JPH0689837A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JPH0689837A
JPH0689837A JP4238730A JP23873092A JPH0689837A JP H0689837 A JPH0689837 A JP H0689837A JP 4238730 A JP4238730 A JP 4238730A JP 23873092 A JP23873092 A JP 23873092A JP H0689837 A JPH0689837 A JP H0689837A
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air
substrate
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Yuji Okuma
裕二 大熊
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は,半導体基板等の表面処理に使用す
るバッチ式全自動ウエット処理装置における薬液洗浄の
際の排気システムの構造に関し,クリーンエアの吹き出
し量を低減し,かつ,薬品蒸気を装置外に出さずに装置
からの排気量を低減することを目的とする。 【構成】 基板1を収納するキャリア2の搬送ロボット
3上部に,キャリア2の全面積を覆う空気清浄フィルタ
4を具備するように,搬送ロボット3の四隅よりウォー
ル5を垂れ下げ,搬送中のキャリア2をウォール5によ
り囲むように,搬送ロボット3の左右方向への移動に合
わせて,キャリア2搬送エリアの排気を自動的に増減さ
せる自動ダンパ6を排気ダクト7内に具備するように,
薬液処理槽8手前の搬送ロボット3側から処理槽8裏側
の排気ダクト7の吸引口9に向けてクリーンエアをエア
カーテン状に吹き出す吹き出し機能10を有するように構
成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は, 半導体基板等の表面処
理に使用するバッチ式全自動ウエット処理装置におけ
る,薬液洗浄の際の排気システムの構造に関する。
【0002】近年の半導体基板ウエット処理装置は,ク
リーンベンチ型が主流であるが,装置の大型化と共に,
装置からの排気風量が増大する傾向にある。
【0003】
【従来の技術】図3は従来例の説明図である。図におい
て,1は基板,2はキャリア,3は搬送ロボット,7は
排気ダクト,8は処理槽,9は吸引口,12は自動開閉
蓋, 15はクリーンベンチ, 16はクリーンベンチ空気清浄
フィルタ, 18は薬液, 或いは純水,19は薬品蒸気であ
る。
【0004】半導体基板等のウエット処理装置はクリー
ンベンチ型が主流であり,装置の平面積の2/3近くの
面積で吹き出されるクリーンエアを全て排気している。
この場合,クリーンエアは,処理槽8間を移動中のキャ
リア2や基板1等から出る薬品蒸気19を封じ込めるため
に,0.3〜0.4 m/s以上の吹き出し風速を維持してい
た。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の方法では, クリ
ーンエアの吹き出し風量が膨大で, 尚かつ, それを全て
クリーンルーム外へ排気していた。そのために, クリー
ンルームへの新規エアの供給量も膨大なものとなり, ク
リーンルームのランニングコストを押し上げていた。
【0006】本発明は,以上の点に鑑み,クリーンエア
の吹き出し量を低減し,かつ,薬品蒸気を装置外に出さ
ずに,装置からの排気量を低減することを目的として提
供されるものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の装置の説
明図である。図において,1は基板,2はキャリア,3
は搬送ロボット,4は空気清浄フィルタ,5はウォー
ル,6は排気ダンパ,7は排気ダクト,8は処理槽,9
は吸引口,10は吹き出し機能, 11はファンユニット,12
は自動開閉蓋, 13は排気ダンパ自動開閉装置, 14はファ
ン, 15はクリーンベンチ, 16はクリーンベンチ空気清浄
フィルタ, 17はクリーンベンチファンユニット, 18は薬
液, 或いは純水,19は薬品蒸気である。
【0008】問題解決の手段として,本発明では,キャ
リア搬送ロボットの上部に, 空気清浄フィルタ4として
小型のHEPAフィルタを設置し,尚かつ,この空気清
浄フィルタ4の周囲にキャリア2を覆う形でウォール5
を垂れ下げる。
【0009】また,薬液, 或いは純水18を満たした複数
の処理層8を設けたクリーンベンチ15の排気ダクト7内
に,搬送ロボット3の動きと連動して,排気量を増減す
る形式の排気ダンパ6を設ける。
【0010】従来と同様に,クリーンベンチ15全域をカ
バーするクリーンベンチ空気清浄フィルタ16として大型
のHEPAフィルタは設けておくが,その風速は0.1 m
/s程度に下げ, 且つ, 処理槽8の手前から, 処理槽8の
裏側に向かって水平にエアカーテン状のクリーンエアを
吹き出す吹き出し機能10を取り付ける。
【0011】即ち, 本発明の目的は, 図1(a)に前面
図で,図1(b)に側面図で示すように,半導体基板等
のバッチ式自動連続ウエット処理装置において,基板を
収納するキャリア2の搬送ロボット3上部に,少なくと
も該キャリア2の全面積を覆う空気清浄フィルタ4を具
備することにより,前記搬送ロボット3の四隅よりウォ
ール5を垂れ下げ,搬送中の前記キャリア2を該ウォー
ル5により囲む構造を有することにより,前記搬送ロボ
ット3の左右方向への移動に合わせて,前記キャリア3
搬送エリアの排気を自動的に増減させる自動ダンパ6を
排気ダクト7内に具備することにより,処理槽8手前の
前記搬送ロボット3側から該処理槽8裏側の前記排気ダ
クト7の吸引口9に向けてクリーンエアをエアカーテン
状に吹き出す吹き出し機能10を有することにより達成さ
れる。
【0012】
【作用】本発明によれば, キャリア搬送時以外は, エア
カーテンと少量の上部吸気の分を排気するだけで済む。
【0013】処理槽から拡散する薬品蒸気は, 水平エア
カーテンにて排気ダクトに導かれ,装置外に拡散する事
はない。また, 搬送中のキャリアからの薬品蒸気は, ロ
ボット上部のフィルタから0.4m/s程度で吹き出される
クリーンエアと, 四方のウォール・の効果でロボットの
居る範囲に留まる。
【0014】その蒸気は,ロボットと連動して開閉する
ダンパ−により,ロボットのいる場所の排気が増加され
ている装置裏側の排気ダクトに導かれ,装置外に拡散す
ることはない。
【0015】
【実施例】図1は本発明の装置の説明図,図2は本発明
の一実施例の装置の排気説明図である。
【0016】図において,1は基板,2はキャリア,3
は搬送ロボット,4は空気清浄フィルタ,5はウォー
ル,6は自動ダンパ,7は排気ダクト,8は処理槽,9
は吸引口,10は吹き出し機能, 11はファンユニット,12
は自動開閉蓋,13は排気ダンパ自動開閉装置,14はファ
ン,15はクリーンベンチ,16はクリーンベンチ空気清浄
フィルタ,17はクリーンベンチファンユニット,18は薬
液, 或いは純水,19は薬品蒸気である。
【0017】図1により,本発明の基板処理装置につい
て説明する。図1において,装置上部のクリーンベンチ
空気清浄フィルタ(HEPAフィルタ)16からの風速
は,0.1 m/s程度と従来の 1/3〜1/4 に絞ってある。こ
の風速では, 搬送中のキャリア2やウエハ等の基板1か
ら発生する薬液の蒸気を押さえ込めないため, 搬送ロボ
ット3の上部に, ロボット3に固定された専用の空気清
浄フィルタ4として小型のHEPAフィルタを設置し,
且つ, 蒸気の横方向への拡散を防ぐために, ウォール5
をキャリア2の周囲四面を囲む形で空気清浄フィルタ4
から下方に垂れ下げて取り付けてある。
【0018】この空気清浄フィルタ4からの風速を0.4
m/s 程度に設定することにより,キャリア2等から発
生する薬液の蒸気は,装置外に拡散することなしに処理
槽8裏側の吸引口9を通して排気ダクト7に導かれる。
【0019】また,装置の排気は,通常,エアの供給が
少ないために絞ってあるが,搬送ロボット3が通過する
時は,搬送ロボット3が具備しているファンユニット11
の分も排気する必要がある。そのため,図2に示すよう
に,搬送ロボット3の通過に合わせて,その通過エリア
のクリーンベンチ15の排気ダクト7に設けてある自動ダ
ンパ6の開度を自動的に大きくする。
【0020】図2の例で説明すると,搬送ロボット3が
Aのクリーンベンチ15A の範囲にある時はAのクリーン
ベンチ15A の排気ダンパ6Aの開度が自動的に大きくな
り,Aのクリーンベンチ15A の排気量を搬送ロボット3
付属のファンユニット11分だけ増加させる。
【0021】この時,その他のB,Cのクリーンベンチ
15B,15C の排気ダンパ6B,6C は通常排気の分だけで良い
ので排気ダンパ6B,6C の開度は小さくしてある。但し,
搬送ロボット3がAのクリーンベンチ15A からBのクリ
ーンベンチ15Bに入ると同時に,Bのクリーンベンチ15B
の排気ダンパ6Bの開度を大きくして,排気量を増加さ
せる。その時にはAのクリーンベンチ15A の排気ダンパ
6Aの開度は自動的に元通りに小さくなり,通常の排気量
に戻る。
【0022】また,搬送ロボット3がキャリア2を搬送
しない間は,搬送ロボット3のファンユニット11を停止
することにより,尚一層の排気量の削減が実現できる。
また,本発明の一実施例では,基板1の搬送にキャリア
2を用いているが,本発明の装置においては,キャリア
2に換えて,基板1を直接搬送するノンキャリアハンガ
ーを用いることも勿論可能である。
【0023】
【発明の効果】以上説明した様に,本発明によれば,装
置上部のフィルタ面積が5m×0.75mの場合で,従来
方式の排気量 4,100〜5,400 m3 /hに比べて,本発明
の装置では, 2,500〜3,500 m3 /hの排気量で足り
る。
【0024】従って,排気量,延いてはクリーンルーム
への空気の供給量が従来の60〜75%で足りることとな
り,クリーンルームの維持管理のコストダウンに寄与す
るところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の装置の説明図
【図2】 本発明の一実施例の装置の排気説明図
【図3】 従来例の説明図
【符号の説明】
1 基板 2 キャリア 3 搬送ロボット 4 空気清浄フィルタ 5 ウォール 6 排気ダンパ 7 排気ダクト 8 処理槽 9 吸引口 10 吹き出し機能 11 ファンユニット 12 自動開閉蓋 13 排気ダンパ自動開閉装置 14 ファン 15 クリーンベンチ 16 クリーンベンチ空気清浄フィルタ 17 クリーンベンチファンユニット 18 薬液, 或いは純水 19 薬品蒸気

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板等のバッチ式自動連続ウエッ
    ト処理装置において,基板(1) を収納するキャリア(2)
    の搬送ロボット(3) 上部に,少なくとも該キャリア(2)
    の全面積を覆う空気清浄フィルタ(4) を具備することを
    特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】 前記搬送ロボット(3) の四隅よりウォー
    ル(5) を垂れ下げ,搬送中の前記キャリア(2) を該ウォ
    ール(5) により囲む構造を有することを特徴とする請求
    項1記載の基板処理装置。
  3. 【請求項3】 前記搬送ロボット(3) の左右方向への移
    動に合わせて,前記キャリア(2) 搬送エリアの排気を自
    動的に増減させる自動ダンパ(6) を排気ダクト(7) 内に
    具備することを特徴とする請求項1〜2記載の基板処理
    装置。
  4. 【請求項4】 処理槽(8) 手前の前記搬送ロボット(3)
    側から該処理槽(8)裏側の前記排気ダクト(7) の吸引口
    (9) に向けてクリーンエアをエアカーテン状に吹き出す
    吹き出し機能(10)を有することを特徴とする請求項1〜
    3記載の基板処理装置。
JP4238730A 1992-09-08 1992-09-08 基板処理装置 Withdrawn JPH0689837A (ja)

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