JP2019076842A - 気体浄化装置、気体浄化方法および基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】気体を浄化する際に生じる汚染された液体の量を低減し得る技術を提供する。【解決手段】気体浄化装置３は、処理ユニット２からの排気が通過する排気路４４ａ〜４４ｃを形成する浄化槽４４ａ〜４４ｃと、排気路４４ａ〜４４ｃ内の排気をそれぞれ出口４５ａ〜４５ｃに向けて移動させるファン３６と、排気路４４ａ〜４４ｃ内各々の排気を浄化する浄化液を吐出する吐出ノズル４６ａ〜４６ｃを備える。また、気体浄化装置３は、浄化槽４２ａ〜４２ｃ各々の排液口４２２ａ〜４２２ｃ各々を通過した浄化液を吐出ノズル４６ａ〜４６ｃに戻す循環流路各々を形成する循環部４７ａ〜４７ｃと、各循環流路を通る浄化液中の特定成分を除去する酸性液を供給する酸性液供給配管５１ａ、アルカリ性液を供給するアルカリ性液供給配管５１ｂ、及び有機物除去部５１ｃを備える。【選択図】図４

Description

この発明は、気体を浄化する技術に関する。

半導体装置や液晶表示装置などの製造工程では、酸性またはアルカリ性などの薬液や有機薬液（液状の有機溶剤）が基板の表面に供給される。このため、薬液成分などの汚染物質を含む気体が発生する。このような気体は、スクラバーとも呼ばれる気体浄化装置によって、汚染物質が除去された後、大気に放出される。

例えば、特許文献１には、処理ユニットと処理ユニットからの汚染された排気を浄化するスクラバーが開示されている。特許文献１では、排気に含まれる薬液の種類に基づいて、複数の洗浄液のいずれか一つを選択し、選択された洗浄機を吐出器から吐出させる。これにより、排気中の汚染物質を除去している。

特開２０１４−１７５３６１号公報

しかしながら、特許文献１では、吐出した洗浄液がそのまま排液されてしまう。このため、汚染された洗浄液が大量に発生してしまう。洗浄液は汚染されているために、何らかの処理を施して排液する必要があった。このため、洗浄液が大量に発生すると、その浄化処理が大きな負担となってしまう。

そこで、本発明は、気体を浄化する際に生じる汚染された液体の量を低減し得る技術を提供することを目的とする。

第１態様は、気体を浄化する気体浄化装置であって、浄化対象の気体が通過する第１排気路を形成する第１浄化槽と、前記第１排気路内の前記気体を出口に向けて移動させる圧送部と、前記第１排気路内の前記気体を浄化する浄化液を吐出する第１吐出ノズルと、前記第１浄化槽に設けられた第１排液口に接続され、前記第１排液口を通過した前記浄化液を前記第１吐出ノズルに戻す第１循環流路を形成する第１循環部と、前記第１循環部に接続され、前記第１循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第１除去部とを備える。

第２態様は、第１態様の気体浄化装置であって、前記１除去部は、酸性液源からの酸性液を前記第１循環路内に供給することにより、前記浄化液中のアルカリを除去する。

第３態様は、第２態様の気体浄化装置であって、前記第１循環部に設けられており、前記第１循環流路を通る前記浄化液のｐＨ値を測定するｐＨ測定部、をさらに備え前記第１除去部は、前記酸性液の供給量を調節する酸性液供給量調整部を有する。

第４態様は、第１態様から第３態様のいずれか１つの気体浄化装置であって、前記第１浄化槽の前記第１排気路の出口に接続された第２排気路を形成する第２浄化槽と、前記第２排気路内にて前記浄化液を吐出する第２吐出ノズルと、前記第２浄化槽に設けられた第２排液口に接続され、前記第２排液口を通過した前記浄化液を前記第２吐出ノズルに戻す第２循環流路を形成する第２循環部と、前記第２循環部に接続され、前記第２循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第２除去部とをさらに備える。

第５態様は、第４態様の気体浄化装置であって、前記第２除去部は、アルカリ性液供給源からのアルカリ性液を前記第２循環流路内に供給することにより、前記浄化液中の酸を除去する。

第６態様は、第５態様の気体浄化装置であって、前記第２循環部に設けられており、前記第２循環流路を通る前記浄化液のｐＨ値を測定するｐＨ測定部、をさらに備え、前記第２除去部は、前記アルカリ性液の供給量を調整するアルカリ性液供給量調整部を有する。

第７態様は、第２態様の気体浄化装置であって、前記第２浄化槽の前記第２排気路の出口に接続された第３排気路を形成する第３浄化槽と、前記第３排気路内にて前記浄化液を吐出する第３吐出ノズルと、前記第３浄化槽に設けられた第３排液口に接続され、前記第３排液口を通過した前記浄化液を前記第３吐出ノズルに戻す第３循環流路を形成する第３循環部と、前記第３循環部に接続され、前記第３循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第２除去部とをさらに備える。

第８態様は、第７態様の気体浄化装置であって、前記第３除去部は、前記浄化液に接触する活性炭を有する。

第９態様は、第８態様の気体浄化装置であって、前記第３循環部に接続され、前記第３循環流路を通る前記浄化液中の有機物濃度を測定する有機物濃度測定部をさらに備える。

第１０態様は、第７態様から第９態様のいずれか１つの気体浄化装置であって、前記第３循環部は、前記第３循環流路に接続され、前記浄化液を貯留する貯留槽と、前記貯留槽に貯留された前記浄化液を排液する排液部とをさらに備える。

第１１態様は、気体を浄化する気体浄化方法であって、（ａ）浄化対象の気体を、第１浄化槽が形成する第１排気路内の出口に向けて移動させる移動工程と、（ｂ）前記第１排気路内において前記気体を浄化する浄化液を第１吐出ノズルから吐出する吐出工程と、（ｃ）前記第１排気路内に吐出された前記浄化液を、第１循環流路を通じて前記第１吐出ノズルに戻す循環工程と、（ｄ）前記第１循環路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する除去工程とを含む。

第１２態様は、基板を処理する基板処理装置であって、基板を処理液で処理する処理ユニットと、第１態様から第１０態様のいずれか１つの気体浄化装置と、前記処理ユニットと前記気体浄化装置とを接続するダクト部とを備える。

第１態様から第１０態様の気体浄化装置によると、浄化液を気体に接触させるため、気体中に含まれる特定成分を捕獲できる。また、捕獲された特定成分を除去しながら浄化液を循環させるため、浄化液の捕獲能力の低下を抑制しつつ、気体の浄化処理を実施できる。また、浄化液を循環して利用するため、汚染された浄化液の発生量を低減することができる。

第２態様の気体浄化装置によると、浄化液中の捕獲されたアルカリ成分を酸性液で中和し、除去することができる。

第３態様の気体浄化装置によると、浄化液を目的のｐＨ値に接近するように酸性液の供給を調節できる。

第４態様の気体浄化装置によると、第２浄化槽を設けることにより、気体に含まれる汚染物質の除去をより一層図ることができる。また、第２循環部において第２除去部により特定成分を除去できるため、浄化液の捕獲性能の低下を抑制できる。

第５態様の気体浄化装置によると、第２浄化槽にて捕獲された酸成分を、アルカリ性液により中和して除去することができる。

第６態様の気体浄化装置によると、浄化液を目的のｐＨ値に近づけるように、アルカリ性液の供給を調節できる。

第７態様の気体浄化装置によると、第３浄化槽を設けることにより、気体に含まれる汚染物質の除去をより一層図ることができる。また、第３循環部において第３除去部により特定成分を除去できるため、浄化液の捕獲性能の低下を抑制できる。

第８態様の気体浄化装置によると、浄化液に活性炭を接触させることにより、浄化液から特定の有機物を除去できる。

第９態様の気体浄化装置によると、有機物濃度を測定することにより、第３除去部の活性炭の交換時期を適切に把握することが可能となる。

第１０態様の気体浄化装置によると、第１〜第３浄化槽で循環することによって不純物が増加された浄化液を適宜排液できる。

第１１態様の気体浄化方法によると、浄化液を気体に接触させるため、気体中に含まれる特定成分を捕獲できる。また、捕獲された特定成分を除去しながら浄化液を循環させるため、浄化液の捕獲能力の低下を抑制しつつ、気体の浄化処理を実施できる。

第１２態様の基板処理装置によると、処理ユニットから排出される気体を気体浄化装置によって浄化することができる。

実施形態の基板処理装置１を示す模式図である。 実施形態の処理ユニット２を図解的に示す側面図である。 実施形態の処理ユニット２が実行する基板Ｗの処理を示すフローチャートである。 実施形態の気体浄化装置３の内部を図解的に示す側面図である。

以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。

＜１． 第１実施形態＞
図１は、実施形態の基板処理装置１の概略を示す模式図である。図２は、実施形態の処理ユニット２を図解的に示す側面図である。

基板処理装置１は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、複数の処理ユニット２と、気体浄化装置３と、外壁４と制御装置５とを備えている。

処理ユニット２各々は、基板Ｗに処理液を供給することにより、基板Ｗを処理する。気体浄化装置３は、処理ユニット２各々から排出された気体を浄化する。ここでは気体浄化装置３は、複数の処理ユニット２に対して１つだけ設けられている。外壁４は、複数の処理ユニット２と気体浄化装置３とを内部に収容する箱状に形成されている。制御装置５は、基板処理装置１に備えられた各装置の動作およびバルブの開閉を制御する。

図２に示すように、処理ユニット２各々は、基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式の装置である。複数の処理ユニット２は、共通の構成を有する。処理ユニット２各々は、チャンバー６、スピンチャック７、酸性薬液ノズル８、アルカリ性薬液ノズル９、有機薬液ノズル１０、リンス液ノズル１１およびカップ１２を備えている。

チャンバー６は、内部空間を有する箱状に形成されている。スピンチャック７は、チャンバー６内で１枚の基板Ｗを水平姿勢（基板Ｗが水平面に平行な状態）で保持するとともに、基板Ｗの中心を通る鉛直な回転軸線Ａ１まわりに基板Ｗを回転させる。ノズル８〜１１は、スピンチャック７に保持されている基板Ｗに向けて各処理液を吐出する。カップ１２は、スピンチャック７を取り囲む筒状に形成されている。

カップ１２内の底部には、排出口１２ａが設けられている。排出口１２ａは、カップ１２の底部において、チャンバー６内の気体を排出する。排出口１２ａは、ここでは、カップ１２の底部に接続されている。排出口１２ａは、チャンバー６内の気体を、基板処理装置１が設置される工場に設けられた排気設備に向けて案内する。

図２に示すように、チャンバー６は、隔壁１３、ＦＦＵ１４（ファン・フィルタ・ユニット）を含む。隔壁１３は、スピンチャック７やノズル８〜１１を内部に収容する箱状に形成されている。ＦＦＵ１４は、隔壁１３内の上部（ここでは、天井部）に配設された送風ユニットであり、隔壁１３内の上部から隔壁１３内にクリーンエア（フィルタで濾過された清浄な空気）を送る。

ここでは、チャンバー６内には、ＦＦＵ１４からのクリーンエアの供給および排出口１２ａのエア吸引によって、下方に流れるダウンフロー（下降流）が形成される。ダウンフローは、基板Ｗがチャンバー６内に存在する期間中だけでなく、その他の期間も形成され得る。

図２に示すように、スピンチャック７は、スピンベース１６と、スピンモータ１７とを含む。スピンベース１６は、基板Ｗを水平に保持する円盤状に形成されている。スピンモータ１７は、スピンベース１６を回転軸線Ａ１まわりに回転させる。スピンチャック７は、基板Ｗを水平方向に挟むことによって基板Ｗを水平に保持する挟持式のものであってもよいし、基板Ｗにおける非デバイス形成面である裏面（ここでは下面）を吸着することにより基板Ｗを水平姿勢に保持するバキューム式のチャックであってもよい。ここでは、スピンチャック７は、複数のチャックピンによって基板Ｗを挟持する挟持式のチャックとしている。

カップ１２は、スピンベース１６を取り囲んでいる。上向きに開いたカップ１２の上端部は、スピンベース１６よりも上方に配置されている。このため、基板Ｗが回転することによって基板Ｗの周囲に飛散した薬液やリンス液などの処理液は、カップ１２の内側面によって受け止められ、カップ１２の内部で開口する排出口１２ａから排出される。

酸性薬液ノズル８は、基板Ｗの上面に向けて酸性の薬液を吐出する。アルカリ性薬液ノズル９は、基板Ｗの上面に向けてアルカリ性の薬液を吐出する。有機薬液ノズル１０は、基板Ｗの上面に向けて有機薬液を吐出する。リンス液ノズル１１は、基板Ｗの上面に向けてリンス液を吐出する。

ノズル８〜１１は、吐出口が静止した状態で基板Ｗの上面中央部に向けて処理液を吐出する固定ノズルであってもよいし、基板Ｗの上面に対する処理液の着液位置が中央部と周縁部との間で移動するように移動しながら処理液を吐出するスキャンノズルであってもよい。

図２に示すように、処理ユニット２は、酸性薬液配管１８、酸性薬液バルブ１９、アルカリ性薬液配管２０、アルカリ性薬液バルブ２１、有機薬液配管２２、有機薬液バルブ２３、リンス液配管２４およびリンス液バルブ２５を含む。

酸性薬液配管１８は酸性薬液ノズル８に接続されており、酸性液源から供給された酸性液を酸性薬液ノズル８に送るための流路を形成している。酸性薬液バルブ１９は、酸性薬液配管１８に介装されている。酸性薬液バルブ１９は、酸性薬液配管１８内の流路を開閉することにより、酸性薬液ノズル８からの酸性液の吐出のオン／オフを制御する。

アルカリ性薬液配管２０はアルカリ性薬液ノズル９に接続されており、アルカリ性液源から供給されたアルカリ性液をアルカリ性薬液ノズル９に送るための流路を形成している。アルカリ性薬液バルブ２１は、アルカリ性薬液配管２０に介装されている。アルカリ性薬液バルブ２１は、アルカリ性薬液配管２０内の流路を開閉することにより、アルカリ性薬液ノズル９からのアルカリ性液の吐出のオン／オフを制御する。

有機薬液配管２２は有機薬液ノズル１０に接続されており、有機薬液源から供給された有機薬液を有機薬液ノズル１０に送るための流路を形成している。有機薬液バルブ２３は、有機薬液配管２２に介装されている。有機薬液バルブ２３は、有機薬液配管２２内の流路を開閉することにより、有機薬液ノズル１０からの有機薬液の吐出のオン／オフを制御する。

リンス液配管２４はリンス液ノズル１１に接続されており、リンス液源から供給されたリンス液をリンス液ノズル１１に送るための流路を形成している。リンス液バルブ２５は、リンス液配管２４に介装されている。リンス液バルブ２５は、リンス液配管２４内の流路を開閉することにより、リンス液ノズル１１からのリンス液の吐出のオン／オフを制御する。

酸性薬液の一例は、フッ酸（フッ化水素酸）であり、アルカリ性薬液の一例は、ＳＣ−１（アンモニア過酸化水素水）である。有機薬液の一例は、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）であり、リンス液の一例は、純水（脱イオン水：Deionized Water）である。酸性薬液は、硫酸や塩酸を含む酸性薬液であってもよい。アルカリ性薬液は、ＴＭＡＨ（トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド）などを含むアルカリ性薬液であってもよい。有機薬液は、ＩＰＡに限らず、ＨＦＥ（ハイドロフロロエーテル）などの他の有機薬液であってもよい。リンス液は、純水に限らず、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、および希釈濃度（たとえば、１０〜１００ｐｐｍ程度）の塩酸水のいずれかであってもよい。

図２に示すように、処理ユニット２は、処理ユニット２内で発生した混合流体に含まれる気体および液体を分離させる気液分離器２６を備えている。気液分離器２６は、チャンバー６の外に配置されている。

気液分離器２６は、気液分離ボックス２７、液体配管２８および気体配管２９を備えている。気液分離ボックス２７は、排出口１２ａに接続されている。液体配管２８は、気液分離ボックス２７の内部から気液分離ボックス２７の外部に延在している。気体配管２９は、気液分離ボックス２７の内部から気液分離ボックス２７の外部に延在している。

液体配管２８の一端部は、気液分離ボックス２７の底面において上方に開口する液体排出口３０を形成している。気体配管２９の一端部は、気液分離ボックス２７の底面より上方に突出するように設けられ、気液分離ボックス２７の内部で上方に開口する気体排出口３１を形成している。気体配管２９の一端部が液体配管２８の一端部よりも上側になるように、液体配管２８および気体配管２９が配設されている。気体配管２９は、後述する気体浄化装置３の上流排気ダクト３２に接続されている。チャンバー６内で発生した汚染物質を含む気体は、気液分離ボックス２７および気体配管２９を介して気体浄化装置３に向けてチャンバー６から排出される。

処理液が基板Ｗに供給されると、蒸気やミストを含む気体（厳密には、気体に液体が混合して構成される混合流体）がチャンバー６内に発生する。この気体は、排出口１２ａを通って、気液分離器２６の気液分離ボックス２７の内部に流入する。混合流体に含まれる液体成分は、気液分離ボックス２７内で液滴に変化して、液体排出口３０から排出される。気体排出口３１は、液体排出口３０よりも上方に配置されていることにより、気液分離ボックス２７内の液体が気体排出口３１に侵入することが抑制されている。このため、液体成分の残留量が低減された気体が、気体排出口３１を通って、気体浄化装置３に排出される。

図３は、実施形態の処理ユニット２が実行する基板Ｗの処理を示すフローチャートである。基板Ｗを処理するにあたって、ＦＦＵ１４がクリーンエアをチャンバー６内に供給しており、排出口１２ａがチャンバー６内の気体を吸引するチャンバー６内にてダウンフローが形成された状態とされる。その状態で、制御装置５は、搬送ロボット（不図示）を制御することにより、基板Ｗをスピンチャック７上に搬送する。その後、制御装置５は、スピンチャック７を制御することにより、基板Ｗを回転させる。

続いて、酸性薬液（ここでは、フッ酸）を基板Ｗに供給する酸性薬液供給工程（ステップＳ１）が行われる。詳細には、制御装置５が、酸性薬液バルブ１９を開くことにより、酸性薬液ノズル８から回転する基板Ｗの上面中央部に向けて酸性薬液を吐出させる。これにより、酸性薬液が基板Ｗの上面に供給される。酸性薬液バルブ１９が開かれてから所定時間経過すると、制御装置５は、酸性薬液バルブ１９を閉鎖することにより、酸性薬液の吐出を停止させる。

酸性薬液ノズル８から吐出されて基板Ｗの上面中央部に供給された酸性薬液は、基板Ｗの回転による遠心力を受けて基板Ｗの上面に沿って外方に広がる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆う酸性薬液の液膜が形成される。すなわち、基板Ｗの上面全域に、酸性薬液が供給された状態となる。基板Ｗへのフッ酸の供給や、カップ１２の内面に対するフッ酸の衝突に伴って発生した酸性薬液を含む気体は、カップ１２の底部から排出口１２ａを介して排出される。カップ１２から排出された酸性排気（酸性薬液を含む気体）は、気体浄化装置３へ送られる。

続いて、リンス液（ここでは、純水）を基板Ｗに供給する第１中間リンス液供給工程（ステップＳ２）が行われる。詳細には、制御装置５が、リンス液バルブ２５を開くことにより、リンス液ノズル１１から回転する基板Ｗの上面中央部に向けてリンス液を吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆う酸性薬液がリンス液に置換され、基板Ｗ上の酸性薬液がリンス液によって洗い流される。また、基板Ｗへのリンス液の供給等に伴って発生したリンス液を含む雰囲気は、カップ１２の底部から排出口１２ａを介して排出される。リンス液バルブ２５が開かれてから所定時間経過すると、制御装置５は、リンス液バルブ２５を閉鎖することにより、リンス液の吐出を停止させる。

続いて、アルカリ性薬液（ここでは、ＳＣ−１（アンモニア過酸化水素水混合液））を基板Ｗに供給するアルカリ性薬液供給工程（ステップＳ３）が行われる。詳細には、制御装置５が、アルカリ性薬液バルブ２１を開くことにより、アルカリ性薬液ノズル９から回転する基板Ｗの上面中央部に向けてアルカリ性薬液を吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆う純水の液膜がアルカリ性薬液に置換され、基板Ｗの上面全域にアルカリ性薬液が供給される。また、基板Ｗへのアルカリ性薬液の供給等に伴って発生したアルカリ性薬液を含む雰囲気は、カップ１２の底部から排出口１２ａを介して排出される。カップ１２から排出されたアルカリ性排気（アルカリ性薬液を含む気体）は、気体浄化装置３へ送られる。アルカリ性薬液バルブ２１が開かれてから所定時間経過すると、制御装置５は、アルカリ性薬液バルブ２１を閉鎖することにより、アルカリ性薬液の吐出を停止させる。

続いて、リンス液（ここでは、純水）を基板Ｗに供給する第２中間リンス液供給工程（ステップＳ４）が行われる。詳細には、制御装置５が、リンス液バルブ２５を開くことにより、リンス液ノズル１１から回転する基板Ｗの上面中央部に向けてリンス液を吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆うアルカリ性薬液がリンス液によって洗い流される。また、基板Ｗへのリンス液の供給等に伴って発生した純水を含む雰囲気は、カップ１２の底部から排出口１２ａを介して排出される。リンス液バルブ２５が開かれてから所定時間経過すると、制御装置５は、リンス液バルブ２５を閉鎖することにより、リンス液の吐出を停止させる。

続いて、有機薬液（ここでは、ＩＰＡ）を基板Ｗに供給する有機薬液供給工程（ステップＳ５）が行われる。詳細には、制御装置５が、有機薬液バルブ２３を開くことにより、有機薬液ノズル１０から回転する基板Ｗの上面中央部に向けて有機薬液を吐出させる。これにより、基板Ｗの上面全域を覆うリンス液の液膜が有機薬液に置換され、基板Ｗ上のリンス液がＩＰＡによって洗い流される。また、基板Ｗへの有機薬液の供給等によって発生した有機薬液を含む雰囲気は、カップ１２の底部から排出口１２ａを介して排出される。カップ１２から排出された有機排気（有機薬液を含む気体）は、気体浄化装置３へ送られる。有機薬液バルブ２３が開かれてから所定時間が経過すると、制御装置５は、有機薬液バルブ２３を閉鎖することにより、有機薬液の吐出を停止させる。

続いて、基板Ｗを乾燥させる乾燥工程（ステップＳ６）が行われる。詳細には、制御装置５は、基板Ｗの回転を加速させることにより、酸性液供給工程（ステップＳ１）から有機薬液供給工程（ステップＳ６）までの回転速度よりも速い高回転速度（例えば、２０００〜３０００ｒｐｍ）で基板Ｗを回転させる。これにより、大きな遠心力が基板Ｗの液体に加わり、基板Ｗに付着している液体が基板Ｗの周囲に振り切られる。このように基板Ｗから液体が除去されることにより、基板Ｗが乾燥される。そして、基板Ｗの高速回転が開始されてから所定時間が経過すると、制御装置５は、スピンチャック７を制御することにより、基板Ｗの回転を停止させる。その後、処理済みの基板Ｗが搬送ロボットによってスピンチャック７から搬出される。

図４は、実施形態の気体浄化装置３の内部を図解的に示す側面図である。気体浄化装置３は、上流排気ダクト３２と、排気浄化ボックス３８と、下流排気ダクト３５とを含む。

排気浄化ボックス３８は、内部空間を有する箱状に形成されたハウジング３９を備えている。ハウジング３９の長手方向一方側の側壁部３９０に上流排気ダクト３２が接続されており、ハウジング３９の長手方向他方側の側壁部３９２に下流排気ダクト３５が接続されている。

ハウジング３９の内部には、上流排気ダクト３２を介して、複数の処理ユニット２から排出された排気が流入する。ハウジング３９の内部に流入した排気はハウジング３９の内部に形成された流路（後述する排気路４４ａ〜４４ｃ）を通過することにより浄化され、下流排気ダクト３５を介してハウジング３９の外部へ排出される。

下流排気ダクト３５の内部に、ファン３６が設けられている。ファン３６は、ハウジング３９の内部から下流排気ダクト３５に向けて気流を発生させることにより、ハウジング３９内部の排気を圧送する。ファン３６は、圧送部の一例である。なお、圧送部は、ファン３６に限定されるものではない。例えば、圧送部を、下流排気ダクト３５に接続されたバキューム装置（吸引装置）としてもよい。

ハウジング３９の内部には、仕切壁部４０ａ〜４０ｃおよび仕切壁部４１ａ〜４１ｃが設けられている。仕切壁部４０ａ〜４０ｃは、ハウジング３９内部の底部から立設する板状に形成された部材である。仕切壁部４０ａ〜４０ｃは、この順で、ハウジング３９の長手方向に間隔をあけて配設されている。仕切壁部４０ａは、ハウジング３９の側壁部３９０の内面に対向している。仕切壁部４１ａは、側壁部３９０と仕切壁部４０ａの間に設けられている。

仕切壁部４１ａは、上流排気ダクト３２に対向する位置に設けられている。ハウジング３９は、その内部が仕切壁部４０ａ〜４０ｃによって、複数の区画（浄化槽４２ａ、浄化槽４２ｂ、浄化槽４２ｃおよび貯留槽４３）に仕切られている。

詳細には、ハウジング３９において、側壁部３９０と仕切壁部４０ａとに挟まれる区画が浄化槽４２ａであり、仕切壁部４０ａ，４０ｂに挟まれる区画が浄化槽４２ｂであり、仕切壁部４０ｂ，４０ｃに挟まれる区画が浄化槽４２ｃであり、仕切壁部４０ｃと側壁部３９２とに挟まれる区画が貯留槽４３である。

浄化槽４２ａ〜４２ｃおよび貯留槽４３は、底部に浄化液を貯留することが可能に構成されている。

貯留槽４３の側壁部３９２の底部寄りの部分には、流入口４３１が形成されている。流入口４３１は、清浄な浄化液を貯留槽４３に導く供給配管４３１１が接続されている。供給配管４３１１には、供給配管４３０１から貯留槽４３への浄化液の供給を制御するためのバルブ４３１２が介装されている。バルブ４３１２が開放されることにより、所定の供給源からの清浄な浄化液が貯留槽４３へ供給される。

浄化液は、例えば、水（工業用水）である。また、清浄な浄化液とは、少なくともハウジング３９の内部に貯留されている浄化液よりも清浄な状態の浄化液をいう。また、「清浄な状態」とは、その浄化液中の処理ユニット２などで発生し得る汚染物質の濃度が相対的に低い状態をいう。

＜浄化槽４２ａ（第１浄化槽）＞
浄化槽４２ａは、上流排気ダクト３２からハウジング３９の内部に流入した排気が最初に通過する区画である。上流排気ダクト３２から浄化槽４２ａに流入した排気は、正面に配された仕切壁部４１ａにより下方に案内され、側壁部３９０と仕切壁部４１ａに挟まれる空間を通過する。そして、その排気は、仕切壁部４１ａの下端より下側の空間を通過した後、正面に配された仕切壁部４０ａにより上方に案内され、仕切壁部４０ａと仕切壁部４１ａとに挟まれた空間を通過する。

浄化槽４２ａにおいて、側壁部３９０と仕切壁部４１ａとに挟まれる空間、および、仕切壁部４１ａと仕切壁部４０ａとに挟まれる空間は、排気が通過する排気路４４ａ（第１排気路）となっている。

排気路４４ａを通過した排気は、排気路４４ａの出口４５ａを通過して、次の浄化槽４２ｂに流入する。出口４５ａは、ここでは、仕切壁部４０ａの上端の縁部と、ハウジング３９の天井部との間の隙間である。出口４５ａは、浄化槽４２ｂから見れば、排気が浄化槽４２ｂ内部に流れ込む入口でもある。

＜吐出ノズル４６ａ（第１吐出ノズル）＞
吐出ノズル４６ａは、浄化槽４２ａの排気路４４ａ内部において、排気を浄化する浄化液を吐出する。ここでは、吐出ノズル４６ａは、仕切壁部４０ａと仕切壁部４１ａとに挟まれた空間内に配設されており、その空間内において吐出口から下方に向けて霧状の浄化液を吐出する。また、吐出ノズル４６ａは、排気路４４ａにおいて、高さが異なる複数箇所（ここでは３箇所）から浄化液を吐出する。なお、吐出ノズル４６ａの形態はこのようなものに限定されるものではなく、排気路４４ａを通過する排気に浄化液を接触させることが可能な形態であればどのような形態であってもよい。吐出ノズル４６ａから吐出された霧状の浄化液が、排気路４４ａを通過する排気に接触することにより、排気に含まれる汚染物質が捕獲される。

供給配管４９ｂが浄化槽４２ａの排気路４４ａまで延びて、かつ、吐出ノズル４６ａが排気路４４ａに設けられることにより、吐出ノズル４６ａから吐出された浄化液が、浄化槽４２ｂに落下することを抑制できる。

＜循環部４７ａ（第１循環部）＞
吐出ノズル４６ａが吐出する浄化液は、循環部４７ａによって循環される浄化液である。循環部４７ａは、接続配管４８ａと、供給配管４９ａと、循環ポンプ５０ａとを備える。

接続配管４８ａは、浄化槽４２ａの底部に設けられた排液口４２２ａと、浄化槽４２ｂの底部に設けられた流入口４２０ｂとに接続されている。接続配管４８ａにより、浄化槽４２ａ，４２ｂに貯留された浄化液が行き来可能とされている。接続配管４８ａには、引込ポンプ４８１ａが介装されている。引込ポンプ４８１ａは、浄化槽４２ａ内の浄化液を接続配管４８ａ内に引き込むとともに、その浄化液を浄化槽４２ｂの流入口４２０ｂに向けて圧送する。

供給配管４９ａの一端部は、浄化槽４２ｂに貯留された浄化液に浸水可能な高さ位置に設けられている。供給配管４９ａは、その一端部から浄化槽４２ｂにおける仕切壁部４０ａと仕切壁部４１ｂとに挟まれる空間、および、出口４５ａを通過して、浄化槽４２ａの排気路４４ａに配された吐出ノズル４６ａに接続されている。

循環ポンプ５０ａは、供給配管４９ａ上に設けられており、供給配管４９ａ内の浄化液を吐出ノズル４６ａに向けて圧送する。ここでは、循環ポンプ５０ａが駆動されることにより、浄化槽４２ｂに貯留された浄化液が、供給配管４９ａ内に吸い上げられ、吐出ノズル４６ａから吐出される。吐出ノズル４６ａから吐出された浄化液は、落下して浄化槽４２ａの底部に貯留される。浄化槽４２ａに貯留された浄化液は、接続配管４８ａを通過して浄化槽４２ｂに移動し、再び供給配管４９ａに吸い上げられる。このようにして、浄化液が循環ポンプ５０ａにより循環される。接続配管４８ａおよび供給配管４９ａは、浄化液が通過する第１循環流路を形成している。

＜酸性液供給配管５１ａ＞
接続配管４８ａには、酸性液供給配管５１ａが接続されている。酸性液供給配管５１ａは、第１循環流路である接続配管４８ａ内部に、酸性液（ここでは、硫酸）を供給する。酸性液供給配管５１ａには、酸性液供給配管５１ａの内部を開閉する供給バルブ５２ａが介装されている。接続配管４８ａに供給される酸性液は、接続配管４８ａを通過する浄化液に中に含まれるアルカリ成分と反応して中和させる。これにより、浄化液中に含まれるアルカリ成分が除去される。酸性液供給配管５１ａ、供給バルブ５２ａは、除去部の一例である。

接続配管４８ａには、ｐＨ測定部５３ａが設けられている。ｐＨ測定部５３ａは、接続配管４８ａのうち、酸性液供給配管５１ａが接続する部分よりも下流側（すなわち、浄化槽４２ｂの流入口４２０ｂ側）に設けられている。このため、ｐＨ測定部５３ａは、酸性液が混合された後の浄化液のｐＨ（水素イオン指数）を測定する。制御装置５は、ｐＨ測定部５３ａの測定結果に基づき、供給バルブ５２ａの開閉を制御する。詳細には、浄化液のｐＨが基準値（例えば、中性を示す７．０）よりも大きい場合（すなわち、浄化液がアルカリ性の場合）、制御装置５は供給バルブ５２ａを開放して酸性液を供給するとよい。供給バルブ５２ａは、酸性液の供給量を調節する酸性液供給量調整部の一例である。

なお、供給バルブ５２ａが制御装置５によって自動的に開閉制御されることは必須ではない。ｐＨ測定部５３ａの測定結果を作業者が確認し、その測定結果に応じて作業者が手作業で供給バルブ５２ａを開閉してもよい。

ファン３６から受ける力により、浄化対象の排気（気体）を、浄化槽４２ａが形成する排気路４４ａ内を出口４５ａに向けて移動させる工程は、移動工程に相当する。また、排気路４４ａ内において排気を浄化する浄化液を吐出ノズル４６ａから吐出する工程は、吐出工程に相当する。さらに、排気路４４ａに吐出された浄化液を、接続配管４８ａおよび供給配管４９ａを含む第１循環流路を通じて吐出ノズル４６ａに戻す工程は、循環工程に相当する。また、酸性液供給配管５１ａから第１循環流路の接続配管４８ａを通過する浄化液中に酸性液を供給することによってアルカリ成分を中和し除去する工程は、除去工程に相当する。

＜浄化槽４２ｂ（第２浄化槽）＞
浄化槽４２ｂは、排気が浄化槽４２ａの次に通過する区画である。出口４５ａを通過して浄化槽４２ｂに流入した排気は、正面に配された仕切壁部４１ｂにより下方に案内され、仕切壁部４０ａと仕切壁部４１ｂに挟まれた空間を通過する。その後、その排気は、仕切壁部４１ｂより下側の空間を通過した後、正面に配された仕切壁部４０ｂにより上方に案内され、仕切壁部４０ｂと仕切壁部４１ｂとに挟まれた空間を通過する。

浄化槽４２ｂにおいて、仕切壁部４０ａと仕切壁部４１ｂとに挟まれた空間、および、仕切壁部４１ｂと仕切壁部４０ｂとに挟まれた空間は、排気が通過する排気路４４ｂ（第２排気路）となっている。

排気路４４ｂを通過した排気は、排気路４４ｂの出口４５ｂを通過して、次の浄化槽４２ｃに流入する。出口４５ｂは、ここでは、仕切壁部４０ｂの上端の縁部と、ハウジング３９の天井部との間の隙間である。出口４５ｂは、浄化槽４２ｃから見れば、排気が浄化槽４２ｃ内部に流れ込む入口でもある。

＜吐出ノズル４６ｂ（第２吐出ノズル）＞
吐出ノズル４６ｂは、浄化槽４２ｂの排気路４４ｂ内部において、排気を浄化する浄化液を吐出する。ここでは、吐出ノズル４６ｂは、仕切壁部４１ｂと仕切壁部４０ｂとに挟まれた空間に配設されており、その空間内において吐出口から下方に向けて霧状の浄化液を吐出する。また、吐出ノズル４６ｂは、高さ異なる複数箇所（ここでは、３箇所）から浄化液を吐出する。なお、吐出ノズル４６ｂの形態は、このようなものに限定されるものではなく、排気路４４ｂを通過する排気に浄化液を接触させることが可能であればどのような形態であってもよい。吐出ノズル４６ｂから吐出された霧状の浄化液が、排気路４４ｂを通過する排気に接触することにより、排気に含まれる汚染物質が捕獲される。

＜循環部４７ｂ（第２循環部）＞
吐出ノズル４６ｂが吐出する浄化液は、循環部４７ｂによって循環される浄化液である。循環部４７ｂは、接続配管４８ｂと、供給配管４９ｂと、循環ポンプ５０ｂとを備える。

接続配管４８ｂは、浄化槽４２ｂの底部に設けられた排液口４２２ｂと、浄化槽４２ｃの底部に設けられた流入口４２０ｃとに接続されている。接続配管４８ｂにより、浄化槽４２ｂ，４２ｃに貯留された浄化液が行き来可能とされている。接続配管４８ｂには、引込ポンプ４８１ｂが介装されている。引込ポンプ４８１ｂは、浄化槽４２ｂ内の浄化液を接続配管４８ｂ内に引き込むとともに、その浄化液を浄化槽４２ｃの流入口４２０ｃに向けて圧送する。

供給配管４９ｂの一端部は、浄化槽４２ｃに貯留された浄化液に浸水可能な高さ位置に設けられている。供給配管４９ｂは、その一端部から浄化槽４２ｃにおける仕切壁部４０ｂと仕切壁部４１ｃとに挟まれる空間、および、出口４５ｂを通過して、浄化槽４２ｂの排気路４４ｂに配された吐出ノズル４６ｂに接続されている。

循環ポンプ５０ｂは、供給配管４９ｂ上に設けられており、供給配管４９ｂ内の浄化液を吐出ノズル４６ｂに向けて圧送する。ここでは、循環ポンプ５０ｂが駆動されることにより、浄化槽４２ｃに貯留された浄化液が、供給配管４９ｂ内に吸い上げられ、吐出ノズル４６ｂから吐出される。吐出ノズル４６ｂから吐出された浄化液は、落下して浄化槽４２ｂの底部に貯留される。浄化槽４２ｂに貯留された浄化液は、接続配管４８ｂを通過して浄化槽４２ｃに移動し、再び供給配管４９ｂに吸い上げられる。このようにして、浄化液が循環ポンプ５０ｂにより循環される。接続配管４８ｂおよび供給配管４９ｂは、浄化液が通過する第２循環流路を形成している。

＜アルカリ性液供給配管５１ｂ＞
接続配管４８ｂには、アルカリ性液供給配管５１ｂが接続されている。アルカリ性液供給配管５１ｂは、第２循環流路である接続配管４８ｂ内部に、アルカリ性液（ここでは、苛性ソーダ）を供給する。アルカリ性液供給配管５１ｂには、アルカリ性液供給配管５１ｂ内部を開閉する供給バルブ５２ｂが介装されている。接続配管４８ｂに供給されるアルカリ性液は、接続配管４８ｂを通過する浄化液に中に含まれる酸成分と反応して中和させる。これにより、浄化液中に含まれる酸成分が除去される。アルカリ性液供給配管５１ｂ、供給バルブ５２ｂは、除去部の一例である。

接続配管４８ｂには、ｐＨ測定部５３ｂが設けられている。ｐＨ測定部５３ｂは、接続配管４８ｂのうち、アルカリ性液供給配管５１ｂが接続されている部分よりも下流側（すなわち、浄化槽４２ｃの流入口４２０ｃ側）に設けられている。このため、ｐＨ測定部５３ａは、アルカリ性液が混合された後の浄化液のｐＨを測定する。制御装置５は、ｐＨ測定部５３ｂの測定結果に基づき、供給バルブ５２ｂの開閉を制御する。詳細には、浄化液のｐＨが基準値（例えば、中性を示す７．０）よりも小さい場合（すなわち、浄化液が酸性の場合）、制御装置５は供給バルブ５２ｂを開放してアルカリ性液を供給するとよい。

なお、供給バルブ５２ｂが制御装置５によって開閉制御されることは必須ではない。ｐＨ測定部５３ａの測定結果を作業者が確認し、その測定結果に応じて作業者が手作業で供給バルブ５２ｂを開閉してもよい。

＜浄化槽４２ｃ（第３浄化槽）＞
浄化槽４２ｃは、排気が浄化槽４２ｂの次に通過する区画である。出口４５ｂを通過して浄化槽４２ｃに流入した排気は、正面に配された仕切壁部４１ｃにより下方に案内され、仕切壁部４１ｂと仕切壁部４０ａの間を通過する。その後、その排気は、仕切壁部４１ｃの下端の縁部より下側の空間を通過して正面の仕切壁部４０ｃにより上方に案内され、仕切壁部４０ｃと仕切壁部４１ｃに挟まれた空間を通過する。浄化槽４２ｃにおいて、仕切壁部４０ｂと仕切壁部４１ｃとに挟まれた空間、および、仕切壁部４１ｃと仕切壁部４０ｃとに挟まれた空間は、排気が通過する排気路４４ｃ（第３排気路）となっている。

排気路４４ｃを通過した排気は、排気路４４ｃの出口４５ｃを通過して次の貯留槽４３に流入する。この出口４５ｃは、ここでは、仕切壁部４０ｃの上端の縁部と、ハウジング３９の天井部との間の隙間である。出口４５ｃは、貯留槽４３から見れば、排気が貯留槽４３内部に流れ込む入口でもある。

＜吐出ノズル４６ｃ（第３吐出ノズル）＞
吐出ノズル４６ｃは、浄化槽４２ｃの排気路４４ｃ内部において、排気を浄化する浄化液を吐出する。ここでは、吐出ノズル４６ｃは、仕切壁部４１ｃと仕切壁部４０ｃとに挟まれた空間に配設されており、その空間内において吐出口から下方に向けて霧状の浄化液を吐出する。また、吐出ノズル４６ｃは、高さ異なる複数箇所（ここでは、３箇所）から浄化液を吐出する。なお、吐出ノズル４６ｃの形態は、このようなものに限定されるものではなく、排気路４４ｃを通過する排気に浄化液を接触させることが可能であればどのような形態であってもよい。吐出ノズル４６ｃから吐出された霧状の浄化液が、排気路４４ｃを通過する排気に接触することにより、排気に含まれる汚染物質が捕獲される。

＜循環部４７ｃ（第２循環部）＞
吐出ノズル４６ｃが吐出する浄化液は、循環部４７ｃによって循環される浄化液である。循環部４７ｃは、接続配管４８ｃと、供給配管４９ｃと、循環ポンプ５０ｃとを備える。

接続配管４８ｃは、浄化槽４２ｃの底部に設けられた排液口４２２ｃと、貯留槽４３の底部に設けられた流入口４３０とに接続されている。接続配管４８ｃにより、浄化槽４２ｃと貯留槽４３とに貯留された浄化液が行き来可能とされている。接続配管４８ｃには、引込ポンプ４８１ｃが介装されている。引込ポンプ４８１ｃは、浄化槽４２ｃ内の浄化液を接続配管４８ｃ内へ引き込むとともに、その浄化液を貯留槽４３の流入口４３０に向けて圧送する。

供給配管４９ｃの一端部は、貯留槽４３に貯留された浄化液に浸水可能な高さ位置に設けられている。供給配管４９ｃは、その一端部から貯留槽４３、および、出口４５ｃを通過して、浄化槽４２ｃの排気路４４ｃに配された吐出ノズル４６ｃに接続されている。

循環ポンプ５０ｃは、供給配管４９ｃ上に設けられており、供給配管４９ｃ内の浄化液を吐出ノズル４６ｃに向けて圧送する。ここでは、循環ポンプ５０ｃが駆動されることにより、貯留槽４３に貯留された浄化液が、供給配管４９ｃ内に吸い上げられ、吐出ノズル４６ｃから吐出される。吐出ノズル４６ｃから吐出された浄化液は、落下して浄化槽４２ｃの底部に貯留される。浄化槽４２ｃに貯留された浄化液は、接続配管４８ｃを通過して貯留槽４３に移動し、再び供給配管４９ｃに吸い上げられる。このようにして、浄化液が循環ポンプ５０ｃにより循環される。接続配管４８ｃおよび供給配管４９ｃは、浄化液が通過する第３循環流路を形成している。

＜有機物除去部５１ｃ＞
接続配管４８ｃには、有機物除去部５１ｃが接続されている。有機物除去部５１ｃは、接続配管４８ｃを通過する浄化液に含まれる有機物を除去する。有機物除去部５１ｃは、ここでは、着脱交換可能に設置される活性炭フィルタ５１０を含む。活性炭フィルタ５１０は、接続配管４８ｃを通過する浄化液を濾過することによって、有機物を除去する。有機物は、具体的には、処理ユニット２で使用された有機薬液（ここでは、ＩＰＡ）が、排気とともに気体浄化装置３へ送られてくる。そして、その排気がハウジング３９内の排気路４４ａ〜４４ｃを通過する際に、吐出ノズル４６ａ〜４６ｃから吐出される浄化液に捕獲されることにより、ハウジング３９の下部に貯留される。その貯留された浄化液が有機物除去部５１ｃを通過することにより、浄化液中の有機物が除去される。

接続配管４８ｃにおける有機物除去部５１ｃよりも下流側（すなわち、接続配管４８ｃの貯留槽４３の流入口４３０に接続される側）に、有機物濃度測定部５３ｃが設けられている。有機物濃度測定部５３ｃは、有機物除去部５１ｃを通過する浄化液中の有機物濃度を測定する。有機物濃度測定部５３ｃは、例えば、吸光度を測定するもの等である。

有機物濃度測定部５３ｃを設けることにより、浄化液中の有機物濃度を監視できるため、異常を容易に検出することができる。また、有機物濃度測定部５３ｃが有機物除去部５１ｃの下流側近傍に設けられている。このため、有機物除去部５１ｃの有機物除去能力の低下を検出できる。例えば、有機物除去能力の低下を判定するための濃度基準値をしきい値として定めておくことにより、有機物除去部５１ｃの部品（活性炭フィルタ５１０）の交換時期を適切に把握できる。

この実施形態では、有機物除去部５１ｃが接続配管４８ｃに設けられているが、これは必須ではない。有機物除去部５１ｃは、浄化液が循環する経路の任意の位置に設けられ得る。例えば、有機物除去部５１ｃは、接続配管４８ａ，４８ｂ、供給配管４９ａ〜４９ｃに設けられ得る。また、有機物濃度測定部５３ｃについても、浄化液が循環する経路上の任意の位置に設けられ得る。

＜貯留槽４３＞
貯留槽４３は、排気が浄化槽４２ｃの次に通過する区画である。出口４５ｃから流入した貯留槽４３に流入した排気は、下流排気ダクト３５を通過して、貯留槽４３から排出される。ここでは、出口４５ｃと下流排気ダクト３５とが、貯留槽４３の内部において、水平方向に重なる位置にて開口している。このため、貯留槽４３では、排気が、出口４５ｃから下流排気ダクト３５に向けて、直進的に移動する。側壁部３９２と仕切壁部４０ｃとの間の底部に浄化液を貯留する。

貯留槽４３の側壁部３９２の底部寄りの部分には、流出口４３２が形成されている。流出口４３２は、貯留槽４３に貯留された浄化液を外部に導く排液配管４３２１が接続されている。排液配管４３２１には、貯留槽４３から排液配管４３２１への浄化液の排出を制御するためのバルブ４３２２が介装されている。バルブ４３２２が開放されることにより、貯留槽４３から浄化液が排出される。流出口４３２及び排液配管４３２１、及び、バルブ４３２２は、排液部の一例である。

この実施形態では、ハウジング３９に注入された浄化液は、循環部４７ａ〜４７ｃにより、酸性液、アルカリ性液などが添加されながら循環する。このため、浄化液中の不純物が次第に増大することになる。そこで、定期的に、バルブ４２０２を開放することによってハウジング３９に対して清浄な浄化液が供給されるとともに、バルブ４３２２を開放することによってハウジング３９内の不純物を含む浄化液が排出される。バルブ４２０２，４３２２の開閉は、制御装置５の制御下で行われてもよいし、作業者の手作業によって行われてもよい。

本実施形態では、浄化液を排出する排液部（排液配管４３２１およびバルブ４３２２）が貯留槽４３に設けられているが、これは必須ではない。例えば、当該排液部を貯留槽４３に設ける代わりに、浄化槽４２ａ〜４２ｃ各々に設け、浄化槽４２ａ〜４２ｃ各々から個別に浄化液を排出可能としてもよい。

＜効果＞
このように、気体浄化装置３によれば、浄化液を処理ユニット２からの排気に接触させるため、排気中に含まれる特定成分を捕獲できる。また、捕獲された特定成分を除去しながら浄化液を循環させるため、浄化液の捕獲能力の低下を抑制しつつ、気体の浄化処理を実施できる。また、浄化液を循環して利用するため、汚染された浄化液の発生量を低減することができる。さらに、浄化液に含まれる汚染物質は、酸性液供給配管５１ａからの酸性液、アルカリ性液供給配管５１ｂからのアルカリ性液、及び、有機物除去部５１ｃにより適宜除去されるため、排気される浄化液中の汚染物質濃度を低減できる。

また、排気に様々な汚染物質が含まれていた場合に、その気体が浄化槽４２ａ〜４２ｃ各々を順に通過することにより、気体からアルカリ、酸、有機物を含む汚染物質が順次除去されていく。複数台の処理ユニット２を稼働させた場合、処理ユニット２各々が異なる処理を行うことにより、様々な汚染物質を含む気体が発生し得る。気体浄化装置３によれば、このような異なる種類の汚染物質が気体に含まれる場合でも、その気体を浄化することができる。

処理ユニット２において発生する汚染物質は、排気が最初に通過する浄化槽４２ａの排気路４４ａにおいて、主に吐出ノズル４６ａから吐出される浄化液に捕獲される。この実施形態では、汚染物質として、処理液として使用されるＳＣ−１からアルカリ性を示すアンモニアが大量に発生する。このため、浄化槽４２ａにおいては、浄化液によってアンモニアが大量に捕獲されることになる。これに対して、この実施形態では、循環部４７ａ（詳細には、接続配管４８ｃ）において、この浄化液に酸性液（硫酸）が添加されることにより、アンモニアが中和され、除去される。したがって、供給配管４９ａに導かれて排気路４４ａに再び吐出される浄化液のアンモニア捕獲能力を高レベルに維持できる。

また、最初の浄化槽４２ａにおいて大量のアンモニアが除去されるため、次の浄化槽４２ｂおよび浄化槽４２ｃにおいて、排気から他の汚染物質（酸、有機物）の除去を好適に行うことができる。

＜２． 変形例＞
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。

例えば、上記実施形態では、接続配管４８ａに酸性液が、接続配管４８ｂにアルカリ性液が供給されるが、接続配管４８ａにアルカリ性液が、接続配管４８ｂに酸性液が供給されてもよい。また、接続配管４８ａに有機物除去部５１を設け、その代わりに、接続配管４８ｃに酸性液を供給するようにしてもよい。同様に、接続配管４８ｂに有機物除去部５１を設け、その代わりに接続配管４８ｃにアルカリ性液を供給するようにしてもよい。

また、上記実施形態では、貯留槽４３が設けられているが、貯留槽４３を設けることは必須では内。この場合、詳細な図示は省略するが、図３に示す流入口４３０と供給配管４９ｃの吸水口を直接接続することにより、浄化槽４２ｃに貯留された浄化液を循環部４７ｃにより循環させるとよい。また、出口４５ｃに下流排気ダクト３５の吸口を接続するとよい。

また、上記実施形態の気体浄化装置３では、ハウジング３９が３つの浄化槽４２ａ〜４２ｃを含んでいる。しかしながら、ハウジング３９が、２つ以下の浄化槽または４つ以上の浄化槽を含んでいてもよい。例えば、ハウジング３９が、１つの浄化槽４２ａのみを備えている場合も想定される。この場合、図示を省略するが、図３に示す接続配管４８ａの流入口４２０ｂを供給配管４９ａの吸水口に直接接続させるとよい。また、出口４５ａに下流排気ダクト３５の吸口を接続するとよい。この場合、循環部４７ａにおいて、アルカリ成分を除去できる。さらに、この場合において、供給配管４９ａにアルカリ性液供給配管５１ｂを接続することにより、供給配管４９ａを通過する浄化液中の酸性成分を除去できる。またさらに、供給配管４９ａに有機物除去部５１ｃを設けることにより、浄化液中の有機物を除去することもできる。

また、本実施形態では、ハウジング３９の内部が、仕切壁部４０ａ〜４０ｃで仕切られることにより、浄化槽４２ａ〜４２ｃおよび貯留槽４３に区画されている。しかしながら、浄化槽４２ａ〜４２ｃおよび貯留槽４３を個別の箱状部材により形成されていてもよい。

基板処理装置１の処理対象となる基板は、半導体ウエハに限定されるものではなく、フォトマスク用ガラス基板、液晶用またはプラズマディスプレイ用ガラス基板、磁気・光ディスク用のガラスまたはセラミック基板、有機ＥＬ用ガラス基板、太陽電池用ガラス基板またはシリコン基板、その他フレキシブル基板およびプリント基板などの電子機器向けの各種被処理基板であってもよい。

この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。上記各実施形態および各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。

１ 基板処理装置
２ 処理ユニット
３ 気体浄化装置
５ 制御装置
８ 酸性薬液ノズル
９ アルカリ性薬液ノズル
１０ 有機薬液ノズル
１１ リンス液ノズル
１２ａ 排出口
１８ 酸性薬液配管
１９ 酸性薬液バルブ
２０ アルカリ性薬液配管
２１ アルカリ性薬液バルブ
２２ 有機薬液配管
２３ 有機薬液バルブ
２４ リンス液配管
２５ リンス液バルブ
３２ 上流排気ダクト（ダクト部）
３５ 下流排気ダクト
３６ ファン（圧送部）
３８ 排気浄化ボックス
３９ ハウジング
３９０，３９２ 側壁部
４０ａ〜４０ｃ 仕切壁部
４１ａ〜４１ｃ 仕切壁部
４２ａ〜４２ｃ 浄化槽
４２０ｂ，４２０ｃ，４３０，４３１ 流入口
４２２ａ〜４２２ｃ，４３２ 排液口
４３ 貯留槽
４３２１ 排液配管
４３２２ バルブ
４４ａ〜４４ｃ 排気路
４５ａ〜４５ｃ 出口
４６ａ〜４６ｃ 吐出ノズル
４７ａ〜４７ｃ 循環部
４８ａ〜４８ｃ 接続配管
４９ａ〜４９ｃ 供給配管
５０ａ〜５０ｃ 循環ポンプ
５１ａ 酸性液供給配管
５１ｂ アルカリ性液供給配管
５１ｃ 有機物除去部
５１０ 活性炭フィルタ
５２ａ，５２ｂ 供給バルブ
５３ａ，５３ｂ ｐＨ測定部
５３ｃ 有機物濃度測定部
Ｗ 基板

Claims (12)

1. 気体を浄化する気体浄化装置であって、
   浄化対象の気体が通過する第１排気路を形成する第１浄化槽と、
   前記第１排気路内の前記気体を出口に向けて移動させる圧送部と、
   前記第１排気路内の前記気体を浄化する浄化液を吐出する第１吐出ノズルと、
   前記第１浄化槽に設けられた第１排液口に接続され、前記第１排液口を通過した前記浄化液を前記第１吐出ノズルに戻す第１循環流路を形成する第１循環部と、
   前記第１循環部に接続され、前記第１循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第１除去部と、
   を備える、気体浄化装置。
2. 請求項１の気体浄化装置であって、
   前記１除去部は、酸性液源からの酸性液を前記第１循環路内に供給することにより、前記浄化液中のアルカリを除去する、気体浄化装置。
3. 請求項２の気体浄化装置であって、
   前記第１循環部に設けられており、前記第１循環流路を通る前記浄化液のｐＨ値を測定するｐＨ測定部、
   をさらに備え
   前記第１除去部は、前記酸性液の供給量を調節する酸性液供給量調整部を有する、気体浄化装置。
4. 請求項１から請求項３のいずれか１項の気体浄化装置であって、
   前記第１浄化槽の前記第１排気路の出口に接続された第２排気路を形成する第２浄化槽と、
   前記第２排気路内にて前記浄化液を吐出する第２吐出ノズルと、
   前記第２浄化槽に設けられた第２排液口に接続され、前記第２排液口を通過した前記浄化液を前記第２吐出ノズルに戻す第２循環流路を形成する第２循環部と、
   前記第２循環部に接続され、前記第２循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第２除去部と、
   をさらに備える、気体浄化装置。
5. 請求項４の気体浄化装置であって、
   前記第２除去部は、アルカリ性液供給源からのアルカリ性液を前記第２循環流路内に供給することにより、前記浄化液中の酸を除去する、気体浄化装置。
6. 請求項５の気体浄化装置であって、
   前記第２循環部に設けられており、前記第２循環流路を通る前記浄化液のｐＨ値を測定するｐＨ測定部、
   をさらに備え、
   前記第２除去部は、前記アルカリ性液の供給量を調整するアルカリ性液供給量調整部を有する、気体浄化装置。
7. 請求項２の気体浄化装置であって、
   前記第２浄化槽の前記第２排気路の出口に接続された第３排気路を形成する第３浄化槽と、
   前記第３排気路内にて前記浄化液を吐出する第３吐出ノズルと、
   前記第３浄化槽に設けられた第３排液口に接続され、前記第３排液口を通過した前記浄化液を前記第３吐出ノズルに戻す第３循環流路を形成する第３循環部と、
   前記第３循環部に接続され、前記第３循環流路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する第２除去部と、
   をさらに備える、気体浄化装置。
8. 請求項７の気体浄化装置であって、
   前記第３除去部は、前記浄化液に接触する活性炭を有する、気体浄化装置。
9. 請求項８の気体浄化装置であって、
   前記第３循環部に接続され、前記第３循環流路を通る前記浄化液中の有機物濃度を測定する有機物濃度測定部、
   をさらに備える、気体浄化装置。
10. 請求項７から請求項９のいずれか１項の気体浄化装置であって、
    前記第３循環部は、
    前記第３循環流路に接続され、前記浄化液を貯留する貯留槽と、
    前記貯留槽に貯留された前記浄化液を排液する排液部と、
    をさらに備える、気体浄化装置。
11. 気体を浄化する気体浄化方法であって、
    （ａ） 浄化対象の気体を、第１浄化槽が形成する第１排気路内の出口に向けて移動させる移動工程と、
    （ｂ） 前記第１排気路内において前記気体を浄化する浄化液を第１吐出ノズルから吐出する吐出工程と、
    （ｃ） 前記第１排気路内に吐出された前記浄化液を、第１循環流路を通じて前記第１吐出ノズルに戻す循環工程と、
    （ｄ） 前記第１循環路を通る前記浄化液中の特定成分を除去する除去工程と、
    を含む、気体浄化方法。
12. 基板を処理する基板処理装置であって、
    基板を処理液で処理する処理ユニットと、
    請求項１から請求項１０のいずれか１項の気体浄化装置と、
    前記処理ユニットと前記気体浄化装置とを接続するダクト部と、
    を備える、基板処理装置。

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