JPH08222492A - 基板の表面処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 インターフェイス部を移動させて装置のメン
テナンスを行なう際にも、インターフェイス部の周囲環
境が清浄にかつ一定に保たれ、クリーンエアーの吹出し
部が作業の妨げとならない装置を提供する。 【構成】 基板処理ユニット10に対し下向きにクリーン
エアーを吹き出すクリーンベンチ26とは独立して、イン
ターフェイス部14に対しクリーンエアーを吹き出すクリ
ーンベンチ28を設ける。露光機16のメンテナンスに際し
インターフェイス部を前方の退避位置へ移動させたとき
に、インターフェイス部と一体にその上方のクリーンベ
ンチが移動するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、半導体デバイス製造
プロセス、液晶表示デバイス製造プロセスなどにおい
て、半導体ウエハ、ガラス基板等の基板に対して表面処
理を施すのに使用される基板の表面処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板の表面処理装置、例えば、半導体ウ
エハの表面にフォトレジスト液を塗布してフォトレジス
ト膜を被着形成し、半導体ウエハの表面に形成されたフ
ォトレジスト膜を露光し現像処理するような半導体デバ
イス製造装置では、処理が行なわれる周囲の環境を清浄
にかつ一定の状態に保つことが要求される。このため
に、これらの装置は所定の条件に空調されたいわゆるク
リーンルーム内に設けられるのであるが、さらに厳密に
管理された環境が必要となる場合もある。このような場
合は、さらに、例えば図５の（ａ）及び（ｂ）に模式平
面図及び模式正面図をそれぞれ示すように、スピンコー
タやスピンデベロッパといった回転処理器が配設された
基板処理ユニット１と、この基板処理ユニット１に隣接
して配設され、基板処理ユニット１へ未処理基板を搬入
し基板処理ユニット１から処理済み基板を受け取るイン
デクサ部２と、基板処理ユニット１と露光機４との間に
基板処理ユニット１に隣接して介設され、基板処理ユニ
ット１と露光機４との間で基板の受け渡しを行なうイン
ターフェイス部３との全体の上方空間を覆うように、ク
リーンベンチ５が配設される。そして、クリーンベンチ
５から基板処理ユニット１、インデクサ部２及びインタ
ーフェイス部３に対して下向きにそれぞれクリーンエア
ー（清浄空気）を吹き出すようにして、このダウンフロ
ーにより、基板の表面処理が行なわれ基板の移し替えや
一時保管、搬送が行なわれる周囲環境を清浄にかつ一定
の状態に維持するようにしている。

【０００３】図５に示すように、スピンナが設けられた
基板処理ユニット１に隣接してインターフェイス部３を
設け、基板処理ユニット１と露光機４とをインライン化
した構成の装置では、露光機４の露光ステージ、光源、
電装部などのメンテナンスを行なう場合、基板の受け渡
し面側（基板処理ユニット１との対向面側）から作業を
行なうことが多く、このため、図５の（ａ）に二点鎖線
で示すようにインターフェイス部３をインライン方向に
対して直交する方向における前方側（或いは後方側）へ
移動させることができるようにしている。また、基板処
理ユニット１のメンテナンスのために、インデクサ部２
を移動させることができる装置構成とすることもある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の装置
では、クリーンベンチ５は、基板処理ユニット１、イン
デクサ部２及びインターフェイス部３の全体を覆うよう
にそれらの上方に固定されている。このため、露光機４
のメンテナンスの際にインターフェイス部３を移動させ
たときに、また、基板処理ユニット１のメンテナンスの
際にインデクサ部２を移動させたときに、インターフェ
イス部３上もしくはインデクサ部２上へはクリーンベン
チ５からのダウンフローが供給されず、その周囲環境が
一定の清浄な状態に保たれなくなる、といった心配があ
る。また、露光機４のメンテナンスの際に、インターフ
ェイス部３を移動させて退避させたとしても、また、基
板処理ユニット１のメンテナンスの際にインデクサ部２
を移動させて退避させたとしても、グリーンベンチ５が
邪魔になってメンテナンス作業の妨げとなっている、と
いった問題点がある。

【０００５】この発明は以上のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、２種類の基板処理部の間にインターフ
ェイス部を介設して両基板処理部をインライン構成とし
た装置において、また、基板処理部にインデクサ部を隣
接させて配設した構成の装置において、インターフェイ
ス部を移動させ、また、インデクサ部を移動させて装置
のメンテナンスを行なう際にも、インターフェイス部も
しくはインデクサ部の周囲環境が清浄にかつ一定に保た
れるとともに、クリーンエアーの吹出し部がメンテナン
ス作業の妨げとなるようなことがない基板の表面処理装
置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１及び請求項２に
係る各発明では、それぞれエアー吹出し部を分割し、そ
の分割されたエアー吹出し部の一部がインターフェイス
部もしくはインデクサ部と共に移動することができる構
成とした。すなわち、請求項１に係る発明は、基板を表
面処理する第１の基板処理部と、この第１の基板処理部
での表面処理とは別の表面処理を基板に施す第２の基板
処理部と、前記第１の基板処理部と第２の基板処理部と
の間に、それぞれの基板処理部に隣接するように介設さ
れ、第１の基板処理部と第２の基板処理部との間で基板
を受け渡しするインターフェイス部と、前記第１の基板
処理部及びインターフェイス部の上方空間を覆うように
配設され、第１の基板処理部及びインターフェイス部に
対して下向きにクリーンエアーを吹き出すエアー吹出し
部とを備えた基板表面処理装置において、前記インター
フェイス部に対してクリーンエアーを吹き出すインター
フェイス吹出し部を他の部分から独立させるとともに、
インターフェイス部を、前記第１及び第２の各基板処理
部においてそれぞれ基板の表面処理が行なわれる定常運
転時の位置とメンテナンス時の退避位置との間で移動可
能とし、かつ、前記インターフェイス吹出し部をインタ
ーフェイス部と一体に移動可能とする移動手段を設けた
ことを特徴とする。

【０００７】また、請求項２に係る発明は、基板を表面
処理する基板処理部と、この基板処理部に隣接して配設
され、基板処理部へ未処理基板を搬入し基板処理部から
処理済み基板を受け取るインデクサ部と、前記基板処理
部及びインデクサ部の上方空間を覆うように配設され、
基板処理部及びインデクサ部に対して下向きにクリーン
エアーを吹き出すエアー吹出し部とを備えた装置におい
て、前記インデクサ部に対してクリーンエアーを吹き出
すインデクサ吹出し部を他の部分から独立させるととも
に、インデクサ部を、前記基板処理部において基板の表
面処理が行なわれる定常運転時の位置とメンテナンス時
の退避位置との間で移動可能とし、かつ、前記インデク
サ吹出し部をインデクサ部と一体に移動可能とする移動
手段を設けたことを特徴とする。

【０００８】

【作用】請求項１に係る発明の基板表面処理装置では、
図４の（ａ）及び（ｂ）に模式平面図及び模式正面図を
それぞれ示すように、第１の基板処理部（基板処理ユニ
ット）１及びインターフェイス部３の上方空間を覆うよ
うに配設されたエアー吹出し部（クリーンベンチ）が、
第１の基板処理部１に対して下向きにクリーンエアーを
吹き出す部分６とインターフェイス部３に対して下向き
にクリーンエアーを吹き出すインターフェイス吹出し部
７とに分割され、インターフェイス吹出し部７が他の部
分の６から独立しており、第２の基板処理部（露光機）
４のメンテナンスに際し、図４の（ａ）に二点鎖線で示
すように、インターフェイス部３を移動手段によって退
避位置へ移動させたときに、インターフェイス吹出し部
７もインターフェイス部３と一体に移動する。従って、
メンテナンス時においても、インターフェイス吹出し部
７からインターフェイス部３に対して下向きにクリーン
エアーが吹き出され、その周囲環境が清浄にかつ一定の
状態に保たれる。また、インターフェイス吹出し部７は
インターフェイス部３と共に退避位置へ移動するので、
第２の基板処理部３のメンテナンスの際に、エアー吹出
し部が作業の妨げとなることもない。

【０００９】また、請求項２に係る発明の基板表面処理
装置では、基板処理部及びインデクサ部の上方空間を覆
うように配設されたエアー吹出し部が、基板処理部に対
して下向きにクリーンエアーを吹き出す部分とインデク
サ部に対して下向きにクリーンエアーを吹き出すインデ
クサ吹出し部とに分割され、インデクサ吹出し部が他の
部分から独立しており、基板処理部のメンテナンスに際
し、インデクサ部を移動手段によって退避位置へ移動さ
せたときに、インデクサ吹出し部もインデクサ部と一体
に移動する。従って、メンテナンス時においても、イン
デクサ吹出し部からインデクサ部に対して下向きにクリ
ーンエアーが吹き出され、その周囲環境が清浄にかつ一
定の状態に保たれる。また、インデクサ吹出し部はイン
デクサ部と共に退避位置へ移動するので、基板処理部の
メンテナンスの際に、エアー吹出し部が作業の妨げとな
ることもない。

【００１０】

【実施例】以下、この発明の好適な実施例について図面
を参照しながら説明する。

【００１１】図１ないし図３は、この発明の１実施例を
示し、図１は、回転処理器が設けられた基板処理ユニッ
トと露光機とをインライン構成とした基板の表面処理装
置の概略平面図、図２は、その概略正面図であり、図３
は、装置の一部（インターフェイス部）を示す正面図で
ある。但し、図１においては、クリーンベンチを取り外
した状態を示しており、また、図３においては、インタ
ーフェイス部の前扉を開けた状態を示し、かつ、インタ
ーフェイス部上方のクリーンベンチの図示を省略してい
る。

【００１２】この基板表面処理装置は、スピンコータ１
８、スピンデベロッパ２０、ホットプレート２２、クー
リングプレート２４、搬送ロボット２５などを備えた基
板処理ユニット１０、この基板処理ユニット１０の一方
の側面側に隣接して配設され、基板処理ユニット１０へ
未処理基板を搬入し、また、基板処理ユニット１０から
処理済み基板を受け取るインデクサ部１２、基板処理ユ
ニット１０の他方の側面側に隣接して配設されたインタ
ーフェイス部１４、並びに、基板処理ユニット１０にお
いて表面にフォトレジスト膜が被着形成された基板に対
し露光・焼付け処理を施す露光機１６から構成されてい
る。基板処理ユニット１０とインデクサ部１２とインタ
ーフェイス部１４とは相互に連続されて一体化するよう
構成されており、基板処理ユニット１０のインターフェ
イス部１４の側に、インターフェイス部１４に近接して
露光機１６が設置されていて、インターフェイス部１４
を介して基板処理ユニット１０と露光機１６との間での
基板の受け渡しが行なわれるようになっている。尚、ホ
ットプレート２２及びクーリングプレート２４は、それ
ぞれ複数が上下方向に積み重ねて設けられる。また、基
板処理ユニット１０における基板の表面処理工程やイン
デクサ部１２及びインターフェイス部１４における基板
の移し替えや一時保管などの動作については、この発明
の要旨と関係しないので、これ以上の詳しい説明を省略
する。

【００１３】この装置では、基板処理ユニット１０及び
インデクサ部１２の上方空間を覆うようにクリーンベン
チ２６が配設されており、また、インターフェイス部１
４の上方空間を覆うようにインデクサ部専用のクリーン
ベンチ２８が配設されている。両クリーンベンチ２６、
２８は、互いに独立しており、一方のクリーンベンチ２
６は、基板処理ユニット１０の上面に固着された支柱３
０によって基板処理ユニット１０及びインデクサ部１２
上に支持され、他方のクリーンベンチ２８は、インター
フェイス部１４の上面に固着された支柱３２によってイ
ンターフェイス部１４上に支持されている。そして、一
方のクリーンベンチ２６から基板処理ユニット１０及び
インデクサ部１２に対して下向きにクリーンエアーが吹
き出され、また、他方のクリーンベンチ２８からインタ
ーフェイス部１４に対して下向きにクリーンエアーが吹
き出されて、それぞれの周囲環境が清浄にかつ一定の状
態に保たれるようになっている。尚、送風ファンは、各
クリーンベンチ２６、２８にそれぞれ個別に設けるよう
にしてもよいし、或いは、一方のクリーンベンチ２６だ
けに送風ファンを設けておき、その一方のクリーンベン
チ２６からダクト等を通してクリーンエアーの一部を他
方のクリーンベンチ２８へ導入するようにしてもよい。

【００１４】また、インターフェイス部１４は、基板処
理ユニット１０に対して前後方向に移動可能に連結して
いる。すなわち、図３に示すように、インターフェイス
部１４の下面にはキャスタ３４が取着されており、基板
処理ユニット１０とインターフェイス部１４とが、基板
処理ユニット１０の側に取着された複数個の溝付きコロ
３６とインターフェイス部１４の側に取着され溝付きコ
ロ３６に係合したガイド棒３８とを介し、互いに連結さ
れている。そして、インターフェイス部１４は、図１に
実線で示した定常運転時の位置から前方へ引き出して、
それを同図に破線で示すようにメンテナンス時の退避位
置へ移動させることができるようになっている。また、
インターフェイス部１４をメンテナンス時の退避位置か
ら後方へ押し込んで定常運転時の位置に戻したときに、
インターフェイス部１４が基板処理ユニット１０に対し
前後方向において正確に位置決め固定されるように、イ
ンターフェイス部１４に、基板処理ユニット１０側に設
けられた係止部４２に係止するねじ込み式位置決めピン
４０が取り付けられている。尚、図１及び図２に示す装
置全体は、いわゆるクリーンルーム内に設置される。

【００１５】以上のような構成を有するこの装置では、
露光機１６のメンテナンスの際に、インターフェイス部
１４を前方の退避位置へ引き出すと、インターフェイス
部１４上に支持されたクリーンベンチ２８もインターフ
ェイス部１４と一体に移動する。従って、クリーンベン
チ２８がメンテナンス作業の邪魔になるようなことはな
く、また、メンテナンス作業の間中も、クリーンベンチ
２８からインターフェイス部１４に対して下向きにクリ
ーンエアーが吹き出され、そのダウンフローによってイ
ンターフェイス部１４の周囲環境は一定の清浄な状態に
維持される。尚、基板処理ユニット１０内の各機器やイ
ンターフェイス部１４は、それぞれの四方側面に側壁４
４を有しており、クリーンベンチ２６、２８から各機器
の内部へ送られたクリーンエアーは側壁４４に囲まれた
空間を下方に向かって流れる。また、搬送ロボット２５
が基板を各機器と受け渡しするため、搬送ロボット２５
側の側壁４４には、基板出し入れ用のスリット状の開口
（図示せず）が形成される。

【００１６】上記した構成の装置では、露光機１６のメ
ンテナンスのために、インターフェイス部１４を移動可
能とし、そのインターフェイス部１４と一体にクリーン
ベンチ２８が移動するようにしているが、基板処理ユニ
ットのメンテナンス等のために、インデクサ部も移動可
能とするとともに、そのインデクサ部にクリーンエアー
を供給するクリーンベンチを他の部分から独立させ、か
つ、そのクリーンベンチがインデクサ部と一体に移動す
るような構成としてもよい。また、露光機及びインター
フェイス部が設けられておらず、基板処理ユニットとイ
ンデクサ部とで構成されたような基板表面処理装置で
は、メンテナンスのために、基板処理ユニットに対しイ
ンデクサ部を移動可能とするとともに、クリーンベンチ
を分割して、インデクサ部専用のクリーンベンチがイン
デクサ部と一体に移動するような構成とすればよい。

【００１７】尚、インターフェイス部（又はインデクサ
部）を基板処理ユニットに対して移動可能に連結する機
構としては、上記実施例のように複数個の溝付きコロと
ガイド棒とを組み合わせたものに限らず、種々の機構の
ものを採用し得る。また、クリーンベンチをインターフ
ェイス部（又はインデクサ部）と一体に移動させること
ができるようにする構成としては、上記実施例のように
インターフェイス部（又はインデクサ部）上に支柱を介
してクリーンベンチを支持する構成に限らず、例えば、
クリーンベンチをインターフェイス部（又はインデクサ
部）と分離させ、キャスタ付きの支柱によりクリーンベ
ンチを、インターフェイス部（又はインデクサ部）の上
方空間を覆うように床上に支持し、メンテナンスに際し
てインターフェイス部（又はインデクサ部）を移動させ
たときに、その一部がクリーンベンチの支柱に係合し
て、クリーンベンチがインターフェイス部（又はインデ
クサ部）と一緒に移動するような構成としてもよい。

【００１８】また、上記した実施例では、基板の表面処
理装置として、スピンコータ及びスピンデベロッパを備
えた基板処理ユニットと露光機とをインライン化したも
のを例示したが、基板の表面処理の種類としては、フォ
トレジスト塗布や露光、現像といった処理に限らず、例
えば基板の熱処理炉のようなものでもよく、この発明
は、種々の処理を行なう基板の表面処理装置について適
用し得るものである。

【００１９】

【発明の効果】請求項１に係る発明によれば、２種類の
基板処理部の間にインターフェイス部を介設して両基板
処理部をインライン構成とした装置において、基板処理
部のメンテナンスに際し、インターフェイス部を退避位
置へ移動させても、クリーンエアーの吹出しによってイ
ンターフェイス部の周囲環境が清浄にかつ一定に保たれ
るとともに、クリーンエアーの吹出し部がメンテナンス
作業の妨げとなるようなことがない基板の表面処理装置
を提供することができる。

【００２０】また、請求項２に係る発明によれば、基板
処理部にインデクサ部を隣接させて配設した構成の装置
において、基板処理部のメンテナンスに際し、インデク
サ部を退避位置へ移動させても、クリーンエアーの吹出
しによってインデクサ部の周囲環境が清浄にかつ一定に
保たれるとともに、クリーンエアーの吹出し部がメンテ
ナンス作業の妨げとなるようなことがない基板の表面処
理装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１に係る発明の１実施例を示し、スピン
ナが設けられた基板処理ユニットと露光機とをインライ
ン構成とした基板表面処理装置の、クリーンベンチを取
り外した状態を示す概略平面図である。

【図２】図１に示した装置の概略正面図である。

【図３】図３は、図１に示した装置の一部（インターフ
ェイス部）を示す拡大正面図である。

【図４】請求項１に係る発明の作用を説明するための図
であって、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は模式正面図で
ある。

【図５】従来の基板の表面処理装置の構成の１例を示
し、（ａ）は模式平面図、（ｂ）は模式正面図である。

【符号の説明】

１、１０ 基板処理ユニット ２、１２ インデクサ部 ３、１４ インターフェイス部 ４、１６ 露光機 ６、２６ 基板処理ユニット及びインデクサ部に対して
クリーンエアーを吹き出すクリーンベンチ ７、２８ インターフェイス部に対してクリーンエアー
を吹き出すクリーンベンチ ３０、３２ 支柱 ３４ キャスタ ３６ 溝付きコロ ３８ ガイド棒 ４０ ねじ込み式位置決めピン

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を表面処理する第１の基板処理部
   と、 この第１の基板処理部での表面処理とは別の表面処理を
   基板に施す第２の基板処理部と、 前記第１の基板処理部と第２の基板処理部との間に、そ
   れぞれの基板処理部に隣接するように介設され、第１の
   基板処理部と第２の基板処理部との間で基板を受け渡し
   するインターフェイス部と、 前記第１の基板処理部及びインターフェイス部の上方空
   間を覆うように配設され、第１の基板処理部及びインタ
   ーフェイス部に対して下向きにクリーンエアーを吹き出
   すエアー吹出し部とを備えた基板の表面処理装置におい
   て、 前記エアー吹出し部を分割して、前記インターフェイス
   部に対してクリーンエアーを吹き出すインターフェイス
   吹出し部を他の部分から独立させるとともに、インター
   フェイス部を、前記第１及び第２の各基板処理部におい
   てそれぞれ基板の表面処理が行なわれる定常運転時の位
   置とメンテナンス時の退避位置との間で移動可能とし、
   かつ、前記インターフェイス吹出し部をインターフェイ
   ス部と一体に移動可能とする移動手段を設けたことを特
   徴とする基板の表面処理装置。
2. 【請求項２】 基板を表面処理する基板処理部と、 この基板処理部に隣接して配設され、基板処理部へ未処
   理基板を搬入し基板処理部から処理済み基板を受け取る
   インデクサ部と、 前記基板処理部及びインデクサ部の上方空間を覆うよう
   に配設され、基板処理部及びインデクサ部に対して下向
   きにクリーンエアーを吹き出すエアー吹出し部とを備え
   た基板の表面処理装置において、 前記エアー吹出し部を分割して、前記インデクサ部に対
   してクリーンエアーを吹き出すインデクサ吹出し部を他
   の部分から独立させるとともに、インデクサ部を、前記
   基板処理部において基板の表面処理が行なわれる定常運
   転時の位置とメンテナンス時の退避位置との間で移動可
   能とし、かつ、前記インデクサ吹出し部をインデクサ部
   と一体に移動可能とする移動手段を設けたことを特徴と
   する基板の表面処理装置。