JP2008296069A - 薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置 - Google Patents
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【解決手段】EFEM2および/または薄板状物処理室3の下流側に、ファン設置室20を設けると共に、前記ファン設置室20に吸引用ファン22を設置し、且つ該吸引用ファン22の下流側に高性能フィルタ23、または高性能フィルタ23とケミカルフィルタ24とを組合わせ設置して形成された局所排気ユニット14aを設置して、該局所排気ユニット14aにより前記EFEM2および/または薄板状物処理室3内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム1内に排気する。
【選択図】図1
Description
2 EFEM
3 薄板状物処理室
4 薄板状物製造装置
5 前方側壁面
6 FOUP
7 開口部
8 ファン
9 高性能フィルタ
10 ケミカルフィルタ
11 FFU
12 清浄空気
12' 使用済みの清浄空気
13 清浄空間部
14a〜14p 局所排気ユニット
15 排気開口
16 支持架台
16a 底壁
17 底板
18 排気通路
19 区画壁
20 ファン設置室
21 排気ガイド室
22 吸引用ファン
23 高性能フィルタ
24 ケミカルフィルタ
25 側面側壁面
26 床面
27 底板
28 排気誘導路
29 薄板状物処理部
30 排気誘導管
31 グレーチング
32 床下ピット
33 通気開口
34 吸込みボックス
35 底板
36 後方側壁面
37 側面側壁面
Claims (23)
- EFEMおよび/または薄板状物処理室の下流側において、ファン設置室を設けると共に、前記ファン設置室に吸引用ファンを設置し、且つ該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタ、または高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記EFEMおよび/または薄板状物処理室に連設し、または、該EFEMおよび/または薄板状物処理室に排気誘導管を介在せしめて連結し、且つ該局所排気ユニットにより前記EFEMおよび/または薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する排気開口を備えた支持架台の下流側に間隔を有して底板を設けて、前記排気開口を通して排気された使用済み清浄空気の排気通路を設けると共に、区画壁によって、下流側のファン設置室と区画された排気ガイド室を設けて、該排気ガイド室の下方部に前記排気通路の下流側を連通する一方、前記ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に、高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記EFEMに連設して設置し、且つ該局所排気ユニットによりEFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する排気開口を備えた支持架台を設け、且つ前記EFEMを構成する側壁面にファン設置室を設けて、該ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記EFEMに連設して設置し、且つ該局所排気ユニットによりEFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する底板を設け、且つ前記EFEMを構成する側壁面にファン設置室を設けて、該ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記EFEMに連設して設置し、且つ該局所排気ユニットによりEFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する排気開口を備えた支持架台の下流側に間隔を有して設けられた区画壁によって、下流側のファン設置室と区画された排気ガイド室を設ける一方、前記ファン設置室に吸引用ファンを設置し、且つ該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置し、更に前記高性能フィルタとケミカルフィルタの下流側の底板との間に排気誘導路を設けて形成された局所排気ユニットを、前記EFEMに連設して設置し、且つ該局所排気ユニットにより前記EFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する排気開口を備えた支持架台の下流側に間隔を有して底板を設けて、前記排気開口を通して排気された使用済み清浄空気の排気通路を設けると共に、区画壁によって、下流側のファン設置室と区画された排気ガイド室を設けて、該排気ガイド室の下方部に前記排気通路の下流側を連通する一方、前記ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に、高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記EFEMに連結して設置し、且つ該局所排気ユニットによりEFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する排気開口を備えた支持架台を設け、且つ前記EFEMを構成する側壁面に排気ガイド室を突設する一方、ファン設置室に吸引用ファンを設置すると共に、該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記EFEMに連結して設置し、且つ該局所排気ユニットによりEFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する底板を設け、且つ前記EFEMを構成する側壁面に排気ガイド室を突設する一方、ファン設置室に吸引用ファンを設置すると共に、該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記EFEMに連結して設置し、且つ該局所排気ユニットによりEFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する排気開口を備えた支持架台の下流側のグレーチング上に、上面に通気開口を備えた吸込みボックスを設置する一方、前記グレーチングの床下ピットに、ファン設置室に吸引用ファンを設置し、且つ該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットが配設される一方、該局所排気ユニットと、前記EFEMの吸込みボックスとを排気誘導管を介在せしめて連結して設置し、且つ該局所排気ユニットにより前記EFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する排気開口を備えた支持架台の下流側に間隔を有して底板を設けて、前記排気開口を通して排気された使用済み清浄空気の排気通路を設けると共に、区画壁によって、下流側のファン設置室と区画された排気ガイド室を設けて、該排気ガイド室の下方部に前記排気通路の下流側を連通する一方、前記ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に、高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記EFEMに連結してクリーンルームのグレーチングの下面の床下ピット内に設置し、且つ該局所排気ユニットによりEFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する排気開口を備えた支持架台を設け、且つ前記EFEMを構成する側壁面に排気ガイド室を突設する一方、ファン設置室に吸引用ファンを設置すると共に、該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記EFEMに連結してクリーンルームのグレーチングの下面の床下ピット内に設置し、且つ該局所排気ユニットによりEFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- EFEMの清浄空間部において、ロボットを載置する底板を設け、且つ前記EFEMを構成する側壁面に排気ガイド室を突設する一方、ファン設置室に吸引用ファンを設置すると共に、該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記EFEMに連結してクリーンルームのグレーチングの下面の床下ピット内に設置し、且つ該局所排気ユニットによりEFEM内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する排気開口を備えた支持架台の下流側に間隔を有して底板を設けて、前記排気開口を通して排気された使用済み清浄空気の排気通路を設けると共に、区画壁によって、下流側のファン設置室と区画された排気ガイド室を設けて、該排気ガイド室の下方部に前記排気通路の下流側を連通する一方、前記ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に、高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記薄板状物処理室に連設して設置し、且つ該局所排気ユニットにより薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する排気開口を備えた支持架台を設け、且つ前記薄板状物処理室を構成する側壁面にファン設置室を設けて、該ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記薄板状物処理室に連設して設置し、且つ該局所排気ユニットにより薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する底板を設け、且つ前記薄板状物処理室を構成する側壁面にファン設置室を設けて、該ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記薄板状物処理室に連設して設置し、且つ該局所排気ユニットにより薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する排気開口を備えた支持架台の下流側に間隔を有して設けられた区画壁によって、下流側のファン設置室と区画された排気ガイド室を設ける一方、前記ファン設置室に吸引用ファンを設置し、且つ該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置し、更に前記高性能フィルタとケミカルフィルタの下流側の底板との間に排気誘導路を設けて形成された局所排気ユニットを、前記薄板状物処理室に連設して設置し、且つ該局所排気ユニットにより前記薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する排気開口を備えた支持架台の下流側に間隔を有して底板を設けて、前記排気開口を通して排気された使用済み清浄空気の排気通路を設けると共に、区画壁によって、下流側のファン設置室と区画された排気ガイド室を設けて、該排気ガイド室の下方部に前記排気通路の下流側を連通する一方、前記ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に、高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記薄板状物処理室に連結して設置し、且つ該局所排気ユニットにより薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する排気開口を備えた支持架台を設け、且つ前記薄板状物処理室を構成する側壁面に排気ガイド室を突設する一方、ファン設置室に吸引用ファンを設置すると共に、該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記薄板状物処理室に連結して設置し、且つ該局所排気ユニットにより薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する底板を設け、且つ前記薄板状物処理室を構成する側壁面に排気ガイド室を突設する一方、ファン設置室に吸引用ファンを設置する共に、該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記薄板状物処理室に連結して設置し、且つ該局所排気ユニットにより薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する排気開口を備えた支持架台の下流側のグレーチング上に、上面に通気開口を備えた吸込みボックスを設置する一方、前記グレーチングの床下ピットに、ファン設置室に吸引用ファンを設置し、且つ該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットが配設される一方、該局所排気ユニットと、前記薄板状物処理室の吸込みボックスとを排気誘導管を介在せしめて連結し、且つ該局所排気ユニットにより前記薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する排気開口を備えた支持架台の下流側に間隔を有して底板を設けて、前記排気開口を通して排気された使用済み清浄空気の排気通路を設けると共に、区画壁によって、下流側のファン設置室と区画された排気ガイド室を設けて、該排気ガイド室の下方部に前記排気通路の下流側を連通する一方、前記ファン設置室に吸引用ファンを設置し、更に該吸引用ファンの下流側に、高性能フィルタ、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記薄板状物処理室に連結してクリーンルームのグレーチングの下面の床下ピット内に設置し、且つ該局所排気ユニットにより薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する排気開口を備えた支持架台を設け、且つ前記薄板状物処理室を構成する側壁面に排気ガイド室を突設する一方、ファン設置室に吸引用ファンを設置すると共に、該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記薄板状物処理室に連結してクリーンルームのグレーチングの下面の床下ピット内に設置し、且つ該局所排気ユニットにより薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
- 薄板状物処理室の清浄空間部において、薄板状物処理部を載置する底板を設け、且つ前記薄板状物処理室を構成する側壁面に排気ガイド室を突設する一方、ファン設置室に吸引用ファンを設置する共に、該吸引用ファンの下流側に高性能フィルタを、または前記高性能フィルタとケミカルフィルタとを組合わせ設置して形成された局所排気ユニットを、前記排気ガイド室とファン設置室とを排気誘導管を介在せしめて連通することにより、前記薄板状物処理室に連結してクリーンルームのグレーチングの下面の床下ピット内に設置し、且つ該局所排気ユニットにより薄板状物処理室内の微粒子、または微粒子並びに有害ガスを除去して清浄空気をクリーンルーム内に排気するようにしたことを特徴とする薄板状物製造装置における、微粒子、または微粒子並びに有害ガスの除去を目的とする空気清浄装置。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014021084A (ja) * | 2012-07-24 | 2014-02-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置 |
JP2015077555A (ja) * | 2013-10-16 | 2015-04-23 | 大日本印刷株式会社 | 送風式集塵装置 |
JP2015146348A (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-13 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efemシステム |
JP2016207746A (ja) * | 2015-04-17 | 2016-12-08 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体製造装置 |
US10340157B2 (en) | 2015-12-14 | 2019-07-02 | Tdk Corporation | Mini-environment apparatus |
JP2019125801A (ja) * | 2019-03-11 | 2019-07-25 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efem装置 |
KR20190115684A (ko) * | 2018-04-03 | 2019-10-14 | 우범제 | 이에프이엠 |
Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56114831U (ja) * | 1980-02-06 | 1981-09-03 | ||
JPS6178229A (ja) * | 1984-09-26 | 1986-04-21 | Toshiba Corp | 誤り訂正制御回路 |
JPS62236688A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | 株式会社日立製作所 | 清浄作業台 |
JPH074709A (ja) * | 1993-06-18 | 1995-01-10 | Nippon Steel Corp | クリーンルームにおける気流安定化装置 |
JPH08168621A (ja) * | 1994-12-20 | 1996-07-02 | Hitachi Ltd | 空気洗浄搬送装置 |
JPH10340874A (ja) * | 1997-06-05 | 1998-12-22 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 局所密閉型清浄装置 |
JPH11294817A (ja) * | 1998-04-16 | 1999-10-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理システム |
JP2000167500A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-20 | Takuma Co Ltd | 化学装置清浄化装置 |
JP2001093851A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-04-06 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理方法および熱処理装置 |
JP2002022228A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-23 | Tokyo Electron Ltd | クリ−ンル−ムの空調設備及び空調方法 |
JP2002147811A (ja) * | 2000-11-08 | 2002-05-22 | Sharp Corp | クリーンルーム |
JP2002261159A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-09-13 | Ebara Corp | 基板搬送容器 |
JP2003051431A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-21 | Sanki Eng Co Ltd | 半導体製造装置 |
JP3108536U (ja) * | 2004-11-02 | 2005-04-14 | 株式会社アメニティ・テクノロジー | クリーンブース |
JP2005334771A (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd | 清浄作業台 |
JP2006142233A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Daikin Ind Ltd | 気体浄化装置 |
JP2006286682A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
-
2007
- 2007-05-29 JP JP2007141329A patent/JP2008296069A/ja active Pending
Patent Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56114831U (ja) * | 1980-02-06 | 1981-09-03 | ||
JPS6178229A (ja) * | 1984-09-26 | 1986-04-21 | Toshiba Corp | 誤り訂正制御回路 |
JPS62236688A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | 株式会社日立製作所 | 清浄作業台 |
JPH074709A (ja) * | 1993-06-18 | 1995-01-10 | Nippon Steel Corp | クリーンルームにおける気流安定化装置 |
JPH08168621A (ja) * | 1994-12-20 | 1996-07-02 | Hitachi Ltd | 空気洗浄搬送装置 |
JPH10340874A (ja) * | 1997-06-05 | 1998-12-22 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 局所密閉型清浄装置 |
JPH11294817A (ja) * | 1998-04-16 | 1999-10-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理システム |
JP2000167500A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-20 | Takuma Co Ltd | 化学装置清浄化装置 |
JP2001093851A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-04-06 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理方法および熱処理装置 |
JP2002022228A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-23 | Tokyo Electron Ltd | クリ−ンル−ムの空調設備及び空調方法 |
JP2002147811A (ja) * | 2000-11-08 | 2002-05-22 | Sharp Corp | クリーンルーム |
JP2002261159A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-09-13 | Ebara Corp | 基板搬送容器 |
JP2003051431A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-21 | Sanki Eng Co Ltd | 半導体製造装置 |
JP2005334771A (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd | 清浄作業台 |
JP3108536U (ja) * | 2004-11-02 | 2005-04-14 | 株式会社アメニティ・テクノロジー | クリーンブース |
JP2006142233A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Daikin Ind Ltd | 気体浄化装置 |
JP2006286682A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014021084A (ja) * | 2012-07-24 | 2014-02-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置 |
US9759669B2 (en) | 2012-07-24 | 2017-09-12 | Hitachi High-Technologies Corporation | Inspection device |
JP2015077555A (ja) * | 2013-10-16 | 2015-04-23 | 大日本印刷株式会社 | 送風式集塵装置 |
JP2015146348A (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-13 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efemシステム |
JP2016207746A (ja) * | 2015-04-17 | 2016-12-08 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体製造装置 |
US10340157B2 (en) | 2015-12-14 | 2019-07-02 | Tdk Corporation | Mini-environment apparatus |
KR20190115684A (ko) * | 2018-04-03 | 2019-10-14 | 우범제 | 이에프이엠 |
KR102139249B1 (ko) * | 2018-04-03 | 2020-07-29 | 우범제 | 이에프이엠 |
US10784131B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-09-22 | Bum Je WOO | EFEM, equipment front end module |
JP2019125801A (ja) * | 2019-03-11 | 2019-07-25 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efem装置 |
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