KR20060048360A - 청정실, 국소 청정화시스템, 그 사용방법 및 청정실감시시스템 - Google Patents
청정실, 국소 청정화시스템, 그 사용방법 및 청정실감시시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060048360A KR20060048360A KR1020050050996A KR20050050996A KR20060048360A KR 20060048360 A KR20060048360 A KR 20060048360A KR 1020050050996 A KR1020050050996 A KR 1020050050996A KR 20050050996 A KR20050050996 A KR 20050050996A KR 20060048360 A KR20060048360 A KR 20060048360A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- clean room
- area
- local
- cleansing
- semiconductor device
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67733—Overhead conveying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
본 발명은, 청정실 내의 필요한 영역에 필요한 청정도를 갖는 국소적인 청정화 영역을 단시간에 간편하게 구축할 수 있는, 청정실, 국소 청정화시스템, 그 사용방법 및 청정실 감시시스템을 실현할 수 있도록 하는 것이다.
청정실 내에 격자형으로 배치된 반송용 레일(6)과, 반송용 레일(6)을 따라 자유롭게 이동시킬 수 있는 자동추진식 팬 필터유닛(8)에 의해, 청정실 내 임의의 영역에 필요한 청정도를 갖는 국소 청정화영역(20)을 형성할 수 있다. 또 국소 청정화영역(20)을 둘러싸도록 자동추진식 구획유닛(9)을 배치함으로써, 국소 청정화영역(20)을 다른 영역으로부터 분리시킬 수 있다.
Description
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 관한 국소 청정화시스템을 구비한 청정실 구조를 나타내는 단면개략도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 관한 국소 청정화시스템을 구비한 청정실을 상부 방향에서 본 평면배치도.
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 관한 국소 청정화시스템을 구비한 청정실을 상부 방향에서 본 평면배치도.
도 4는 본 발명의 제 3 실시예에 관한 청정실 감시시스템을 구비한 청정실 구조를 나타내는 단면개략도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 시스템 천정 2 : 고정 팬필터 유닛
3 : 공조형 바닥(free access floor) 4 : 회수관(return duct)
5 : 드라이코일 유닛 6 : 반송용 레일
7 : 보관영역 8 : 자동추진식 팬필터 유닛
9 : 자동추진식 구획유닛 11 : 커튼 단부
12 : 가스검지장치 13 : 시각확인용 카메라장치
14 : 반도체장치 제조설비 16 : 반출경로
17: 반출입구 20 : 국소청정화 영역
21 : 에어커튼 유닛 22 : 롤커튼 유닛
24 : 자동추진식 감시유닛
본 발명은 반도체장치를 제조하는 제조공장에 있어서의 청정실, 국소 청정화시스템, 그 사용방법 및 청정실 감시시스템에 관한 것이다.
반도체프로세스의 미세화에 더불어, 프로세스환경의 청정도에 대한 요구가 높아지고 있다. 때문에 저원가이며 제어성 좋게 청정도를 조정할 수 있는 국소 청정화(mini-environment)방식의 채용이 증가하고 있다.
국소 청정화 방식에서, 반도체기판을 분위기 중에 노출시키는 국소영역인 국소 청정화영역 내의 청정도는 클래스 1(입경 0.1㎛ 이상의 이물질이 0.028㎥(1 입방피트) 당 1 개 이하)로 설정되며, 그 이외 영역의 청정도는 클래스 1000(입경 0.1㎛ 이상의 이물질이 0.028㎥ 당 1000 개 이하) 정도로 설정된 청정실을 이용하는 것이 일반적이다.
그러나 설비보수나 문제에 대응할 때는, 국소 청정화영역 내 또는 처리챔버 내가, 반도체기판을 노출시키는 것을 상정하지 않은, 낮은 청정도의 분위기에 노출 되므로, 국소 청정화영역 등의 내부가 오염될 우려가 있다. 또 역으로 설비보수 작업 시에 발생하는 입자 등으로 주변 환경이 오염될 우려도 있다.
이를 방지하기 위해, 지주와 팬필터 유닛, 및 비닐커튼으로 구성되는 간이 이동식 국소청정부스(booth)를 형성하여, 임의의 영역에 고청정도의 영역을 준비하는 방법이 알려졌다(일특개평 4-347435호 공보 참조).
그러나 이와 같은 국소청정부스를 조립하는 방법은, 현지반입 및 조립에 많은 인원과 시간을 필요로 하므로, 일상적인 설비보수에 사용하기에는 적합하지 못하다는 문제가 있다. 또 청정실 면적의 효율적 이용을 위해 반도체장치 제조설비는 가능한 한 밀집되어 있기 때문에, 지주를 필요로 하는 국소청정부스를 청정실 내에 설치하는 것은 매우 어려울뿐더러, 국소청정부스 구축 시에 주위 환경을 오염시킨다는 문제도 있다.
본 발명은, 상기 종래의 문제를 해결하여, 청정실 내의 필요한 영역에 필요한 청정도를 갖는 국소적인 청정영역을 단시간에 간편하게 구축할 수 있는 국소청정화 시스템, 그 사용방법 및 청정실 감시시스템을 실현할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 국소 청정화 시스템을, 청정실 내에 설치된 반송용 레일을 따라 자동 추진되는 팬필터 유닛에 의해 국소 청정화 영역이 형성되는 구성으로 한다.
구체적으로 본 발명의 청정실은, 내부에 반도체장치의 제조설비가 설치되며, 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 청정실은, 천장 아래쪽에 반송용 레일이 격자형으로 배치되므로, 인력에 따르지 않고, 청정실 내 임의의 위치에 자재, 부품, 장치 등을 반송할 수 있으므로, 인간의 이동에 의해 발생하는 청정실 내의 오염을 방지할 수 있다. 또 반송용 레일을 이용하여 팬필터 유닛을 이동시킴으로써, 청정실 내에 국소적으로 고청정도의 영역을 형성할 수 있다. 따라서 인력절감과 청정도 향상의 양립이 가능해져, 반도체장치의 제조에 적합한 청정실을 실현할 수 있다.
본 발명의 국소 청정화시스템은, 청정실에서 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과, 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 팬필터 유닛을 구비하며, 자동추진식 팬필터 유닛을, 반송용 레일을 이용하여 청정실 내의 소정 영역으로 이동시킴으로써, 청정실 내의 소정 영역에 이 소정 영역을 제외한 영역에 비해 청정도가 높은 국소 청정화 영역을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 국소 청정화시스템에 의하면, 청정실 내에 격자형으로 배치된 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 팬필터 유닛을 구비하므로, 팬필터 유닛을 이동시키는 것만으로 청정실 내의 소정 위치에 소정 넓이의 국소 청정화 영역을 단시간에 간편하게 형성할 수 있다. 따라서 설비보수 시나 이상 발생 시에 신속하게 대응할 수 있으며, 그 결과 설비 생산성을 향상시킬 수 있다.
또 국소청정부스와 같이 지주를 설치할 장소를 확보할 필요가 없으므로, 청정실 내의 면적을 효과적으로 이용할 수 있게 된다. 또한 조립작업이 필요 없어 인 력절감이 가능함과 동시에 조립작업에 따르는 청정실 오염을 방지할 수 있다.
본 발명의 국소 청정화시스템에 있어서, 자동추진식 팬필터 유닛은, 입자제거용 필터 및 화학필터 중 적어도 1 가지를 구비하는 것이 바람직하다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 필요한 청정도의 환경을 확실하게 구축할 수 있다.
본 발명의 국소 청정화시스템은, 반송용 레일을 따라 반송 가능하며 또 공기 흐름을 차단하는 파티션(partition)을 형성하는 자동추진식 구획유닛을 추가로 구비하며, 자동추진식 구획유닛을 국소 청정화영역의 주위에 배치함으로써, 국소 청정화영역과 이 국소 청정화영역을 제외한 영역 사이의 공기 흐름을 차단하는 것이 바람직하다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 국소 청정화 영역 내에 다른 영역으로부터 공기가 유입됨으로써, 국소 청정화영역 내의 청정도가 저하되는 것을 확실하게 방지할 수 있다.
또 이 경우에, 자동추진식 구획유닛은, 공기를 분출시켜 에어커튼을 형성하는 에어커튼 유닛인 것이 바람직하다. 또한 롤 커튼을 수납 가능하게 탑재한 롤 커튼유닛이라도 된다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 확실하게 국소 청정화영역과 다른 영역을 구획할 수 있다.
본 발명의 국소 청정화시스템은, 자동추진식 팬필터 유닛 및 자동추진식 구획유닛을 수납하는 수납영역이 청정실 외부에 배치되는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써 청정실 내의 면적을 효과적으로 이용할 수 있다.
본 발명의 제 1 국소 청정화시스템 사용방법은, 반도체장치의 제조설비가 설치된 청정실에, 청정실 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과, 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 팬필터 유닛을 구비하며, 자동추진식 팬필터 유닛을 반송용 레일을 이용하여 청정실 내의 소정 영역으로 이동시킴으로써, 청정실 내의 소정 영역에 이 소정 영역을 제외한 영역에 비해 청정도가 높은 국소 청정화 영역을 형성하는 국소 청정화 시스템이 설비된 경우에 있어서, 청정실 내의 반도체장치 제조설비가 설치된 영역에 국소 청정화 영역을 형성하는 공정과, 국소 청정화 영역에서 반도체장치의 제조설비를 보수하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제 1 국소 청정화시스템 사용방법에 의하면, 본 발명의 국소 청정화시스템을 이용하여, 반도체장치 제조설비의 주변영역을 국소적으로 청정화하므로, 보수를 실시하는 반도체장치 제조설비의 주변을 간단하며 신속하게 소정 청정도로 할 수 있다. 따라서 보수에 따르는 공정 수를 대폭으로 삭감할 수 있음과 더불어, 보수 시에 반도체장치 제조설비가 오염되는 것을 방지할 수 있다.
제 1 국소 청정화시스템 사용방법은, 반도체장치의 제조설비를 보수하는 공정에서 사용하는 부품, 지그 또는 비품을, 반송용 레일을 이용하여 국소 청정화 영역으로 반송하는 공정을 추가로 구비하는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 보수용 자재의 반입이 용이해짐과 동시에 환경 오염을 방지할 수 있다.
본 발명의 제 2 국소 청정화시스템 사용방법은, 반도체장치의 제조설비가 설치된 청정실에, 이 청정실 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과, 이 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 팬필터 유닛을 구비하며, 자동추진식 팬필터 유닛을, 반송용 레일을 이용하여 청정실 내의 소정 영역으로 이동시킴으로써, 청정실 내의 소정 영역에 이 소정 영역을 제외한 영역에 비해 청정도가 높은 국소 청정화 영역을 형성하는 국소 청정화 시스템이 설비된 경우에 있어서, 청정실에 형성된 반출입구 부근의 영역 및 반출입경로가 될 영역에 국소 청정화 영역을 형성하는 공정과, 국소 청정화 영역이 된 반출입경로를 따라 반도체장치의 제조설비를 반출입하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.
제 2 국소 청정화시스템 사용방법에 의하면, 본 발명의 국소 청정화시스템을 이용하여, 국소 청정화영역을 반도체장치의 제조설비를 반출입하는 반출입구 부근 및 반출입경로에 배치하기 때문에, 매우 용이하게 설비 반출입구 및 반출입경로를 국소적으로 청정화할 수 있으므로, 청정한 환경을 유지한 채 설비의 반입 및 반출이 가능하다. 또 반출입구 및 반출입경로와 청정실 내의 다른 영역 사이의 공기 흐름을 차단할 수 있으므로, 설비의 반입 및 반출 시에 청정실 내가 오염되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 제 3 국소 청정화시스템 사용방법은, 반도체장치의 제조설비가 설치된 청정실에, 이 청정실 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과, 이 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 팬필터 유닛을 구비하며, 자동추진식 팬필터 유닛을, 반송용 레일을 이용하여 청정실 내의 소정 영역으로 이동시킴으로써, 청정실의 소정 영역에 이 소정 영역을 제외한 영역에 비해 청정도가 높은 국소 청정화 영역을 형성하는 국소 청정화 시스템이 설비된 경우에 있어서, 청정실 내에서 반도체장치가 제조되는 영역에 국소 청정화 영역을 형성하는 공정과, 국소 청정화 영역에서 반도체장치를 제조하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.
제 3 국소 청정화시스템 사용방법에 의하면, 반도체기판이 노출되는 영역을, 본 발명의 국소 청정화 시스템을 이용하여 국소적으로 청정화 하므로, 반도체기판이 분위기에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다. 또 청정실 전체를 고도로 청정화시킬 필요가 없으므로, 반도체기판 제조설비의 경제적인 구성이 가능해진다.
본 발명의 청정실 감시시스템은, 청정실의 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과, 가스검지장치 또는 시각확인용 카메라장치를 탑재하며, 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 감시유닛과, 청정실 외부에 설치되며, 자동추진식 감시유닛의 이동 및 모니터링을 실행하는 자동추진식 감시유닛 제어장치를 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 청정실 감시시스템에 의하면, 청정실 내에 격자형으로 배치된 레일을 따라 반송 가능한, 가스검지기구 및 시각확인용 카메라를 탑재한 자동추진식 감시유닛을 이용하므로, 감시유닛을 청정실 내 임의의 위치로 용이하게 이동시킬 수 있으므로, 감시유닛에 의해 청정실 내 상황의 적확한 감시가 가능해진다.
상술한 목적 및 기타의 목적과 본 발명의 특징 및 이점은 첨부 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통해 보다 분명해질 것이다.
(실시예)
(제 1 실시예)
본 발명의 제 1 실시예에 대해 도면을 참조하면서 설명하기로 한다. 도 1은 본 발명의 국소 청정화 시스템을 구비한 청정실의 단면구성을 나타낸다. 도 1에 나타내는 바와 같이 청정실의 시스템천장(1)에는, 필터부와 팬부로 이루어지는 고정 팬필터 유닛(2)이 배치되며, 고정 팬필터 유닛(2)으로부터 프리액세스플로어(free access floor)(3)를 향해 다운플로우(층류(laminar flow)) 방식으로 청정공기를 공급한다. 프리액세스플로어(3)는 격자형으로 구성되며, 고정 팬필터 유닛(2)으로부터 공급된 청정공기는 격자 눈금을 통해 바닥 밑으로 빠진다. 바닥 밑으로 빠진 청정공기는, 청정실의 내벽과 외벽 사이에 형성된 회수관(return duct)(4)으로 회수되고, 계속해서 회수관(4) 내에 형성된 건조코일 유닛(5)에 의해 공조된 후, 고정 팬필터 유닛(2)으로 재공급되어 청정실 내를 순환한다. 이와 같은 구성에 의해 청정실 내의 환경을, 클래스 1000(입경 0.1㎛ 이상의 이물질이 0.028㎥ 당 1000 개 이하)으로 한다.
시스템천장(1)과 공조형 바닥(3) 사이에는 반송용 레일(6)이 시스템천장(1)에서 현수 설치되며, 필터부와 팬부가 내장된 반송체인 자동추진식 팬필터 유닛(8)을, 반송용 레일(6)을 따라 자동 추진시킬 수 있다. 반송용 레일(6)은, 청정실 내의 모든 영역에 격자형으로 배치되며, 반송체를 반송용 레일(6)을 따라 청정실 내 임의의 위치로 이동시킬 수 있다. 또 반송용 레일(6)의 일부는, 청정실 밖에 설치된 외부 보관영역(7)까지 연장되어, 사용하지 않는 반송체를 수납할 수 있다. 여기서 반송용 레일(6)에는, 통상 사용되는 임의형식의 반송용 레일을 이용할 수 있으며, 예를 들어 레일 위를 반송체가 주행하는 형식의 반송용 레일 또는 레일 아래로 반송체를 걸어 매는 형식의 반송용 레일을 이용하면 된다.
자동추진식 팬필터 유닛(8)은 반송용 레일(6)의 격자크기에 맞추어 설계되며, 복수의 자동추진식 팬필터 유닛(8)을 조합시켜 격자를 따라 배열할 수 있다. 따라서 필요 수량의 자동추진식 팬필터 유닛(8)을 필요한 위치로 이동시킴으로써, 청정실 내 임의의 영역에 국소 청정화영역(20)을 형성할 수 있다. 또 사용하지 않는 자동추진식 팬필터 유닛(8)은 청정실 밖에 설치된 외부 보관영역(7)으로 이동시켜 보관할 수 있다.
자동추진식 팬필터 유닛(8)의 필터부에 사용하는 필터로는, 형성할 국소 청정화영역(20)의 청정도에 따라, 입자제거용 필터인 헤파(HEPA)필터 또는 울파(ULPA)필터 등을 이용하면 된다. 또 필요에 따라 화학물질을 제거하는 화학필터를 단독 또는 입자제거용 필터와 조합시켜 사용해도 된다.
또 팬부의 운전, 정지 및 풍량조정 등을 각 유닛별로 독립시켜 실행할 수 있도록 함으로써, 국소 청정화영역(20) 내의 공기 흐름을 균일하게 하여 보다 고도의 청정도를 달성하기가 가능해진다. 또한 불필요한 유닛을 정지시킴으로써 절전도 가능하다.
그리고 국소 청정화영역(20) 주위에 자동추진식 구획유닛(9)을 배치함으로써, 국소 청정화영역(20)과 다른 영역 사이의 공기 흐름을 차단할 수 있다. 이로써 국소 청정화영역(20) 안이 외부로부터 오염되는 것을 방지할 수 있음과 더불어, 국소 청정화영역(20) 내에서 보수를 실시할 때 오염물질이 발생할 경우에도 오염물질의 외부로의 확산을 방지할 수 있다.
자동추진식 구획유닛(9)으로는, 예를 들어 에어커튼 유닛(21)이나 롤 커튼 유닛(22) 등을 이용할 수 있다. 에어커튼 유닛(21)은, 공조형 바닥(3)을 향해 임의의 풍량으로 청정공기를 분출하는 팬을 반송체에 탑재시킨 유닛이며, 각 유닛별로 독립시켜 풍량 조정이 가능하다.
롤 커튼 유닛(22)은 염화비닐, 폴리에틸렌텔레프탈레이트 또는 불소수지 등으로 이루어진 대전방지 시트인 커튼을 수납 가능하게 탑재시킨 반송체의 유닛이며, 각 유닛별로 커튼을 인출시켜, 공조형 바닥(3)을 향해 임의의 위치까지 커튼의 전개가 가능하다. 또 커튼 단부(11)는 공조형 바닥(3)에 고정시킬 수 있다.
다음으로 본 실시예의 국소 청정화 시스템의 사용방법에 대해 설명한다. 도 2는 자동추진식 팬필터 유닛(8)과 자동추진식 구획유닛(9)으로 형성된 국소 청정화영역(20)을 청정실 상부 방향에서 본 평면배치를 나타낸다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 반도체장치 제조설비(14)가 설치된 영역 상부에서의 반송용 레일(6) 각 격자에는, 20 개의 자동추진식 팬필터 유닛(8)이 배치되어, 반도체장치 제조설비(14) 주위에 국소 청정화영역(20)이 형성된다.
자동추진식 팬필터 유닛(8)의 필터부에는 울파필터가 이용되어, 국소 청정화영역(20)의 내부는 클래스 1(입경 0.1㎛ 이상의 이물질이 0.028㎥ 당 1 개 이하)의 청정도로 설정된다. 따라서 예를 들어 반도체장치 제조설비(14)의 챔버 내를 보수할 경우에도, 챔버 내가 분위기에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다.
또 국소 청정화영역(20)을 둘러싸도록 16 개의 자동추진식 구획유닛(9)이 배치되어, 국소 청정화영역(20)은 다른 영역으로부터 분리된다. 이로써 국소 청정화영역(20)의 내부로 외부로부터 오염물질이 침입하는 것을 방지할 수 있음과 동시에, 보수작업 시 발생한 오염물질이 외부로 확산되는 것을 방지할 수 있다.
또한 반도체장치 제조설비(14)를 완전히 국소 청정화영역(20) 내로 하는 예 를 나타내지만, 필요에 따라 반도체장치 제조설비(14)의 보수를 실시할 일부분의 영역만을 국소 청정화해도 된다.
또 국소 청정화영역(20) 내부의 청정도는, 내부에서 실시하는 작업에 따라 필요한 청정도로 설정하면 된다. 청정도 제어는, 국소 청정화영역(20)에 배치되는 자동추진식 팬필터 유닛(8)의 수량과 필터부에 이용하는 필터의 종류 및 공급할 청정공기의 유량 등에 따라 실시할 수 있다. 또한 외부로의 오염물질 확산을 방지하는 구획유닛(9)만을 배치해도 된다.
그리고 보수 시에 이용하는 부품, 지그, 공구 또는 자재 등을 범용 반송유닛에 적재하고 반송용 레일(6)을 이용하여 반송함으로써, 청정실 내의 인간 이동을 최대한 줄일 수 있으므로, 청정실 내 및 국소 청정화영역 내의 오염을 보다 저감할 수 있게 된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 실시예의 국소 청정화 시스템에 의하면, 단시간에 간편하게 청정실 내 임의의 영역을, 필요로 하는 청정도를 갖는 국소 청정화영역으로 할 수 있음과 동시에, 국소 청정화영역과 다른 영역을 분리시킬 수 있으므로, 제조설비의 보수 등을 신속하게 실시할 수 있으므로, 반도체장치 제조설비의 가동률을 높일 수 있다. 또 보수 시에 제조설비가 오염되거나, 역으로 주변환경이 오염되거나 하는 것을 방지할 수 있으므로, 반도체장치 제조공정의 수율을 향상시킬 수 있다.
(제 2 실시예)
이하에 본 발명의 제 2 실시예에 대해 도면을 참조하면서 설명한다. 도 3은 본 발명의 국소 청정화시스템을 구비한 청정실로부터 설비를 반출할 때의 상태를 상부 방향에서 본 평면배치를 나타낸다. 또 도 3에서 도 2와 동일 구성요소에 대해서는 동일 부호를 부여함으로써 설명을 생략한다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 반출할 반도체장치 제조설비(14)로부터 반출입구(17)까지의 반출경로(16) 상부에는 자동추진식 팬필터 유닛(8)이 빈틈없이 배치되어, 반출입구(17) 부근 및 반출경로(16)에 해당하는 영역의 청정도를 다른 영역에 비해 높인다. 이로써 반출작업 시에 반도체장치 제조설비가 오염되는 것을 방지할 수 있다.
또 자동추진식 팬필터 유닛(8)이 배치되어, 국소적으로 청정화된 영역의 주위에는 자동추진식 구획유닛(9)이 배치되어, 국소적으로 청정화된 영역을 다른 영역으로부터 분리시킨다. 이로써 반출작업 시에 발생하는 오염물질이 청정실 내로 확산되는 것을 방지할 수 있다. 또한 반출입구(17) 부근에 배치된 자동추진식 구획유닛(9)에 의해 청정실 밖으로부터 청정실 내로 오염물질이 침입하는 것을 방지한다.
여기서 본 실시예에서는 설비를 반출하는 경우에 대해 설명하지만, 설비를 반입하는 경우에도 마찬가지 효과를 얻을 수 있다.
(제 3 실시예)
이하에 본 발명의 제 3 실시예에 대해 도면을 참조하면서 설명한다. 도 4는 본 발명의 청정실 감시시스템을 구비한 청정실의 단면구성을 나타낸다. 또 도 4에서 도 1과 동일 구성요소에 대해서는 동일 부호를 부여함으로써 설명을 생략한다.
도 4에 나타내는 바와 같이 반송용 레일(6) 상에는 자동추진식 감시유닛(24)이 배치되어, 청정실 내의 상태를 감시할 수 있다. 자동추진식 감시유닛(24)은 예를 들어 가스검지장치(12)나 시각확인용 카메라장치(13) 등을 반송체에 탑재시킨 것이면 된다. 또 복수의 장치를 조합시켜 탑재해도 된다.
자동추진식 감시유닛(24)은, 반송용 레일(6)의 격자크기에 맞추어 설계되며, 반송레일을 따라 외부로부터의 지시에 의해 자유롭게 이동시킬 수 있다. 또 자동추진식 감시유닛(24)이 취득한 청정실 내의 데이터는 무선통신에 의해 상시 외부로 발신할 수 있다.
또한 제 1 및 제 2 실시예와 마찬가지로 자동추진식 팬필터 유닛(8) 및 자동추진식 구획유닛(9)과 자동추진식 감시유닛(24)을 병용함으로써, 국소 청정화영역(20)을 형성하고, 형성된 국소 청정화영역(20)의 상황을 청정실 외부에서 감시하기가 가능하다.
이상 설명한 바와 같이 본 실시예의 청정실 감시시스템에 의하면, 자동추진식 감시유닛(24)에 의해 청정실 내 임의 위치의 상태를 외부에서 상시 감시할 수 있다. 또 반송용 레일(6)을 이용하여 청정실 상부로부터 감시를 행하므로, 사람이 들어갈 수 없는 반도체장치 제조설비 뒤쪽 등의 위치에 대해서도 감시가 가능하여, 사람의 이동에 수반하는 오염물질 발생도 방지할 수 있다.
본 발명의 청정실, 국소 청정화시스템, 그 사용방법 및 청정실 감시시스템에 의하면, 청정실 내의 필요한 영역에 필요한 청정도를 갖는 국소적인 청정화영역을 단시간에 간편하게 구축할 수 있으므로, 이를 이용함으로써 반도체장치 제조설비의 일상적인 보수 및 반출입 등을 효율적으로 실시할 수 있음과 더불어, 청정실 내의 오염을 방지할 수 있다. 나아가 청정실 전체를 고도로 청정화할 필요가 없어 제조설비를 경제적으로 구성할 수 있으므로, 반도체장치를 제조하는 제조공장에서의 청정실, 국소 청정화시스템, 그 사용방법 및 청정실 감시시스템 등으로서 유용하다.
Claims (12)
- 내부에 반도체장치 제조설비가 설치되며,천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일을 구비하는 것을 특징으로 하는 청정실.
- 청정실에서 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과,상기 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 팬필터 유닛을 구비하며,상기 자동추진식 팬필터 유닛을, 상기 반송용 레일을 이용하여 상기 청정실 내의 소정 영역으로 이동시킴으로써, 상기 청정실 내의 상기 소정 영역에 이 소정 영역을 제외한 영역에 비해 청정도가 높은 국소 청정화 영역을 형성하는 것을 특징으로 하는 국소 청정화시스템.
- 제 2 항에 있어서,상기 자동추진식 팬필터 유닛은, 입자제거용 필터 및 화학필터 중 적어도 1 가지를 구비하는 것을 특징으로 하는 국소 청정화시스템.
- 제 2 항에 있어서,상기 반송용 레일을 따라 반송 가능하며 또 공기 흐름을 차단하는 파티션(partition)을 형성하는 자동추진식 구획유닛을 추가로 구비하며,상기 자동추진식 구획유닛을 상기 국소 청정화영역의 주위에 배치함으로써, 상기 국소 청정화영역과 이 국소 청정화영역을 제외한 영역 사이의 공기 흐름을 차단하는 것을 특징으로 하는 국소 청정화시스템.
- 제 4 항에 있어서,상기 자동추진식 구획유닛은, 공기를 분출시켜 에어커튼을 형성하는 에어커튼 유닛인 것을 특징으로 하는 국소 청정화시스템.
- 제 4 항에 있어서,상기 자동추진식 구획유닛은, 롤 커튼을 수납 가능하게 탑재한 롤 커튼유닛인 것을 특징으로 하는 국소 청정화시스템.
- 제 2 항에 있어서,상기 자동추진식 팬필터 유닛 및 자동추진식 구획유닛을 수납하는 수납영역이 상기 청정실 외부에 배치되는 것을 특징으로 하는 국소 청정화시스템.
- 반도체장치 제조설비가 설치된 청정실에, 청정실 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과, 상기 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 팬필터 유닛을 구비하며, 상기 자동추진식 팬필터 유닛을, 상기 반송용 레일을 이용하여 상기 청정실 내의 소정 영역으로 이동시킴으로써, 상기 청정실 내의 상기 소정 영 역에 이 소정 영역을 제외한 영역에 비해 청정도가 높은 국소 청정화 영역을 형성하는 국소 청정화 시스템이 설비된 경우에 있어서,상기 청정실 내의 상기 반도체장치 제조설비가 설치된 영역에 상기 국소 청정화 영역을 형성하는 공정과,상기 국소 청정화 영역에서 상기 반도체장치의 제조설비를 보수하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 국소 청정화 시스템의 사용방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 반도체장치의 제조설비를 보수하는 공정에서 사용하는 부품, 지그 또는 비품을, 상기 반송용 레일을 이용하여 상기 국소 청정화 영역으로 반송하는 공정을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 국소 청정화 시스템의 사용방법.
- 반도체장치의 제조설비가 설치된 청정실에, 이 청정실 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과, 상기 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 팬필터 유닛을 구비하며, 상기 자동추진식 팬필터 유닛을, 상기 반송용 레일을 이용하여 상기 청정실 내의 소정 영역으로 이동시킴으로써, 상기 청정실 내의 상기 소정 영역에 이 소정 영역을 제외한 영역에 비해 청정도가 높은 국소 청정화 영역을 형성하는 국소 청정화 시스템이 설비된 경우에 있어서,상기 청정실에 형성된 반출입구 부근의 영역 및 반출입경로가 될 영역에 상기 국소 청정화 영역을 형성하는 공정과,상기 국소 청정화 영역이 된 상기 반출입경로를 따라 상기 반도체장치 제조설비를 반출입하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 국소 청정화 시스템의 사용방법.
- 반도체장치의 제조설비가 설치된 청정실에, 이 청정실 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과, 이 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 팬필터 유닛을 구비하며, 상기 자동추진식 팬필터 유닛을, 상기 반송용 레일을 이용하여 상기 청정실의 소정 영역으로 이동시킴으로써, 상기 청정실의 상기 소정 영역에 이 소정 영역을 제외한 영역에 비해 청정도가 높은 국소 청정화 영역을 형성하는 국소 청정화 시스템이 설비된 경우에 있어서,상기 청정실 내에서 상기 반도체장치가 제조되는 영역에 상기 국소 청정화 영역을 형성하는 공정과,상기 국소 청정화 영역에서, 반도체장치를 제조하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 국소 청정화 시스템의 사용방법.
- 청정실의 천장 아래쪽에 격자형으로 배치된 반송용 레일과,가스검지장치 또는 시각확인용 카메라장치를 탑재하며, 상기 반송용 레일을 따라 반송 가능한 자동추진식 감시유닛과,상기 청정실 외부에 설치되며, 상기 자동추진식 감시유닛의 이동 및 모니터링을 실행하는 자동추진식 감시유닛 제어장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 청정 실 감시시스템.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2004-00178032 | 2004-06-16 | ||
JP2004178032A JP2006002972A (ja) | 2004-06-16 | 2004-06-16 | クリーンルーム、局所クリーン化システム、その使用方法及びクリーンルームセキュリティシステム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060048360A true KR20060048360A (ko) | 2006-05-18 |
Family
ID=35718559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050050996A KR20060048360A (ko) | 2004-06-16 | 2005-06-14 | 청정실, 국소 청정화시스템, 그 사용방법 및 청정실감시시스템 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060045669A1 (ko) |
JP (1) | JP2006002972A (ko) |
KR (1) | KR20060048360A (ko) |
CN (1) | CN1712831A (ko) |
TW (1) | TW200602599A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106288059A (zh) * | 2016-08-05 | 2017-01-04 | 武汉华星光电技术有限公司 | 厂房通风除尘系统 |
KR102442471B1 (ko) * | 2021-04-26 | 2022-09-13 | 주식회사 지아이 | 필터 밀착식 공기청정기 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10434804B2 (en) | 2008-06-13 | 2019-10-08 | Kateeva, Inc. | Low particle gas enclosure systems and methods |
US12018857B2 (en) | 2008-06-13 | 2024-06-25 | Kateeva, Inc. | Gas enclosure assembly and system |
US8899171B2 (en) | 2008-06-13 | 2014-12-02 | Kateeva, Inc. | Gas enclosure assembly and system |
US9604245B2 (en) | 2008-06-13 | 2017-03-28 | Kateeva, Inc. | Gas enclosure systems and methods utilizing an auxiliary enclosure |
US8383202B2 (en) | 2008-06-13 | 2013-02-26 | Kateeva, Inc. | Method and apparatus for load-locked printing |
US9048344B2 (en) | 2008-06-13 | 2015-06-02 | Kateeva, Inc. | Gas enclosure assembly and system |
US11975546B2 (en) | 2008-06-13 | 2024-05-07 | Kateeva, Inc. | Gas enclosure assembly and system |
US10442226B2 (en) | 2008-06-13 | 2019-10-15 | Kateeva, Inc. | Gas enclosure assembly and system |
US20130218518A1 (en) * | 2012-02-21 | 2013-08-22 | International Business Machines Corporation | Automated, three dimensional mappable environmental sampling system and methods of use |
CN103768905A (zh) * | 2012-10-19 | 2014-05-07 | 和舰科技(苏州)有限公司 | 一种移动式空气化学过滤装置 |
JP6115705B2 (ja) * | 2012-10-30 | 2017-04-19 | 澁谷工業株式会社 | バイオハザード対策用清浄作業室 |
KR101878084B1 (ko) | 2013-12-26 | 2018-07-12 | 카티바, 인크. | 전자 장치의 열 처리를 위한 장치 및 기술 |
KR102458181B1 (ko) | 2014-01-21 | 2022-10-21 | 카티바, 인크. | 전자 장치 인캡슐레이션을 위한 기기 및 기술 |
EP3138123B1 (en) | 2014-04-30 | 2021-06-02 | Kateeva, Inc. | Gas cushion apparatus and techniques for substrate coating |
KR102068882B1 (ko) | 2014-11-26 | 2020-01-21 | 카티바, 인크. | 환경적으로 제어되는 코팅 시스템 |
WO2018102055A1 (en) * | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Applied Materials, Inc. | Advanced in-situ particle detection system for semiconductor substrate processing systems |
CN107367010A (zh) * | 2017-08-30 | 2017-11-21 | 重庆祥云制冷设备厂 | 一种自循环风幕机以及风幕系统 |
CN112628988B (zh) * | 2020-12-22 | 2022-04-15 | 青岛海尔空调器有限总公司 | 一种智能空调及其防污渍残留的控制系统、控制方法 |
TWI799326B (zh) * | 2022-03-17 | 2023-04-11 | 盟立自動化股份有限公司 | 廠房跨區系統及其過渡裝置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6379428B1 (en) * | 2000-02-10 | 2002-04-30 | Applied Materials, Inc. | Method for reducing particle concentration within a semiconductor device fabrication tool |
JP4124400B2 (ja) * | 2001-01-19 | 2008-07-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US6763282B2 (en) * | 2001-06-04 | 2004-07-13 | Time Domain Corp. | Method and system for controlling a robot |
-
2004
- 2004-06-16 JP JP2004178032A patent/JP2006002972A/ja active Pending
-
2005
- 2005-06-14 KR KR1020050050996A patent/KR20060048360A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-06-14 CN CNA2005100764800A patent/CN1712831A/zh active Pending
- 2005-06-14 US US11/151,543 patent/US20060045669A1/en not_active Abandoned
- 2005-06-16 TW TW094120057A patent/TW200602599A/zh unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106288059A (zh) * | 2016-08-05 | 2017-01-04 | 武汉华星光电技术有限公司 | 厂房通风除尘系统 |
KR102442471B1 (ko) * | 2021-04-26 | 2022-09-13 | 주식회사 지아이 | 필터 밀착식 공기청정기 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1712831A (zh) | 2005-12-28 |
TW200602599A (en) | 2006-01-16 |
US20060045669A1 (en) | 2006-03-02 |
JP2006002972A (ja) | 2006-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20060048360A (ko) | 청정실, 국소 청정화시스템, 그 사용방법 및 청정실감시시스템 | |
US10930536B2 (en) | Workpiece stocker with circular configuration | |
KR960007979B1 (ko) | 클리인공간시스템 | |
CN1321294C (zh) | 薄板状电子组件清洁搬运装置及薄板状电子产品制造系统 | |
TW552381B (en) | Clean room for semiconductor device | |
JP3654612B2 (ja) | クリーンルーム | |
JP2620037B2 (ja) | 半導体集積回路デバイスを生産するための生産プラント及び該プラントの構築方法 | |
US6033301A (en) | Fan filter unit and a clean room for using the same | |
CN1106887A (zh) | 用于在超净条件下进行制造的组合式建筑物和传送结构 | |
WO2014109466A1 (ko) | 웨이퍼 처리장치의 배기시스템 | |
JP6599599B2 (ja) | Efemシステム | |
JP2008075945A (ja) | 局所清浄化装置 | |
KR100307628B1 (ko) | 반도체 제조설비의 청정방법 및 이를 적용한 반도체 제조 설비 | |
JPH11191582A (ja) | カセット搬送システム | |
JPH0888155A (ja) | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム | |
JPH10238833A (ja) | クリーンルーム | |
KR101207367B1 (ko) | 국부 밀폐구역을 갖는 반도체 클린 룸 | |
KR19990036696A (ko) | 반송장치 | |
TWI822011B (zh) | 裝載埠模組的晶片容器降濕裝置及其半導體製程裝置 | |
US6379428B1 (en) | Method for reducing particle concentration within a semiconductor device fabrication tool | |
JPH10106909A (ja) | 階層式クリーンルーム | |
JP4273812B2 (ja) | クリーンルーム | |
JP2000179905A (ja) | メンテナンス用局所清浄化装置 | |
KR20020096608A (ko) | 반도체 설비용 오염 제거 장치 | |
JPH03199579A (ja) | クリーンルーム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |