JP3503770B2 - クリーンユニット及びクリーンルーム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、クリーンユニット及び
クリーンルームに係り、特に、半導体製造工場、ＬＣＤ
（液晶表示装置）製造工場、精密機械工場、薬品製造工
場等の無塵室或いは無菌室に適用されるクリーンルーム
において、作業台、搬送路、生産機械等の対象設備で局
所的に高清浄度を確保するクリーンユニットに関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来、工業用或いはバイオクリーンルー
ムにおいて、作業台、搬送路、生産機械等の対象設備で
局所的に高清浄度が要求される場合、クリーンユニット
或いはクリーンブースが一般的に使用されている。これ
を、図４により説明する。

【０００３】図において、１はクリーンルームである。
この種のクリーンルーム１としては、例えば、実公平５
ー３８８２１号公報の第３図に示されている全面ラミナ
ーフロー方式や型式は異なるが同じく第４図に示されて
いるコンベンショナル方式が知られている。特に、半導
体製造工場、ＬＣＤ製造工場では、高清浄度を必要とす
る部分では、垂直層流型クリーンルームを採用するのが
一般的である。

【０００４】クリーンルーム１では、室２の天井にフィ
ルタ３が敷設され天井空間４が形成され、又、室２の床
５には、空気流通穴６が形成され、床５の下方に床下空
間７が形成されている。床６上には、作業台、搬送路、
生産機械等の対象設備８が配置されている。対象設備８
の上部には、フィルタ１０とファン１１とを備え、局所
的に高清浄度を確保するクリーンユニット９が設置され
ている。

【０００５】そして、床下空間７内の空気は、図示しな
い空調装置で空調された後、天井空間４に送られ、フィ
ルタ３で清浄空気とされて室２内に吹き出される。この
ように、室２内の空気は、空調及び浄化が行われてい
る。一方、対象設備８においては、室２内の空気をファ
ン１１によって吸い込み、フィルタ１０によって浄化し
た後、対象設備８に向かって清浄空気を吹き出す。

【０００６】そして、ヒューズ等の漏洩又は発生、発塵
等が生じる場合には、上部に設けたファン１１による気
流１２にて汚染物１３を周辺に拡散させた後、還気によ
り捕捉される。このように、従来のクリーンユニット８
では、対象設備８の清浄空間は保持し易いという利点が
ある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】然し乍ら、このような
従来のクリーンユニット８では、汚染物１３を対象設備
の周辺に拡散させるため、周辺設備等に汚染影響を及ぼ
すという問題があった。

【０００８】本発明は斯かる従来の問題点を解決するた
めに為されたもので、その目的は、対象設備の清浄空間
を確保しつつ、対象設備から発生する汚染物質や対象設
備から漏洩した汚染物質を周辺に拡散することなく捕捉
することができるクリーンユニット及びクリーンルーム
を提供することにある。本発明の別の目的は、汚染物質
が対象設備の清浄空間内に侵入することを防止すること
ができるクリーンユニット及びクリーンルームを提供す
ることにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、フィ
ルタとファンとを備え、対象設備の上部側に配置され、
前記対象設備の上部側の空気を前記ファンにより吸引
し、前記フィルタにより吸引空気中の汚染物質を除去
し、前記対象設備の周辺部へ圧送する局所的に高清浄度
を確保するクリーンユニットであって、中央部の底面に
上記空気を吸引する吸込口を設けると共に、周辺部の底
面に吹出口を設けたチャンバーを有し、前記フィルタ
を、前記チャンバー内において、前記吸込口と前記吹出
口との間に配置し、前記ファンを、前記対象設備の上部
側の空気を前記吸込口から吸引し、前記フィルタを通過
して前記吹出口から前記対象設備の周辺部へ圧送するよ
うに、前記チャンバー内に配置して成ることを特徴とす
るものである。

【００１０】請求項２の発明は、請求項１記載の前記チ
ャンバーには、前記吸込口とは別に周辺空気又は空調空
気用の吸込口が設けられていることを特徴とするもので
ある。

【００１１】請求項３の発明は、室の天井にフィルタを
敷設して形成された天井空間と、空気流通穴が形成され
た前記室の床と、前記床の下方に形成された床下空間
と、前記床下空間の空気を空調して前記天井空間へ送る
空調装置と、前記床上に配置された対象設備と、前記対
象設備の上部に配置された、請求項１又は請求項２記載
のクリーンユニットとを備えて成ることを特徴とするも
のである。

【００１２】

【作用】請求項１乃至請求項３の発明においては、クリ
ーンルーム内の対象設備の上部に取り付けられ、対象設
備の上部側の空気をチャンバーの吸込口を介してファン
により吸引し、フィルタによって汚染物質を除去した
後、チャンバーの吹出口から対象設備の周辺部へ圧送す
ることができる。

【００１３】従って、対象設備から漏洩又は対象設備で
発生した塵埃等の汚染物質は、積極的にファンによって
チャンバーの吸込口から吸引され、フィルタによって除
去され、汚染物質を含まない清浄空気が、チャンバーの
吹出口から対象設備の周辺部へ圧送され、汚染物質が対
象設備の周辺に拡散させることがない。特に、請求項２
の発明においては、クリーンユニットの上部の吸込口か
ら周辺空気又は空調空気を吸い込むため、対象設備周辺
へ流出させ、周辺からの汚染物質の巻き込みを防止でき
る。

【００１４】

【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
説明する。図１は、請求項１及び請求項２に係るクリー
ンユニット及び請求項３に係るクリーンルームの一実施
例を示すものである。図において、２１はクリーンルー
ムである。このクリーンルーム２１は、クリーンユニッ
ト３０を除いて従来技術で述べたように公知のものであ
る。

【００１５】クリーンルーム２１では、室２２の天井に
フィルタ２３が敷設され天井空間２４が形成され、又、
室２２の床２５には、空気流通穴２６が形成され、床２
５の下方に床下空間２７が形成されている。床２６上に
は、作業台、搬送路、生産機械等の対象設備２８が配置
されている。対象設備２８の上部には、本実施例に係る
局所的に高清浄度を確保するクリーンユニット３０が設
置されている。

【００１６】そして、床下空間２７内の空気は、図示し
ない空調装置で空調された後、天井空間２４に送られ、
フィルタ２３で清浄空気とされて室２２内に吹き出され
る。このように、室２２内の空気は、空調及び浄化が行
われている。クリーンユニット３０は、吸込口３２を中
央部に設けると共に周辺部に吹出口３３を設けたチャン
バー３１を有し、チャンバー３１内には、吸気ファン３
４とこのファン３４によって吸引された空気中の汚染物
４０を除去する汚染物捕捉用フィルタ３５とが配置され
ている。

【００１７】吸込口３２と吹出口３３は、チャンバー３
１の底板３１ａに形成されている。又、チャンバー３１
の天板１ｂには、吹出口３２とは別に周辺空気又は空調
空気用の吸込口３６が設けられている。本実施例では、
吸込口３２と内部空間３７とファン３４によって、対象
設備２８の上方向に気流を発生させる装置を構成してい
る。又、汚染物捕捉用フィルタ３５とチャンバー３１の
天板３１ｂとチャンバー３０の底板３１ａとで囲まれた
内部空間３７が形成されている。

【００１８】又、ファン３４と内部空間３８と吹出口３
３によって、汚染物捕捉用フィルタ３５によって汚染物
が除去された空気を下方向の気流にする装置を構成して
いる。又、汚染物捕捉用フィルタ３５とチャンバー３１
の天板３１ｂとチャンバー３０の側壁３１ｃとチャンバ
ー３０の底板３１ａとで囲まれた内部空間３８が形成さ
れている。更に、汚染物質捕捉フィルタ３５としては、
例えば、化学吸着、物理吸着作用を利用したケミカルフ
ィルタと通称されるもので、有機溶剤を吸着する活性炭
からなるフィルタ、ＮＯ_xやＳＯ_xを還元するフィルタ、
ＳｉＯ₂を吸着するＳｉＯ₂フィルタ、或いは塩化物を吸
着するフィルタ等がある。

【００１９】この汚染物質捕捉フィルタ３５によって、
汚染物質を捕捉し、周辺への汚染を防止することができ
る。尚、クリーンユニット３０は、従来と同様に、クリ
ーンルーム２１の床２５上に支持装置を介して立設する
か、或いはクリーンルーム２１の天井側から垂下させる
等の支持固定手段によって固定されている。

【００２０】次に、本実施例の作用を説明する。クリー
ンルーム２１では、公知のクリーンルームと同様に０．
２５〜０．５ｍ／ｓ程度の速度で清浄空気が床下空間２
７に向かって送られる。

【００２１】クリーンユニット３０は、クリーンルーム
２１内の対象設備２８の上部に取り付けられ、対象設備
２８の上部側の空気を吸込口３２から内部空間３７内に
ファン３４によって吸引し、上方向気流４１を発生す
る。ファン３４により上方向気流４１として吸引された
空気は、汚染物捕捉用フィルタ３５によって汚染物質４
０が除去された後、内部空間３８で方向変換をして吹出
口３３から対象設備２８の周辺部へ圧送され、下方向気
流４２を発生する。

【００２２】これによって、吹出口３３から対象設備２
８の周囲に清浄空気が吹き出されてエアカーテンを形成
し、汚染物質４０を対象設備２８の周辺に拡散させるこ
とがない。又、クリーンユニット３０の上部の吸込口３
６から周辺空気又は空調空気を、例えば、１．５〜２．
０ｍ／ｓ程度の高速で、対象設備２８の周辺へ吸い込む
ことによって、周辺からの汚染物質の巻き込みを防止で
きる（請求項３）。

【００２３】図２は、図１の要部の横断面図であり、吹
出口３３をチャンバー３１の底板３１ａに対向するよう
に設けた例を示す。この場合には、２方向に下方向気流
４２が形成される。吹出口３３が設けられていない領域
では、壁や他の生産装置等が位置し、吹出口３３を設け
なくとも汚染物質の拡散や侵入が防止される。

【００２４】図３は、図１の要部の横断面図であり、吹
出口３３をチャンバー３１の底板３１ａに矩形状に設け
た例を示す。この場合には、四方に下方向気流４２が形
成され、汚染物質の拡散や侵入が防止される。

【００２５】

【発明の効果】以上述べたように、請求項１乃至３のク
リーンユニットでは、対象設備の清浄空間を確保しつ
つ、対象設備から発生する汚染物質や対象設備から漏洩
した汚染物質を周辺に拡散することなく捕捉することが
できる。

【００２６】請求項２のクリーンユニットでは、汚染物
質が対象設備の清浄空間内に侵入することを防止するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１及び請求項２に係るクリーンユニット
及び請求項３に係るクリーンルームの一実施例を示す説
明図である。

【図２】図１の要部の横断面図を示す説明図である。

【図３】図１の要部の横断面図を示す説明図である。

【図４】従来のクリーンユニットを示す説明図である。

【符号の説明】

２１ クリーンルーム ２８ 対象設備 ３０ クリーンユニット ３１ チャンバー ３２ 吸込口 ３３ 吹出口 ３４ 吸気ファン ３５ 汚染物捕捉用フィルタ ３６ 吸込口 ３７、３８ 内部空間 ４０ 汚染物質 ４１ 上方向気流 ４２ 下方向気流 ４３ 清浄空間

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フィルタとファンとを備え、対象設備の
   上部側に配置され、前記対象設備の上部側の空気を前記
   ファンにより吸引し、前記フィルタにより吸引空気中の
   汚染物質を除去し、前記対象設備の周辺部へ圧送する局
   所的に高清浄度を確保するクリーンユニットであって、 中央部の底面に上記空気を吸引する吸込口を設けると共
   に、周辺部の底面に吹出口を設けたチャンバーを有し、 前記フィルタを、前記チャンバー内において、前記吸込
   口と前記吹出口との間に配置し、 前記ファンを、前記対象設備の上部側の空気を前記吸込
   口から吸引し、前記フィルタを通過して前記吹出口から
   前記対象設備の周辺部へ圧送するように、前記チャンバ
   ー内に配置して成る ことを特徴とするクリーンユニッ
   ト。
2. 【請求項２】 前記チャンバーには、前記吸込口とは別
   に周辺空気又は空調空気用の吸込口が設けられているこ
   とを特徴とする請求項１記載のクリーンユニット。
3. 【請求項３】 室の天井にフィルタを敷設して形成され
   た天井空間と、空気流通穴が形成された前記室の床と、
   前記床の下方に形成された床下空間と、前記床下空間の
   空気を空調して前記天井空間へ送る空調装置と、前記床
   上に配置された対象設備と、前記対象設備の上部に配置
   された、請求項１又は請求項２記載のクリーンユニット
   とを備えて成ることを特徴とするクリーンルーム。