JPH10238833A - クリーンルーム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置のメンテナンスや薬液交換時に発生する
異物の拡散を防止して製造工程途中の半導体ウェハの汚
染、およびメンテナンスのために解体された装置内部の
汚染を防止できる空調システムを有したクリーンルーム
を提供する。 【解決手段】 移動および収納が可能なメンテナンスエ
リア形成装置１６をクリーンルーム１内に具備すると共
に、メンテナンスエリア形成装置１６により形成された
メンテナンスエリア１７内に、必要に応じて作業ゾーン
９に供給されるエアとは異なるエアを供給できる空調シ
ステムを有し、装置１０のメンテナンス時や薬液交換時
には、メンテナンスエリア形成装置１６を必要な場所に
移動してメンテナンスエリア１７を形成すると共に、メ
ンテナンスエリア１７内に必要な清浄度のエアを供給す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体装
置等の製造が行われるクリーンルームに関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体装置は、ウェハ上にミクロ
ン単位の微細加工が施されるため、ウェハ上への異物
（例えば塵埃粒子やケミカルヒューム／ミスト）付着は
製品の歩留り低下の要因となる。このため、半導体装置
の製造は、異物が厳しく管理された清浄度の高い環境で
あるクリーンルーム内で行われている。一方、クリーン
ルーム内には、検査装置をはじめ数百台の各種装置が据
付られ、異物を発生させる装置のメンテナンスや薬液交
換が頻繁に行なわれている。このメンテナンスや薬液交
換時に発生する異物が拡散して半導体ウェハ上に付着す
るのを防止するために、メンテナンスエリアと製造エリ
ア（製品搬送、装置ローダ／アンローダエリア）が隔離
壁で分離されたスルーザウォール方式が採用され、メン
テナンス時等に発生する異物による半導体装置の汚染を
防止している。

【０００３】図９は従来のクリーンルームを示す図であ
る。図において、１はクリーンルーム、２は外気を取り
入れ温湿度を制御する外調機、３は外調機から温湿度が
制御されたエアが供給されるユーティリティゾーンで、
動力供給設備や環境保全設備等が配置されている。ユー
ティリティゾーン３に供給されたエアは、循環ファン６
により消音器４およびドライコイル５を介して天井チャ
ンバー７に導入される。８は天井チャンバー７のエアか
ら塵埃粒子等の異物を除去する天井フィルタで、除去す
る異物の粒子径に対応してＨＥＰＡ（High Efficiency
Particulate Air ）もしくはＵＬＰＡ（Ultra Low Pene
tration Air ）フィルタ等が用いられる。９は天井チャ
ンバー７のエアが天井フィルタ８を介して供給される作
業ゾーンで、仕切り壁４０により区分けされた、主とし
て製品搬送や装置ローダ／アンローダが行われる製造エ
リア４１と、装置１０本体が配置され装置１０のメンテ
ナンスや薬液交換が行われるメンテナンスエリア４２か
ら構成される。製造エリア４１とメンテナンスエリア４
２には、天井フィルタ８により規定の清浄度レベル（製
造エリア４１にはクラス１〜１０程度、メンテナンスエ
リア４２にはクラス１０００〜１００００程度）のエア
が供給される。製造エリア４１とメンテナンスエリア４
２のエアは、ユーティリティゾーン３に配置された循環
ファン６により床面のグレーティング１３を通してユー
ティリティゾーン３に吸引され、外調機２から供給され
たエアと共に、消音器４およびドライコイル５を介して
天井チャンバー７に循環される。また、クリーンルーム
１は、外気からの異物侵入を防止するために、外気より
も陽圧状態に管理されている。

【０００４】近年、半導体装置の高集積化によるパター
ンの微細化に伴い、半導体装置の歩留り低下要因とし
て、半導体装置が製造されるクリーンルーム内の空気に
含まれるミクロンレベルの塵埃粒子等による汚染から、
サブミクロンレベルの有機物や無機物からなるケミカル
ミストによる化学（ケミカル）汚染が問題視されるよう
になった。一般的にケミカル汚染とは、酸性ガス、アル
カリガス、揮発性ボロン、燐、有機ガス等による汚染を
指し、発生源としては、作業者、クリーンルームに持ち
込まれる様々な薬品や部材、内装材、取り入れた外気等
である。半導体装置製造への影響としては、例えば、酸
性ガス特にＨＦはフィルタの濾材からのボロンの揮発を
促進させ、アルカリガスはレジストの解像障害、ボロン
や燐は半導体装置の動作不良、有機ガスは絶縁膜の耐圧
低下やレンズの曇り等を誘発する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来のクリーンルーム
は以上のように構成されており、装置１０のメンテナン
スや薬液交換時に発生する異物が拡散して半導体ウェハ
上に付着するのを防止するために、スルーザウォール方
式が採用されているが、クリーンルームのスペース上全
ての装置に対してスルーザウォール方式が採用できず、
製造エリア４１でメンテナンスや薬液交換が行われ、そ
の時生じる異物の拡散により半導体ウェハが汚染される
などの問題があった。また、メンテナンス時や薬液交換
時には、ケミカル汚染の原因となる酸性溶液や有機溶液
からの蒸発ガスが多量に発生し、このような化学物質か
らの蒸発ガス等のケミカルミストは、ＨＥＰＡフィルタ
あるいはＵＬＰＡフィルタでは除去できないため拡散
し、製造工程途中の半導体ウェハがケミカル汚染される
と共に、メンテナンスのために解体された装置の内部も
ケミカル汚染されるなどの問題があった。

【０００６】この発明は、上記のような問題を解決する
ためになされたもので、装置のメンテナンスや薬液交換
時に発生する異物の拡散を防止して、製造工程途中の半
導体ウェハが異物により汚染されるのを防止すると共
に、メンテナンスのために解体された装置内部の汚染を
防止できる空調システムを有するクリーンルームを提供
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明に係わるクリー
ンルームは、外気の温湿度を制御すると共に、第一清浄
度に管理したエアを供給する外調機と、外調機により供
給されるエアを第三清浄度のエアに清浄化するエア生成
装置と、外調機から第一清浄度に管理されたエアが供給
される、動力供給設備や環境保全設備が配置されたユー
ティリティゾーンと、ユーティリティゾーンのエアが、
空気循環設備により循環されて供給される天井チャンバ
ーと、天井チャンバーのエアを第二清浄度のエアに清浄
化する天井フィルタと、製造装置や搬送装置が配置さ
れ、天井フィルタを介した第二清浄度のエアが供給され
る作業ゾーンと、作業ゾーンのエアを上記ユーティリテ
ィゾーンに排気するグレーティング床と、作業ゾーンの
天井部とグレーティング床下の所定領域に配置された一
対のエリア仕切りチャンバーと、天井部エリア仕切りチ
ャンバーに供給するエアを、天井フィルタを介した第二
清浄度のエアと、エア生成装置から供給される第三清浄
度のエアとの間で切り替えを行う天井部エアチェンジダ
クトと、床下エリア仕切りチャンバー内のエアを、ユー
ティリティゾーンに排気するか、所定の配管を介して外
部に排気するかの切り替えを行う床下エアチェンジダク
トと、天井部エリア仕切りチャンバーの下方に配置さ
れ、天井部エリア仕切りチャンバーと同じ形状のエリア
を作業ゾーンに形成できる収納式のエリア形成装置を備
え、収納式のエリア形成装置により形成されたエリア内
は、所望時に天井部エアチェンジダクトおよび天井部エ
リア仕切りチャンバーを介してエア生成装置から第三清
浄度のエアが供給、充填されるよう構成されているもの
である。

【０００８】また、作業ゾーンに配置された搬送装置は
密閉構造を有する搬送路を備え、搬送路にはエア生成装
置から第三清浄度のエアが案内路を介して直接供給され
るものである。さらに、密閉構造を有する搬送路と装置
のローダ／アンローダ部との接続部分には、開閉自在の
仕切り壁が設けられているものである。また、エア生成
装置から供給される第三清浄度のエアは、エア中の所定
の化学物質が所定の含有レベルに管理されると共に、高
清浄度に管理されたケミカルフリーエアである。また
は、エア生成装置から供給されるケミカルフリーエア
は、露点温度約−５０°Ｃ以下のケミカルドライエアで
ある。また、エアチェンジダクトは、少なくとも三カ所
以上の面に各別に開閉自在のダンパを有し、エアの流入
出を管理できるよう構成されているものである。

【０００９】また、作業ゾーン内に配置された収納式の
エリア形成装置は、所定のエリアを囲む隔離幕と、隔離
幕を巻き上げて収納するローラと、隔離幕の下部をグレ
ーティング床に固定する固定具と、開閉自在の出入口を
備え、隔離幕により形成されたエリア内は、作業ゾーン
の他の領域とは隔離されるものである。また、収納式の
エリア形成装置が、少なくとも二枚の隔離幕を有する場
合、隔離幕間を接合する接合具を有するものである。ま
た、収納式のエリア形成装置は、作業ゾーンの天井部に
設けられた走行レールに沿って移動可能なように構成さ
れているものである。または、天井部エリア仕切りチャ
ンバー、天井部エアチェンジダクトおよび収納式のエリ
ア形成装置は、作業ゾーンの天井部に設けられた走行レ
ールに沿って同時に移動可能なように構成されているも
のである。

【００１０】

【発明の実施の形態】

実施の形態１．以下、この発明の一実施の形態であるク
リーンルームを図について説明する。図１および図２は
本発明の実施の形態１を示す所望時に所定の領域にメン
テナンスエリアを形成できる可動収納式の隔離幕を具備
したクリーンルームの模式図で、図１は通常の製品製造
時において隔離幕を収納しているときの状態を示し、図
２は装置メンテナンスのために隔離幕によりメンテナン
スエリアを形成した状態を示している。

【００１１】図において、１はクリーンルーム、２は外
気を取り入れ温湿度を制御すると共に第一清浄度のエア
をユーティリティゾーン３に供給する外調機で、ユーテ
ィリティゾーン３には、動力供給設備や環境保全設備等
が配置されている。６はユーティリティゾーン３に供給
されたエアを、消音器４およびドライコイル５を介して
天井チャンバー７に循環させる循環ファン、８は天井チ
ャンバー７のエアから塵埃粒子等の異物を除去して第二
清浄度のエアに清浄化する天井フィルタで、除去する異
物の粒子径に対応してＨＥＰＡ（High Efficiency Part
iculate Air ）もしくはＵＬＰＡ（Ultra Low Penetrat
ion Air ）フィルタ等が用いられる。９は天井チャンバ
ー７から天井フィルタ８を介して第二清浄度のエアが供
給される作業ゾーンで、装置１０および装置１０の間を
繋ぐ密閉のトンネル構造を有する搬送路１１が配置され
る。密閉構造を有する搬送路１１内は、ケミカルフリー
エアもしくはケミカルフリードライエア生成装置１２か
ら供給される第三清浄度のケミカルフリーエアもしくは
ケミカルフリードライエア（露点温度−５０°Ｃ）によ
り充填されている。１３は作業ゾーン９床面のグレーテ
ィングである。

【００１２】クリーンルーム１内は、外気からの異物侵
入を防止するために、外気よりも陽圧状態に管理されて
いる。また、作業ゾーン９は、天井フィルタ８を介して
天井チャンバー７からエアが供給されると共に、作業ゾ
ーン９内のエアは、ユーティリティゾーン３に配置され
た循環ファン６により床面のグレーティング１３下に吸
引排気されるためダウンフロとなっている。また、製造
工程途中のウェハが晒される空間である搬送路１１内の
清浄度はクラス１、それ以外の作業ゾーン９内の清浄度
はクラス１０００〜１００００とし、密閉構造の搬送路
１１を導入することにより局所クリーン化を行い空調管
理のコストを押さえている。

【００１３】１４は所定のエリアを囲むように配置され
たエリア仕切りチャンバーで、１４ａは作業ゾーン９の
天井部に配置されたエリア仕切りチャンバー、１４ｂは
作業ゾーン９床面のグレーティング１３下に配置された
エリア仕切りチャンバーである。１５は流入出するエア
を切り替えるエアチェンジダクトで、１５ａは下部に連
結するエリア仕切チャンバー１４ａ内に供給するエア
を、天井フィルタ８を介して天井チャンバー７から供給
するか、ケミカルフリーエアもしくはケミカルフリード
ライエア生成装置１２等からダクト２８を介して供給す
るかを切り替えるエアチェンジダクト、１５ｂは上部に
連結されるエリア仕切チャンバー１４ｂ内のエアを、ユ
ーティリティゾーン３に排出するか、所定の配管を介し
てクリーンルーム１の外部へ排出するかを切り替えるエ
アチェンジダクトである。１６は作業ゾーン９の天井部
にあるエリア仕切りチャンバー１４ａの下に配置された
可動収納式のメンテナンスエリア形成装置で、１７はメ
ンテナンスエリア形成装置１６によって形成されるメン
テナンスエリアである。エリア仕切りチャンバー１４は
メンテナンスエリア１７と同じ領域を囲む形状に形成さ
れる。メンテナンスエリア形成装置１６はメンテナンス
エリア１７を形成する隔離幕１８、隔離幕１８を巻き上
げるローラ１９、メンテナンスエリア形成装置１６を移
動させるための搬送機２０を有している。２１はメンテ
ナンスエリア形成装置１６を移動させる走行レール、２
２は走行レール２１にメンテナンスエリア形成装置１６
を支持する支持部である。

【００１４】通常の製品製造を行う場合は、図１に示す
ように、メンテナンスエリア形成装置１６の隔離幕１８
はローラ１９により巻き上げられている。また、作業ゾ
ーン９天井部のエアチェンジダクト１５ａは、エリア仕
切チャンバー１４ａ内に天井チャンバー７から天井フィ
ルタ８を介してエアを供給し、グレーティング１３下の
エアチェンジダクト１５ｂはエリア仕切チャンバー１４
ｂ内のエアをユーティリティゾーン３に排出する状態に
設定されており、作業ゾーン９のエアは、ユーティリテ
ィゾーン３に配置された循環ファン６により床面のグレ
ーティング１３を通してユーティリティゾーン３に吸引
排気され、外調機２から供給されたエアと共に、消音器
４およびドライコイル５を介して天井チャンバー７に循
環される。

【００１５】また、装置メンテナンス等を行う場合は、
図２に示すように、メンテナンス対象装置１０ａの上方
に設けられた、メンテナンス対象装置１０ａのメンテナ
ンスエリア１７と同じ領域を囲むエリア仕切りチャンバ
ー１４ａの下に、走行レール２１に沿って支持部２２に
より支持されたメンテナンスエリア形成装置１６を搬送
してメンテナンス対象装置１０ａの上方に配置し、ロー
ラ１９により巻き上げられている隔離幕１８を引き降ろ
して隔離幕１８の下部をグレーティング１３に固定し、
メンテナンス対象装置１０ａの周囲四方を隔離幕１８に
より覆って作業ゾーン９と隔離されたメンテナンスエリ
ア１７を形成する。次に、メンテナンス対象装置１０ａ
の上方に配置されているエアチェンジダクト１５ａを切
り替えて、連結するエリア仕切チャンバー１４ａを介し
てメンテナンスエリア１７内にケミカルフリーエアもし
くはケミカルフリードライエア生成装置１２等からダク
ト２８を介してエアを供給し、メンテナンス対象装置１
０ａの下方に配置されているエアチェンジダクト１５ｂ
は、メンテナンスエリア１７のエアを連結するエリア仕
切りチャンバー１４ｂから所定の配管を介してクリーン
ルーム１の外部へ排出する状態に切り替える。その後、
メンテナンス対象装置１０ａに接続されている密閉構造
の搬送路１１を開放して装置メンテナンスを行う。

【００１６】このようにして、作業ゾーン９と隔離され
たメンテナンスエリア１７を形成して、メンテナンス時
に発生する異物の拡散を防止すると共に、メンテナンス
エリア１７内にケミカルフリーエアもしくはケミカルフ
リードライエアを供給して、通常の製品製造時にはケミ
カルフリーエア等が供給されてケミカルミスト等が除去
された清浄度の高い環境にある搬送路１１内や装置１０
ａの内部がメンテナンスのために開放されたときに汚染
（ケミカル汚染）されるのを防止する。また、隔離幕１
８に覆われたメンテナンスエリア１７内で作業を行う作
業者は、安全上専用の作業衣、例えば密閉式で内部に酸
素が供給できる構造を有する作業衣を着用する。

【００１７】図３はエアチェンジダクトを示す斜視図で
ある。図において、２４はセクタギア２５およびラック
２６を介してエアシリンダ２７により開閉されるダンパ
である。エアチェンジダクト１５は直方体の形状を有
し、上面と下面、および四個の側面内少なくともーつの
面にダンパ２４が形成され、ダンパ２４を開くことによ
りその面からエアを流入出でき、ダンパ２４を閉じるこ
とによりその面からエアが流入出しない等ダクトに流入
出するエアを切り替える機能を有している。本実施の形
態では、通常の製品製造時には、天井部のエアチェンジ
ダクト１５ａは上面と下面に設けられたダンパ２４を開
にして、天井チャンバー７のエアを下部に連結するエリ
ア仕切りチャンバー１４ａに供給し、メンテナンス時に
は、天井部のエアチェンジダクト１５ａの上面に設けら
れたダンパ２４を閉にし、ケミカルフリーエアもしくは
ケミカルフリードライエア生成装置１２からエアが供給
される配管２８に接続された側面のダンパ２４と下面の
ダンパ２４を開にして、ケミカルフリーエアもしくはケ
ミカルフリードライエア生成装置１２から供給されるエ
アを隔離幕１８で隔離されたメンテナンスエリア１７に
供給する。なお、ダンパ２４の駆動源としてエアシリン
ダ２７を用いたが、他の駆動源を用いてもよい。また、
本実施の形態では、ダンパ２４の開閉により二種類のエ
アの流入を切り替えたが、直方体形状のエアチェンジダ
クト１５を用いた場合、最大五種類のエアの流入出が可
能である。

【００１８】クリーンルーム内は、半導体装置製造工程
の前工程等で使用されており、エリア別、例えばパター
ン形成工程エリア、酸化工程エリア、拡散工程エリア、
イオン注入工程エリア等に区分けされている。図４はク
リーンルームのーつのエリアにおけるメンテナンスエリ
ア形成装置の搬送について説明するためのクリーンルー
ムの平面模式図である。クリーンルーム１の作業ゾーン
９の天井部には、装置１０ａ、ｂ、・・ｈ間を繋ぐように
Ｘ軸方向およびＹ軸方向に走行レール２１が設けられて
おり、その上方には、各装置１０ａ、ｂ、・・ｈに対して
メンテナンスを行う場合に、そのメンテナンスエリア１
７の空調システムを切り替えるためのエアチェンジダク
ト１５ａとエリア仕切りチャンバー１４ａが配置され、
各々のエアチェンジダクト１５ａは、ケミカルフリーエ
アもしくはケミカルフリードライエア生成装置１２から
エアが供給されるダクト２８に接続されている。また、
走行レール２１の下方には、メンテナンスエリア形成装
置１６の搬送機２０が、搬送機２０の中心部に取り付け
られた支持部２２により支持されていると共に、搬送機
２０は支持部２２を可動部として走行レール２１に沿っ
て移動できる構造を有している。その結果、メンテナン
スエリア形成装置１６を搬送機２０により移動させるこ
とにより、ーつのメンテナンスエリア形成装置１６によ
って複数の装置１０ａ、ｂ、・・ｈに対してメンテナンス
エリア１７を形成し装置メンテナンスを行うことができ
る。なお、メンテナンスエリア形成装置１６を有する搬
送機２０を複数設置することにより、複数の装置１０
ａ、ｂ、・・ｈを同時にメンテナンスすることができる。

【００１９】次に、メンテナンスエリア１７の形成方法
について説明する。図５はメンテナンスエリア形成装置
１６によりメンテナンスエリア１７を形成した状態を示
す斜視図である。図において、２９は隔離幕１８をグレ
ーティング１３に固定するためのフック、３０は隔離幕
１８間を接合するためのファスナー、３１は隔離幕１８
に設けられたファスナー開閉式の扉、３２は装置１０の
ローダ／アンローダ部で、密閉構造を有する搬送路１１
と接続されている。３３はローダ／アンローダ部３２の
両側の密閉構造を有する搬送路１１内に設けられた開閉
自在の仕切り壁である。

【００２０】まず、搬送機２０によりメンテナンス対象
装置１０ａの上方にメンテナンスエリア形成装置１６を
搬送し、例えば矩形状の搬送機２０の四辺に備えられた
ローラ１９により巻き上げられて収納状態にある隔離幕
１８を順次引き降ろし、四枚の隔離幕１８を、隔離幕１
８の下部に取り付けられているフック２９によりグレー
ティング１３に固定して、四枚の隔離幕１８により囲ま
れたメンテナンスエリア１７を形成する。また、隔離幕
１８によるメンテナンスエリア１７の密閉度を向上させ
るために、四枚の隔離幕１８の間を例えばファスナー３
０により接合する。また、隔離幕１８の一部にファスナ
ー開閉式の扉３１を設けることにより、メンテナンスエ
リア１７への作業者の出入りを可能にする。次に、メン
テナンス対象装置１０ａの上方および下方に設けられた
エアチェンジダクト１５ａおよび１５ｂを、メンテナン
スエリア１７内にケミカルフリーエアもしくはケミカル
フリードライエア生成装置１２からエアを供給すると共
に、メンテナンスエリア１７のエアを所定の配管を介し
てクリーンルーム１の外部へ排出するように切り替え
る。次に、メンテナンス対象装置１０ａのローダ／アン
ローダ部３２の両側に設けられた仕切り壁３３を閉じ
て、メンテナンス部分以外の搬送路１１内部が汚染され
るのを防止する。次に、メンテナンス対象装置１０ａの
ローダ／アンローダ部３２を開口してメンテナンスを行
う。

【００２１】この発明によれば、メンテナンスエリア１
７を形成する隔離幕１８をローラ１９で巻き上げること
により収納が可能で、かつ、作業ゾーン９の天井部に設
けられた走行レール２１と搬送機２０により移動が可能
なメンテナンスエリア形成装置１６をクリーンルーム１
内に具備すると共に、メンテナンスエリア形成装置１６
により形成されたメンテナンスエリア１７内に、必要に
応じて作業ゾーン９に供給されるエアとは異なるエア、
例えばケミカルフリーエアもしくはケミカルフリードラ
イエア等を供給できる空調システムを有し、装置１０の
メンテナンス時や薬液交換時には、メンテナンスエリア
形成装置１６を必要な場所に移動してメンテナンスエリ
ア１７を形成すると共に、メンテナンスエリア１７内に
必要な清浄度のエア、例えばケミカルフリーエアやケミ
カルフリードライエアを供給することにより、装置１０
のメンテナンスや薬液交換時に発生する異物の拡散を防
止できると共に、通常の製品製造時にはケミカルフリー
エア等が供給されケミカルミスト等が除去された清浄度
の高い環境にある搬送路１１内や装置１０内部が装置メ
ンテナンスのために解体されたときにケミカルミスト等
により汚染されるのを防止することができる。

【００２２】実施の形態２．実施の形態１では、エリア
仕切りチャンバー１４ａおよびエアチェンジダクト１５
ａは各製造装置１０毎に設け固定としたが、図６および
図７に示すように、エリア仕切りチャンバー３４ａおよ
びエアチェンジダクト３５ａをメンテナンスエリア形成
装置１６の搬送機３６と一体に構成し、支持部３７によ
り同時に支持して作業ゾーン９の天井部に設けられた走
行レール３８に沿って所定の場所に搬送する方式として
も、実施の形態１と同様の効果が得られると共に、エリ
ア仕切りチャンバー３４ａおよびエアチェンジダクト３
５ａを各製造装置毎に作製する必要がないため、設備コ
ストを低減することができる。

【００２３】図６は通常の製品製造時において隔離幕を
収納しているときの状態を示し、図７は装置メンテナン
スのために隔離幕によりメンテナンスエリアを形成した
状態を示している。また、図８はクリーンルームのーつ
のエリアにおけるメンテナンスエリア形成装置およびエ
リア仕切りチャンバー、エアチェンジダクトの搬送につ
いて説明するためのクリーンルームの平面模式図であ
る。図において、３４ａおよび３５ａはメンテナンスエ
リア形成装置１６の搬送機３６と一体に構成されて支持
部３７により同時に支持され、作業ゾーン９の天井部に
設けられた走行レール３８に沿って移動が可能なエリア
仕切りチャンバーおよびエアチェンジダクト、３９はケ
ミカルフリーエアもしくはケミカルフリードライエア生
成装置１２からエアチェンジダクト３５ａにエアを供給
するフレキシブルダクトである。なお、その他の構成お
よび機能は実施の形態１と同様であるので説明を省略す
る。また、エアチェンジダクト３５ａの構成および機能
は実施の形態１のエアチェンジダクト１５ａと同様であ
るので説明を省略する。

【００２４】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、クリ
ーンルームの作業ゾーンの天井部に移動および収納可能
なメンテナンスエリア形成装置と、メンテナンスエリア
形成装置により形成されたメンテナンスエリア内に必要
な清浄度のエアを供給できる空調システムを有し、装置
のメンテナンス時や薬液交換時には、メンテナンスエリ
ア形成装置を必要な場所に移動してメンテナンスエリア
を形成することにより、装置のメンテナンスや薬液交換
時に発生する異物の拡散を防止して製造工程途中の半導
体ウェハの汚染を防止できると共に、メンテナンスエリ
ア内に必要な清浄度のエア、例えばケミカルフリーエア
やケミカルフリードライエアを供給することにより、通
常の製品製造時にはケミカルフリーエア等が供給され清
浄度の高い環境にある搬送路内や装置内部が、メンテナ
ンスのために解体されたときにケミカルミスト等により
汚染されるのを防止できるため、半導体装置の品質およ
び歩留りを向上できると共に、クリーンルームの省スペ
ース化および局所クリーン化による空調コストの低減が
可能なクリーンルームを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１を示すクリーンルー
ムの模式図である。

【図２】 この発明の実施の形態１を示すクリーンルー
ムの模式図である。

【図３】 この発明の実施の形態１によるクリーンルー
ムのエアチェンジダクトを示す斜視図である。

【図４】 この発明の実施の形態１を示すクリーンルー
ムの平面模式図である。

【図５】 この発明の実施の形態１によるクリーンルー
ムのメンテナンスエリア形成装置を示す斜視図である。

【図６】 この発明の実施の形態２を示すクリーンルー
ムの模式図である。

【図７】 この発明の実施の形態２を示すクリーンルー
ムの模式図である。

【図８】 この発明の実施の形態２を示すクリーンルー
ムの平面模式図である。

【図９】 従来のこの種クリーンルームを示す模式図で
ある。

【符号の説明】

１ クリーンルーム、２ 外調機、３ ユーティリティ
ゾーン、４ 消音器、５ ドライコイル、６ 循環ファ
ン、７ 天井チャンバー、８ 天井フィルタ、９ 作業
ゾーン、１０ 装置、１１ 搬送路、１２ ケミカルフ
リーエアもしくはケミカルフリードライエア生成装置、
１３ グレーティング、１４ エリア仕切りチャンバ
ー、１５ エアチェンジダクト、１６ メンテナンスエ
リア形成装置、１７ メンテナンスエリア、１８ 隔離
幕、１９ ローラ、２０ 搬送機、２１ 走行レール、
２２ 支持部、２４ ダンパ、２５ セクタギア、２６
ラック、２７ エアシリンダ、２８ ダクト、２９
フック、３０ ファスナー、３１ 扉、３２ ローダ／
アンローダ部、３３ 仕切り壁、３４ａ エリア仕切り
チャンバー、３５ａ エアチェンジダクト、３６ 搬送
機、３７ 支持部、３８ 走行レール、３９ フレキシ
ブルダクト。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 外気の温湿度を制御すると共に、第一清
   浄度に管理したエアを供給する外調機と、 上記外調機により供給されるエアを第三清浄度のエアに
   清浄化するエア生成装置と、 上記外調機から第一清浄度に管理されたエアが供給され
   る、動力供給設備や環境保全設備が配置されたユーティ
   リティゾーンと、 上記ユーティリティゾーンのエアが、空気循環設備によ
   り循環されて供給される天井チャンバーと、 上記天井チャンバーのエアを第二清浄度のエアに清浄化
   する天井フィルタと、 製造装置や搬送装置が配置され、上記天井フィルタを介
   した第二清浄度のエアが供給される作業ゾーンと、 上記作業ゾーンのエアを上記ユーティリティゾーンに排
   気するグレーティング床と、 上記作業ゾーンの天井部とグレーティング床下の所定領
   域に配置された一対のエリア仕切りチャンバーと、 上記天井部エリア仕切りチャンバーに供給するエアを、
   上記天井フィルタを介した第二清浄度のエアと、上記エ
   ア生成装置から供給される第三清浄度のエアとの間で切
   り替えを行う天井部エアチェンジダクトと、 上記床下エリア仕切りチャンバー内のエアを、上記ユー
   ティリティゾーンに排気するか、所定の配管を介して外
   部に排気するかの切り替えを行う床下エアチェンジダク
   トと、 上記天井部エリア仕切りチャンバーの下方に配置され、
   上記天井部エリア仕切りチャンバーと同じ形状のエリア
   を上記作業ゾーン内に形成できる収納式のエリア形成装
   置を備え、上記収納式のエリア形成装置により形成され
   たエリア内は、所望時に上記天井部エアチェンジダクト
   および上記天井部エリア仕切りチャンバーを介して上記
   エア生成装置から第三清浄度のエアが供給、充填される
   よう構成されていることを特徴とするクリーンルーム。
2. 【請求項２】 作業ゾーンに配置された搬送装置は密閉
   構造を有する搬送路を備え、上記搬送路にはエア生成装
   置から第三清浄度のエアが案内路を介して直接供給され
   ることを特徴とする請求項１記載のクリーンルーム。
3. 【請求項３】 密閉構造を有する搬送路と装置のローダ
   ／アンローダ部との接続部分には、開閉自在の仕切り壁
   が設けられていることを特徴とする請求項２記載のクリ
   ーンルーム。
4. 【請求項４】 エア生成装置から供給される第三清浄度
   のエアは、エア中の所定の化学物質が所定の含有レベル
   に管理されると共に、高清浄度に管理されたケミカルフ
   リーエアであることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
   か一項記載のクリーンルーム。
5. 【請求項５】 エア生成装置から供給されるケミカルフ
   リーエアは、露点温度約−５０℃のケミカルフリーのド
   ライエアであることを特徴とする請求項４記載のクリー
   ンルーム。
6. 【請求項６】 エアチェンジダクトは、少なくとも三カ
   所以上の面に各別に開閉自在のダンパを有し、エアの流
   入出を管理できるよう構成されていることを特徴とする
   請求項１〜５のいずれか一項記載のクリーンルーム。
7. 【請求項７】 作業ゾーン内に配置された収納式のエリ
   ア形成装置は、所定のエリアを囲む隔離幕と、上記隔離
   幕を巻き上げて収納するローラと、上記隔離幕の下部を
   グレーティング床に固定する固定具と、開閉自在の出入
   口を備え、上記隔離幕により形成されたエリア内は、作
   業ゾーンの他の領域とは隔離されることを特徴とする請
   求項１〜６のいずれか一項記載のクリーンルーム。
8. 【請求項８】 収納式のエリア形成装置が、少なくとも
   二枚の隔離幕を有する場合、上記隔離幕間を接合する接
   合具を有することを特徴とする請求項７記載のクリーン
   ルーム。
9. 【請求項９】 収納式のエリア形成装置は、作業ゾーン
   の天井部に設けられた走行レールに沿って移動可能なよ
   うに構成されていることを特徴とする請求項１〜８のい
   ずれか一項記載のクリーンルーム。
10. 【請求項１０】 天井部エリア仕切りチャンバー、天井
    部エアチェンジダクトおよび収納式のエリア形成装置
    は、作業ゾーンの天井部に設けられた走行レールに沿っ
    て同時に移動可能なように構成されていることを特徴と
    する請求項１〜８のいずれか一項記載のクリーンルー
    ム。