DE19720663A1 - Reinraum - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf einen Reinraum zur Her­ stellung einer Halbleitervorrichtung oder dergleichen, in dem eine lokale Reinigung durchgeführt werden kann.

Halbleitervorrichtungen werden üblicherweise in einem Reinraum bzw. Reinstraum hergestellt, in dem die Temperatur und die Feuchtigkeit gesteuert werden und in dem Fremd­ stoffe bis auf einen Wert von wenigen Mikrometern normaler­ weise entfernt werden, um eine Verschlechterung der Pro­ duktausbeute aufgrund der von der Umgebung des Reinraumes hervorgerufenen Verunreinigung zu verhindern.

Die Fig. 9 zeigt eine Darstellung eines herkömmlichen Reinraumes. Gemäß Fig. 9 besitzt ein Reinraum 1 eine außen­ seitige Klimaanlage 2 bzw. Luftaufbereitungsvorrichtung zum Zuführen von Außenluft, wobei die Temperatur und die Feuch­ tigkeit der Außenluft gesteuert wird und anschließend die Luft dem Reinraum 1 zugeführt wird. Der Reinraum 1 besitzt eine Deckenkammer 3 der von der außenseitigen Klimaanlage 2 die Luft zugeführt wird, eine Arbeitszone 4, in der die Herstellungsgeräte angeordnet sind und die Arbeiten durch­ geführt werden, und eine Vielzweckzone 7, in der die An­ triebsausrüstung und die Ausrüstung zur Instandhaltung der Umgebungsbedingungen angeordnet sind. Ein Deckenfilter 8, wie beispielsweise ein HEPA (High Efficiency Particulate Air)-Filter oder ein ULPA (Ultra Low Penetration Air)-Fil­ ter zum Entfernen von Fremdstoffen wie beispielsweise Staub einer Größe von einigen Mikrometern aus der Luft der Deckenkammer 3, ist zwischen der Deckenkammer 3 und der Ar­ beitszone 4 angeordnet, wobei die Arbeitszone 4 die Viel­ zweckzone 7 über ein Gitter 10 am Boden berührt, und eine Zirkulationsführung bzw. -rohr 11 in der Vielzweckzone 7 angeordnet ist, die bzw. das die Luft von der Arbeitszone 4 über das Gitter 10 entnimmt und die Luft von der Vielzweck­ zone 7 zur Deckenkammer 3 zurückführt bzw. zirkulieren läßt. Darüber hinaus wird der Reinraum 1 bei einem gegen­ über dem Außendruck höheren Druck gehalten, um das Eindrin­ gen von Fremdstoffen in den Reinraum 1 von der Außenluft zu verhindern. Da sich jedoch der Luftdruck im Reinraum 1 auf­ grund des Öffnens oder Schließens einer Tür oder einem aus­ gestoßenen Gas eines Geräts ständig verringert, wird der Luftdruck derart gesteuert, daß er bei einem konstanten Wert gehalten wird, der größer ist als der Außenluftdruck, wobei der Luftdruck im Reinraum 1 gleichmäßig erfaßt wird und die Drehgeschwindigkeit des Abzug-Gebläses der außen­ seitigen Klimaanlage 2 entsprechend verändert wird.

Da sich aufgrund des Anstiegs des Integrationsgrades von Halbleitervorrichtungen die Muster bzw. Strukturen wei­ ter verfeinern und die Schichtdicken weiter verringert wer­ den, stellt die chemische Verunreinigung aufgrund von che­ mischem Nebel im Submicronbereich oder aufgrund von organi­ sche und inorganische Substanzen enthaltenden Gasen, die in der Luft eines Reinraums enthalten sind, in dem eine Halb­ leitervorrichtung hergestellt wird, ein Problem dar. Insbe­ sondere stellt beim Herstellungsverfahren für eine Halblei­ tervorrichtung die chemische Verunreinigung eines Halblei­ ter-Wafers ein Problem dar, wenn der Wafer zwischen Teilen der Fertigungsausrüstung befördert bzw. transportiert wird oder in einem Teil der Herstellungsanlage bzw. Fertigungs­ straße gespeichert bzw. gelagert wird. Dies liegt daran, da jeder Teil der Herstellungsanlage die Reinraumbedingungen in dem Teil der Anlage entweder durch direktes Abgeben ei­ nes inaktiven Gases wie beispielsweise Stickstoff oder mit verschiedenen eingebauten Filtern und Gebläsen verbessert. Der die chemische Verunreinigung verursachende chemische Nebel bzw. Dunst besteht aus einem Sulfid-Gas bzw. auf Sul­ fid basierenden Gas und einem Säure-Gas bzw. auf einer Säure basierenden Gas, das in der angesaugten Außenluft, einem von Chemikalien verdampften Gas, die für die Herstel­ lungsanlage in einem Reinraum verwendet wird, und einem von den festen Wänden des Reinraums oder dem Anstrich der Her­ stellungsausrüstung verdampften bzw. abgegebenen Gas ent­ halten ist. Diese Gase erzeugen die nachfolgend beschriebe­ nen nachteiligen Einflüsse auf eine Halbleitervorrichtung.

• 1. Sie erzeugen eine Korrosion eines Metalls oder der­ gleichen, das für eine Halbleitervorrichtung verwendet wird, und beeinträchtigen die Zuverlässigkeit der Halblei­ tervorrichtung. Insbesondere bei Verwendung einer Alumini­ umverdrahtung wird der Verdrahtungswiderstand vergrößert oder die Verdrahtung unterbrochen, wodurch sich die Transi­ storeigenschaften ändern oder die Transistorfunktionen ver­ schlechtert werden.
• 2. Im Falle einer Schichtausbildung mittels eines CVD-Verfahrens wird aufgrund der Verunreinigung der Schicht­ oberfläche eine Schicht bzw. ein Film abnormal abgeschie­ den, weshalb sehr leicht ein abnormales Muster ausgebildet wird.
• 3. Ein auf Fluor basierendes Gas ändert die Eigenschaf­ ten der Oberflächenzustände, wodurch Natriumionen wuchern und eine Oxidschicht oxidieren, weshalb sich eine abnormale Oxidschicht ergibt und sich die Transistoreigenschaften bzw. -kennlinien ändern.

Die Fig. 10 zeigt einen Fall, bei dem chemische Filter 33a, 33b und 33c angeordnet sind, die den chemischen Nebel bzw. Dunst aus dem Zirkulationssystem des Reinraums 1 ent­ fernen können. Ein chemischer Filter 33a befindet sich un­ ter dem Gitter 10, ein weiterer chemischer Filter 33b liegt in der Zirkulationsführung 11 zum Zirkulieren der Luft von der Vielzweckzone 7 zur Deckenkammer 3 und der chemische Filter 33c wird dem Deckenfilter 8 hinzugefügt. Durch An­ ordnen von zumindest einem der chemischen Filter 33a, 33b und 33c im Reinraum 1 wird der chemische Nebel bzw. Dunst aus der Arbeitszone 4 entfernt.

Ein herkömmlicher Reinraum ist wie vorstehend beschrie­ ben aufgebaut. Beim Herstellungsverfahren einer Halbleiter­ vorrichtung stellt jedoch die chemische Verunreinigung ei­ nes Halbleiterwafers, wenn der Wafer zwischen Teilen der Herstellungsanlage transportiert oder gelagert wird, ein besonderes Problem dar. Ein HEPA-Filter oder ULPA-Filter kann jedoch den in der Luft enthaltenen chemischen Nebel, wie beispielsweise ein von einer chemischen Substanz er­ zeugtes Gas, nicht beseitigen. Andererseits besitzt das Sy­ stem bei dem die chemischen Filter 33a bis 33c den in der Luft des Zirkulationssystems des Reinraums 1 befindlichen chemischen Nebel entfernen können und die gesamte Luft im Reinraum 1 durch die chemischen Filter 33a bis 33c hin­ durchtritt, um den chemischen Nebel aus der gesamten Ar­ beitszone 4 des Reinraums 1 zu entfernen, ein Problem da­ hingehend, daß sich die Anschaffungs- und Betriebskosten einer Klimaanlage vergrößern.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde die vor­ stehend beschriebenen Probleme zu lösen und einen Reinraum zu schaffen, bei dem eine chemische Verunreinigung eines Halbleiterwafers verhindert wird, wenn der Wafer im Halb­ leitervorrichtungs-Herstellungsverfahren transportiert oder gelagert wird, und bei dem ferner entsprechend der Notwen­ digkeit eine lokale Luftaufbereitung durchgeführt wird.

Erfindungsgemäß besteht der Reinraum aus einer außen­ seitigen Luftaufbereitungsvorrichtung, die Außenluft auf­ nimmt und die Temperatur und Feuchtigkeit der Außenluft steuert und Luft vom ersten Reinheitsgrad, die auf einen ersten staubfreien Wert gebracht wird, dem Reinraum derart zuführt, daß der Innenraum des Reinraums bei einem gegen­ über dem Außenluftdruck größeren Luftdruck gehalten wird; einer Deckenkammer, der die Luft vom ersten Reinheitsgrad von der außenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung zuge­ führt wird; einem Deckenfilter zum Reinigen der Luft vom ersten Reinheitsgrad in der Deckenkammer auf eine Luft vom zweiten Reinheitsgrad mit einem zweiten staubfreien Wert; einer Gebläsefiltereinheit, die an der Stromaufwärtsseite des Deckenfilters angeordnet ist und eine vorbestimmte che­ mische Substanz der Luft bis auf einen vorbestimmten In­ haltswert verringert; einer Arbeitszone, der die Luft vom zweiten Reinheitsgrad über den Deckenfilter zugeführt wird und in der die von chemischen Stoffen befreite und auf ei­ nen dritten Reinheitsgrad bei einem zweiten staubfreien Wert mittels der Gebläsefiltereinheit gebracht wurde einem vorbestimmten Bereich zugeführt wird; einer Vielzweckzone, die sich unterhalb dem Gitterboden der Arbeitszone befindet und in dem die Antriebsausrüstung und die Ausrüstung zur Instandhaltung der Umgebungsbedingungen angeordnet sind; und einem Luftzirkulationssystem zum Steuern der Lufttempe­ ratur der von der Arbeitszone in die Vielzweckzone ausge­ stoßenen Luft und zum Zirkulieren der Luft von der Viel­ zweckzone über eine Durchführung zur Deckenkammer.

Ferner besteht der erfindungsgemäße Reinraum aus einer außenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung, die eine Außenluft aufnimmt und die Temperatur und Feuchtigkeit der Au­ ßenluft steuert, wobei eine Luft vom ersten Reinheitsgrad, die auf einen ersten staubfreien Wert gebracht wird dem Reinraum derart zugeführt wird, daß der Innenraum des Rein­ raums bei einem gegenüber dem Außenluftdruck größeren Luft­ druck gehalten wird; einem Generator zum Aufnehmen von Au­ ßenluft und Steuern der Temperatur und Feuchtigkeit der Au­ ßenluft, sowie zum Erzeugen einer von chemischen Stoffen befreiten Luft vom vierten Reinheitsgrad, die auf einen er­ sten staubfreien Wert gebracht wird, und aus der bis auf einen vorbestimmten Inhaltswert ein vorbestimmter chemi­ scher Stoff entfernt wird; einer Deckenkammer, der die Luft vom ersten Reinheitsgrad mittels der außenseitigen Luftauf­ bereitungsvorrichtung zugeführt wird; einer Luftführungsab­ deckung, die sich in einem vorbestimmten Bereich der Deckenkammer befindet und der von chemischen Stoffen be­ freite Luft vom vierten Reinheitsgrad vom Generator zuge­ führt wird; einem ersten Deckenfilter, zum Reinigen der Luft vom ersten Reinheitsgrad in der Deckenkammer zu einer Luft vom zweiten Reinheitsgrad mit einem zweiten staub­ freien Wert und einem zweiten Deckenfilter zum Reinigen der von chemischen Stoffen befreiten Luft vom vierten Rein­ heitsgrad zu einer Luft vom dritten Reinheitsgrad mit einem dritten staubfreien Wert; einer Arbeitszone, der die vom ersten Deckenfilter auf den zweiten Reinheitsgrad gebrachte Luft zugeführt wird und in der die in die Luftführungsab­ deckung zugeführte von chemischen Stoffen befreite Luft auf eine von chemischen Stoffen befreite Luft vom dritten Rein­ heitsgrad mittels dem zweiten Deckenfilter gereinigt wird und einem vorbestimmten Bereich zugeführt wird; einer Vielzweckzone, die sich unter dem Gitterboden der Arbeits­ zone befindet und in der die Antriebsausrüstung und die Ausrüstung zur Instandhaltung der Umgebungsbedingungen an­ geordnet sind; und einem Luftzirkulationssystem, die die Temperatur der von der Arbeitszone in die Vielzweckzone ausgestoßenen Luft steuert und die Luft von der Vielzweck­ zone über eine Durchführung zur Deckenkammer zirkuliert.

Ferner besteht der Generator zum Erzeugen von chemie­ freier Luft aus einer Vorrichtung zum Entfernen von chemi­ schen Stoffen, der Luft vom ersten Reinheitsgrad von einer außenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung zugeführt wird, um einen vorbestimmten chemischen Stoff aus der Luft vom ersten Reinheitsgrad bis auf einen vorbestimmten Inhalts­ wert zu entfernen.

Ferner wird die Luft vom ersten Reinheitsgrad der Vielzweckzone von der außenseitigen Luftaufbereitungsvor­ richtung zugeführt.

Darüber hinaus wird der Luftdruck in einem vorbestimm­ ten Bereich in der Arbeitszone derart gesteuert, daß er auf einem höheren Wert gehalten wird als der Luftdruck in dem anderen Bereich der Arbeitszone.

Ferner dient ein vorbestimmter Bereich in der Arbeits­ zone als Abschnitt, in dem eine jeweilige Beförderungsvor­ richtung und eine Lagervorrichtung eine Öffnung aufweisen, durch die die von chemischen Stoffen befreite und einge­ führte Luft vom dritten Reinheitsgrad nach außen ausgesto­ ßen wird.

Darüber hinaus besteht die Beförderungsvorrichtung aus einer Hänge-Beförderungsvorrichtung, die von der Decke der Arbeitszone herabhängt; mit einem Halteabschnitt zum Halten eines beförderten Objekts, einem Antriebsabschnitt, in dem ein Antrieb und dergleichen angeordnet ist, einer Abdeckung zum Trennen des Halteabschnitts vom Antriebsabschnitt über einen Spalt, und einem Ausstoßrohr das im Antriebsabschnitt vorgesehen ist; und derart aufgebaut ist, daß die über den Deckenfilterabschnitt der Vielzweckzone zugeführte Luft vom Ausstoßrohr des Antriebsabschnitts durch den Spalt der Ab­ deckung des Halteabschnitts ausgestoßen wird.

Ferner stellt die Lagervorrichtung eine Vorrichtung dar, die einen halb-hermetischen Aufbau aufweist und auf dem Gitter der Arbeitszone angeordnet ist; eine Seitenwand aufweist, die sich in der Richtung des Deckenfilterab­ schnitts derart erstreckt, daß man eine wirkungsvolle Zu­ fuhr der Luft durch den Deckenfilterabschnitt erhält und einem Regalbrett mit einer Vielzahl von Löchern mit kleinem Durchmesser; und derart aufgebaut ist, daß die über den Deckenfilterabschnitt zugeführte Luft durch die Löcher des Regalbretts unter das Gitter ausgestoßen wird.

Ferner besteht der Reinraum aus einer außenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung, die Außenluft aufnimmt und die Temperatur und Feuchtigkeit der Außenluft steuert sowie eine auf einen ersten staubfreien Wert gebrachte Luft vom ersten Reinheitsgrad dem Reinraum derart zuführt, daß der Innenraum des Reinraums auf einem größeren Druck gehalten wird als der Außenluftdruck; einem Generator zum Aufnehmen der Außenluft und zum Erzeugen der von chemischen Stoffen befreiten trockenen Luft vom fünften Reinheitsgrad, deren Temperatur und Feuchtigkeit gesteuert ist und auf einen zweiten staubfreien Wert gebracht wird, wobei ein vorbe­ stimmter chemischer Stoff und eine Feuchtigkeit aus der Luft bis zu vorbestimmten Inhaltswerten entfernt wird; ei­ ner Arbeitszone, in der eine Beförderungsvorrichtung und eine Lagervorrichtung mit einem jeweiligen hermetischen Aufbau derart angeordnet sind, daß ihnen der Generator die von chemischen Stoffen befreite trockene Luft zuführt; ei­ ner Vielzweckzone, die sich unterhalb des Gitterbodens der Arbeitszone befindet, in der sich die Antriebsausrüstung und die Ausrüstung zur Instandhaltung der Umgebungsbedin­ gungen angeordnet sind und der von der Arbeitszone und von den Ausstoßrohren der Beförderungsvorrichtung und der La­ gervorrichtung die Luft zugeführt wird und zusätzliche Luft von der außenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung zuge­ führt wird; einem Luftzirkulationssystem zum Steuern der Temperatur der Luft in der Vielzweckzone und zum Zirkulie­ ren der Luft über eine Durchführung zur Deckenkammer; und einem Deckenfilter, der sich in der Deckenkammer zum Reini­ gen der eingeführten Luft vom ersten Reinheitsgrad zu einer Luft vom zweiten Reinheitsgrad reinigt und die Luft vom zweiten Reinheitsgrad der Arbeitszone zuführt.

Ferner besitzt die Beförderungsvorrichtung einen Beför­ derungsweg mit einem hermetischen Aufbau, einen Zuführab­ schnitt zum Zuführen der trockenen Luft vom Generator für den Deckenabschnitt des Beförderungswegs, einen Halteab­ schnitt, der im oberen Beförderungsweg das zu tragende Ob­ jekt hält, einen Antriebsabschnitt, der am Boden des Beför­ derungswegs vorgesehen ist und in dem sich ein Antrieb be­ findet, eine Abdeckung zum Trennen des Halteabschnitts vom Antriebsabschnitt mittels eines Spalts, und ein Ausstoß­ rohr, das im Antriebsabschnitt vorgesehen und derart aufge­ baut ist, daß die vom Deckenabschnitt des Beförderungswegs über ein Rohr zugeführte trockene Luft am Ausstoßrohr des Antriebsabschnitts zur Vielzweckzone über den Spalt der Ab­ deckung ausgestoßen wird.

Darüber hinaus ist der Beförderungsweg mit Strömungs­ platten ausgestattet, die eine Vielzahl von Löchern mit kleinem Durchmesser aufweisen und die in einem vorbestimm­ ten Abstand parallel angeordnet sind, um die einem Decken­ abschnitt zugeführte trockene Luft gleichmäßig dem Beförde­ rungsweg zuzuführen.

Ferner besitzt die Beförderungsvorrichtung einen Detek­ tor für ein zu beförderndes Objekt, eine Öffnung, an der sich ein zu öffnender Verschluß befindet, und einen Schirm­ abschnitt, der derart ausgebildet ist, daß er von der Wand des Beförderungsweges an der Öffnung hervorragt und einen Abschnitt besitzt, der die vom Generator zugeführte von chemischen Stoffen befreite trockene Luft zuführt.

Ferner besteht die Lagervorrichtung aus einem Auffang­ behälter mit einem hermetischen Aufbau, einem Abschnitt zum Zuführen der vom Generator zugeführten von chemischen Stof­ fen befreiten trockenen Luft am Deckenabschnitt des Auf­ fangbehälters, einem Regalbrett mit einer Vielzahl von Lö­ chern mit kleinem Durchmesser, und einem Ausstoßrohr, das sich am Boden des Auffangbehälters befindet und derart auf­ gebaut ist, daß die vom Deckenabschnitt des Auffangbehäl­ ters über ein Rohr zugeführte trockene Luft über die Löcher der Regalbretter in die Vielzweckzone ausgestoßen wird.

Ferner werden die vorbestimmten Inhaltswerte der vorbe­ stimmten chemischen Stoffe der von chemischen Stoffen be­ freiten Luft vom dritten und vierten Reinheitsgrad in einem Bereich zwischen 1 ppt und 1 f gehalten.

Darüber hinaus werden die vorbestimmten Inhaltswerte eines vorbestimmten chemischen Stoffes der von chemischen Stoffen befreiten trockenen Luft vom fünften Reinheitsgrad in einem Bereich von 1 ppt und 1 f gehalten und die Feuch­ tigkeit der trockenen Luft bei 1 ppb oder darunter gehal­ ten.

Ferner ist die zu höheren Reinheitsgraden gereinigte Luft eine Luft, die durch einen Hochleistungsfilter eines Deckenfilterabschnitts und einer Gebläsefiltereinheit hin­ durchströmt.

Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungs­ beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher be­ schrieben.

Es zeigen:

Fig. 1 eine schematische Ansicht, die den Reinraum ge­ mäß einem ersten erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiel dar­ stellt;

Fig. 2 eine schematische Ansicht, die den Reinraum ge­ mäß einem zweiten erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiel darstellt;

Fig. 3 eine schematische Ansicht, die den Reinraum ge­ mäß dem zweiten erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiel dar­ stellt;

Fig. 4 eine schematische Ansicht, die den Reinraum ge­ mäß einem dritten erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiel darstellt;

Fig. 5 eine Seitenschnittansicht, die die Beförderungs­ vorrichtung des Reinraums gemäß dem dritten erfindungsgemä­ ßen Ausführungsbeispiels darstellt;

Fig. 6 eine vordere Schnittansicht, die die Beförde­ rungsvorrichtung des Reinraums gemäß dem dritten erfin­ dungsgemäßen Ausführungsbeispiel darstellt;

Fig. 7 eine vordere Schnittansicht, die die Beförde­ rungsvorrichtung des Reinraums gemäß dem vierten erfin­ dungsgemäßen Ausführungsbeispiel darstellt;

Fig. 8 eine seitliche Schnittansicht, die die Beförde­ rungsvorrichtung des Reinraums gemäß dem vierten erfin­ dungsgemäßen Ausführungsbeispiel darstellt;

Fig. 9 eine schematische Ansicht, die einen herkömmli­ chen Reinraum darstellt; und

Fig. 10 eine schematische Ansicht, die einen weiteren herkömmlichen Reinraum darstellt.

Ausführungsbeispiel 1

Die Fig. 1 zeigt eine schematische Ansicht eines erfin­ dungsgemäßen Reinraums.

Gemäß Fig. 1 besitzt der Reinraum 1 eine außenseitige Klimaanlage bzw. Luftaufbereitungsvorrichtung 2 zum Aufneh­ men von Außenluft, wobei die Temperatur und Feuchtigkeit der Außenluft gesteuert wird und anschließend die Luft dem Reinraum 1 zugeführt wird (Luft vom ersten Reinheitsgrad, die auf einen ersten staubfreien Wert gesteuert bzw. ge­ bracht wird). Der Reinraum 1 besteht aus einer Deckenkammer 3, der die Luft von der außenseitigen Klimaanlage 2 zuge­ führt wird, einer Arbeitszone 4, in der eine Herstellungs­ ausrüstung, eine Hänge-Beförderungsvorrichtung 5 und eine Lagervorrichtung 6 angeordnet sind und die Arbeiten durch­ geführt werden, und einer Vielzweckzone 7, in der eine An­ triebsausrüstung und eine Ausrüstung zur Instandhaltung der Umgebungsbedingungen angeordnet sind. Ein Deckenfilter 8, wie beispielsweise ein HEPA-Filter oder ein ULPA-Filter zum Entfernen von Fremdstoffen wie beispielsweise Staub von mehreren Mikrometern aus der Luft der Deckenkammer 3 befin­ det sich zwischen der Deckenkammer 3 und zur Arbeitszone 4.

Der Deckenfilter 8 entfernt den Staub von mehreren Mikrome­ tern aus der Luft in der Deckenkammer 3 und liefert die Luft der Arbeitszone 4. Eine aus einem chemischen Filter bestehende Gebläsefiltereinheit 9 und ein Abzugsgebläse wird dem Deckenfilter 8 nur an den oberen Abschnitten hin­ zugefügt, bei denen die Beförderungsvorrichtung 5 und die Lagervorrichtung 6 entsprechend angeordnet sind. Die Ar­ beitszone 4 berührt die Vielzweckzone 7 über ein Gitter 10 an seinem Boden. Eine Zirkulationsdurchführung bzw. Rohr­ leitung 11 saugt die Luft von der Arbeitszone 4 über ein in der Vielzweckzone 7 vorgesehenes Zirkulationsgebläse 12 über das Gitter 10 an und zirkuliert die Luft von der Vielzweckzone 7 zur Deckenkammer 3. In die Zirkulations­ durchführung 11 ist eine Zirkulations-Lufttemperatur-Steue­ rung 13 eingebaut.

Die Beförderungsvorrichtung 5 besteht aus einer Hänge-Beförderungsvorrichtung, bei der ein Waferträger 14, der die Halbleiterwafer aufnimmt, von einem Halteabschnitt 16 gehalten wird, der ein Laufrad 15 aufweist und von einem Linearmotor 19 auf einer Laufschiene 18 bewegt wird, die sich in einem Beförderungsweg 17 befindet. Ferner besitzt die Beförderungsvorrichtung 5 ein Wälz-Verhinderungsrad 20 und eine Abdeckung 21 zum Abdecken des Antriebsabschnitts 22 in dem das Laufrad 15, die Laufschiene 18 und der Line­ armotor 19 angeordnet sind. Die Abdeckung 20 trennt den Halteabschnitt 16 des Waferträgers 14 vom Antriebsabschnitt 22 mittels eines kleinen Spalts. Eine Ausstoß-Durchführung 23 befindet sich im Antriebsabschnitt 22. Ein Föderzubehör 24 legt den Beförderungsweg der Hänge-Beförderungsvorrich­ tung an der Decke fest.

Die Lagervorrichtung 6 besitzt eine Aufnahmeabschnitt oder eine (nicht dargestellte) Tür zum Aufnehmen/Ausgeben des Waferträgers 14, wobei die obere Seite des Öffnungsab­ schnitts oder der Tür eine Freigabe oder Panting-Platte verwendet und sich eine Seitenplatte 34 bis zu einer Höhe erstreckt, bei der man wirkungsvoll die durch den Gebläse­ filter hindurchtretende Luft erhält. Ferner besitzt die La­ gervorrichtung 6 eine Regalplatte 35, die die Panting-Plat­ te verwendet. Der Luftdruck im Reinraum 1 wird auf einem gegenüber dem Außenluftdruck um einen bestimmten Wert höhe­ ren Druck gehalten, wobei der Luftdruck im Reinraum andau­ ernd erfaßt wird und die Drehgeschwindigkeit des Abzugge­ bläses der außenseitigen Klimaanlage 2 derart geändert wird, daß sich der Luftdruck nicht aufgrund des Öffnens oder Schließens einer Tür oder des Ausstoßens von Gas einer Vorrichtung zum Verhindern des Eindringens von Fremdstoffen von der Außenluft in den Reinraum verringert wird. Ferner wird saubere Luft (Luft vom zweiten Reinheitsgrad, die auf einen zweiten staubfreien Wert gebracht wurde) aus der vom Deckenfilter 8 Fremdstoffe wie beispielsweise Staub ent­ fernt wurden, der Arbeitszone 4 zugeführt, wobei die Luft in der Arbeitszone 4 durch das in der Vielzweckzone 7 ange­ ordnete Zirkulationsgebläse 12 unter das Gitter 10 abge­ saugt wird. Der Innenraum der Arbeitszone 4 wird daher in einem nach unten gerichteten Strömungszustand gebracht. Ferner wird in den Abschnitten, in denen die einen chemi­ schen Filter aufweisende Gebläsefiltereinheit 9 und ein Ab­ zugsgebläse zusätzlich zum Deckenfilter 8 angeordnet sind, die Fremdstoffe bis zu mehreren Mikrometern entfernt und die Luft zu chemisch freier Luft gereinigt (Luft vom drit­ ten Reinheitsgrad, die auf einen zweiten staubfreien Wert gebracht wird), wobei die Konzentration des die chemische Verunreinigung verursachenden chemischen Nebels auf 1 ppt bis 1 f gesteuert wird.

Die Gebläsefiltereinheit 9 befindet sich zusätzlich im Deckenabschnitt, bei der die Hänge-Beförderungsvorrichtung 5 angeordnet ist, weshalb nur die durch die Gebläsefilter­ einheit 9 hindurchtretende saubere chemisch freie Luft dem Beförderungsweg 17 zugeführt wird. Die von der Gebläsefil­ tereinheit 9 ausgegebene Luftmenge wird derart gesteuert, daß der Luftdruck im Beförderungsweg 17 größer ist als im übrigen Bereich der Arbeitszone 4, wodurch ein Eindringen von Luft der Arbeitszone 4 mit chemischem Nebel in den Be­ förderungsweg 17 verhindert wird. Die dem Beförderungsweg 17 zugeführte Luft wird dem Antriebsabschnitt 22 über den Spalt der den Antriebsabschnitt 22 abdeckenden Abdeckung 21 zugeführt und über die Auslaßdurchführung 23 gemeinsam mit den im Antriebsabschnitt 22 erzeugten Fremdstoffen an die Vielzweckzone 7 unter dem Gitter 10 ausgestoßen.

Ferner wird die Gebläsefiltereinheit 9 zusätzlich an den Deckenabschnitten angebracht, unter denen sich die La­ gervorrichtung 6 befindet, wodurch nur der Lagervorrichtung 6 saubere von chemischen Stoffen freie Luft zugeführt wird. Eine Seitenwand 34 der Lagervorrichtung 6 erstreckt sich in der Richtung eines Deckenfilterabschnitts, wodurch man die saubere von chemischen Stoffen freie Luft wirkungsvoll über den Deckenfilterabschnitt erhält. Die von der Gebläsefil­ tereinheit 9 ausgestoßene Luftmenge wird derart gesteuert, daß der Luftdruck in der Lagervorrichtung 6 auf einem höhe­ ren Druck gehalten wird als in den anderen Bereichen der Arbeitszone 4, wodurch ein Eindringen der Luft mit chemi­ schem Nebel aus der Arbeitszone 4 in die Lagervorrichtung 6 verhindert wird. Die der Lagervorrichtung 6 zugeführte Luft tritt durch die Regalbretter 35 unter Verwendung einer Pan­ ting-Platte und wird anschließend vom in der Vielzweckzone 3 vorgesehenen Zirkulationsgebläse 12 unmittelbar nach un­ ten gezogen und unter das Gitter 10 ausgestoßen.

Die von der außenseitigen Klimaanlage 2 der Deckenkam­ mer 3 zugeführte Luft kann ebenso der Vielzweckzone 7 zuge­ führt werden, wie durch die gestrichelte Linie in Fig. 1 dargestellt ist.

Gemäß der vorliegenden Erfindung kann eine chemische Verunreinigung eines Halbleiterwafers verhindert werden, wenn der Wafer befördert oder gelagert wird, da der Beför­ derungsvorrichtung 5 und der Lagervorrichtung 6 des Wafers die von chemischen Stoffen befreite Luft, aus der chemi­ scher Nebel mittels eines chemischen Filters entfernt wurde, zugeführt wird. Darüber hinaus können die Kosten für die Luftverbesserungsausrüstung bzw. die Klimaanlage ver­ ringert werden, da die vorliegende Erfindung derart aufge­ baut ist, daß die von chemischen Stoffen befreite Luft nur der Beförderungsvorrichtung 5 und der Lagervorrichtung 6 zugeführt wird, die einen halbhermetischen Aufbau besitzen.

Ausführungsbeispiel 2

Im Falle des Ausführungsbeispiels 1 wird ein Deckenfil­ ter 8 und eine Gebläsefiltereinheit 9 mit einem chemischen Filter und einem Abzugsgebläse oberhalb einer Beförderungs­ vorrichtung 5 und einer Lagervorrichtung 6 derart angeord­ net, daß von chemischen Stoffen befreite Luft den Vorrich­ tungen 5 und 6 zugeführt wird. Gemäß Fig. 2 erhält man je­ doch den gleichen Vorteil, wenn man eine Luftführungsab­ deckung 26 für eine Deckenkammer 3 oberhalb der Abschnitte vorsieht, an denen die Beförderungsvorrichtung 5 und die Lagervorrichtung 6 angeordnet sind, wodurch von chemischen Stoffen befreite Luft (vom vierten Reinheitsgrad), deren Temperatur und Feuchtigkeit sowie deren chemische Nebelkon­ zentration zwischen 1 ppt und 1 f mittels eines Generators 27 zum Erzeugen von von chemischen Stoffen befreiter Luft gesteuert wird, in die Luftführungsabdeckung 26 zugeführt wird, wobei die Luft über einen Deckenfilter 8 der Beförde­ rungsvorrichtung 5 und der Lagervorrichtung 6 zugeführt wird. In diesem Fall muß der Druck der von chemischen Stof­ fen befreiten und der Luftführungsabdeckung 26 zugeführten Luft auf einen höheren Wert eingestellt werden als der ei­ nem Reinraum zugeführte Luftdruck. Der Aufbau der Beförde­ rungsvorrichtung 5 und der Lagervorrichtung 6 entspricht dem Aufbau des Ausführungsbeispiels 1.

Gemäß Fig. 3 kann die von chemischen Stoffen befreite Luft der Luftführungsabdeckung 26 unter Verwendung einer chemischen Reinigungsvorrichtung 27a zugeführt werden, wo­ bei anstelle des Generators 27 zum Erzeugen von von chemi­ schen Stoffen befreiter Luft die Luft eingeführt wird, de­ ren Temperatur und Feuchtigkeit von der außenseitigen Kli­ maanlage 2 gesteuert wird, und die Konzentration des chemi­ schen Nebels zwischen 1 ppt und 1 f einstellt.

Ausführungsbeispiel 3

Die Fig. 4 zeigt einen Reinraum gemäß einem dritten er­ findungsgemäßen Ausführungsbeispiel. Die Fig. 5 zeigt eine seitliche Schnittansicht einer in einem Reinraum eingebau­ ten Beförderungsvorrichtung und Fig. 6 zeigt eine vordere Schnittansicht der Beförderungsvorrichtung bei einem Ver­ bindungspunkt mit einer Herstellungsausrüstung. In diesen Zeichnungen besitzt der Reinraum 1 eine außenseitige Klima­ anlage 2 zum Einbringen von Außenluft, wodurch die Tempera­ tur und Feuchtigkeit der Außenluft gesteuert wird und an­ schließend die Luft (Luft vom ersten Reinheitsgrad, die auf einem ersten staubfreien Wert gebracht wurde) dem Reinraum 1 zugeführt wird. Der Reinraum besitzt eine Deckenkammer 3, eine Arbeitszone 4, in der die Herstellungsausrüstung, eine Beförderungsvorrichtung 5 mit einem Beförderungsweg 29, der einen hermetischen Aufbau aufweist, und eine Lagervorrich­ tung 6 angeordnet sind und die Arbeit durchgeführt wird, und eine Vielzweckzone 7, in der die Antriebsausrüstung und die Ausrüstung zur Instandhaltung der Umgebungsbedingungen angeordnet sind, und der von der außenseitigen Klimaanlage 2 Luft zugeführt wird. Ein Deckenfilter 8, wie beispiels­ weise ein HEPA-Filter oder ein ULPA-Filter, zum Entfernen von Fremdstoffen wie beispielsweise Staub von mehreren Mi­ krometern aus der Luft in der Deckenkammer wird zwischen der Deckenkammer 3 und der Arbeitszone 4 angeordnet. Der Deckenfilter 8 entfernt den Staub mit einer Größe von meh­ reren Mikrometern aus der Luft der Deckenkammer 3 und führt die Luft der Arbeitszone 4 zu. Die Arbeitszone 4 berührt die Vielzweckzone 7 über ein Gitter 10 an seinem Boden. Ei­ ne Zirkulationsdurchführung 11 saugt über ein in der Viel­ zweckzone 7 vorgesehenes Zirkulationsgebläse 12 die Luft von der Arbeitszone 4 über das Gitter 10 an und zirkuliert die Luft von der Vielzweckzone 7 zur Deckenkammer 3. Eine Zirkulationsluft-Temperatursteuerung 13 befindet sich in der Zirkulationsdurchführung 11. Ein Generator 28 zum Er­ zeugen von von chemischen Stoffen befreiter trockener Luft entfernt Fremdstoffe mit einer Größe von mehreren Mikrome­ tern und führt die von chemischen Stoffen befreite trockene Luft deren chemische Nebelkonzentration auf 1 ppt bis 1 f und dessen Feuchtigkeitskonzentration unterhalb von 1 ppb gesteuert wurde, der Beförderungsvorrichtung 5 und der La­ gervorrichtung 6 zu. Am Verbindungspunkt mit der Herstel­ lungsausrüstung wird ein Schirm 30 ausgebildet, der aus ei­ nem Beförderungsweg 29 herausragt, und einen Ausgabeab­ schnitt für von chemischen Stoffen befreiter trockener Luft aufweist. Ein Torverschluß 31 des Beförderungswegs 29 be­ findet sich beim Verbindungspunkt mit der Herstellungsaus­ rüstung.

Da der innere Aufbau der Beförderungsvorrichtung 5 und der Lagervorrichtung 6 der gleiche ist wie der in Fig. 1 dargestellte Aufbau, wird auf seine Beschreibung verzich­ tet.

Der im Reinraum 1 herrschende Luftdruck wird derart eingestellt, daß er um einen bestimmten Wert größer ist als der Außenluftdruck, wobei der Luftdruck im Reinraum gleich­ mäßig erfaßt wird und die Drehgeschwindigkeit des Abzugsge­ bläses der außenseitigen Klimaanlage 2 derart verändert wird, daß zum Verhindern eines Eindringens von Fremdstoffen von der Außenluft in den Reinraum aufgrund eines Öffnens oder Schließens einer Tür oder eines Gasausstoßes von einer Ausrüstung der Luftdruck nicht verringert wird. Da die von der Beförderungsvorrichtung 5 und der Lagervorrichtung 6 zur Vielzweckzone 7 ausgestoßene Luft eine trockene Luft ist, wird die von der außenseitigen Klimaanlage 2 zuge­ führte Luft in die Vielzweckzone zugeführt und die Luft­ feuchtigkeit in der Vielzweckzone 7 durch Steuerung der Feuchtigkeit der von der außenseitigen Klimaanlage 2 zuge­ führten Luft gesteuert, wodurch die Luft in der Deckenkam­ mer 3 über die Zirkulationsdurchführung 11 zirkuliert. Fer­ ner wird der Arbeitszone 4 saubere Luft zugeführt, aus der mittels des Deckenfilters 8 Fremdstoffe wie beispielsweise Staub entfernt wurde, wobei die Luft in der Arbeitszone 4 nach unten gezogen wird und unter dem Gitter 10 durch das für die Vielzweckzone 7 vorgesehene Zirkulationsgebläse ausgestoßen wird. Daher wird der Innenraum der Arbeitszone 4 in einen nach unten gerichteten Strömungszustand ge­ bracht. Die vom Generator 28 zur Erzeugung der von chemi­ schen Stoffen freien trockenen Luft durch ein Zuführrohr 28a ausgestoßene frei von chemischen Stoffen und trockene Luft wird dem einen Tunnelaufbau aufweisenden Beförderungs­ weg 29 zugeführt, vom Spalt der den Antriebsabschnitt 22 abdeckenden Abdeckung 21 in den Antriebsabschnitt 22 einge­ speist und von einer Ausstoßdurchführung 23 unmittelbar nach unten gezogen und zur Vielzweckzone 7 unter dem Gitter 10 gemeinsam mit den im Antriebsabschnitt 22 erzeugten Fremdstoffen ausgestoßen. Beim Verbindungspunkt mit der Herstellungsausrüstung öffnet entsprechend einem vorbe­ stimmten Schritt der Torverschluß 31 automatisch beim Er­ fassen eines Waferträgers 14, wobei die vom Generator 28 zum Erzeugen von chemiefreier trockener Luft erzeugte von chemischen Stoffen befreite trockene Luft vom Schirm 30 ausgestoßen wird, wodurch eine chemische Verunreinigung der im Waferträger gelagerten Halbleiterwafer am Verbindungs­ punkt mit der Herstellungsausrüstung verhindert wird.

Die von chemischen Stoffen befreite trockene Luft, die vom Generator 28 zur Erzeugung von chemiefreier trockener Luft über das Zuführrohr 28a zugeführt wird, wird der La­ gervorrichtung 6 zugeführt, die einen hermetischen Aufbau aufweist, wobei sie von der Ausstoßdurchführung 23 über die Öffnungen eines Regalbretts 35 unter Verwendung einer Pan­ ting-Platte unmittelbar nach unten gezogen und in die Vielzweckzone 7 unterhalb des Gitters 10 ausgestoßen wird.

Dieses Ausführungsbeispiel verhindert die chemische Verunreinigung eines Halbleiterlasers wenn der Wafer beför­ dert oder gelagert wird, sowie die natürliche Ausbildung einer Oxidschicht auf dem Wafer aufgrund der Feuchtigkeit, da die von chemischen Stoffen befreite trockene Luft, deren chemischer Nebel und deren Feuchtigkeit auf einen vorbe­ stimmten Wert oder darunter gebracht wurde, der Beförde­ rungsvorrichtung 5 und der Lagervorrichtung 6 für die Halb­ leiterwafer zugeführt wird. Da dieses Ausführungsbeispiel ferner derart aufgebaut ist, daß die von chemischen Stoffen befreite trockene Luft lediglich der Beförderungsvorrich­ tung 5 und der Lagervorrichtung 6 zugeführt wird, die je­ weils einen hermetischen Aufbau besitzen, können die Kosten für eine Klimaanlage weiter verringert werden.

Ausführungsbeispiel 4

Die Fig. 7 und 8 zeigen vordere Schnittansichten und eine seitliche Schnittansicht, die die Beförderungsvorrich­ tung gemäß dem vierten erfindungsgemäßen Ausführungsbei­ spiel darstellt. In den Fig. 7 und 8 wird ein Paar von Strömungsplatten 32 mit einer Vielzahl von Löchern mit kleinem Durchmesser parallel in einem vorbestimmten Abstand entlang einem Beförderungsweg 29 angeordnet. Da der weitere Aufbau der gleiche Aufbau ist wie im Ausführungsbeispiel 3, wird auf seine Beschreibung verzichtet.

Dieses Ausführungsbeispiel kann die Strömungsrichtung der von chemischen Stoffen befreiten trockenen Luft steuern und die von chemischen Stoffen befreite trockene Luft gleichmäßig in den Beförderungsweg 29 zuführen, wobei die Zuführung der von chemischen Stoffen befreiten trockenen Luft über in den Strömungsplatten 32 ausgebildete Löcher mit kleinen Durchmessern von dem Zuführrohr 28a für die von chemischen Stoffen befreite Luft in den Beförderungsweg 29 stattfindet.

Gemäß der vorstehenden Beschreibung kann erfindungsge­ mäß die Qualität und Ausbeute der Halbleitervorrichtungen durch Verhinderung einer chemischen Verunreinigung eines Halbleiterwafers während seiner Beförderung oder Lagerung im Halbleitervorrichtungs-Herstellungsprozeß verbessert, und ferner die Kosten für die Klimaanlage verringert wer­ den, da die Luftaufbereitung je nach Bedarf lokal durchge­ führt werden kann.

Zur Vermeidung von chemischen Verunreinigungen eines Halbleiterwafers während der Beförderung oder Lagerung des Wafers wird in einem Reinraum eine lokale Luftaufbereitung entsprechend den Bedürfnissen im Halbleitervorrichtungs-Herstellungsprozeß durchgeführt. Mittels einer außenseiti­ gen Luftaufbereitungsvorrichtung wird Luft aufgenommen, de­ ren Temperatur und Feuchtigkeit gesteuert wird, und über einen Deckenfilter wie beispielsweise einem HEPA- oder UL-PA-Filter einer Arbeitszone zugeführt. Zusätzlich werden nur bei einer Hänge-Beförderungsvorrichtung und einer La­ gervorrichtung ein Deckenfilter und eine Gebläsefilterein­ heit mit einem chemischen Filter und einem Abzugsgebläse angeordnet, um der in der Arbeitszone innerhalb des Rein­ raums angeordneten Beförderungsvorrichtung und Lagervor­ richtung von chemischen Stoffen befreite Luft zuzuführen, bei der die chemische Verunreinigung hervorrufende chemi­ sche Nebel entfernt wird.

Claims (15)

1. Reinraum mit:
einer außenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung (2), die Außenluft aufnimmt und die Temperatur und Feuchtigkeit der Außenluft steuert und Luft vom ersten Reinheitsgrad, die auf einen ersten staubfreien Wert gebracht wird, dem Reinraum (1) derart zuführt, daß der Innenraum des Rein­ raums (1) bei einem gegenüber dem Außenluftdruck größeren Luftdruck gehalten wird;
einer Deckenkammer (3), der die Luft vom ersten Rein­ heitsgrad von der außenseitigen Luftaufbereitungsvorrich­ tung (2) zugeführt wird;
einem Deckenfilter (8) zum Reinigen der Luft vom ersten Reinheitsgrad in der Deckenkammer (3) auf eine Luft vom zweiten Reinheitsgrad mit einem zweiten staubfreien Wert;
einer Gebläsefiltereinheit (9), die an der Stromauf­ wärtsseite des Deckenfilters (8) angeordnet ist und eine vorbestimmte chemische Substanz der Luft bis auf einen vor­ bestimmten Inhaltswert verringert;
einer Arbeitszone (4), der die Luft vom zweiten Rein­ heitsgrad über den Deckenfilter (8) zugeführt wird und in der die von chemischen Stoffen befreite und auf einen drit­ ten Reinheitsgrad bei einem zweiten staubfreien Wert mit­ tels der Gebläsefiltereinheit (9) gebracht wurde einem vor­ bestimmten Bereich zugeführt wird;
einer Vielzweckzone (7), die sich unterhalb dem Gitter­ boden (10) der Arbeitszone (4) befindet und in dem die An­ triebsausrüstung und die Ausrüstung für zur Instandhaltung der Umgebungsbedingungen angeordnet sind; und
einem Luftzirkulationssystem (11, 12, 13) zum Steuern der Lufttemperatur der von der Arbeitszone (4) in die Vielzweckzone (7) ausgestoßenen Luft und zum Zirkulieren der Luft von der Vielzweckzone (7) über eine Durchführung (11) zur Deckenkammer (3).

2. Reinraum mit:
einer außenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung (2), die eine Außenluft aufnimmt und die Temperatur und Feuch­ tigkeit der Außenluft steuert, wobei eine Luft vom ersten Reinheitsgrad, die auf einen ersten staubfreien Wert ge­ bracht wird dem Reinraum (1) derart zugeführt wird, daß der Innenraum des Reinraums (1) bei einem gegenüber dem Außen­ luftdruck größeren Luftdruck gehalten wird;
einem Generator (27) zum Aufnehmen von Außenluft und Steuern der Temperatur und Feuchtigkeit der Außenluft, so­ wie zum Erzeugen einer von chemischen Stoffen befreiten Luft vom vierten Reinheitsgrad, die auf einen ersten staub­ freien Wert gebracht wird, und aus der bis auf einen vorbe­ stimmten Inhaltswert ein vorbestimmter chemischer Stoff entfernt wird;
einer Deckenkammer (3), der die Luft vom ersten Rein­ heitsgrad mittels der außenseitigen Luftaufbereitungsvor­ richtung (2) zugeführt wird;
einer Luftführungsabdeckung (26), die sich in einem vorbestimmten Bereich der Deckenkammer (3) befindet und der von chemischen Stoffen befreite Luft vom vierten Reinheits­ grad vom Generator (27) zugeführt wird;
einem ersten Deckenfilter (8), zum Reinigen der Luft vom ersten Reinheitsgrad in der Deckenkammer (3) zu einer Luft vom zweiten Reinheitsgrad mit einem zweiten staub­ freien Wert und einem zweiten Deckenfilter (8) zum Reinigen der von chemischen Stoffen befreiten Luft vom vierten Rein­ heitsgrad zu einer Luft vom dritten Reinheitsgrad mit einem dritten staubfreien Wert;
einer Arbeitszone (4), der die vom ersten Deckenfilter auf den zweiten Reinheitsgrad gebrachte Luft zugeführt wird und in der die in die Luftführungsabdeckung (26) zugeführte von chemischen Stoffen befreite Luft auf eine von chemi­ schen Stoffen befreite Luft vom dritten Reinheitsgrad mit­ tels dem zweiten Deckenfilter gereinigt wird und einem vor­ bestimmten Bereich zugeführt wird;
einer Vielzweckzone (7), die sich unter dem Gitterboden (10) der Arbeitszone (4) befindet und in der die Antriebs­ ausrüstung und die Ausrüstung zur Instandhaltung der Umge­ bungsbedingungen angeordnet sind; und
einem Luftzirkulationssystem (11, 12, 13), die die Tem­ peratur der von der Arbeitszone (4) in die Vielzweckzone (7) ausgestoßenen Luft steuert und die Luft von der Viel­ zweckzone (7) über eine Durchführung (11) zur Deckenkammer (3) zirkuliert.

3. Reinraum nach Patentanspruch 2, dadurch gekennzeich­ net, daß der Generator zum Erzeugen von chemiefreier Luft eine Vorrichtung (27a) zum Entfernen von chemischen Stoffen darstellt, der Luft vom ersten Reinheitsgrad von einer au­ ßenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung (2) zugeführt wird, um einen vorbestimmten chemischen Stoff aus der Luft vom ersten Reinheitsgrad bis auf einen vorbestimmten In­ haltswert zu entfernen.

4. Reinraum nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeich­ net, daß die Luft vom ersten Reinheitsgrad der Vielzweck­ zone (7) von der außenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung (2) zugeführt wird.

5. Reinraum nach einem der Patentansprüche 1 bis 4, da­ durch gekennzeichnet, daß der Luftdruck in einem vorbe­ stimmten Bereich in der Arbeitszone (4) derart gesteuert ist, daß er auf einem höheren Wert gehalten wird als der Luftdruck in dem anderen Bereich der Arbeitszone (4).

6. Reinraum nach einem der Patentansprüche 1 bis 5, da­ durch gekennzeichnet, daß ein vorbestimmter Bereich in der Arbeitszone (4) als Abschnitt dient, in dem eine jeweilige Beförderungsvorrichtung (5) und eine Lagervorrichtung (6) eine Öffnung aufweisen, durch die die von chemischen Stof­ fen befreite und eingeführte Luft vom dritten Reinheitsgrad nach außen ausgestoßen wird.

7. Reinraum nach Patentanspruch 6, dadurch gekennzeich­ net, daß die Beförderungsvorrichtung (5) aus einer Hänge-Beförderungsvorrichtung besteht, die von der Decke der Ar­ beitszone (4) herabhängt; mit einem Halteabschnitt zum Halten eines beförderten Objekts (14), einem Antriebsabschnitt (22), in dem ein An­ trieb und dergleichen angeordnet ist, einer Abdeckung (21) zum Trennen des Halteabschnitts vom Antriebsabschnitt (22) über einen Spalt, und einem Ausstoßrohr (23) das im An­ triebsabschnitt (22) vorgesehen ist; und derart aufgebaut ist, daß die über den Deckenfilterabschnitt der Vielzweck­ zone (7) zugeführte Luft vom Ausstoßrohr (23) des Antriebs­ abschnitts (22) durch den Spalt der Abdeckung (21) des Halteabschnitts ausgestoßen wird.

8. Reinraum nach Patentanspruch 6, dadurch gekennzeich­ net, daß die Lagervorrichtung eine Vorrichtung darstellt, die einen halb-hermetischen Aufbau aufweist und auf dem Gitter (10) der Arbeitszone (4) angeordnet ist; eine Sei­ tenwand (34), die sich in der Richtung des Deckenfilterab­ schnitts derart erstreckt, daß man eine wirkungsvolle Zu­ fuhr der Luft durch den Deckenfilterabschnitt (26) erhält, und ein Regalbrett (35) mit einer Vielzahl von Löchern mit kleinem Durchmesser aufweist; und derart aufgebaut ist, daß die über den Deckenfilterabschnitt zugeführte Luft durch die Löcher des Regalbretts (35) unter das Gitter (10) aus­ gestoßen wird.

9. Reinraum mit:
einer außenseitigen Luftaufbereitungsvorrichtung (2), die Außenluft aufnimmt und die Temperatur und Feuchtigkeit der Außenluft steuert sowie eine auf einen ersten staub­ freien Wert gebrachte Luft vom ersten Reinheitsgrad dem Reinraum (1) derart zuführt, daß der Innenraum des Rein­ raums (1) auf einem größeren Druck gehalten wird als der Außenluftdruck;
einem Generator (28) zum Aufnehmen der Außenluft und zum Erzeugen der von chemischen Stoffen befreiten trockenen Luft vom fünften Reinheitsgrad, deren Temperatur und Feuch­ tigkeit gesteuert ist und auf einen zweiten staubfreien Wert gebracht wird, wobei ein vorbestimmter chemischer Stoff und eine Feuchtigkeit aus der Luft bis zu vorbestimm­ ten Inhaltswerten entfernt wird;
einer Arbeitszone (4), in der eine Beförderungsvorrich­ tung (5) und eine Lagervorrichtung (6) mit einem jeweiligen hermetischen Aufbau derart angeordnet sind, daß ihnen der Generator (28) die von chemischen Stoffen befreite trockene Luft zuführt;
einer Vielzweckzone (7), die sich unterhalb des Gitter­ bodens (10) der Arbeitszone (4) befindet, in der sich die Antriebsausrüstung und die Ausrüstung zur Instandhaltung der Umgebungsbedingungen angeordnet sind und der von der Arbeitszone (4) und von den Ausstoßrohren (23) der Beförde­ rungsvorrichtung (5) und der Lagervorrichtung (6) die Luft und zusätzliche Luft von der außenseitigen Luftaufberei­ tungsvorrichtung (2) zugeführt wird;
einem Luftzirkulationssystem (11, 12, 13) zum Steuern der Temperatur der Luft in der Vielzweckzone (7) und zum Zirkulieren der Luft über eine Durchführung (11) zur Deckenkammer (3); und
einem Deckenfilter (8), der sich in der Deckenkammer (3) zum Reinigen der eingeführten Luft vom ersten Rein­ heitsgrad zu einer Luft vom zweiten Reinheitsgrad reinigt und die Luft vom zweiten Reinheitsgrad der Arbeitszone (4) zu führt.

10. Reinraum nach Patentanspruch 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Beförderungsvorrichtung (5) einen Beför­ derungsweg (29) mit einem hermetischen Aufbau, einen Zu­ führabschnitt zum Zuführen der trockenen Luft vom Generator (28) für den Deckenabschnitt des Beförderungswegs (29), ei­ nen Halteabschnitt, der im oberen Beförderungsweg das zu tragende Objekt (14) hält, einen Antriebsabschnitt (22), der am Boden des Beförderungswegs (29) vorgesehen ist und in dem sich ein Antrieb befindet, eine Abdeckung (21) zum Trennen des Halteabschnitts vom Antriebsabschnitt (22) mit­ tels eines Spalts, und ein Ausstoßrohr (23) aufweist, das im Antriebsabschnitt (22) vorgesehen und derart aufgebaut ist, daß die vom Deckenabschnitt des Beförderungswegs über ein Rohr (28a) zugeführte trockene Luft am Ausstoßrohr (23) des Antriebsabschnitts (22) zur Vielzweckzone (7) über den Spalt der Abdeckung (21) ausgestoßen wird.

11. Reinraum nach Patentanspruch 10, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Beförderungsweg mit Strömungsplatten (32) ausgestattet ist, die eine Vielzahl von Löchern mit kleinem Durchmesser aufweisen und die in einem vorbestimmten Ab­ stand parallel angeordnet sind, um die einem Deckenab­ schnitt zugeführte trockene Luft gleichmäßig dem Beförde­ rungsweg (29) zuzuführen.

12. Reinraum nach Patentanspruch 10, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Beförderungsvorrichtung (5) einen Detek­ tor für ein zu beförderndes Objekt, eine Öffnung, an der sich ein zu öffnender Verschluß (31) befindet, und einen Schirmabschnitt (30) aufweist, der derart ausgebildet ist, daß er von der Wand des Beförderungsweges (29) an der Öff­ nung hervorragt und einen Abschnitt besitzt, der die vom Generator (28) zugeführte von chemischen Stoffen befreite trockene Luft zuführt.

13. Reinraum nach Patentanspruch 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Lagervorrichtung (6) aus einem Auffangbe­ hälter mit einem hermetischen Aufbau, einem Abschnitt zum Zuführen der vom Generator (28) zugeführten von chemischen Stoffen befreiten trockenen Luft am Deckenabschnitt des Auffangbehälters, einem Regalbrett (35) mit einer Vielzahl von Löchern mit kleinem Durchmesser, und einem Ausstoßrohr (23) besteht, das sich am Boden des Auffangbehälters befin­ det und derart aufgebaut ist, daß die vom Deckenabschnitt des Auffangbehälters über ein Rohr zugeführte trockene Luft über die Löcher der Regalbretter (35) in die Vielzweckzone (7) ausgestoßen wird.

14. Reinraum nach Patentanspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die vorbestimmten Inhaltswerte der vorbe­ stimmten chemischen Stoffe der von chemischen Stoffen be­ freiten Luft vom dritten und vierten Reinheitsgrad in einem Bereich zwischen 1 ppt und 1 f gehalten werden.

15. Reinraum nach Patentanspruch 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die vorbestimmten Inhaltswerte eines vorbe­ stimmten chemischen Stoffes der von chemischen Stoffen be­ freiten trockenen Luft vom fünften Reinheitsgrad in einem Bereich von 1 ppt und 1 f gehalten wird und die Feuchtig­ keit der trockenen Luft bei 1 ppb oder darunter gehalten wird.