気よりも一定値陽圧状態になるよう圧力をコントロ
ールしている。
【０００４】半導体装置の高集積化によるパターンの微
細化、膜厚の薄膜化に伴い、半導体装置が製造されるク
リーンルーム内の空気に含まれる有機物や無機物からな
るサブミクロンレベルのケミカルミスト、ガス等による
ケミカル汚染も問題視されるようになった。特に、半導
体装置の製造工程において、各製造装置間の搬送時や保
管時における半導体ウェハのケミカル汚染が問題となっ
ている。これは、製造装置は、窒素等の不活性ガスを直
接導入したり種々のフィルタとファンを内蔵して独自の
システムにより装置内部の清浄度を高めているためであ
る。ケミカル汚染の原因となるケミカルミストとして
は、取り入れた外気に混入していた硫化系ガスや酸系ガ
ス、クリーンルーム内の製造装置等で使用される薬品か
らの蒸発ガス、クリーンルームの壁のコンクリートや製
造装置の塗装からの蒸発ガス等があり、以下に示すよう
な悪影響を半導体装置に与えている。 １．半導体装置に用いられている金属等に腐食を生じさ
せ、半導体装置の信頼性を低下させる。特に、Ａｌ配線
においては、腐食により配線抵抗が増加したり断線等が
生じトランジスタ特性変化や機能喪失を発生させる。 ２．ＣＶＤ法による成膜においては、成膜面の汚染によ
り成膜層の異常成長が生じパターン形成異常が発生し易
くなる。 ３．フッ素系ガスは表面状態を変質させ、ナトリウムイ
オンは酸化膜を増殖酸化させて酸化膜厚異常を生じさ
せ、トランジスタ特性を変化させる。
細化、膜厚の薄膜化に伴い、半導体装置が製造されるク
リーンルーム内の空気に含まれる有機物や無機物からな
るサブミクロンレベルのケミカルミスト、ガス等による
ケミカル汚染も問題視されるようになった。特に、半導
体装置の製造工程において、各製造装置間の搬送時や保
管時における半導体ウェハのケミカル汚染が問題となっ
ている。これは、製造装置は、窒素等の不活性ガスを直
接導入したり種々のフィルタとファンを内蔵して独自の
システムにより装置内部の清浄度を高めているためであ
る。ケミカル汚染の原因となるケミカルミストとして
は、取り入れた外気に混入していた硫化系ガスや酸系ガ
ス、クリーンルーム内の製造装置等で使用される薬品か
らの蒸発ガス、クリーンルームの壁のコンクリートや製
造装置の塗装からの蒸発ガス等があり、以下に示すよう
な悪影響を半導体装置に与えている。 １．半導体装置に用いられている金属等に腐食を生じさ
せ、半導体装置の信頼性を低下させる。特に、Ａｌ配線
においては、腐食により配線抵抗が増加したり断線等が
生じトランジスタ特性変化や機能喪失を発生させる。 ２．ＣＶＤ法による成膜においては、成膜面の汚染によ
り成膜層の異常成長が生じパターン形成異常が発生し易
くなる。 ３．フッ素系ガスは表面状態を変質させ、ナトリウムイ
オンは酸化膜を増殖酸化させて酸化膜厚異常を生じさ
せ、トランジスタ特性を変化させる。
【０００５】図１０は、クリーンルーム１の循環系にケ
ミカルミストを除去できるケミカルフィルタ３３ａ、３
３ｂ、３３ｃを配置した例を示している。３３ａはグレ
ーチィング１０の下に配置されたケミカルフィルタ、３
３ｂはユーティリティゾーン７から天井チャンバー３に
エアを循環させる循環ダクト１１に配置されたケミカル
フィルタ、３３ｃは天井フィルタ８に追加したケミカル
フィルタである。ケミカルフィルタ３３ａ、３３ｂ、３
３ｃの少なくともいずれか一個をクリーンルーム１内に
配置することにより、作業ゾーン４からケミカルミスト
を除去している。
ミカルミストを除去できるケミカルフィルタ３３ａ、３
３ｂ、３３ｃを配置した例を示している。３３ａはグレ
ーチィング１０の下に配置されたケミカルフィルタ、３
３ｂはユーティリティゾーン７から天井チャンバー３に
エアを循環させる循環ダクト１１に配置されたケミカル
フィルタ、３３ｃは天井フィルタ８に追加したケミカル
フィルタである。ケミカルフィルタ３３ａ、３３ｂ、３
３ｃの少なくともいずれか一個をクリーンルーム１内に
配置することにより、作業ゾーン４からケミカルミスト
を除去している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のクリーンルーム
は以上のように構成されており、半導体装置の製造工程
において、特に、各製造装置間の搬送時や保管時におけ
る半導体ウェハのケミカル汚染が問題となっているが、
ＨＥＰＡフィルタあるいはＵＬＰＡフィルタでは、化学
物質からの発生ガス等の空気中に含まれるケミカルミス
トを除去できず、また、クリーンルーム１のエアの循環
系にケミカルミストを除去できるケミカルフィルタ３３
ａ〜３３ｃを配置し、クリーンルーム１内の全てのエア
をケミカルフィルタ３３ａ〜３３ｃを通過させて、クリ
ーンルーム１の作業ゾーン４全体からケミカルミストを
除去する方式では、空調設備のイニシャルコストおよび
ランニングコストが高くなるなどの問題があった。
は以上のように構成されており、半導体装置の製造工程
において、特に、各製造装置間の搬送時や保管時におけ
る半導体ウェハのケミカル汚染が問題となっているが、
ＨＥＰＡフィルタあるいはＵＬＰＡフィルタでは、化学
物質からの発生ガス等の空気中に含まれるケミカルミス
トを除去できず、また、クリーンルーム１のエアの循環
系にケミカルミストを除去できるケミカルフィルタ３３
ａ〜３３ｃを配置し、クリーンルーム１内の全てのエア
をケミカルフィルタ３３ａ〜３３ｃを通過させて、クリ
ーンルーム１の作業ゾーン４全体からケミカルミストを
除去する方式では、空調設備のイニシャルコストおよび
ランニングコストが高くなるなどの問題があった。
【０００７】この発明は、上記のような問題を解決する
ためになされたもので、半導体装置製造工程において、
半導体ウェハの搬送時や保管時のケミカル汚染を防止で
きると共に、必要に応じた空調管理を部分的に行えるク
リーンルームを提供することを目的とする。
ためになされたもので、半導体装置製造工程において、
半導体ウェハの搬送時や保管時のケミカル汚染を防止で
きると共に、必要に応じた空調管理を部分的に行えるク
リーンルームを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明に係わるクリー
ンルームは、外気の温湿度を制御すると共に、第一の除
塵レベルに管理した第一の清浄度のエアを、外気よりク
リーンルーム内が陽圧状態になるよう供給する外調機
と、第一の清浄度のエアが外調機により供給される天井
チャンバーと、天井チャンバーの第一の清浄度のエアを
第二の除塵レベルの第二の清浄度のエアに清浄化する天
井フィルタと、天井フィルタの上流側に配置され、エア
中の所定の化学物質を所定の含有レベルまで除去するフ
ァンフィルタユニットと、天井フィルタにより第二の清
浄度に管理されたエアが供給されると共に、所定領域に
はファンフィルタユニットにより第二の除塵レベルの第
三の清浄度に管理されたケミカルフリーエアが供給され
る作業ゾーンと、作業ゾーンのグレーチィング床下に位
置し、動力供給設備や環境保全設備等が配置されたユー
ティリティゾーンと、作業ゾーンからユーティリティゾ
ーンに排気されるエアの温度を調整し、ダクトを通して
ユーティリティゾーンから天井チャンバーにエアを循環
させる空気循環設備を備えたものである。
ンルームは、外気の温湿度を制御すると共に、第一の除
塵レベルに管理した第一の清浄度のエアを、外気よりク
リーンルーム内が陽圧状態になるよう供給する外調機
と、第一の清浄度のエアが外調機により供給される天井
チャンバーと、天井チャンバーの第一の清浄度のエアを
第二の除塵レベルの第二の清浄度のエアに清浄化する天
井フィルタと、天井フィルタの上流側に配置され、エア
中の所定の化学物質を所定の含有レベルまで除去するフ
ァンフィルタユニットと、天井フィルタにより第二の清
浄度に管理されたエアが供給されると共に、所定領域に
はファンフィルタユニットにより第二の除塵レベルの第
三の清浄度に管理されたケミカルフリーエアが供給され
る作業ゾーンと、作業ゾーンのグレーチィング床下に位
置し、動力供給設備や環境保全設備等が配置されたユー
ティリティゾーンと、作業ゾーンからユーティリティゾ
ーンに排気されるエアの温度を調整し、ダクトを通して
ユーティリティゾーンから天井チャンバーにエアを循環
させる空気循環設備を備えたものである。
【０００９】または、外気の温湿度を制御すると共に、
第一の除塵レベルに管理した第一の清浄度のエアを、外
気よりクリーンルーム内が陽圧状態になるよう供給する
外調機と、外気の温湿度を制御すると共に、第一の除塵
レベルに管理し、エア中の所定の化学物質を所定の含有
レベルまで除去した第四の清浄度のケミカルフリーエア
を生成するケミカルフリーエアの生成装置と、第一の清
浄度のエアが外調機により供給される天井チャンバー
と、天井チャンバー内の所定領域に配置され、ケミカル
フリーエアの生成装置から第四の清浄度のケミカルフリ
ーエアが供給される導風カバーと、天井チャンバーの第
一の清浄度のエアを第二の除塵レベルの第二の清浄度の
エアに清浄化する第一の天井フィルタ、および上記第四
の清浄度のケミカルフリーエアを第二の除塵レベルの第
三の清浄度のケミカルフリーエアに清浄化する第二の天
井フィルタと、第一の天井フィルタにより第二の清浄度
に管理されたエアが供給されると共に、所定領域には導
風カバー内に供給されたケミカルフリーエアが第二の天
井フィルタにより第三の清浄度のケミカルフリーエアに
清浄化され供給される作業ゾーンと、作業ゾーンのグレ
ーチィング床下に位置し、動力供給設備や環境保全設備
等が配置されたユーティリティゾーンと、作業ゾーンか
らユーティリティゾーンに排気されるエアの温度を調整
し、ダクトを通してユーティリティゾーンから天井チャ
ンバーにエアを循環させる空気循環設備を備えたもので
ある。また、ケミカルフリーエアの生成装置は、外調機
から第一の清浄度のエアが供給され、上記第一の清浄度
のエアから所定の化学物質を所定の含有レベルまで除去
するケミカル除去装置である。
第一の除塵レベルに管理した第一の清浄度のエアを、外
気よりクリーンルーム内が陽圧状態になるよう供給する
外調機と、外気の温湿度を制御すると共に、第一の除塵
レベルに管理し、エア中の所定の化学物質を所定の含有
レベルまで除去した第四の清浄度のケミカルフリーエア
を生成するケミカルフリーエアの生成装置と、第一の清
浄度のエアが外調機により供給される天井チャンバー
と、天井チャンバー内の所定領域に配置され、ケミカル
フリーエアの生成装置から第四の清浄度のケミカルフリ
ーエアが供給される導風カバーと、天井チャンバーの第
一の清浄度のエアを第二の除塵レベルの第二の清浄度の
エアに清浄化する第一の天井フィルタ、および上記第四
の清浄度のケミカルフリーエアを第二の除塵レベルの第
三の清浄度のケミカルフリーエアに清浄化する第二の天
井フィルタと、第一の天井フィルタにより第二の清浄度
に管理されたエアが供給されると共に、所定領域には導
風カバー内に供給されたケミカルフリーエアが第二の天
井フィルタにより第三の清浄度のケミカルフリーエアに
清浄化され供給される作業ゾーンと、作業ゾーンのグレ
ーチィング床下に位置し、動力供給設備や環境保全設備
等が配置されたユーティリティゾーンと、作業ゾーンか
らユーティリティゾーンに排気されるエアの温度を調整
し、ダクトを通してユーティリティゾーンから天井チャ
ンバーにエアを循環させる空気循環設備を備えたもので
ある。また、ケミカルフリーエアの生成装置は、外調機
から第一の清浄度のエアが供給され、上記第一の清浄度
のエアから所定の化学物質を所定の含有レベルまで除去
するケミカル除去装置である。
【００１０】また、第一の清浄度のエアは、外調機から
ユーティリティゾーンに供給されるものである。また、
作業ゾーンの所定領域のエア圧力は、作業ゾーンの他の
領域のエア圧力より陽圧状態となるよう調整されている
ものである。また、作業ゾーンの所定領域は、導入され
た第三の清浄度のケミカルフリーエアが内部を通過して
外部へ排出される開口部を有した搬送装置および保管装
置の設置部である。また、搬送装置は、作業ゾーンの天
井に吊り下げられた天井走行方式の搬送装置で、被搬送
体を保持する保持部と、駆動装置等が配置された駆動部
と、保持部と駆動部を隙間を介して仕切るカバーと、駆
動部に設けられた排気ダクトを備え、天井フィルタ部を
通して供給されるエアを、保持部からカバーの隙間を通
して駆動部の排気ダクトからユーティリティゾーンに排
気するよう構成されているものである。また、保管装置
は、作業ゾーンのグレーチィング上に配置された半密閉
構造を有する保管装置で、天井フィルタ部を通して供給
されるエアを効率良く得るために天井フィルタ部の方向
へ延長した側面と、複数の小径の穴を有した棚板を備
え、天井フィルタ部を通して供給されたエアを棚板の穴
を介してグレーチィング下に排気するよう構成されてい
るものである。
ユーティリティゾーンに供給されるものである。また、
作業ゾーンの所定領域のエア圧力は、作業ゾーンの他の
領域のエア圧力より陽圧状態となるよう調整されている
ものである。また、作業ゾーンの所定領域は、導入され
た第三の清浄度のケミカルフリーエアが内部を通過して
外部へ排出される開口部を有した搬送装置および保管装
置の設置部である。また、搬送装置は、作業ゾーンの天
井に吊り下げられた天井走行方式の搬送装置で、被搬送
体を保持する保持部と、駆動装置等が配置された駆動部
と、保持部と駆動部を隙間を介して仕切るカバーと、駆
動部に設けられた排気ダクトを備え、天井フィルタ部を
通して供給されるエアを、保持部からカバーの隙間を通
して駆動部の排気ダクトからユーティリティゾーンに排
気するよう構成されているものである。また、保管装置
は、作業ゾーンのグレーチィング上に配置された半密閉
構造を有する保管装置で、天井フィルタ部を通して供給
されるエアを効率良く得るために天井フィルタ部の方向
へ延長した側面と、複数の小径の穴を有した棚板を備
え、天井フィルタ部を通して供給されたエアを棚板の穴
を介してグレーチィング下に排気するよう構成されてい
るものである。
【００１１】また、クリーンルームは、外気の温湿度を
制御すると共に、第一の除塵レベルに管理した第一の清
浄度のエアを、外気よりクリーンルーム内が陽圧状態に
なるよう供給する外調機と、外気の温湿度を制御すると
共に、第二の除塵レベルに管理し、エア中の所定の化学
物質および水分を所定の含有レベルまで除去した第５の
清浄度のケミカルフリードライエアを生成するケミカル
フリードライエアの生成装置と、ケミカルフリードライ
エアの生成装置からドライエアが供給される密閉構造を
有した搬送装置および保管装置等が配置された作業ゾー
ンと、作業ゾーンのグレーチィング床下に位置し、動力
供給設備や環境保全設備等が配置され、作業ゾーンおよ
び搬送装置や保管装置等の排出口からエアが排気される
と共に外調機からエアが供給されるユーティリティゾー
ンと、ユーティリティゾーンのエアの温度を調整しダク
トを通して天井チャンバーに循環させる空気循環設備
と、天井チャンバー内に配置され、導入された第一の清
浄度のエアを第二の清浄度のエアに清浄化して作業ゾー
ンに供給する天井フィルタを備えたものである。
制御すると共に、第一の除塵レベルに管理した第一の清
浄度のエアを、外気よりクリーンルーム内が陽圧状態に
なるよう供給する外調機と、外気の温湿度を制御すると
共に、第二の除塵レベルに管理し、エア中の所定の化学
物質および水分を所定の含有レベルまで除去した第５の
清浄度のケミカルフリードライエアを生成するケミカル
フリードライエアの生成装置と、ケミカルフリードライ
エアの生成装置からドライエアが供給される密閉構造を
有した搬送装置および保管装置等が配置された作業ゾー
ンと、作業ゾーンのグレーチィング床下に位置し、動力
供給設備や環境保全設備等が配置され、作業ゾーンおよ
び搬送装置や保管装置等の排出口からエアが排気される
と共に外調機からエアが供給されるユーティリティゾー
ンと、ユーティリティゾーンのエアの温度を調整しダク
トを通して天井チャンバーに循環させる空気循環設備
と、天井チャンバー内に配置され、導入された第一の清
浄度のエアを第二の清浄度のエアに清浄化して作業ゾー
ンに供給する天井フィルタを備えたものである。
【００１２】また、搬送装置は、密閉構造の搬送路と、
搬送路の天井部に設けられたケミカルフリードライエア
の生成装置から供給されるドライエアの供給部と、搬送
路内の上部に設けられた被搬送体を保持する保持部と、
下部に設けられ駆動装置等が配置された駆動部と、保持
部と駆動部を隙間を有して仕切るカバーと、駆動部に設
けられた排気ダクトを備え、搬送路の天井部に配管を介
して供給されたドライエアは、保持部からカバーの隙間
を通って駆動部の排気ダクトからユーティリティゾーン
に排気されるよう構成されているものである。さらに、
搬送路には、天井部に供給されたドライエアを搬送路内
に均一に供給するために所定の間隔を開けて平行に設置
された多数の小径の穴を有する整流板が設置されている
ものである。さらに、搬送装置は、他の装置との接続部
に、被搬送体の認識装置と、開閉自在なシャッターが設
置された開口部と、ケミカルフリードライエアの生成装
置から供給されるドライエアの吹き出し部を有する開口
部上に搬送路壁から突出形成された庇部を備えているも
のである。また、保管装置は、密閉構造の保管庫と、保
管庫の天井部に設けられたケミカルフリードライエアの
生成装置から供給されるドライエアの供給部と、複数の
小径の穴を有した棚板と、底部に設けられた排気ダクト
を備え、保管庫の天井部に配管を介して供給されたドラ
イエアは、棚板の穴を通って排気ダクトからユーティリ
ティゾーンに排気されるよう構成されているものであ
る。
搬送路の天井部に設けられたケミカルフリードライエア
の生成装置から供給されるドライエアの供給部と、搬送
路内の上部に設けられた被搬送体を保持する保持部と、
下部に設けられ駆動装置等が配置された駆動部と、保持
部と駆動部を隙間を有して仕切るカバーと、駆動部に設
けられた排気ダクトを備え、搬送路の天井部に配管を介
して供給されたドライエアは、保持部からカバーの隙間
を通って駆動部の排気ダクトからユーティリティゾーン
に排気されるよう構成されているものである。さらに、
搬送路には、天井部に供給されたドライエアを搬送路内
に均一に供給するために所定の間隔を開けて平行に設置
された多数の小径の穴を有する整流板が設置されている
ものである。さらに、搬送装置は、他の装置との接続部
に、被搬送体の認識装置と、開閉自在なシャッターが設
置された開口部と、ケミカルフリードライエアの生成装
置から供給されるドライエアの吹き出し部を有する開口
部上に搬送路壁から突出形成された庇部を備えているも
のである。また、保管装置は、密閉構造の保管庫と、保
管庫の天井部に設けられたケミカルフリードライエアの
生成装置から供給されるドライエアの供給部と、複数の
小径の穴を有した棚板と、底部に設けられた排気ダクト
を備え、保管庫の天井部に配管を介して供給されたドラ
イエアは、棚板の穴を通って排気ダクトからユーティリ
ティゾーンに排気されるよう構成されているものであ
る。
【００１３】また、第三および第四の清浄度のケミカル
フリーエアは、所定の化学物質の所定含有レベルが１ｐ
ｐｔ〜１ｆの範囲である。また、第５の清浄度のケミカ
ルフリードライエアは、所定の化学物質の所定含有レベ
ルが１ｐｐｔ〜１ｆの範囲で、水分の含有レベルが１ｐ
ｐｂ以下である。また、より高清浄度に管理されたエア
は、天井フィルタ部の高性能フィルタおよび追加配置さ
れたファンフィルタユニットを通過したエアである。
フリーエアは、所定の化学物質の所定含有レベルが１ｐ
ｐｔ〜１ｆの範囲である。また、第５の清浄度のケミカ
ルフリードライエアは、所定の化学物質の所定含有レベ
ルが１ｐｐｔ〜１ｆの範囲で、水分の含有レベルが１ｐ
ｐｂ以下である。また、より高清浄度に管理されたエア
は、天井フィルタ部の高性能フィルタおよび追加配置さ
れたファンフィルタユニットを通過したエアである。
【００１４】
実施の形態１．以下、この発明の一実施の形態であるク
リーンルームを図について説明する。図１は本発明のク
リーンルームを示す模式図である。図において、１はク
リーンルーム、２は外気を取り入れ温湿度を制御後クリ
ーンルーム１にエアを供給する外調機、３は外調機２か
らエアが供給される天井チャンバー、４は製造装置や天
井走行方式の搬送装置５および保管装置６等が配置され
作業が行われる作業ゾーン、７は動力供給設備や環境保
全設備等が配置されたユーティリティゾーン、８は天井
チャンバー３と作業ゾーン４の間に設置されたＨＥＰＡ
フィルタあるいはＵＬＰＡフィルタ等の天井フィルタ
で、天井チャンバー３のエアから数ミクロンレベルの塵
埃等の異物を除去して作業ゾーン４に供給する。９はケ
ミカルフィルタおよび送風ファンから構成されたファン
フィルタユニットで、搬送装置５および保管装置６が配
置された部分の上方にのみ天井フイルタ８に追加配置さ
れている。１０は作業ゾーン４床面のグレーチィング、
１１は作業ゾーン４のエアをユーティリティゾーン７に
設けられた循環ファン１２によりグレーチィング１０を
通して吸引し、ユーティリティゾーン７から天井チャン
バー３にエアを循環させる循環ダクト、１３は循環ダク
ト１１に設置された循環エアの温調装置である。
リーンルームを図について説明する。図１は本発明のク
リーンルームを示す模式図である。図において、１はク
リーンルーム、２は外気を取り入れ温湿度を制御後クリ
ーンルーム１にエアを供給する外調機、３は外調機２か
らエアが供給される天井チャンバー、４は製造装置や天
井走行方式の搬送装置５および保管装置６等が配置され
作業が行われる作業ゾーン、７は動力供給設備や環境保
全設備等が配置されたユーティリティゾーン、８は天井
チャンバー３と作業ゾーン４の間に設置されたＨＥＰＡ
フィルタあるいはＵＬＰＡフィルタ等の天井フィルタ
で、天井チャンバー３のエアから数ミクロンレベルの塵
埃等の異物を除去して作業ゾーン４に供給する。９はケ
ミカルフィルタおよび送風ファンから構成されたファン
フィルタユニットで、搬送装置５および保管装置６が配
置された部分の上方にのみ天井フイルタ８に追加配置さ
れている。１０は作業ゾーン４床面のグレーチィング、
１１は作業ゾーン４のエアをユーティリティゾーン７に
設けられた循環ファン１２によりグレーチィング１０を
通して吸引し、ユーティリティゾーン７から天井チャン
バー３にエアを循環させる循環ダクト、１３は循環ダク
ト１１に設置された循環エアの温調装置である。
【００１５】搬送装置５は、天井走行方式を採用してお
り、半導体ウェハを収納したウェハキャリア１４は、走
行車輪１５を有した保持部１６に保持され、搬送路１７
内に設置された走行レール１８上をリニアモータ１９に
より駆動されて搬送される。２０は保持部１６の横揺れ
防止車輪、２１は走行車輪１５、走行レール１８、リニ
アモータ１９等が設置された駆動部２２を覆うカバー
で、ウェハキャリア１４の保持部１６と駆動部２２を小
さな隙間を介して分離している。２３は駆動部２２に設
置された排気ダクト、２４は天井走行方式の搬送装置５
の搬送路１７を天井に固定する吊り具である。保管装置
６は、ウェハキャリア１４を搬出入する開放部もしくは
開閉扉（図示せず）を有し、上面は開放もしくはパンチ
ィング板を用い、側面板２４はファンフィルタユニット
を通過したエアを効率良く得られる高さまで延長されて
いる。２５はパンチィング板を用いた棚板である。
り、半導体ウェハを収納したウェハキャリア１４は、走
行車輪１５を有した保持部１６に保持され、搬送路１７
内に設置された走行レール１８上をリニアモータ１９に
より駆動されて搬送される。２０は保持部１６の横揺れ
防止車輪、２１は走行車輪１５、走行レール１８、リニ
アモータ１９等が設置された駆動部２２を覆うカバー
で、ウェハキャリア１４の保持部１６と駆動部２２を小
さな隙間を介して分離している。２３は駆動部２２に設
置された排気ダクト、２４は天井走行方式の搬送装置５
の搬送路１７を天井に固定する吊り具である。保管装置
６は、ウェハキャリア１４を搬出入する開放部もしくは
開閉扉（図示せず）を有し、上面は開放もしくはパンチ
ィング板を用い、側面板２４はファンフィルタユニット
を通過したエアを効率良く得られる高さまで延長されて
いる。２５はパンチィング板を用いた棚板である。
【００１６】クリーンルーム１は、外気からの異物侵入
を防止するために、ドアの開閉や装置からの排気等によ
る気圧の低下を考慮し、常時クリーンルーム内の気圧を
検出し外調機２の送風ファンの回転数を変化させて、外
気よりも一定値陽圧状態になるよう圧力がコントロール
されている。また、作業ゾーン４は、天井フィルタ８に
より塵埃等の異物が除去されたクリーンエアが供給され
ると共に、作業ゾーン４内のエアは、ユーティリティゾ
ーン３に設けられた循環ファン１２によりグレーチィン
グ１０下に吸引排気されるため、作業ゾーン４内はダウ
ンフロとなっている。さらに、天井フィルタ８にケミカ
ルフィルタおよび送風ファンから構成されるファンフィ
ルタユニット９が追加配置された部分では、数ミクロン
レベルの異物が除去されると共に、ケミカル汚染の原因
となるケミカルミストが１ｐｐｔ〜１ｆの濃度に制御さ
れたクリーンなケミカルフリーエアが供給される。
を防止するために、ドアの開閉や装置からの排気等によ
る気圧の低下を考慮し、常時クリーンルーム内の気圧を
検出し外調機２の送風ファンの回転数を変化させて、外
気よりも一定値陽圧状態になるよう圧力がコントロール
されている。また、作業ゾーン４は、天井フィルタ８に
より塵埃等の異物が除去されたクリーンエアが供給され
ると共に、作業ゾーン４内のエアは、ユーティリティゾ
ーン３に設けられた循環ファン１２によりグレーチィン
グ１０下に吸引排気されるため、作業ゾーン４内はダウ
ンフロとなっている。さらに、天井フィルタ８にケミカ
ルフィルタおよび送風ファンから構成されるファンフィ
ルタユニット９が追加配置された部分では、数ミクロン
レベルの異物が除去されると共に、ケミカル汚染の原因
となるケミカルミストが１ｐｐｔ〜１ｆの濃度に制御さ
れたクリーンなケミカルフリーエアが供給される。
【００１７】天井方向方式の搬送装置５が配置された部
分の天井部にはファンフィルタユニット９が追加配置さ
れ、ファンフィルタユニット９を通過したクリーンなケ
ミカルフリーエアのみが搬送路１７に供給される。搬送
路１７内は、ケミカルミストを含有した作業ゾーン４内
のエアが混入するのを防止するために、作業ゾーン４の
他の領域よりも陽圧状態となるよう、ファンフィルタユ
ニット９から送り出されるエアの量が調整されている。
搬送路１７に供給されたエアは、駆動部２２を覆ってい
るカバー２１の隙間から駆動部２２に吹き出され、駆動
部２２で生じた異物と共に排気ダクト２３からグレーチ
ィング１０下のユーティリティゾーン７に排出される。
分の天井部にはファンフィルタユニット９が追加配置さ
れ、ファンフィルタユニット９を通過したクリーンなケ
ミカルフリーエアのみが搬送路１７に供給される。搬送
路１７内は、ケミカルミストを含有した作業ゾーン４内
のエアが混入するのを防止するために、作業ゾーン４の
他の領域よりも陽圧状態となるよう、ファンフィルタユ
ニット９から送り出されるエアの量が調整されている。
搬送路１７に供給されたエアは、駆動部２２を覆ってい
るカバー２１の隙間から駆動部２２に吹き出され、駆動
部２２で生じた異物と共に排気ダクト２３からグレーチ
ィング１０下のユーティリティゾーン７に排出される。
【００１８】また、保管装置６が配置された部分の天井
部にもファンフィルタユニット９が追加配置され、ファ
ンフィルタユニット９から供給されるクリーンなケミカ
ルフリーエアを効率良く得られる高さまで延長された側
面板２４により、保管装置６内はクリーンなケミカルフ
リーエアのみが供給される。保管装置６内は、ケミカル
ミストを含有した作業ゾーン４内のエアが混入するのを
防止するために、作業ゾーン４の他の領域よりも陽圧状
態となるよう、ファンフィルタユニット９から送り出さ
れるエアの量が調整されている。保管装置６に供給され
たエアは、パンチィング板を用いた棚板２５を通過して
ユーティリティゾーン３に設けられた循環ファン１２に
よりグレーチィング１０下に速やかに吸引排気される。
なお、外調機２から供給されるエアを、図１の点線で示
すように、天井チャンバー３の代わりにユーティリティ
ゾーン７に供給してもよい。
部にもファンフィルタユニット９が追加配置され、ファ
ンフィルタユニット９から供給されるクリーンなケミカ
ルフリーエアを効率良く得られる高さまで延長された側
面板２４により、保管装置６内はクリーンなケミカルフ
リーエアのみが供給される。保管装置６内は、ケミカル
ミストを含有した作業ゾーン４内のエアが混入するのを
防止するために、作業ゾーン４の他の領域よりも陽圧状
態となるよう、ファンフィルタユニット９から送り出さ
れるエアの量が調整されている。保管装置６に供給され
たエアは、パンチィング板を用いた棚板２５を通過して
ユーティリティゾーン３に設けられた循環ファン１２に
よりグレーチィング１０下に速やかに吸引排気される。
なお、外調機２から供給されるエアを、図１の点線で示
すように、天井チャンバー３の代わりにユーティリティ
ゾーン７に供給してもよい。
【００１９】この発明によれば、半導体ウェハの搬送装
置５および保管装置６には、ケミカルフィルタによりケ
ミカルミストが除去されたケミカルフリーエアが供給さ
れるため、半導体ウェハの搬送時および保管時のケミカ
ル汚染を防止できる。さらに、ケミカルフリーエアは、
半密閉構造を有した搬送装置５および保管装置６にのみ
供給されるよう構成されているため、空調設備のコスト
を押さえることができる。
置５および保管装置６には、ケミカルフィルタによりケ
ミカルミストが除去されたケミカルフリーエアが供給さ
れるため、半導体ウェハの搬送時および保管時のケミカ
ル汚染を防止できる。さらに、ケミカルフリーエアは、
半密閉構造を有した搬送装置５および保管装置６にのみ
供給されるよう構成されているため、空調設備のコスト
を押さえることができる。
【００２０】実施の形態２．実施の形態１では、天井フ
ィルタ８とケミカルフィルタと送風ファンから構成され
るファンフィルタユニット９を搬送装置５および保管装
置６の上方に設置して、搬送装置５および保管装置６に
ケミカルフリーエアを供給したが、図２に示すように、
搬送装置５および保管装置６を配置した部分の上方の天
井チャンバー３部に導風カバー２６を設け、導風カバー
２６の内側に、ケミカルフリーエアの生成装置２７によ
り、温湿度を制御すると共にケミカルミストを１ｐｐｔ
〜１ｆの濃度に制御したケミカルフリーエアを供給し、
これを天井フィルタ８を通して搬送装置５と保管装置６
に供給しても同様の効果が得られる。なお、導風カバー
２６に供給されるケミカルフリーエアの圧力は、クリー
ンルームに供給されるエアの圧力よりも大とする。ま
た、搬送装置５および保管装置６の構造は実施の形態１
に示したものと同じである。なお、ケミカルフリーエア
の生成装置２７の代わりに、図３に示すように、外調機
２から温湿度が制御されたエアを導入し、ケミカルミス
トを１ｐｐｔ〜１ｆの濃度に制御するケミカル除去装置
２７ａを用いてケミカルフリーエアを導風カバー２６内
に供給してもよい。
ィルタ８とケミカルフィルタと送風ファンから構成され
るファンフィルタユニット９を搬送装置５および保管装
置６の上方に設置して、搬送装置５および保管装置６に
ケミカルフリーエアを供給したが、図２に示すように、
搬送装置５および保管装置６を配置した部分の上方の天
井チャンバー３部に導風カバー２６を設け、導風カバー
２６の内側に、ケミカルフリーエアの生成装置２７によ
り、温湿度を制御すると共にケミカルミストを１ｐｐｔ
〜１ｆの濃度に制御したケミカルフリーエアを供給し、
これを天井フィルタ８を通して搬送装置５と保管装置６
に供給しても同様の効果が得られる。なお、導風カバー
２６に供給されるケミカルフリーエアの圧力は、クリー
ンルームに供給されるエアの圧力よりも大とする。ま
た、搬送装置５および保管装置６の構造は実施の形態１
に示したものと同じである。なお、ケミカルフリーエア
の生成装置２７の代わりに、図３に示すように、外調機
２から温湿度が制御されたエアを導入し、ケミカルミス
トを１ｐｐｔ〜１ｆの濃度に制御するケミカル除去装置
２７ａを用いてケミカルフリーエアを導風カバー２６内
に供給してもよい。
【００２１】実施の形態３．図４はこの発明の実施の形
態３を示すクリーンルーム、図５はクリーンルームに配
置された搬送装置の側面断面図、図６は製造装置との接
続部分の搬送装置の正面断面図である。図において、１
はクリーンルーム、２は外気を取り入れ温湿度を制御後
クリーンルーム１にエアを供給する外調機、３は天井チ
ャンバー、４は製造装置や密閉構造の搬送路２９を有す
る搬送装置５および保管装置６等が配置され作業が行わ
れる作業ゾーン、７は動力供給設備や環境保全設備等が
配置されると共に外調機２からエアが供給されるユーテ
ィリティゾーン、８は天井チャンバー３と作業ゾーン４
の間に設置されたＨＥＰＡフィルタあるいはＵＬＰＡフ
ィルタ等の天井フィルタで、天井チャンバー３のエアか
ら数ミクロンレベルの塵埃等の異物を除去して作業ゾー
ン４に供給する。１０は作業ゾーン４床面のグレーチィ
ング、１１は作業ゾーン４のエアをユーティリティゾー
ン７に設けられた循環ファン１２によりグレーチィング
１０を通して吸引し、ユーティリティゾーン７から天井
チャンバー３にエアを循環させる循環ダクト、１３は循
環ダクト１１に設置された循環エアの温調装置である。
２８は数ミクロンレベルの異物を除去すると共にケミカ
ルミストを１ｐｐｔ〜１ｆの濃度および水分濃度を１ｐ
ｐｂ以下に制御したケミカルフリードライエアを搬送装
置５および保管装置６に供給するケミカルフリードライ
エアの生成装置、２８ａはケミカルフリードライエアの
供給配管、３０は製造装置との接続部に搬送路２９から
突出させて形成された庇で、ケミカルフリードライエア
の吹き出し部を有する。３１は製造装置との接続部に設
けられた搬送路２９のゲートシャッターである。なお、
搬送装置５および保管装置６の内部の構成は図１に示す
ものと同様であるので説明を省略する。
態３を示すクリーンルーム、図５はクリーンルームに配
置された搬送装置の側面断面図、図６は製造装置との接
続部分の搬送装置の正面断面図である。図において、１
はクリーンルーム、２は外気を取り入れ温湿度を制御後
クリーンルーム１にエアを供給する外調機、３は天井チ
ャンバー、４は製造装置や密閉構造の搬送路２９を有す
る搬送装置５および保管装置６等が配置され作業が行わ
れる作業ゾーン、７は動力供給設備や環境保全設備等が
配置されると共に外調機２からエアが供給されるユーテ
ィリティゾーン、８は天井チャンバー３と作業ゾーン４
の間に設置されたＨＥＰＡフィルタあるいはＵＬＰＡフ
ィルタ等の天井フィルタで、天井チャンバー３のエアか
ら数ミクロンレベルの塵埃等の異物を除去して作業ゾー
ン４に供給する。１０は作業ゾーン４床面のグレーチィ
ング、１１は作業ゾーン４のエアをユーティリティゾー
ン７に設けられた循環ファン１２によりグレーチィング
１０を通して吸引し、ユーティリティゾーン７から天井
チャンバー３にエアを循環させる循環ダクト、１３は循
環ダクト１１に設置された循環エアの温調装置である。
２８は数ミクロンレベルの異物を除去すると共にケミカ
ルミストを１ｐｐｔ〜１ｆの濃度および水分濃度を１ｐ
ｐｂ以下に制御したケミカルフリードライエアを搬送装
置５および保管装置６に供給するケミカルフリードライ
エアの生成装置、２８ａはケミカルフリードライエアの
供給配管、３０は製造装置との接続部に搬送路２９から
突出させて形成された庇で、ケミカルフリードライエア
の吹き出し部を有する。３１は製造装置との接続部に設
けられた搬送路２９のゲートシャッターである。なお、
搬送装置５および保管装置６の内部の構成は図１に示す
ものと同様であるので説明を省略する。
【００２２】クリーンルーム１は、外気からの異物侵入
を防止するために、ドアの開閉や装置からの排気等によ
る気圧の低下を考慮し、常時クリーンルーム内の気圧を
検出し外調機２の送風ファンの回転数を変化させて、外
気よりも一定値陽圧状態になるよう圧力がコントロール
されている。また、搬送装置５および保管装置６からユ
ーティリティゾーン７に排気されるエアがドライエアで
あるため、外調機２から供給されるエアをユーティリテ
ィゾーンに導入して、ユーティリティゾーン７内のエア
の湿度を外調機２から供給されるエアの湿度をコントロ
ールすることにより制御し、循環ダクト１１を通して天
井チャンバー３に循環する。また、作業ゾーン４は、天
井フィルタ８により塵埃等の異物が除去されたクリーン
エアが供給されると共に、作業ゾーン４内のエアは、ユ
ーティリティゾーン７に設けられた循環ファン１２によ
りグレーチィング１０下に吸引排気されるため、作業ゾ
ーン４内はダウンフロとなっている。
を防止するために、ドアの開閉や装置からの排気等によ
る気圧の低下を考慮し、常時クリーンルーム内の気圧を
検出し外調機２の送風ファンの回転数を変化させて、外
気よりも一定値陽圧状態になるよう圧力がコントロール
されている。また、搬送装置５および保管装置６からユ
ーティリティゾーン７に排気されるエアがドライエアで
あるため、外調機２から供給されるエアをユーティリテ
ィゾーンに導入して、ユーティリティゾーン７内のエア
の湿度を外調機２から供給されるエアの湿度をコントロ
ールすることにより制御し、循環ダクト１１を通して天
井チャンバー３に循環する。また、作業ゾーン４は、天
井フィルタ８により塵埃等の異物が除去されたクリーン
エアが供給されると共に、作業ゾーン４内のエアは、ユ
ーティリティゾーン７に設けられた循環ファン１２によ
りグレーチィング１０下に吸引排気されるため、作業ゾ
ーン４内はダウンフロとなっている。
【００２３】トンネル構造を有する搬送路２９内には、
ケミカルフリードライエアの生成装置２８から供給配管
２８ａを介して送られたケミカルフリードライエアが供
給され、駆動部２２を覆っているカバー２１の隙間から
駆動部２２に吹き出され、駆動部２２で生じた異物と共
に排気ダクト２３からグレーチィング１０下のユーティ
リティゾーン７に速やかに吸引排気される。製造装置と
の接続部では、予め定められた工程に従いウェハキャリ
ア１４を検知することにより自動的にゲートシャッター
３１が開口すると共に庇３０部分からケミカルフリード
ライエアの生成装置２８から供給されたケミカルフリー
ドライエアが吹き出し、製造装置との接続部においてウ
ェハキャリアに収納された半導体ウェハがケミカル汚染
されるのを防止する。密閉構造を有する保管装置６に
は、ケミカルフリードライエアの生成装置２８から供給
配管２８ａを介して送られたケミカルフリードライエア
が供給され、パンティング板を用いた棚板２５の穴を通
って排気ダクト２３からグレーチィング１０下のユーテ
ィリティゾーン７に速やかに吸引排気される。
ケミカルフリードライエアの生成装置２８から供給配管
２８ａを介して送られたケミカルフリードライエアが供
給され、駆動部２２を覆っているカバー２１の隙間から
駆動部２２に吹き出され、駆動部２２で生じた異物と共
に排気ダクト２３からグレーチィング１０下のユーティ
リティゾーン７に速やかに吸引排気される。製造装置と
の接続部では、予め定められた工程に従いウェハキャリ
ア１４を検知することにより自動的にゲートシャッター
３１が開口すると共に庇３０部分からケミカルフリード
ライエアの生成装置２８から供給されたケミカルフリー
ドライエアが吹き出し、製造装置との接続部においてウ
ェハキャリアに収納された半導体ウェハがケミカル汚染
されるのを防止する。密閉構造を有する保管装置６に
は、ケミカルフリードライエアの生成装置２８から供給
配管２８ａを介して送られたケミカルフリードライエア
が供給され、パンティング板を用いた棚板２５の穴を通
って排気ダクト２３からグレーチィング１０下のユーテ
ィリティゾーン７に速やかに吸引排気される。
【００２４】本実施の形態によれば、半導体ウェハの搬
送装置５および保管装置６には、ケミカルミストおよび
水分が所定レベル以下に制御されたケミカルフリードラ
イエアが供給されるため、半導体ウェハの搬送時および
保管時のケミカル汚染および水分による半導体ウェハ上
の自然酸化膜形成を防止できる。さらに、ケミカルフリ
ードライエアは、密閉構造を有した搬送装置６および保
管装置６にのみ供給されるよう構成されているため、空
調設備のコストを押さえることができる。
送装置５および保管装置６には、ケミカルミストおよび
水分が所定レベル以下に制御されたケミカルフリードラ
イエアが供給されるため、半導体ウェハの搬送時および
保管時のケミカル汚染および水分による半導体ウェハ上
の自然酸化膜形成を防止できる。さらに、ケミカルフリ
ードライエアは、密閉構造を有した搬送装置６および保
管装置６にのみ供給されるよう構成されているため、空
調設備のコストを押さえることができる。
【００２５】実施の形態４．図７および図８はこの発明
の実施の形態４を示す搬送装置の正面断面図および側面
断面図である。図において、３２は搬送路２９の上部に
所定の間隔を開けて平行に設置された多数の小径の穴を
有する一対の整流板である。なお、その他の構成は実施
の形態３と同様であるので説明を省略する。本実施の形
態によれば、ケミカルフリードライエアの供給配管２８
ａを介して供給されたケミカルフリードライエアを一対
の整流板３２に形成された小径の穴を通して搬送路２９
内に供給することにより、ケミカルフリードライエアの
気流の方向を制御し、搬送路２９内に均一にケミカルフ
リードライエアを供給することができる。
の実施の形態４を示す搬送装置の正面断面図および側面
断面図である。図において、３２は搬送路２９の上部に
所定の間隔を開けて平行に設置された多数の小径の穴を
有する一対の整流板である。なお、その他の構成は実施
の形態３と同様であるので説明を省略する。本実施の形
態によれば、ケミカルフリードライエアの供給配管２８
ａを介して供給されたケミカルフリードライエアを一対
の整流板３２に形成された小径の穴を通して搬送路２９
内に供給することにより、ケミカルフリードライエアの
気流の方向を制御し、搬送路２９内に均一にケミカルフ
リードライエアを供給することができる。
【００２６】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、半導
体装置製造工程において、半導体ウェハの搬送時や保管
時のケミカル汚染を防止することにより、半導体装置の
品質および歩留まりを向上させることができると共に、
必要に応じた空調管理を部分的に行えるため、空調設備
のコストを抑制できる。
体装置製造工程において、半導体ウェハの搬送時や保管
時のケミカル汚染を防止することにより、半導体装置の
品質および歩留まりを向上させることができると共に、
必要に応じた空調管理を部分的に行えるため、空調設備
のコストを抑制できる。
【図１】 この発明の実施の形態１によるクリーンルー
ムを示す模式図である。
ムを示す模式図である。
【図２】 この発明の実施の形態２によるクリーンルー
ムを示す模式図である。
ムを示す模式図である。
【図３】 この発明の実施の形態２によるクリーンルー
ムを示す模式図である。
ムを示す模式図である。
【図４】 この発明の実施の形態３によるクリーンルー
ムを示す模式図である。
ムを示す模式図である。
【図５】 この発明の実施の形態３によるクリーンルー
ムの搬送装置を示す側面断面図である。
ムの搬送装置を示す側面断面図である。
【図６】 この発明の実施の形態３によるクリーンルー
ムの搬送装置を示す正面断面図である。
ムの搬送装置を示す正面断面図である。
【図７】 この発明の実施の形態４によるクリーンルー
ムの搬送装置を示す正面断面図である。
ムの搬送装置を示す正面断面図である。
【図８】 この発明の実施の形態４によるクリーンルー
ムの搬送装置を示す側面断面図である。
ムの搬送装置を示す側面断面図である。
【図９】 従来のこの種クリーンルームを示す模式図で
ある。
ある。
【図１０】 従来の他のクリーンルームを示す模式図で
ある。
ある。
１ クリーンルーム、２ 外調機、３ 天井チャンバ
ー、４ 作業ゾーン、５ 搬送装置、６ 保管装置、７
ユーティリティゾーン、８ 天井フィルタ、９ ファ
ンフィルタユニット、１０ グレーチィング、１１ 循
環ダクト、１２ 循環ファン、１３ 温調装置、１４
ウェハキャリア、１５ 走行車輪、１６ 保持部、１７
搬送路、１８ 走行レール、１９ リニアモータ、２
０ 横揺れ防止車輪、２１ カバー、２２ 駆動部、２
３ 排気ダクト、２４ 吊り具、２５ 側面板、２５
棚板、２６ 導風カバー、２７ ケミカルフリーエアの
生成装置、２７ａ ケミカルミスト除去装置、２８ ケ
ミカルフリードライエアの生成装置、２８ａ 配管、２
９ 搬送路、３０ 庇、３１ ゲートシャッター、３２
整流板。
ー、４ 作業ゾーン、５ 搬送装置、６ 保管装置、７
ユーティリティゾーン、８ 天井フィルタ、９ ファ
ンフィルタユニット、１０ グレーチィング、１１ 循
環ダクト、１２ 循環ファン、１３ 温調装置、１４
ウェハキャリア、１５ 走行車輪、１６ 保持部、１７
搬送路、１８ 走行レール、１９ リニアモータ、２
０ 横揺れ防止車輪、２１ カバー、２２ 駆動部、２
３ 排気ダクト、２４ 吊り具、２５ 側面板、２５
棚板、２６ 導風カバー、２７ ケミカルフリーエアの
生成装置、２７ａ ケミカルミスト除去装置、２８ ケ
ミカルフリードライエアの生成装置、２８ａ 配管、２
９ 搬送路、３０ 庇、３１ ゲートシャッター、３２
整流板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江崎 浩治 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内
Claims (15)
- 【請求項１】 外気の温湿度を制御すると共に、第一の
除塵レベルに管理した第一の清浄度のエアを、外気より
クリーンルーム内が陽圧状態になるよう供給する外調機
と、 上記第一の清浄度のエアが上記外調機により供給される
天井チャンバーと、 上記天井チャンバーの上記第一の清浄度のエアを第二の
除塵レベルの第二の清浄度のエアに清浄化する天井フィ
ルタと、 上記天井フィルタの上流側に配置され、エア中の所定の
化学物質を所定の含有レベルまで除去するファンフィル
タユニットと、 上記天井フィルタにより第二の清浄度に管理されたエア
が供給されると共に、所定領域には上記ファンフィルタ
ユニットにより第二の除塵レベルの第三の清浄度に管理
されたケミカルフリーエアが供給される作業ゾーンと、
上記作業ゾーンのグレーチィング床下に位置し、動力供
給設備や環境保全設備等が配置されたユーティリティゾ
ーンと、 上記作業ゾーンから上記ユーティリティゾーンに排気さ
れるエアの温度を調整し、ダクトを通して上記ユーティ
リティゾーンから上記天井チャンバーにエアを循環させ
る空気循環設備を備えたことを特徴とするクリーンルー
ム。 - 【請求項２】 外気の温湿度を制御すると共に、第一の
除塵レベルに管理した第一の清浄度のエアを、外気より
クリーンルーム内が陽圧状態になるよう供給する外調機
と、 外気の温湿度を制御すると共に、第一の除塵レベルに管
理し、エア中の所定の化学物質を所定の含有レベルまで
除去した第四の清浄度のケミカルフリーエアを生成する
ケミカルフリーエアの生成装置と、 上記第一の清浄度のエアが上記外調機により供給される
天井チャンバーと、 上記天井チャンバー内の所定領域に配置され、上記ケミ
カルフリーエアの生成装置から第四の清浄度のケミカル
フリーエアが供給される導風カバーと、 上記天井チャンバーの上記第一の清浄度のエアを第二の
除塵レベルの第二の清浄度のエアに清浄化する第一の天
井フィルタ、および上記第四の清浄度のケミカルフリー
エアを第二の除塵レベルの第三の清浄度のケミカルフリ
ーエアに清浄化する第二の天井フィルタと、 上記第一の天井フィルタにより第二の清浄度に管理され
たエアが供給されると共に、所定領域には上記導風カバ
ー内に供給されたケミカルフリーエアが第二の天井フィ
ルタにより第三の清浄度のケミカルフリーエアに清浄化
され供給される作業ゾーンと、上記作業ゾーンのグレー
チィング床下に位置し、動力供給設備や環境保全設備等
が配置されたユーティリティゾーンと、 上記作業ゾーンからユーティリティゾーンに排気される
エアの温度を調整し、ダクトを通して上記ユーティリテ
ィゾーンから上記天井チャンバーにエアを循環させる空
気循環設備を備えたことを特徴とするクリーンルーム。 - 【請求項３】 ケミカルフリーエアの生成装置は、外調
機から第一の清浄度のエアが供給され、上記第一の清浄
度のエアから所定の化学物質を所定の含有レベルまで除
去するケミカル除去装置であることを特徴とする請求項
２記載のクリーンルーム。 - 【請求項４】 第一の清浄度のエアは、外調機からユー
ティリティゾーンに供給されることを特徴とする請求項
１〜３のいずれか一項記載のクリーンルーム。 - 【請求項５】 作業ゾーンの所定領域のエア圧力は、作
業ゾーンの他の領域のエア圧力より陽圧状態となるよう
調整されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれ
か一項記載のクリーンルーム。 - 【請求項６】 作業ゾーンの所定領域は、導入された第
三の清浄度のケミカルフリーエアが内部を通過して外部
へ排出される開口部を有した搬送装置および保管装置の
設置部であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか
一項記載のクリーンルーム。 - 【請求項７】 搬送装置は、作業ゾーンの天井に吊り下
げられた天井走行方式の搬送装置で、被搬送体を保持す
る保持部と、駆動装置等が配置された駆動部と、上記保
持部と上記駆動部を隙間を介して仕切るカバーと、上記
駆動部に設けられた排気ダクトを備え、天井フィルタ部
を通して供給されるエアを、上記保持部から上記カバー
の隙間を通して上記駆動部の排気ダクトからユーティリ
ティゾーンに排気するよう構成されていることを特徴と
する請求項６記載のクリーンルーム。 - 【請求項８】 保管装置は、作業ゾーンのグレーチィン
グ上に配置された半密閉構造を有する保管装置で、天井
フィルタ部を通して供給されるエアを効率良く得るため
に上記天井フィルタ部の方向へ延長した側面と、複数の
小径の穴を有した棚板を備え、上記天井フィルタ部を通
して供給されたエアを上記棚板の穴を介してグレーチィ
ング下に排気するよう構成されていることを特徴とする
請求項６記載のクリーンルーム。 - 【請求項９】 外気の温湿度を制御すると共に、第一の
除塵レベルに管理した第一の清浄度のエアを、外気より
クリーンルーム内が陽圧状態になるよう供給する外調機
と、 外気の温湿度を制御すると共に、第二の除塵レベルに管
理し、エア中の所定の化学物質および水分を所定の含有
レベルまで除去した第５の清浄度のケミカルフリードラ
イエアを生成するケミカルフリードライエアの生成装置
と、 上記ケミカルフリードライエアの生成装置からドライエ
アが供給される密閉構造を有した搬送装置および保管装
置等が配置された作業ゾーンと、 上記作業ゾーンのグレーチィング床下に位置し、動力供
給設備や環境保全設備等が配置され、上記作業ゾーンお
よび上記搬送装置や保管装置等の排出口からエアが排気
されると共に上記外調機からエアが供給されるユーティ
リティゾーンと、 上記ユーティリティゾーンのエアの温度を調整しダクト
を通して天井チャンバーに循環させる空気循環設備と、 上記天井チャンバー内に配置され、導入された第一の清
浄度のエアを第二の清浄度のエアに清浄化して上記作業
ゾーンに供給する天井フィルタを備えたことを特徴とす
るクリーンルーム。 - 【請求項１０】 搬送装置は、密閉構造の搬送路と、上
記搬送路の天井部に設けられたケミカルフリードライエ
アの生成装置から供給されるドライエアの供給部と、上
記搬送路内の上部に設けられた被搬送体を保持する保持
部と、下部に設けられ駆動装置等が配置された駆動部
と、上記保持部と上記駆動部を隙間を有して仕切るカバ
ーと、上記駆動部に設けられた排気ダクトを備え、上記
搬送路の天井部に配管を介して供給されたドライエア
は、上記保持部から上記カバーの隙間を通って上記駆動
部の排気ダクトからユーティリティゾーンに排気される
よう構成されていることを特徴とする請求項９記載のク
リーンルーム。 - 【請求項１１】 搬送路には、天井部に供給されたドラ
イエアを上記搬送路内に均一に供給するために所定の間
隔を開けて平行に設置された多数の小径の穴を有する整
流板が設置されていることを特徴とする請求項１０記載
のクリーンルーム。 - 【請求項１２】 搬送装置は、他の装置との接続部に、
被搬送体の認識装置と、開閉自在なシャッターが設置さ
れた開口部と、ケミカルフリードライエアの生成装置か
ら供給されるドライエアの吹き出し部を有する上記開口
部上に搬送路壁から突出形成された庇部を備えているこ
とを特徴とする請求項１０または１１記載のクリーンル
ーム。 - 【請求項１３】 保管装置は、密閉構造の保管庫と、上
記保管庫の天井部に設けられたケミカルフリードライエ
アの生成装置から供給されるドライエアの供給部と、複
数の小径の穴を有した棚板と、底部に設けられた排気ダ
クトを備え、上記保管庫の天井部に配管を介して供給さ
れたドライエアは、上記棚板の穴を通って上記排気ダク
トからユーティリティゾーンに排気されるよう構成され
ていることを特徴とする請求項９記載のクリーンルー
ム。 - 【請求項１４】 第三および第四の清浄度のケミカルフ
リーエアは、所定の化学物質の所定含有レベルが１ｐｐ
ｔ〜１ｆの範囲であることを特徴とする請求項１〜１３
のいずれか一項記載のクリーンルーム。 - 【請求項１５】 第５の清浄度のケミカルフリードライ
エアは、所定の化学物質の所定含有レベルが１ｐｐｔ〜
１ｆの範囲で、水分の含有レベルが１ｐｐｂ以下である
ことを特徴とする請求項９〜１３のいずれか一項記載の
クリーンルーム。
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