JPH0888155A - 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム - Google Patents
局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルームInfo
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- JPH0888155A JPH0888155A JP22511494A JP22511494A JPH0888155A JP H0888155 A JPH0888155 A JP H0888155A JP 22511494 A JP22511494 A JP 22511494A JP 22511494 A JP22511494 A JP 22511494A JP H0888155 A JPH0888155 A JP H0888155A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 全室清浄化されたクリーンルーム内の製造装
置内の超清浄化が達成できる局所クリーン化におけるイ
ンターフェイスボックス及びそのクリーンルームを提供
する。 【構成】 クリーンルーム内に設置される製造装置２１
に接続され、その製造装置２１へウエハカセット２３を
出入するための局所クリーン化におけるインターフェイ
スボックスにおいて、上記製造装置２１の搬出入口２２
に接続されるボックス本体３０内に半導体ウエハカセッ
ト２３の搬出入室３１を形成し、ボックス本体３０の前
面に、半導体ウエハカセット２３を搬出入室３１に出入
れするための開閉扉３２を設け、該搬出入室３１上部の
ボックス本体３０内に、送風機３３とケミカルフィルタ
３４とＵＬＰＡフィルタ３５とを設け、さらに搬出入室
３１の下部のボックス本体３０に、搬出入室３１の超清
浄空気をクリーンルーム床下チャンバ１９に排気する排
気系３７を設けたことを特徴とする局所クリーン化にお
けるインターフェイスボックスである。
置内の超清浄化が達成できる局所クリーン化におけるイ
ンターフェイスボックス及びそのクリーンルームを提供
する。 【構成】 クリーンルーム内に設置される製造装置２１
に接続され、その製造装置２１へウエハカセット２３を
出入するための局所クリーン化におけるインターフェイ
スボックスにおいて、上記製造装置２１の搬出入口２２
に接続されるボックス本体３０内に半導体ウエハカセッ
ト２３の搬出入室３１を形成し、ボックス本体３０の前
面に、半導体ウエハカセット２３を搬出入室３１に出入
れするための開閉扉３２を設け、該搬出入室３１上部の
ボックス本体３０内に、送風機３３とケミカルフィルタ
３４とＵＬＰＡフィルタ３５とを設け、さらに搬出入室
３１の下部のボックス本体３０に、搬出入室３１の超清
浄空気をクリーンルーム床下チャンバ１９に排気する排
気系３７を設けたことを特徴とする局所クリーン化にお
けるインターフェイスボックスである。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルーム内に設
置した製造装置内を超清浄度に保つための局所クリーン
化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーン
ルームに関するものである。
置した製造装置内を超清浄度に保つための局所クリーン
化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーン
ルームに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造用クリーンルームへの清浄度
に対する要求はますます厳しくなっているが、ギガビッ
ト世代においても現在の全面垂直層流方式を中心とした
クリーンルームを採用した場合、そのイニシャルコスト
とランニングコストが膨大になると予想されている。ま
た歩留まり向上のためには、クリーンルームの循環空気
の清浄度よりも、ウエハの表面汚染をいかにして防止す
るかに着目する必要があるといわれている。さらに、微
粒子汚染だけでなく、空気中のガス、イオンなどの分子
汚染の対策も必要である。
に対する要求はますます厳しくなっているが、ギガビッ
ト世代においても現在の全面垂直層流方式を中心とした
クリーンルームを採用した場合、そのイニシャルコスト
とランニングコストが膨大になると予想されている。ま
た歩留まり向上のためには、クリーンルームの循環空気
の清浄度よりも、ウエハの表面汚染をいかにして防止す
るかに着目する必要があるといわれている。さらに、微
粒子汚染だけでなく、空気中のガス、イオンなどの分子
汚染の対策も必要である。
【０００３】これらの観点から、将来のクリーンルーム
では清浄空間の局所化が必要とされ、米国においては、
ＳＭＩＦ（Standard Mechanical InterFace ）に代表さ
れる”ミニエンバイロメント”の開発が行われてきてお
り、日本でも、大見忠弘等により”クローズド・マニフ
ァクチャリング・システム”（Break through for scie
ntific semiconductor manufacturing in 2001-A propo
sal from Tohoku Univer-sity,REARIZE INC. No.71,Ma
y,1992 ）の概念が発表されている。
では清浄空間の局所化が必要とされ、米国においては、
ＳＭＩＦ（Standard Mechanical InterFace ）に代表さ
れる”ミニエンバイロメント”の開発が行われてきてお
り、日本でも、大見忠弘等により”クローズド・マニフ
ァクチャリング・システム”（Break through for scie
ntific semiconductor manufacturing in 2001-A propo
sal from Tohoku Univer-sity,REARIZE INC. No.71,Ma
y,1992 ）の概念が発表されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現在の
半導体の量産工場においては、歩留まり向上のために製
造装置の改良とメンテナンスが頻繁に実施されているの
で、これらのシステムの採用は、ほとんど行われていな
い。そこで、量産向上の実状に見合った新しいコンセプ
トの清浄空間の局所化を構築することが必要である。
半導体の量産工場においては、歩留まり向上のために製
造装置の改良とメンテナンスが頻繁に実施されているの
で、これらのシステムの採用は、ほとんど行われていな
い。そこで、量産向上の実状に見合った新しいコンセプ
トの清浄空間の局所化を構築することが必要である。
【０００５】本発明者らは、次世代の半導体（６４〜２
５６ＭＢ）クリーンルーム用に、ウエハ処理領域と人を
隔離する密閉された空間に高清浄度（微粒子及びガス対
策）空気を供給し、かつ、個別の製造装置に対応可能で
全体のランニングコストの低下が可能な局所クリーン化
システムを開発してきた。
５６ＭＢ）クリーンルーム用に、ウエハ処理領域と人を
隔離する密閉された空間に高清浄度（微粒子及びガス対
策）空気を供給し、かつ、個別の製造装置に対応可能で
全体のランニングコストの低下が可能な局所クリーン化
システムを開発してきた。
【０００６】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、全室清浄化されたクリーンルーム内の製造装置内の
超清浄化が達成できる局所クリーン化におけるインター
フェイスボックス及びそのクリーンルームを提供するも
のである。
し、全室清浄化されたクリーンルーム内の製造装置内の
超清浄化が達成できる局所クリーン化におけるインター
フェイスボックス及びそのクリーンルームを提供するも
のである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１の発明は、クリーンルーム内に設置される製
造装置に接続され、その製造装置へ処理材を出入するた
めの局所クリーン化におけるインターフェイスボックス
において、上記製造装置の搬出入口に接続されるボック
ス本体内に処理材の搬出入室を形成し、ボックス本体の
前面に、処理材を搬出入室に出入れするための開閉扉を
設け、該搬出入室上部のボックス本体内に、送風機とケ
ミカルフィルタとＵＬＰＡフィルタとを設け、さらに搬
出入室の下部のボックス本体に、搬出入室の超清浄空気
をクリーンルーム床下チャンバに排気する排気系を設け
たことを特徴とする局所クリーン化におけるインターフ
ェイスボックスである。
に請求項１の発明は、クリーンルーム内に設置される製
造装置に接続され、その製造装置へ処理材を出入するた
めの局所クリーン化におけるインターフェイスボックス
において、上記製造装置の搬出入口に接続されるボック
ス本体内に処理材の搬出入室を形成し、ボックス本体の
前面に、処理材を搬出入室に出入れするための開閉扉を
設け、該搬出入室上部のボックス本体内に、送風機とケ
ミカルフィルタとＵＬＰＡフィルタとを設け、さらに搬
出入室の下部のボックス本体に、搬出入室の超清浄空気
をクリーンルーム床下チャンバに排気する排気系を設け
たことを特徴とする局所クリーン化におけるインターフ
ェイスボックスである。
【０００８】請求項２の発明は、搬出入室上部のボック
ス本体内には、クリーンルーム内の清浄空気を吸引する
送風機が配置され、その吹出口と搬出入室間にケミカル
フィルタとＵＬＰＡフィルタが吹出流路を仕切るように
配置される請求項１記載の局所クリーン化におけるイン
ターフェイスボックスである。
ス本体内には、クリーンルーム内の清浄空気を吸引する
送風機が配置され、その吹出口と搬出入室間にケミカル
フィルタとＵＬＰＡフィルタが吹出流路を仕切るように
配置される請求項１記載の局所クリーン化におけるイン
ターフェイスボックスである。
【０００９】請求項３の発明は、ボックス本体の上面の
吸込口に、ケミカルフィルタが設けられ、搬出入室上部
のボックス本体内に、上記ケミカルフィルタを通してク
リーンルーム内の清浄空気を吸引すると共にＵＬＰＡフ
ィルタを介して清浄化するフィルタ付き送風機ユニット
が配置される請求項１記載の局所クリーン化におけるイ
ンターフェイスボックスである。
吸込口に、ケミカルフィルタが設けられ、搬出入室上部
のボックス本体内に、上記ケミカルフィルタを通してク
リーンルーム内の清浄空気を吸引すると共にＵＬＰＡフ
ィルタを介して清浄化するフィルタ付き送風機ユニット
が配置される請求項１記載の局所クリーン化におけるイ
ンターフェイスボックスである。
【００１０】請求項４の発明は、搬出入室には、処理材
を載置すると共に超清浄空気を排気系に排気するための
多孔板からなる載置台を有する請求項１記載の局所クリ
ーン化におけるインターフェイスボックスである。
を載置すると共に超清浄空気を排気系に排気するための
多孔板からなる載置台を有する請求項１記載の局所クリ
ーン化におけるインターフェイスボックスである。
【００１１】請求項５の発明は、載置台下方のボックス
本体が前後に仕切られ、その前室に排気系が形成される
請求項１記載の局所クリーン化におけるインターフェイ
スボックスである。
本体が前後に仕切られ、その前室に排気系が形成される
請求項１記載の局所クリーン化におけるインターフェイ
スボックスである。
【００１２】請求項６の発明は、排気系には、搬出入室
内の圧力をクリーンルームに対して僅かに高い圧力に保
って排気するための微差圧ダンパを有する請求項１記載
の局所クリーン化におけるインターフェイスボックスで
ある。
内の圧力をクリーンルームに対して僅かに高い圧力に保
って排気するための微差圧ダンパを有する請求項１記載
の局所クリーン化におけるインターフェイスボックスで
ある。
【００１３】請求項７の発明は、全面垂直層流で清浄空
気が循環されるクリーンルーム空間と、そのクリーンル
ーム空間の床上に配置される各種製造装置と、クリーン
ルーム空間の床下の床下チャンバーに配置され、各種製
造装置内の空気を吸引と共に外部に排気する真空ポンプ
を含む排気手段と、上記各種製造装置に接続され、処理
材を搬出入する搬出入室を有すると共に上部に、フィル
タ付き送風機ユニットとケミカルフィルタとＵＬＰＡフ
ィルタとが配置された超清浄空気供給手段を有し、下部
に搬出入室内の超清浄空気を上記床下チャンバーに排気
する排気系を有するインターフェイスボックスとを備え
たことを特徴とする局所クリーン化におけるクリーンル
ームである。
気が循環されるクリーンルーム空間と、そのクリーンル
ーム空間の床上に配置される各種製造装置と、クリーン
ルーム空間の床下の床下チャンバーに配置され、各種製
造装置内の空気を吸引と共に外部に排気する真空ポンプ
を含む排気手段と、上記各種製造装置に接続され、処理
材を搬出入する搬出入室を有すると共に上部に、フィル
タ付き送風機ユニットとケミカルフィルタとＵＬＰＡフ
ィルタとが配置された超清浄空気供給手段を有し、下部
に搬出入室内の超清浄空気を上記床下チャンバーに排気
する排気系を有するインターフェイスボックスとを備え
たことを特徴とする局所クリーン化におけるクリーンル
ームである。
【００１４】
【作用】上記構成によれば、ボックス本体内の処理材の
搬出入室に、送風機とケミカルフィルタとＵＬＰＡフィ
ルタにより超清浄空気を流すことで、クリーンルーム循
環空気から製造装置への分子汚染防止と処理材収納時の
分子汚染を防止できる。
搬出入室に、送風機とケミカルフィルタとＵＬＰＡフィ
ルタにより超清浄空気を流すことで、クリーンルーム循
環空気から製造装置への分子汚染防止と処理材収納時の
分子汚染を防止できる。
【００１５】従って、このインターフェイスボックス
を、製造装置の処理材の搬入口や搬出口にそれぞれ接続
したり搬出入口が同じであればその搬出入口に接続する
ことで、クリーンルーム内で製造装置の局所超清浄化が
達成できる。
を、製造装置の処理材の搬入口や搬出口にそれぞれ接続
したり搬出入口が同じであればその搬出入口に接続する
ことで、クリーンルーム内で製造装置の局所超清浄化が
達成できる。
【００１６】請求項２によれば、ＵＬＰＡフィルタと送
風機とをユニット化し、その吸込口にケミカルフィルタ
を設けることで、ケミカルフィルタのフィルタ面積を自
在に設定できる。
風機とをユニット化し、その吸込口にケミカルフィルタ
を設けることで、ケミカルフィルタのフィルタ面積を自
在に設定できる。
【００１７】請求項５によれば、ボックス本体下部の前
室に排気系を形成することで、搬出入室内を流れる超清
浄空気を前後に二分し、前方の超清浄空気流では処理材
の出入れの際のエアカーテンとして、また後方では、製
造装置内の清浄度の保持として作用させることで、クリ
ーンルームと製造装置との分離が確実となる。
室に排気系を形成することで、搬出入室内を流れる超清
浄空気を前後に二分し、前方の超清浄空気流では処理材
の出入れの際のエアカーテンとして、また後方では、製
造装置内の清浄度の保持として作用させることで、クリ
ーンルームと製造装置との分離が確実となる。
【００１８】請求項６によれば、排気系に微差圧ダンパ
を設けることで、搬出入室内の超清浄空気の流れを最適
化できる。
を設けることで、搬出入室内の超清浄空気の流れを最適
化できる。
【００１９】請求項７によれば、インターフェイスボッ
クス内からの超清浄空気を床下チャンバーに直接排気す
ることで、製造装置の配置が変更になってもその配置に
応じて自在にインターフェイスボックスを接続すること
ができる。
クス内からの超清浄空気を床下チャンバーに直接排気す
ることで、製造装置の配置が変更になってもその配置に
応じて自在にインターフェイスボックスを接続すること
ができる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図面に基づい
て詳述する。
て詳述する。
【００２１】先ず、図３により本発明におけるクリーン
ルームの全体構成を説明する。
ルームの全体構成を説明する。
【００２２】図３において、１０は、建屋１１内に形成
されるクリーンルーム空間で、建屋１１内に設けたアク
セスフロア１２上に側壁１３で周囲が囲まれ、その上部
に天井壁１４が設けられて区画形成される。この天井壁
１４にはフィルタ付き送風機ユニット（ＦＦＵ）１５が
整列されて設けられる。
されるクリーンルーム空間で、建屋１１内に設けたアク
セスフロア１２上に側壁１３で周囲が囲まれ、その上部
に天井壁１４が設けられて区画形成される。この天井壁
１４にはフィルタ付き送風機ユニット（ＦＦＵ）１５が
整列されて設けられる。
【００２３】このクリーンルーム空間１０には、フィル
タ付き送風機ユニット１５から清浄空気が吹き出され、
クリーンルーム空間１０を層流状態で流れて下方のアク
セスフロア１２を介して床下チャンバ１９に流入し、側
壁１３の周囲のドライコイル１６で空調されて、側壁１
３外周の循環流路１７を通って天井チャンバ１８に流入
し、再度フィルタ付き送風機ユニット１５に吸引されて
クリーンルーム空間１０に循環される。
タ付き送風機ユニット１５から清浄空気が吹き出され、
クリーンルーム空間１０を層流状態で流れて下方のアク
セスフロア１２を介して床下チャンバ１９に流入し、側
壁１３の周囲のドライコイル１６で空調されて、側壁１
３外周の循環流路１７を通って天井チャンバ１８に流入
し、再度フィルタ付き送風機ユニット１５に吸引されて
クリーンルーム空間１０に循環される。
【００２４】床下チャンバー１９には、床下チャンバ１
９内に外部空気を導入する外気ダクト１９Ａが配置さ
れ、また床下チャンバ１９内の空気を、付属機器２０
で、排気ダクト２０Ａを介して建屋１１の外部に排気で
きるようになっている。
９内に外部空気を導入する外気ダクト１９Ａが配置さ
れ、また床下チャンバ１９内の空気を、付属機器２０
で、排気ダクト２０Ａを介して建屋１１の外部に排気で
きるようになっている。
【００２５】このクリーンルーム空間１０内には、半導
体ウエハや液晶基板などの処理材の洗浄処理やＣＶＤに
よる成膜を行う製造装置２１等が多数配置され、その製
造装置２１の搬出入口２２に、処理材としての半導体ウ
エハカセット２３を搬出入するための本発明のインター
フェイスボックス２４が接続される。なお、この処理材
として液晶を製造するための基板であってもよい。
体ウエハや液晶基板などの処理材の洗浄処理やＣＶＤに
よる成膜を行う製造装置２１等が多数配置され、その製
造装置２１の搬出入口２２に、処理材としての半導体ウ
エハカセット２３を搬出入するための本発明のインター
フェイスボックス２４が接続される。なお、この処理材
として液晶を製造するための基板であってもよい。
【００２６】床下チャンバ１９には、製造装置２１内を
高真空に保つための真空ポンプ２５やダクト２６，２７
からなる排気手段２８が配置される。
高真空に保つための真空ポンプ２５やダクト２６，２７
からなる排気手段２８が配置される。
【００２７】このインターフェイスボックス２４を図１
により詳細に説明する。
により詳細に説明する。
【００２８】先ず、クリーンルーム空間１０の上部の天
井壁１４には、ＵＬＰＡフィルタ２９が設けられている
が、このＵＬＰＡフィルタ２９は、送風機と別個でも送
風機ユニット１５と一体に設けてもよい。
井壁１４には、ＵＬＰＡフィルタ２９が設けられている
が、このＵＬＰＡフィルタ２９は、送風機と別個でも送
風機ユニット１５と一体に設けてもよい。
【００２９】クリーンルーム空間１０のアクセスフロア
１２上には製造装置２１が配置され、そのアクセスフロ
ア１２の下部の床下チャンバ１９には、製造装置２１内
を排気するための排気ダクト２６が接続される。
１２上には製造装置２１が配置され、そのアクセスフロ
ア１２の下部の床下チャンバ１９には、製造装置２１内
を排気するための排気ダクト２６が接続される。
【００３０】この製造装置２１の搬出入口２２に接続さ
れるインターフェイスボックス２４は、製造装置２１の
搬出入口２２に接続されるボックス本体３０からなり、
そのボックス本体３０内に、半導体ウエハカセット２３
を一時保管する搬出入室３１が形成される。
れるインターフェイスボックス２４は、製造装置２１の
搬出入口２２に接続されるボックス本体３０からなり、
そのボックス本体３０内に、半導体ウエハカセット２３
を一時保管する搬出入室３１が形成される。
【００３１】ボックス本体３０の前面には、半導体ウエ
ハカセット２３を搬出入室３１に出入れするための上下
移動自在な開閉扉３２が設けられ、その搬出入室３１の
上部のボックス本体３０内に、その上部より送風機３３
とケミカルフィルタ３４とＵＬＰＡフィルタ３５とが順
に設けられる。
ハカセット２３を搬出入室３１に出入れするための上下
移動自在な開閉扉３２が設けられ、その搬出入室３１の
上部のボックス本体３０内に、その上部より送風機３３
とケミカルフィルタ３４とＵＬＰＡフィルタ３５とが順
に設けられる。
【００３２】搬出入室３１には、半導体ウエハカセット
２３を複数載置する多孔板からなる載置台３６を有し、
その載置台３６の下方のボックス本体３０には、搬出入
室３１から載置台３６を通過した超清浄空気を床下チャ
ンバ１９に排気する排気系３７が設けられる。
２３を複数載置する多孔板からなる載置台３６を有し、
その載置台３６の下方のボックス本体３０には、搬出入
室３１から載置台３６を通過した超清浄空気を床下チャ
ンバ１９に排気する排気系３７が設けられる。
【００３３】この排気系３７は、例えば載置台３６の下
方のボックス本体３０を前後に二つに仕切り、その前方
に形成し、載置台３６を通過した超清浄空気を図示の矢
印３８に示すようにアクセスフロア１２を介して床下チ
ャンバ１９に排気するように形成される。
方のボックス本体３０を前後に二つに仕切り、その前方
に形成し、載置台３６を通過した超清浄空気を図示の矢
印３８に示すようにアクセスフロア１２を介して床下チ
ャンバ１９に排気するように形成される。
【００３４】次に本実施例の作用を述べる。
【００３５】図１において、天井チャンバ１８内の循環
空気流は、ＵＬＰＡフィルタ２９により超清浄化され、
図示の矢印３９に示すようにクリーンルーム空間１０内
に流入し、垂直層流となってアクセスフロア１２より床
下チャンバ１９内に流れる。
空気流は、ＵＬＰＡフィルタ２９により超清浄化され、
図示の矢印３９に示すようにクリーンルーム空間１０内
に流入し、垂直層流となってアクセスフロア１２より床
下チャンバ１９内に流れる。
【００３６】このクリーンルーム空間１０は、各種製造
装置や機器などにより分子レベルの汚染が有り、この分
子汚染物質が製造装置２１内に流入し、半導体ウエハに
分子レベルの汚染質として付着しやすい。
装置や機器などにより分子レベルの汚染が有り、この分
子汚染物質が製造装置２１内に流入し、半導体ウエハに
分子レベルの汚染質として付着しやすい。
【００３７】この際、製造装置２１には、インターフェ
イスボックス２４が接続され、半導体ウエハカセット２
３の出入れの際に、一旦インターフェイスボックス２４
の搬出入室３１に収納し、クリーンルーム空間１０と遮
断した状態で、搬出入室３１内の半導体ウエハカセット
２３を搬出入口２２を通して製造装置２１内に自動又は
手動操作で搬出入することで分子汚染を防止できる。
イスボックス２４が接続され、半導体ウエハカセット２
３の出入れの際に、一旦インターフェイスボックス２４
の搬出入室３１に収納し、クリーンルーム空間１０と遮
断した状態で、搬出入室３１内の半導体ウエハカセット
２３を搬出入口２２を通して製造装置２１内に自動又は
手動操作で搬出入することで分子汚染を防止できる。
【００３８】すなわち、インターフェイスボックス２４
の搬出入室３１には、送風機３３によりクリーンルーム
空間１０内の清浄空気が吸引され、ケミカルフィルタ３
４にて、吸引清浄空気中の炭化水素系やアルカリ性ガ
ス、酸性ガスが吸着除去され、次にＵＬＰＡフィルタ３
５で、サブミクロン以下の微粒子が除去され、図示の矢
印で示したように超清浄空気が搬出入室３１に流入し、
常時は載置台３６を通して排気系３７により床下チャン
バ１９に流れている（例えば、流速約０．２ｍ／ｓｅ
ｃ）。従って、カセット２３の出入れで、開閉扉３２を
開閉しても、この矢印で示した超清浄空気の流れがエア
カーテンとなり、クリーンルーム空間１０の空気が製造
装置２１側に流入することが防止される。
の搬出入室３１には、送風機３３によりクリーンルーム
空間１０内の清浄空気が吸引され、ケミカルフィルタ３
４にて、吸引清浄空気中の炭化水素系やアルカリ性ガ
ス、酸性ガスが吸着除去され、次にＵＬＰＡフィルタ３
５で、サブミクロン以下の微粒子が除去され、図示の矢
印で示したように超清浄空気が搬出入室３１に流入し、
常時は載置台３６を通して排気系３７により床下チャン
バ１９に流れている（例えば、流速約０．２ｍ／ｓｅ
ｃ）。従って、カセット２３の出入れで、開閉扉３２を
開閉しても、この矢印で示した超清浄空気の流れがエア
カーテンとなり、クリーンルーム空間１０の空気が製造
装置２１側に流入することが防止される。
【００３９】またこの搬出入室３１内の圧力は、クリー
ンルーム空間１０の空気圧力よりやや高く維持され、ま
た超清浄空気はボックス本体３０の前部の排気系３７を
通って下部の床下チャンバ１９に流れると共に一部は搬
出入口２２を通って製造装置２１に流れる空気に二分さ
れ、その前方の空気流でエアカーテンを構成するため前
方の超清浄空気流ではカセットの出入れの際のエアカー
テンとして、また後方では、製造装置内の清浄度の保持
として作用させることで、クリーンルームと製造装置と
の分離が確実となる。
ンルーム空間１０の空気圧力よりやや高く維持され、ま
た超清浄空気はボックス本体３０の前部の排気系３７を
通って下部の床下チャンバ１９に流れると共に一部は搬
出入口２２を通って製造装置２１に流れる空気に二分さ
れ、その前方の空気流でエアカーテンを構成するため前
方の超清浄空気流ではカセットの出入れの際のエアカー
テンとして、また後方では、製造装置内の清浄度の保持
として作用させることで、クリーンルームと製造装置と
の分離が確実となる。
【００４０】図３は、本発明の他の実施例を示したもの
である。
である。
【００４１】この図２において、クリーンルームは、図
３で説明したように、フィルタ付き送風機ユニット１５
で、床下チャンバ１９内の空気を循環流路１７を通って
天井チャンバ１８に循環するようになし、フィルタ付き
送風機ユニット１５に設けたＵＬＰＡフィルタ（図示せ
ず）より超清浄空気をクリーンルーム空間１０に流すよ
うに構成される。
３で説明したように、フィルタ付き送風機ユニット１５
で、床下チャンバ１９内の空気を循環流路１７を通って
天井チャンバ１８に循環するようになし、フィルタ付き
送風機ユニット１５に設けたＵＬＰＡフィルタ（図示せ
ず）より超清浄空気をクリーンルーム空間１０に流すよ
うに構成される。
【００４２】インターフェイスボックス２４は、ボック
ス本体３０の上面の吸込口に、ケミカルフィルタ３４が
設けられ、搬出入室３１上部のボックス本体３０内に
は、ケミカルフィルタ３４を通してクリーンルーム内の
清浄空気を吸引すると共にＵＬＰＡフィルタ３５を介し
て清浄化するフィルタ付き送風機ユニット４０が配置さ
れ、また載置台３６の下部のボックス本体３０には、排
気系３７として、搬出入室３１内の圧力をクリーンルー
ム空間の圧力に対して僅かに高い圧力に保って排気する
ための微差圧ダンパ４１を設けたものである。
ス本体３０の上面の吸込口に、ケミカルフィルタ３４が
設けられ、搬出入室３１上部のボックス本体３０内に
は、ケミカルフィルタ３４を通してクリーンルーム内の
清浄空気を吸引すると共にＵＬＰＡフィルタ３５を介し
て清浄化するフィルタ付き送風機ユニット４０が配置さ
れ、また載置台３６の下部のボックス本体３０には、排
気系３７として、搬出入室３１内の圧力をクリーンルー
ム空間の圧力に対して僅かに高い圧力に保って排気する
ための微差圧ダンパ４１を設けたものである。
【００４３】この図２の例においては、ケミカルフィル
タ３４がボックス本体３０の上面の吸込口に取り付ける
ことができるため、フィルタ面積を自在に設定でき、ま
た排気系３７として微差圧ダンパ４１を設けることで、
クリーンルーム空間１０と搬出入室３１との差圧が良好
に調整でき、図１で説明した超清浄空気流の制御が確実
に行える。
タ３４がボックス本体３０の上面の吸込口に取り付ける
ことができるため、フィルタ面積を自在に設定でき、ま
た排気系３７として微差圧ダンパ４１を設けることで、
クリーンルーム空間１０と搬出入室３１との差圧が良好
に調整でき、図１で説明した超清浄空気流の制御が確実
に行える。
【００４４】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、ボックス
本体内の処理材の搬出入室に、送風機とケミカルフィル
タとＵＬＰＡフィルタにより超清浄空気を流すことで、
クリーンルーム循環空気から製造装置への分子汚染防止
と処理材収納時の分子汚染を防止できる。
本体内の処理材の搬出入室に、送風機とケミカルフィル
タとＵＬＰＡフィルタにより超清浄空気を流すことで、
クリーンルーム循環空気から製造装置への分子汚染防止
と処理材収納時の分子汚染を防止できる。
【図１】本発明の一実施例を示す概略図である。
【図２】図１の他の実施例を示す概略図である。
【図３】本発明の他の実施例を示す正面図である。
１０ クリーンルーム空間 ２１ 製造装置 ２３ 半導体ウエハカセット（処理材） ３０ ボックス本体 ３１ 搬出入室 ３２ 開閉扉 ３３ 送風機 ３４ ケミカルフィルタ ３５ ＵＬＰＡフィルタ ３７ 排気系
フロントページの続き (72)発明者 飯島 一浩 千葉県習志野市東習志野６−17−16 株式 会社朝日工業社技術研究所内 (72)発明者 中島 啓之 千葉県習志野市東習志野６−17−16 株式 会社朝日工業社技術研究所内
Claims (7)
- 【請求項１】 クリーンルーム内に設置される製造装置
に接続され、その製造装置へ処理材を出入するための局
所クリーン化におけるインターフェイスボックスにおい
て、上記製造装置の搬出入口に接続されるボックス本体
内に処理材の搬出入室を形成し、ボックス本体の前面
に、処理材を搬出入室に出入れするための開閉扉を設
け、該搬出入室上部のボックス本体内に、送風機とケミ
カルフィルタとＵＬＰＡフィルタとを設け、さらに搬出
入室の下部のボックス本体に、搬出入室の超清浄空気を
クリーンルーム床下チャンバに排気する排気系を設けた
ことを特徴とする局所クリーン化におけるインターフェ
イスボックス。 - 【請求項２】 搬出入室上部のボックス本体内には、ク
リーンルーム内の清浄空気を吸引する送風機が配置さ
れ、その吹出口と搬出入室間にケミカルフィルタとＵＬ
ＰＡフィルタが吹出流路を仕切るように配置される請求
項１記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボ
ックス。 - 【請求項３】 ボックス本体の上面の吸込口に、ケミカ
ルフィルタが設けられ、搬出入室上部のボックス本体内
に、上記ケミカルフィルタを通してクリーンルーム内の
清浄空気を吸引すると共にＵＬＰＡフィルタを介して清
浄化するフィルタ付き送風機ユニットが配置される請求
項１記載の局所クリーン化におけるインターフェイスボ
ックス。 - 【請求項４】 搬出入室には、処理材を載置すると共に
超清浄空気を排気系に排気するための多孔板からなる載
置台を有する請求項１記載の局所クリーン化におけるイ
ンターフェイスボックス。 - 【請求項５】 載置台下方のボックス本体が前後に仕切
られ、その前室に排気系が形成される請求項１記載の局
所クリーン化におけるインターフェイスボックス。 - 【請求項６】 排気系には、搬出入室内の圧力をクリー
ンルームに対して僅かに高い圧力に保って排気するため
の微差圧ダンパを有する請求項１記載の局所クリーン化
におけるインターフェイスボックス。 - 【請求項７】 全面垂直層流で清浄空気が循環されるク
リーンルーム空間と、そのクリーンルーム空間の床上に
配置される各種製造装置と、クリーンルーム空間の床下
の床下チャンバーに配置され、各種製造装置内の空気を
吸引と共に外部に排気する真空ポンプを含む排気手段
と、上記各種製造装置に接続され、処理材を搬出入する
搬出入室を有すると共に上部に、フィルタ付き送風機ユ
ニットとケミカルフィルタとＵＬＰＡフィルタとが配置
された超清浄空気供給手段を有し、下部に搬出入室内の
超清浄空気を上記床下チャンバーに排気する排気系を有
するインターフェイスボックスとを備えたことを特徴と
する局所クリーン化におけるクリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22511494A JP3697275B2 (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22511494A JP3697275B2 (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0888155A true JPH0888155A (ja) | 1996-04-02 |
| JP3697275B2 JP3697275B2 (ja) | 2005-09-21 |
Family
ID=16824198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22511494A Expired - Fee Related JP3697275B2 (ja) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3697275B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6123617A (en) * | 1998-11-02 | 2000-09-26 | Seh-America, Inc. | Clean room air filtering system |
| US6284020B1 (en) | 1997-12-02 | 2001-09-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of maintaining cleanliness of substrates and box for accommodating substrates |
| JP2003289043A (ja) * | 2002-03-28 | 2003-10-10 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
| EP1804300A1 (en) * | 2004-09-09 | 2007-07-04 | National University Corporation Hokkaido University | Function element, storage element, magnetic recording element, solar cell, photoelectric conversion element, light emitting element, catalyst reaction device, and clean unit |
| JP2008045782A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Denso Corp | クリーンルーム用局所排気装置 |
| JP2009257680A (ja) * | 2008-04-17 | 2009-11-05 | Denso Corp | 作業設備および作業設備における局所クリーンルーム |
| JP2013065654A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Asahi Glass Co Ltd | Ｅｕｖｌ用反射型マスクおよびｅｕｖｌ用マスクブランクスの製造装置 |
-
1994
- 1994-09-20 JP JP22511494A patent/JP3697275B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP1804300A4 (en) * | 2004-09-09 | 2011-10-19 | Univ Hokkaido Nat Univ Corp | FUNCTIONAL ELEMENT, MEMORY ELEMENT, MAGNETIC RECORDING ELEMENT, SOLAR CELL, PHOTOELECTRIC CONVERTER ELEMENT, LIGHT ELEMENT, CATALYST REACTION EQUIPMENT AND CLEANING UNIT |
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| JP4525789B2 (ja) * | 2008-04-17 | 2010-08-18 | 株式会社デンソー | 作業設備および作業設備における局所クリーンルーム |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3697275B2 (ja) | 2005-09-21 |
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