JPS61204941A - 洗浄装置用搬送トレイ - Google Patents

洗浄装置用搬送トレイ

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JPS61204941A
JPS61204941A JP4481385A JP4481385A JPS61204941A JP S61204941 A JPS61204941 A JP S61204941A JP 4481385 A JP4481385 A JP 4481385A JP 4481385 A JP4481385 A JP 4481385A JP S61204941 A JPS61204941 A JP S61204941A
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JP
Japan
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tray
cleaned
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washing
washed
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JP4481385A
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Tomoyoshi Ogoshi
大越 智義
Isamu Akiba
勇 秋葉
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • H01L21/3046Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting using blasting, e.g. sand-blasting

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、小物被洗浄物の塵埃を除去するための精密洗
浄装置用の搬送トレイに関する。
〔発明の背景〕
従来ウェファのような円板状の一定形状物の搬送装置は
時分56−49451等で公知であって第9図のように
、平置した状態のまま直接コンベアやチャックによって
搬送したり加工したりするものである1、四角板状など
円板状以外の形状をもち、。
ウェファよりも小さい対象物に対しては、そのまま利用
することは困難である。
1に、 Jjh #: il# IF Ls I+六泰
凄も1ml場であって 磁気信号記録部品や水晶振動子
などの精密洗浄にfま、ウェファ用の洗浄装置を利用す
ることができなかった。
〔発明の目的〕
本発明は、上記間雇点を解決するためになされたもので
、上記小物被洗浄物をウェファに対する洗浄装置と同様
の洗浄装置を用いて塵埃を除去すr   ゛ る、ことが可能な洗浄装置用搬送トレイを提供する〜 −ものである。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するためにこの発明は、円板の平面上に
真空引穴と、液抜穴と、位置決めピン七を定置して成る
トレイ上に被洗浄物を微量した状態において、超音波洗
浄装置、シャワリング装置、スクラバ装置などの湿式洗
浄装置及び電a彼照射形洗浄装置内を搬送し、連続的に
洗浄を行う上記洗浄装置用搬送トレイに関するものでb
るっ〔発明の実施列〕 第1図は、本発明に係る洗浄装置用搬送トレイ12の一
実施ρりを示す斜視図であって、ステンレス製の円板の
平面に真空引穴12aと液抜穴1.2bと位置決め用ビ
ンl、2Cとを有するもので、被洗浄物9は、該トレイ
12の平面上に、放射状2列に等間隔を保って載置され
る。図中においては、被洗浄物9は半径上に並ぶ2組計
4個を図示し1、かつこのうち2個は断面にて示じであ
るが、他の被洗浄物9は図示を省略しである。
−\、この1・l/イ12を用いて多数の被洗浄物9を
、各糧抗浄装置から成る湿式洗浄装置及び屯殊波照射形
代浄装置によって連続的に洗浄処理をおこなう実施例全
第2図〜第8図によって説明する。
第2図は、本発明に係る洗浄装置用搬送トレイを用いた
洗浄装置全体の概要平面及び被洗浄物の洗浄経路並びに
清浄空気の流路を示す図、第3図は、第2図に示す洗浄
鉄りa内部の構成を示す平面配置図である。
この洗浄装置lは、ローダ2、湿式超音波洗浄槽ff1
3、シャワリング装置4、スクラバ装置5、電磁波照射
洗浄装置6、検査ユニット7、アンローダ8等をj1次
並設して−・連の洗浄装置となしkものである。被洗浄
物9は、洗浄装filk構成する前記各装置2,3,4
,5,6,7.8を経由し、洗浄される間常に本発明に
係るトレイ12上に載置された状態に訃いて処理される
。トレイ12上の被洗浄物9は第2図矢印Pの方向に順
次搬送装置によって移送される。清浄空気Aは、被洗浄
物9の移動方向と逆に矢印Qの方向に流れるよりになさ
れている。、、また清浄空気Aは、各装置IL l 5
+ 4+ :L 2におけるトレイ12上の°被洗浄物
9に対し5、垂直上方より下方に向って前記各装置ごと
に順次分岐して流すことにより、各装置8,7,5,4
,3.2から発生する塵埃が被洗浄物9に付着しないよ
うに配慮されている。
従りて列えば、シャワリング装置4において発生する塵
埃は、次工程のスクラバ装置5に持ち込まれることはな
い。まfr:、清浄空気Aは洗浄装置1内を通過するに
従って徐々に汚染さj、るが、前述のようにトレイ12
上の被洗浄物9の移動方向と逆方向に流されるため、ト
レイ12上の被洗浄物が、洗浄装置1内の前記各装置2
,3,4,5,7゜8から出る側においては、新鮮な空
気と接触することとなり、清浄空気Aを、被洗浄物9の
洗浄工程順路と同じ方向に流すよりも、汚染されにくい
ように構成されている。なお清浄空気Aは電磁波照射洗
浄装置6には分流しないようになされており、別に電磁
波照射洗浄装置6専用に、清浄空気Bを送り込むように
して、わυ、トレイ12上の被洗浄物9に付着した有機
物の塵埃がオゾン及び酸素ラジカルによって酸化分解さ
れる結果生成する炭酸ガスと水蒸気とを直ちに電磁波照
射洗浄装置 ようになされているつ清浄空気Bの代りに1電磁波照射
形洗浄装置6に酸素ガスを送ジ込んでもよく、これによ
り該装置6におけるオゾンの発生を助長する作用をする
洗浄装置1内の各装置2,3,4,5.6.7゜8を第
2図に示すようにU字状に配列されてしするので、−直
線状に配列された場合と比較して考えた場汁、長手方向
の寸法金はぼ1/2に縮少する>L、、/Vr−re4
L4a−1ヱfJmnワJHC7,8の駆動装置及び配
管部をU字状の中央部几に設置することかできるから、
トレイI2上の被洗浄物9を洗浄装置1の外周側から監
視しまたり点検したり、事故の際に処置したりする場合
に、駆動装置及び配管部の念めに邪魔される心配がない
また回動アーム11の回動範囲の中間に、予備室6a、
6hのために必要なスペースを確保することができる。
被洗浄物9は、第1図に示すようにステンレス製の円板
状トレイ12の上に載置された状態で洗浄装置1内へ送
り込プれる。被洗浄物9を載置したトレイL2ば、第4
図に示すようにラック13において多段に積載されてロ
ーダ2へ送られる。
トレイ12上の被洗浄物9はローダ2の昇降テーブル2
aを介して搬送コンベア2b上に順次載置され、湿式超
音波洗浄装置3へ送られる。
トレイ12上の被洗浄物9は、この搬送コンベア2bか
らバレン)3aによって湿式超音波洗浄槽3bの水中に
浸漬される。第4図に示すパレット3aの位置は、トレ
イ12上の被洗浄物9が湿式超音波洗浄槽3bの水中に
浸漬されていない状態における位置を示している。洗浄
槽3bの底部には振動子3Cが設けられておシ、この振
動子3Cを振動させ洗浄槽3b内の水3dに対し超音波
振動を与えることによシ、被洗浄物9の表面の塵埃に対
して振動エネルギを与える。塵埃は大きいもの程大きな
振動エネルギが加わるので、大きな塵埃から順次被洗浄
物9の表面から遊離する。
大きな塵埃は一般的には無機物が多いので、湿式超音波
洗浄装置3によって、主に無機物の塵埃を除去すること
ができる。無機物の塵埃を除去することによって、無機
物によって蔽われていた有機物の塵埃を被洗浄物9の表
面に露出させることができる。
洗浄槽3b内の水3dは、オーバ70−させることによ
pタンク14へ導き、タンク14からポンプ15によっ
てフィルタ【6を経て洗浄槽3bへ再供給されるように
循環している。水中に遊離し九塵埃は、フィルタ16に
よってろ過され取シ除かれる。
洗浄槽3bにおける洗浄が終了すると、ペレット3aは
引き上げられ、被洗浄物を載置したトレイL2は、シャ
ワリング装置14へ送るために、シャツリングコンベア
4aに載置される。
トレイ12上の被洗浄物9は、シャワリングコンベア4
a上を移動する際に、シャワリングコンベア4aの上方
に配置され7?:散水ノズル4bにより散水さnること
にエリ、洗浄槽3b内において付着した塵埃があれば除
去される。
第5図及び第6図に3いて、被洗浄物を載置したトレイ
12は、シャワリングコンベア4a及びスライダ4Cに
よってスクラバ装置へ送られる。
スクラバ装置5には、中央にテーブル5aがあり、テー
ブル5a上に載置されたトレイ12上の被洗浄物に対し
、リンスノズル5dから純水を噴射させると同一に、ブ
ラシスクラバ5bが被洗浄物をこすムその表面に固着し
ている有機物及び無機物の塵埃を剥離させる。第4図に
示す湿式超音波洗浄装置3によってトレイ12上の被洗
浄物9に付着していた大きな塵埃は、すでに除去されて
おり、ま次除去されていない被洗浄物9の表面に固着し
た比較的小さい無機物の塵埃は、第5図のシャワリング
装置を通過した後においては、絢離し易い状態になって
いるので、ブラシスクラバ5によるプラシングの効果が
高くなる。続いて5aの上方に配置されたジェットスク
ラバ5Cによシ水を噴射することにより、剥離した有機
物及び無機物の塵埃を被洗浄物90表面から排除する。
さらにリンスノズル5dにより純水を噴射させ、テーブ
ル5aを高速回転させ、N2ガスをブローノズルから噴
射させることによシ被洗浄物9とトレイ12とを乾燥す
る。テーブル5aには搬送用トレイL2の真空引穴12
aが設けられており、この真i引穴L2aから減圧する
ことにより被洗浄物9をトレイ12と共にテーブル5a
に吸引固定させている。
スクラバ装置5における洗浄が終了した後、上述しfc
減圧状態から常圧に戻すことにより吸引を解除し、被洗
浄物9を載置し次トレイ12は次のる。
第6図及び第7図において、トレイ12上の被洗浄物9
は搬送コンベア1′7によって移送され、回動アーム1
1の位置に到達した後、回動アーム11に載置され、次
いで回動アーム11が回動することによりトレイ12上
の被洗浄物9を電磁波′照射形洗浄装置6の前室6aへ
送る。前室6aの入口と出口にはシャッタ61)、6C
が設けられており、被洗浄物9を載置したトレイ12が
通過するときのみシャッタ5b、6cは開くようになさ
れている。前室6aは不意6dにおいて発失し次オゾン
及び酸素ラジカルが、スクラバ装置5内へ流出するのを
防止する次めに設けられている。
回動アームはさらに回動して、トレイ12上の被洗浄物
9を本案6d内のテーブル6e上に載置する。テーブル
6eの上方には、複数個の水銀ランプ6fと2本の赤外
線ランプ6gとか設けられている。水銀ランプ6fに通
電すると、水銀ラン 。
プから発する紫外線の作用によシ、本案6d内の’fi
3 &i −Ae ↓1r−/  L  滅船調1a 
 −S −h  n−Ill” lk’Ijll  I
      に 11X 12上の被洗浄物90表面に薄膜状に付着している有機
物に作用し、有機物を炭酸カスと水蒸気に分解する。前
述のように、湿式超音波洗浄装#3とシャワリング装#
4及びスクラバ装置5とによって無機物の塵埃が除去さ
れているため、無機物の塵埃に蔽われて込た有機物の塵
埃は露出し2ているので、この酸化分解作用を効果的に
行わせるこ−とが可能である。水銀ランプ6fから発す
る紫外−iの波長はl、84.9nm或いは253.7
nm近傍が効果的である。また水銀ランプ6fに通電す
ると共に、赤外線ランプ6gK通電することにより、ト
レイ12上の被洗浄物9の表面の有機物の酸化分解を促
進すると共に、該表面に残留する水分を蒸発させる作用
をもっているので、被洗浄物9及びトレイL2を乾燥さ
せることができる。l・レイ12上の被洗浄物9は、有
機物の塵埃が除去され息抜、回動アーム18の回動によ
って、本案6dから後室6hへ送られるつなおテーブル
6eは上下動自在及び回動自在に設けられておシ、回動
アームll及び18による搬送と、水銀ランプ6fに二
る紫外線照射のだめの、最適位置を1ノへ択するのに便
利な構成となっている。
後室6hの入口と出口にはンヤソタ6I、6」が設けら
tlており、被洗浄物9を載置[7たトレイ12が通過
するときのみ、シャッタ6 ’ + 6 Jは開くよう
になされている。この後室6)1は本案6dにおいて発
生したオゾン及び酸素ラジカルが検査ユニット7へ流出
しないように設けたものである。
第7図及び第8図において、回動アーム18が更に回動
することにより、トレイ12上の被洗浄物9ンま検査ユ
ニット7内の搬送コンベア7a上に移送され、さらにコ
ンベア7aからテーブル7bへ込られる。チー・プル7
bの上方には顕微鏡7C及びカメラ7dか設けられてお
り、デープル7bに載置されたトレイ12上の被洗浄物
90表面の状況をカメラ7dによって撮影し、撮影の結
果をディスプレイ7eにおいて表示すると共に、表示結
果を自動的に評価して前工程に;?ける各装置2゜3.
4,5.6に対してフィードバンクさせることができる
ようになっている。なおテーブル7bは上下動自在及び
回動自在に構成することにより、カメラ7bによる撮影
時の位置の調整を行うようにしである。
検査ユニット7からは搬送コンベア7fによって被洗浄
物9を載置し、たトレイ12をアンローダ8へ送p1 
ランクL3へ積載する。
清浄空気Aは、トレイ12上の被洗浄物9に対し、垂直
上方から下方に向って分流するようになっているので、
各洗浄装@2,3,4,5,7゜8から発生する塵埃〃
司・レイ12上の被洗浄物9を汚染しないようになされ
ておQ1清浄空気A、を個別に各装置2,3,4,5,
7.8へ送る方式よジも能率よく洗浄装置り全体を流れ
るように構成されてbる。
本実施例では、第8図に示すように、洗浄装置1のアン
ローダ8側に送り込み用のファンL9を設けると共に、
第4図に示すように、ローダ2側に排出用のファン20
を設けである。
なお、トレイ12け処理工程及び処理条件によジ、ステ
ンレス製のものの他、プラスナック製、ゴム製、セラミ
ック製のものであってもよく、また第L −a図に示す
ように、トレイ12の表面において、液抜穴L2bの相
互間を溝12dをもって連結する別の実施列もh4゜ 〔発明の効果〕 本発明の実施によシ、トレイ12上に小物被洗浄物9を
載置した状態のまま、ウェファに対する洗浄装置と同様
の洗浄装置によって、精密洗浄を連続的に行うことが可
能になった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の洗浄装置用搬送トレイの斜視図、第1
.−a図は洗浄装置用搬送トレイの別の実施例の斜視図
、第2図は本発明ンこよる洗浄装置用搬送トレイを用い
た洗浄装置全体の概要金工す平面図及び被洗浄物の洗浄
11ft路並びに′i′#浄空気の流路を示す図、第3
図は、渠2図に示す仇浄装随内の各装置の平面配ld図
、第4図−第8刃は、第2図に示す洗浄装置?構成する
各装置の横断面図、第9図は従来例における搬送部の斜
視図で5蔓33l−洗浄装置、2・・・ローダ、3・・
・湿式超廿波洗浄装置、4・・・/ヤワリ/グ装置、5
・・・スクラノ(装置、6・・電磁波照射形洗浄装置、
7・・・検査ユニット、8・ア/ローグ、9−・・被洗
浄物、[2・・・トレイ、12a・・・真空引穴、12
b・・〜液抜穴、12c・・・位置、央めど)、 12
d−・・溝。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、穴、溝及び凸起を円板の平面の所定位置に設け、該
    円板上に多数個の小物被洗浄物を載置して、複数工程か
    ら成る湿式及び乾式による洗浄を連続的に行うようにし
    た洗浄装置用搬送トレイ。
JP60044813A 1985-03-08 1985-03-08 洗浄装置用搬送トレイ Expired - Lifetime JPH0727882B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04157724A (ja) * 1990-10-22 1992-05-29 Dan Kagaku:Kk 洗浄装置
JP2013169474A (ja) * 2012-02-17 2013-09-02 Mitsubishi Electric Corp 異物除去方法、異物除去装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5252568A (en) * 1975-10-27 1977-04-27 Nec Corp Production of semiconductor element
JPS54149470A (en) * 1978-05-16 1979-11-22 Fujitsu Ltd Washing jig of semiconductor chip
JPS57102024A (en) * 1980-12-17 1982-06-24 Nec Kyushu Ltd Brush scrubber
JPS6163836U (ja) * 1984-10-02 1986-04-30

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5252568A (en) * 1975-10-27 1977-04-27 Nec Corp Production of semiconductor element
JPS54149470A (en) * 1978-05-16 1979-11-22 Fujitsu Ltd Washing jig of semiconductor chip
JPS57102024A (en) * 1980-12-17 1982-06-24 Nec Kyushu Ltd Brush scrubber
JPS6163836U (ja) * 1984-10-02 1986-04-30

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04157724A (ja) * 1990-10-22 1992-05-29 Dan Kagaku:Kk 洗浄装置
JP2013169474A (ja) * 2012-02-17 2013-09-02 Mitsubishi Electric Corp 異物除去方法、異物除去装置

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