JPH04157724A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPH04157724A JPH04157724A JP28189090A JP28189090A JPH04157724A JP H04157724 A JPH04157724 A JP H04157724A JP 28189090 A JP28189090 A JP 28189090A JP 28189090 A JP28189090 A JP 28189090A JP H04157724 A JPH04157724 A JP H04157724A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- hermetically sealed
- sealed space
- tanks
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- Pending
Links
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 13
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Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、低コストで効率的な洗浄が行える洗浄装置に
関するものである。
関するものである。
半導体装置の製造等に使用する薬液を用いた洗浄装置に
おいては、試料の洗浄度を高めるために通常２槽ないし
４槽の洗浄槽を横方向に並べ、試料を第１槽から順次槽
を移して洗浄を行っていた。
おいては、試料の洗浄度を高めるために通常２槽ないし
４槽の洗浄槽を横方向に並べ、試料を第１槽から順次槽
を移して洗浄を行っていた。
そのため、洗浄装置は一般に間口が広く奥行が短い横長
の形に形成されており、これらを稼動させる洗浄室にお
いては、通路に沿って上記洗浄装置を横に並べ、メンテ
ナンスエリアを除き、上記通路を含めた洗浄装置の設置
領域全体の天井から床までを、高洗浄度が保持できるよ
うに空気清浄化を行っていた。
の形に形成されており、これらを稼動させる洗浄室にお
いては、通路に沿って上記洗浄装置を横に並べ、メンテ
ナンスエリアを除き、上記通路を含めた洗浄装置の設置
領域全体の天井から床までを、高洗浄度が保持できるよ
うに空気清浄化を行っていた。
また、洗浄作用を自動化し、洗浄液の汚染を低減するた
めに、カセットから取り出したウェハだけをウェハホル
ダで支持して搬送し、カセットを一洗浄槽内に浸漬しな
い方法も行われている（特願平２−９０９５６号）。
めに、カセットから取り出したウェハだけをウェハホル
ダで支持して搬送し、カセットを一洗浄槽内に浸漬しな
い方法も行われている（特願平２−９０９５６号）。
上記従来技術では、高清浄度に空気清浄化を実施する領
域が天井も高いため広く、この広い空間の清浄化のため
の設備費用は高く、かつ広い容積の清浄化を保持するた
めの運転費用も高価であった。また、万一液漏れを生じ
た場合には、上記領域内に拡がり、広い範囲で化学汚染
が生じるおそれがあった。
域が天井も高いため広く、この広い空間の清浄化のため
の設備費用は高く、かつ広い容積の清浄化を保持するた
めの運転費用も高価であった。また、万一液漏れを生じ
た場合には、上記領域内に拡がり、広い範囲で化学汚染
が生じるおそれがあった。
本発明は、限られた密閉空間内の空気だけを高清浄化す
ることにより、低コストで効率的な洗浄が行える、洗浄
装置を得ることを目的とする。
ることにより、低コストで効率的な洗浄が行える、洗浄
装置を得ることを目的とする。
上記目的は、複数の洗浄槽を用いて自動洗浄を行う洗浄
装置において、上記複数の洗浄槽を所定の順序に並置し
て対向させ、これらの洗浄槽に試料を順次Ｕ字状に搬送
する搬送手段を設け、上記搬送手段の両端に位置する隣
接した試料供給口と試料搬出口とを除き、上記各洗浄槽
および搬送手段をまとめて密閉し、密閉空間を高度に清
浄化することによって達成される。
装置において、上記複数の洗浄槽を所定の順序に並置し
て対向させ、これらの洗浄槽に試料を順次Ｕ字状に搬送
する搬送手段を設け、上記搬送手段の両端に位置する隣
接した試料供給口と試料搬出口とを除き、上記各洗浄槽
および搬送手段をまとめて密閉し、密閉空間を高度に清
浄化することによって達成される。
本発明による洗浄装置は、近接して設けられた試料供給
口と試料搬出口とを除き、複数の各洗浄槽および試料の
搬送手段をまとめて密閉している。
口と試料搬出口とを除き、複数の各洗浄槽および試料の
搬送手段をまとめて密閉している。
上記各洗浄槽は順序にしたがい並置して対向させている
ため、比較的短い奥行でまとまった面積に各洗浄槽を設
置でき、しかも低い天井の密閉空間を形成して高清浄化
できるので、従来の洗浄室における高清浄化よりも設備
費や運転費を大きく低減させることができる。上記密閉
空間はメンテナンスエリアに設置できるため、建屋面積
を効率よく運用することが可能になる。
ため、比較的短い奥行でまとまった面積に各洗浄槽を設
置でき、しかも低い天井の密閉空間を形成して高清浄化
できるので、従来の洗浄室における高清浄化よりも設備
費や運転費を大きく低減させることができる。上記密閉
空間はメンテナンスエリアに設置できるため、建屋面積
を効率よく運用することが可能になる。
さらに、上記密閉空間内の搬送手段を、カセットから取
り出したウェハだけを、ウェハホルダで支持して多槽に
搬送するようにすれば、塵埃が付着したカセットを洗浄
槽内に浸漬することがないため、洗浄槽が小型でよく、
かつ、洗浄液の汚染が低減され薬液の持ち出しが減少し
、より効率的な洗浄を行うことができる。
り出したウェハだけを、ウェハホルダで支持して多槽に
搬送するようにすれば、塵埃が付着したカセットを洗浄
槽内に浸漬することがないため、洗浄槽が小型でよく、
かつ、洗浄液の汚染が低減され薬液の持ち出しが減少し
、より効率的な洗浄を行うことができる。
つぎに本発明の実施例を図面とともに説明する。
第１図は本発明による洗浄装置の一実施例における平面
構成を示す図、第２図は上記実施例のＡ−Ａ断面を示す
図である。第１図において、試料供給口１から供給され
た試料である、例えばカセット８に収納されたウェハ７
は、搬送手段のウェハホルダ（第２図１３）でウェハ７
だけが支持され、所定の順序で対向して配置された第１
洗浄槽２、第２洗浄槽３．第３洗浄槽４、第４洗浄槽Ｓ
の順に、Ｕ字状に設置された搬送手段により、１点鎖線
で示したように搬送され洗浄処理される。なお、洗浄槽
の数は上記のように４個に限定されない。
構成を示す図、第２図は上記実施例のＡ−Ａ断面を示す
図である。第１図において、試料供給口１から供給され
た試料である、例えばカセット８に収納されたウェハ７
は、搬送手段のウェハホルダ（第２図１３）でウェハ７
だけが支持され、所定の順序で対向して配置された第１
洗浄槽２、第２洗浄槽３．第３洗浄槽４、第４洗浄槽Ｓ
の順に、Ｕ字状に設置された搬送手段により、１点鎖線
で示したように搬送され洗浄処理される。なお、洗浄槽
の数は上記のように４個に限定されない。
一方、上記のように収納しているウェハ７がロボット９
により取り出されたのちのカセット８は、図中破線で示
したように、上記洗浄槽群の終端に運ばれ、洗浄が終わ
ったウェハをロボット９で収納して試料搬出口６に送り
呂される。
により取り出されたのちのカセット８は、図中破線で示
したように、上記洗浄槽群の終端に運ばれ、洗浄が終わ
ったウェハをロボット９で収納して試料搬出口６に送り
呂される。
上記各洗浄槽２．３．４．５、ロボット９および搬送手
段の全ては、これらをまとめて蔽う天井および隔壁で形
成された密閉空間ＩＯで囲まれ、第２図に示すように、
上記密閉空間１０の上部から高精度フィルタを介して洗
浄空気１】が導入され、密閉空間１０内を高清浄度に保
持している。洗浄槽から発生する薬液蒸気は、空気流と
ともに排気ダクト１２により排出される。なお、上記密
閉空間１０の隔壁の随所には、図示してないが開閉式の
出入口および点検窓が設けである。
段の全ては、これらをまとめて蔽う天井および隔壁で形
成された密閉空間ＩＯで囲まれ、第２図に示すように、
上記密閉空間１０の上部から高精度フィルタを介して洗
浄空気１】が導入され、密閉空間１０内を高清浄度に保
持している。洗浄槽から発生する薬液蒸気は、空気流と
ともに排気ダクト１２により排出される。なお、上記密
閉空間１０の隔壁の随所には、図示してないが開閉式の
出入口および点検窓が設けである。
上記のように密閉空間１０は、狭くまとまった面積に配
置された各洗浄槽２，３．４．５とロボット９および搬
送手段を囲むように形成されているため、天井も低く、
密閉空間１０の容積は、従来の洗浄室内の高清浄領域空
間の容積よりはるかに小さく、したがって、高清浄化の
設備費が低減されるとともに運転費も減少させることが
できる。
置された各洗浄槽２，３．４．５とロボット９および搬
送手段を囲むように形成されているため、天井も低く、
密閉空間１０の容積は、従来の洗浄室内の高清浄領域空
間の容積よりはるかに小さく、したがって、高清浄化の
設備費が低減されるとともに運転費も減少させることが
できる。
また、上記実施例に示したように、搬送手段として、カ
セット８から取り出したウェハ７だけを洗浄槽中に浸漬
し、塵埃が付着し形状が複雑なカセット８を洗浄槽内に
入れないため、洗浄槽の形状を小型にできるとともに、
洗浄液の汚染を低減し、薬液の持ち出しが減少するため
洗浄コストが低くなり、上記密閉空間を設けた洗浄装置
とともに、効率的な洗浄を行うことができる。
セット８から取り出したウェハ７だけを洗浄槽中に浸漬
し、塵埃が付着し形状が複雑なカセット８を洗浄槽内に
入れないため、洗浄槽の形状を小型にできるとともに、
洗浄液の汚染を低減し、薬液の持ち出しが減少するため
洗浄コストが低くなり、上記密閉空間を設けた洗浄装置
とともに、効率的な洗浄を行うことができる。
上記のように本発明による洗浄装置は、複数の洗浄槽を
用いて自動洗浄を行う洗浄装置において、上記複数の洗
浄槽を所定の順序にしたがい並置して対向させ、これら
の洗浄槽に試料を順次Ｕ字状に搬送する搬送手段を設け
、上記搬送手段の両端に位置する隣接した試料供給口と
試料搬出口とを除き、上記各洗浄槽および搬送手段をま
とめて密閉し、密閉空間を高度に清浄化することによっ
て、空気高清浄化の設備費および運転費を低減すること
ができるとともに、薬液洩れによる化学汚染領域が抑制
され、さらに、搬送手段としてカセットを除いたウェハ
だけを搬送することによって、洗浄コストを低減した効
率的な洗浄を行うことができる。
用いて自動洗浄を行う洗浄装置において、上記複数の洗
浄槽を所定の順序にしたがい並置して対向させ、これら
の洗浄槽に試料を順次Ｕ字状に搬送する搬送手段を設け
、上記搬送手段の両端に位置する隣接した試料供給口と
試料搬出口とを除き、上記各洗浄槽および搬送手段をま
とめて密閉し、密閉空間を高度に清浄化することによっ
て、空気高清浄化の設備費および運転費を低減すること
ができるとともに、薬液洩れによる化学汚染領域が抑制
され、さらに、搬送手段としてカセットを除いたウェハ
だけを搬送することによって、洗浄コストを低減した効
率的な洗浄を行うことができる。
第１図は本発明による洗浄装置の一実施例における平面
構成を示す図、第２図は上記実施例のＡ−Ａ断面を示す
図である。 １・・・試料供給口 ２．３．４．５・・・洗浄槽 ６・・・試料搬出口 ７・・・試料（ウェハ）
８・・・カセット １ｏ・・・密閉空間代理
人弁理士 中 村 純之助 第１図 １１ 手続補正書（０釦
構成を示す図、第２図は上記実施例のＡ−Ａ断面を示す
図である。 １・・・試料供給口 ２．３．４．５・・・洗浄槽 ６・・・試料搬出口 ７・・・試料（ウェハ）
８・・・カセット １ｏ・・・密閉空間代理
人弁理士 中 村 純之助 第１図 １１ 手続補正書（０釦
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、複数の洗浄槽を用いて自動洗浄を行う洗浄装置にお
いて、上記複数の洗浄槽を所定の順序にしたがい並置し
て対向させ、これらの洗浄槽に試料を順次Ｕ字状に搬送
する搬送手段を設け、上記搬送手段の両端に位置する隣
接した試料供給口と試料搬出口とを除き、上記各洗浄槽
および搬送手段をまとめて密閉し、密閉空間を高度に清
浄化することを特徴とする洗浄装置。 ２、上記搬送手段は、カセットから取り出したウェハだ
けを搬送する手段であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項に記載した洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28189090A JPH04157724A (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28189090A JPH04157724A (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04157724A true JPH04157724A (ja) | 1992-05-29 |
Family
ID=17645395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28189090A Pending JPH04157724A (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04157724A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06252126A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-09 | Sugai:Kk | 基板洗浄方法および基板洗浄システム |
| US6244282B1 (en) | 1996-11-04 | 2001-06-12 | Steag Microtech Gmbh | Substrate treatment device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61204941A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Hitachi Ltd | 洗浄装置用搬送トレイ |
-
1990
- 1990-10-22 JP JP28189090A patent/JPH04157724A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61204941A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Hitachi Ltd | 洗浄装置用搬送トレイ |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06252126A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-09 | Sugai:Kk | 基板洗浄方法および基板洗浄システム |
| US6244282B1 (en) | 1996-11-04 | 2001-06-12 | Steag Microtech Gmbh | Substrate treatment device |
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