JPH06164112A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH06164112A JPH06164112A JP31054892A JP31054892A JPH06164112A JP H06164112 A JPH06164112 A JP H06164112A JP 31054892 A JP31054892 A JP 31054892A JP 31054892 A JP31054892 A JP 31054892A JP H06164112 A JPH06164112 A JP H06164112A
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- cleaning tank
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄処理によって発生する不要物の濾過作用
の処理効率を向上し、かつ洗浄槽とオーバフロー槽との
洗浄を良好に行うことができる洗浄装置を提供する。 【構成】 洗浄装置1は、洗浄槽2から溢れた洗浄液を
オーバフロー槽3の底部3aに形成された排液孔11か
ら、流量調整バルブ20、ポンプ12およびフィルタ1
3が介在する循環管路14を通り、洗浄槽2へ戻すいわ
ゆるオーバーフロー機構と、洗浄槽2の底部2aに形成
された排液孔5,6から流量調整バルブ19を介して循
環管路14を通り、洗浄槽2へ戻すダウンフロー機構と
を備える。これによって、オーバーフロー機構での流量
調整バルブ20とダウンフロー機構での流量調整バルブ
19とによって洗浄液の流量を調整しながら循環させ
て、洗浄液中の除去物質を取除いて清浄な洗浄液を保つ
ことができる。
の処理効率を向上し、かつ洗浄槽とオーバフロー槽との
洗浄を良好に行うことができる洗浄装置を提供する。 【構成】 洗浄装置1は、洗浄槽2から溢れた洗浄液を
オーバフロー槽3の底部3aに形成された排液孔11か
ら、流量調整バルブ20、ポンプ12およびフィルタ1
3が介在する循環管路14を通り、洗浄槽2へ戻すいわ
ゆるオーバーフロー機構と、洗浄槽2の底部2aに形成
された排液孔5,6から流量調整バルブ19を介して循
環管路14を通り、洗浄槽2へ戻すダウンフロー機構と
を備える。これによって、オーバーフロー機構での流量
調整バルブ20とダウンフロー機構での流量調整バルブ
19とによって洗浄液の流量を調整しながら循環させ
て、洗浄液中の除去物質を取除いて清浄な洗浄液を保つ
ことができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例として液晶表示装置
を製造する際のガラス基板の洗浄あるいはエッチング処
理などを行う際に用いられる洗浄装置に関する。
を製造する際のガラス基板の洗浄あるいはエッチング処
理などを行う際に用いられる洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置を製造する場合、ガラス基
板上に例としてITO(インジウムスズ酸化物)など
で、透明電極をパターン形成する際に、周知のフォトプ
ロセスを用いてエッチングによりパターン形成し、その
後、エッチング液やガラス基板上の不要物を除去するた
めに洗浄を行っている。
板上に例としてITO(インジウムスズ酸化物)など
で、透明電極をパターン形成する際に、周知のフォトプ
ロセスを用いてエッチングによりパターン形成し、その
後、エッチング液やガラス基板上の不要物を除去するた
めに洗浄を行っている。
【0003】図2は、典型的な従来例の洗浄装置31の
構成を示す系統図である。洗浄装置31は、前記ガラス
基板などが搬入されて洗浄処理が行われる洗浄槽32
と、この洗浄槽32の上端部付近に洗浄槽32を外囲し
て設けられ、洗浄槽32から溢れた洗浄液を受けるオー
バフロー槽33とを備える。また洗浄槽32のほぼ水平
な底部には、ガラス基板などの洗浄を行うための超音波
発振機34が設けられる。洗浄槽32の底部32aに
は、排液孔35,36が設けられ、これらはバルブ3
7,38をそれぞれ介在する排液管路39,40を介し
て洗浄槽32内の洗浄液を排出する。
構成を示す系統図である。洗浄装置31は、前記ガラス
基板などが搬入されて洗浄処理が行われる洗浄槽32
と、この洗浄槽32の上端部付近に洗浄槽32を外囲し
て設けられ、洗浄槽32から溢れた洗浄液を受けるオー
バフロー槽33とを備える。また洗浄槽32のほぼ水平
な底部には、ガラス基板などの洗浄を行うための超音波
発振機34が設けられる。洗浄槽32の底部32aに
は、排液孔35,36が設けられ、これらはバルブ3
7,38をそれぞれ介在する排液管路39,40を介し
て洗浄槽32内の洗浄液を排出する。
【0004】一方、前記オーバフロー槽33の底部33
aにも排液孔41が設けられ、ポンプ42およびフィル
タ43を介在する循環管路44を介して洗浄槽32と連
通する。この循環管路44のポンプ42よりも排液孔4
1側にはバルブ45が設けられ、必要に応じてオーバフ
ロー槽33内の洗浄液を排出する。
aにも排液孔41が設けられ、ポンプ42およびフィル
タ43を介在する循環管路44を介して洗浄槽32と連
通する。この循環管路44のポンプ42よりも排液孔4
1側にはバルブ45が設けられ、必要に応じてオーバフ
ロー槽33内の洗浄液を排出する。
【0005】すなわち、洗浄装置31において、洗浄槽
32内に洗浄液を供給し、洗浄槽32から溢れた洗浄液
はオーバフロー槽33に流入して、前記循環管路44を
介して再び洗浄槽32内に戻されている。このように洗
浄液を循環させるのは、洗浄槽32内の洗浄液の組成を
一定とし、洗浄処理を一定の品質で行うためである。ま
た、洗浄槽32の形状は洗浄されるガラス基板が矩形板
状である点などに鑑み、直方体形状に構成されている。
32内に洗浄液を供給し、洗浄槽32から溢れた洗浄液
はオーバフロー槽33に流入して、前記循環管路44を
介して再び洗浄槽32内に戻されている。このように洗
浄液を循環させるのは、洗浄槽32内の洗浄液の組成を
一定とし、洗浄処理を一定の品質で行うためである。ま
た、洗浄槽32の形状は洗浄されるガラス基板が矩形板
状である点などに鑑み、直方体形状に構成されている。
【0006】また、図2と異なる例として、循環管路4
4を洗浄槽32の上部に接続して洗浄液を送るのではな
く、洗浄槽32の底部32aに循環管路44を接続して
洗浄液を送る構造の洗浄装置もある。
4を洗浄槽32の上部に接続して洗浄液を送るのではな
く、洗浄槽32の底部32aに循環管路44を接続して
洗浄液を送る構造の洗浄装置もある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このような洗浄装置3
1で、例としてガラス基板上のITO膜をパターニング
して透明電極を形成する工程の洗浄処理を想定すると、
洗浄処理中の洗浄槽32内には、前記ITOやフォトプ
ロセスに用いられたフォトレジストなど、ガラス基板か
ら除去された除去物質が存在する。このような除去物質
の比重が洗浄液の比重よりも大きい場合、除去物質は洗
浄液中に浮遊し、あるいは洗浄槽32の底部32aに堆
積する。したがって洗浄槽32から溢れた洗浄液を濾過
する従来例では、このような浮遊あるいは堆積している
除去物質を有効に除去することができない。しかもこの
ような除去物質は、循環管路44から洗浄槽32内に注
入される洗浄液によってまいあがり、ガラス基板などに
再付着するなどの不具合を生じる。
1で、例としてガラス基板上のITO膜をパターニング
して透明電極を形成する工程の洗浄処理を想定すると、
洗浄処理中の洗浄槽32内には、前記ITOやフォトプ
ロセスに用いられたフォトレジストなど、ガラス基板か
ら除去された除去物質が存在する。このような除去物質
の比重が洗浄液の比重よりも大きい場合、除去物質は洗
浄液中に浮遊し、あるいは洗浄槽32の底部32aに堆
積する。したがって洗浄槽32から溢れた洗浄液を濾過
する従来例では、このような浮遊あるいは堆積している
除去物質を有効に除去することができない。しかもこの
ような除去物質は、循環管路44から洗浄槽32内に注
入される洗浄液によってまいあがり、ガラス基板などに
再付着するなどの不具合を生じる。
【0008】さらに、循環管路44、ポンプ42、フィ
ルタ43、洗浄槽32の底部32aの洗浄および共洗い
を行う場合、洗浄槽32に洗浄液が満たされているだけ
ではなく、オーバフロー槽33にも洗浄液がなければポ
ンプ42は作動せず、循環管路44内を洗浄液が通過し
ない。したがって、洗浄液は洗浄槽32を満たして、オ
ーバフロー槽33に溢れさせなければならず、洗浄およ
び共洗いを行うためには多くの洗浄液が必要となる。
ルタ43、洗浄槽32の底部32aの洗浄および共洗い
を行う場合、洗浄槽32に洗浄液が満たされているだけ
ではなく、オーバフロー槽33にも洗浄液がなければポ
ンプ42は作動せず、循環管路44内を洗浄液が通過し
ない。したがって、洗浄液は洗浄槽32を満たして、オ
ーバフロー槽33に溢れさせなければならず、洗浄およ
び共洗いを行うためには多くの洗浄液が必要となる。
【0009】本発明の目的は、上述の技術的課題を解消
し、洗浄処理によって発生する不要物の濾過作用の処理
効率を向上し、かつ洗浄槽とオーバフロー槽との洗浄を
良好に行うことができる洗浄装置を提供することであ
る。
し、洗浄処理によって発生する不要物の濾過作用の処理
効率を向上し、かつ洗浄槽とオーバフロー槽との洗浄を
良好に行うことができる洗浄装置を提供することであ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、洗浄槽と、前
記洗浄槽の上端に設けられ、洗浄槽から溢れる流体を受
けるオーバフロー槽と、前記オーバフロー槽の底部に形
成される排液孔からの流体を、ポンプおよび濾過手段を
介して前記洗浄槽に戻す第1の循環管路と、前記洗浄槽
の底部に形成される排液孔からの流体を、ポンプおよび
濾過手段を介して前記洗浄槽に戻す第2の循環管路とを
含むことを特徴とする洗浄装置である。
記洗浄槽の上端に設けられ、洗浄槽から溢れる流体を受
けるオーバフロー槽と、前記オーバフロー槽の底部に形
成される排液孔からの流体を、ポンプおよび濾過手段を
介して前記洗浄槽に戻す第1の循環管路と、前記洗浄槽
の底部に形成される排液孔からの流体を、ポンプおよび
濾過手段を介して前記洗浄槽に戻す第2の循環管路とを
含むことを特徴とする洗浄装置である。
【0011】また本発明は、前記第1および第2の循環
管路は、ポンプと濾過手段と濾過手段以降の管路とを共
有することを特徴とする。
管路は、ポンプと濾過手段と濾過手段以降の管路とを共
有することを特徴とする。
【0012】また本発明は、前記第1および第2の循環
管路は、排液孔とポンプとの間にそれぞれ流量調節弁を
介在することを特徴とする。
管路は、排液孔とポンプとの間にそれぞれ流量調節弁を
介在することを特徴とする。
【0013】
【作用】本発明に従えば、内部に洗浄液などの流体を満
たし、基板などの被洗浄物を浸して洗浄する洗浄槽の上
端には、洗浄槽から溢れる流体を受けるオーバフロー槽
が設けられている。このオーバフロー槽の底部には排液
孔が形成され、溢れた流体は第1の循環管路を通って、
ポンプおよび濾過手段を介して再び洗浄槽に戻される。
たし、基板などの被洗浄物を浸して洗浄する洗浄槽の上
端には、洗浄槽から溢れる流体を受けるオーバフロー槽
が設けられている。このオーバフロー槽の底部には排液
孔が形成され、溢れた流体は第1の循環管路を通って、
ポンプおよび濾過手段を介して再び洗浄槽に戻される。
【0014】また、洗浄槽の底部にも排液孔が形成さ
れ、排液孔からの流体は第2の循環管路を通って、ポン
プおよび濾過手段を介して再び洗浄槽に戻される。した
がって、洗浄液より比重の大きい除去物質は第2の循環
管路を通して、比重の小さい除去物質は第1の循環管路
を通して、それぞれ濾過手段に与えられて除去される。
さらに、洗浄装置自体を洗浄するような場合には、流体
を洗浄槽の排液孔から第2の循環管路を通すことによっ
て、洗浄槽の底部に堆積した除去物質を濾過することが
でき、流体がオーバフロー槽に達していなくてもポンプ
や濾過手段および濾過手段以降の管路内の洗浄を行うこ
とができる。
れ、排液孔からの流体は第2の循環管路を通って、ポン
プおよび濾過手段を介して再び洗浄槽に戻される。した
がって、洗浄液より比重の大きい除去物質は第2の循環
管路を通して、比重の小さい除去物質は第1の循環管路
を通して、それぞれ濾過手段に与えられて除去される。
さらに、洗浄装置自体を洗浄するような場合には、流体
を洗浄槽の排液孔から第2の循環管路を通すことによっ
て、洗浄槽の底部に堆積した除去物質を濾過することが
でき、流体がオーバフロー槽に達していなくてもポンプ
や濾過手段および濾過手段以降の管路内の洗浄を行うこ
とができる。
【0015】また本発明に従えば、前記第1および第2
の循環管路は、共用のポンプと濾過手段と濾過手段以降
の管路とを介して、洗浄槽と接続される。したがって、
配管設備の簡易化を図ることができる。
の循環管路は、共用のポンプと濾過手段と濾過手段以降
の管路とを介して、洗浄槽と接続される。したがって、
配管設備の簡易化を図ることができる。
【0016】また本発明に従えば、前記第1および第2
の循環管路には、排液孔とポンプとの間に、それぞれ流
量調節弁が設けられ、第1および第2の循環管路を通る
流体の量を調節することができる。したがって、基板な
どの被洗浄物を洗浄する場合には、洗浄を行うことによ
って被洗浄物から除去物質が発生するが、この除去物質
による流体の汚濁状態に応じて、前記オーバフロー槽か
ら前記第1の循環管路に入る流体の量と、前記洗浄槽か
ら第2の循環管路に入る流体の量とを調整して洗浄槽へ
戻すことができ、洗浄槽の中の流体を常に清浄な状態に
保つことができる。
の循環管路には、排液孔とポンプとの間に、それぞれ流
量調節弁が設けられ、第1および第2の循環管路を通る
流体の量を調節することができる。したがって、基板な
どの被洗浄物を洗浄する場合には、洗浄を行うことによ
って被洗浄物から除去物質が発生するが、この除去物質
による流体の汚濁状態に応じて、前記オーバフロー槽か
ら前記第1の循環管路に入る流体の量と、前記洗浄槽か
ら第2の循環管路に入る流体の量とを調整して洗浄槽へ
戻すことができ、洗浄槽の中の流体を常に清浄な状態に
保つことができる。
【0017】
【実施例】図1は、本発明の一実施例の洗浄装置1の系
統図である。洗浄装置1は、例として液晶表示装置の製
造工程や半導体製造工程において、ガラス基板やシリコ
ンウエハの洗浄処理やエッチング処理を行うために用い
られる。この洗浄装置1は、たとえばガラス基板などが
搬入されて洗浄処理が行われる直方体形状に形成された
洗浄槽2と、この洗浄槽2の上端部付近に洗浄槽2を外
囲して設けられ、洗浄槽2から溢れた洗浄液を受けるオ
ーバフロー槽3とを備える。
統図である。洗浄装置1は、例として液晶表示装置の製
造工程や半導体製造工程において、ガラス基板やシリコ
ンウエハの洗浄処理やエッチング処理を行うために用い
られる。この洗浄装置1は、たとえばガラス基板などが
搬入されて洗浄処理が行われる直方体形状に形成された
洗浄槽2と、この洗浄槽2の上端部付近に洗浄槽2を外
囲して設けられ、洗浄槽2から溢れた洗浄液を受けるオ
ーバフロー槽3とを備える。
【0018】また洗浄槽2のほぼ水平な底部には、ガラ
ス基板などの洗浄を行うための超音波を発生する超音波
発振機4が設けられる。前記オーバフロー槽3の底部3
aには排液孔11が設けられ、流量調整バルブ20、ポ
ンプ12およびフィルタ13を介在する循環管路14を
介して洗浄層2と連通する。この循環管路14のポンプ
12よりも排液孔11側にはバルブ15が設けられ、必
要に応じてオーバフロー槽3内の洗浄液を排出する。
ス基板などの洗浄を行うための超音波を発生する超音波
発振機4が設けられる。前記オーバフロー槽3の底部3
aには排液孔11が設けられ、流量調整バルブ20、ポ
ンプ12およびフィルタ13を介在する循環管路14を
介して洗浄層2と連通する。この循環管路14のポンプ
12よりも排液孔11側にはバルブ15が設けられ、必
要に応じてオーバフロー槽3内の洗浄液を排出する。
【0019】一方、洗浄槽2の底部2aにも排液孔5,
6が設けられ、バルブ7,8を介在する排液管路9,1
0が設けられる。排液管路9,10は、その途中から分
岐する管路9a,10aによって、流量調整バルブ19
を介して、ポンプ12と流量調整バルブ20との間に
て、循環管路14に連通する。したがって、洗浄槽2内
の洗浄液は、排出されるだけでなく、流量調整バルブ1
9を介してポンプ12およびフィルタ13を介在する循
環管路14を通って洗浄槽2に戻される。
6が設けられ、バルブ7,8を介在する排液管路9,1
0が設けられる。排液管路9,10は、その途中から分
岐する管路9a,10aによって、流量調整バルブ19
を介して、ポンプ12と流量調整バルブ20との間に
て、循環管路14に連通する。したがって、洗浄槽2内
の洗浄液は、排出されるだけでなく、流量調整バルブ1
9を介してポンプ12およびフィルタ13を介在する循
環管路14を通って洗浄槽2に戻される。
【0020】すなわち、洗浄装置1において洗浄槽2内
に供給された洗浄液は排液孔5,6から流量調整バルブ
19を介して循環管路14を通って再び洗浄槽2へ戻
る、いわゆるダウンフロー機構によって循環する。ま
た、洗浄槽2から溢れた洗浄液は、排液孔11から循環
管路14を通って再び洗浄槽2へ戻るオーバーフロー機
構によって循環する。いずれの循環機構においても洗浄
液は同一のポンプ12を通りフィルタ13によって循環
濾過が行われる。このように洗浄液を循環させるのは、
洗浄槽2内の洗浄液の組成を一定とし、洗浄処理を一定
の品質で行うためである。
に供給された洗浄液は排液孔5,6から流量調整バルブ
19を介して循環管路14を通って再び洗浄槽2へ戻
る、いわゆるダウンフロー機構によって循環する。ま
た、洗浄槽2から溢れた洗浄液は、排液孔11から循環
管路14を通って再び洗浄槽2へ戻るオーバーフロー機
構によって循環する。いずれの循環機構においても洗浄
液は同一のポンプ12を通りフィルタ13によって循環
濾過が行われる。このように洗浄液を循環させるのは、
洗浄槽2内の洗浄液の組成を一定とし、洗浄処理を一定
の品質で行うためである。
【0021】つまり、比重の大きな除去物質は洗浄槽2
の底部2aに堆積したり洗浄液中を浮遊したりするた
め、ダウンフロー機構によって循環濾過され、比重の小
さな除去物質は洗浄液面を浮遊するため、オーバーフロ
ー機構によって循環濾過される。したがって、除去物質
を有効に除去することができることになる。
の底部2aに堆積したり洗浄液中を浮遊したりするた
め、ダウンフロー機構によって循環濾過され、比重の小
さな除去物質は洗浄液面を浮遊するため、オーバーフロ
ー機構によって循環濾過される。したがって、除去物質
を有効に除去することができることになる。
【0022】また、2つの流量調整バルブ19,20に
よってオーバーフロー機構とダウンフロー機構とを通る
洗浄液の流量のバランスを調整することができる。たと
えば、循環管路14を流れる洗浄液の流量を100%と
すると、排液孔5,6を通過して流量調整バルブ19を
流れる流量をたとえば80%とし、残りの20%が排液
孔11を通過して流量調整バルブ20を流れる流量とす
ることができる。このように流量を調整することによっ
て、洗浄液中の除去物質の状態に合わせた循環濾過を行
うことができる。
よってオーバーフロー機構とダウンフロー機構とを通る
洗浄液の流量のバランスを調整することができる。たと
えば、循環管路14を流れる洗浄液の流量を100%と
すると、排液孔5,6を通過して流量調整バルブ19を
流れる流量をたとえば80%とし、残りの20%が排液
孔11を通過して流量調整バルブ20を流れる流量とす
ることができる。このように流量を調整することによっ
て、洗浄液中の除去物質の状態に合わせた循環濾過を行
うことができる。
【0023】さらに、循環管路14、ポンプ12、フィ
ルタ13、洗浄槽2の底部2aを洗浄する場合や共洗い
を行う場合には、オーバーフロー機構用の流量調整バル
ブ20を閉めることによって、少量の洗浄液で循環を行
うことができる。
ルタ13、洗浄槽2の底部2aを洗浄する場合や共洗い
を行う場合には、オーバーフロー機構用の流量調整バル
ブ20を閉めることによって、少量の洗浄液で循環を行
うことができる。
【0024】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板など
の被洗浄物を洗浄する場合には、被洗浄物から除去した
除去物質が流体表面に浮遊するものか、流体中に浮遊す
るものか、あるいは洗浄槽の底部に堆積するものかによ
って、オーバフロー槽から第1の循環管路に入る流体の
量と、洗浄槽から第2の循環管路に入る流体の量とをそ
れぞれの流量調節弁によって調整して洗浄槽へ戻すこと
ができ、流体の中の除去物質が濾過手段によって濾過さ
れて常に清浄な流体に保つことができる。
の被洗浄物を洗浄する場合には、被洗浄物から除去した
除去物質が流体表面に浮遊するものか、流体中に浮遊す
るものか、あるいは洗浄槽の底部に堆積するものかによ
って、オーバフロー槽から第1の循環管路に入る流体の
量と、洗浄槽から第2の循環管路に入る流体の量とをそ
れぞれの流量調節弁によって調整して洗浄槽へ戻すこと
ができ、流体の中の除去物質が濾過手段によって濾過さ
れて常に清浄な流体に保つことができる。
【0025】また本発明によれば、流体の中の除去物質
を濾過する濾過手段や、流体を洗浄槽に戻すためのポン
プや濾過手段以降の管路は、第1および第2の循環管路
で共用している。このため配管設備を簡略化することが
できる。
を濾過する濾過手段や、流体を洗浄槽に戻すためのポン
プや濾過手段以降の管路は、第1および第2の循環管路
で共用している。このため配管設備を簡略化することが
できる。
【0026】さらに本発明によれば、洗浄槽やポンプ、
濾過手段、第1および第2の循環管路といった洗浄装置
自体を洗浄する場合、洗浄槽の底部に堆積した除去物質
は、洗浄槽の排液孔を通って排液管路を通り排出され
る。さらに、ポンプや濾過手段および濾過手段以降の管
路内を洗浄する場合には、洗浄槽からの流体を排液管路
から第2の循環管路に通すことによって循環させること
ができ、管路内の洗浄を行うことができる。したがっ
て、オーバフロー槽の排液孔から第1の循環管路に流体
を送っていたものに比べて流体の量が格段に少ない量で
洗浄を行うことができ、流体の節約が可能となる。
濾過手段、第1および第2の循環管路といった洗浄装置
自体を洗浄する場合、洗浄槽の底部に堆積した除去物質
は、洗浄槽の排液孔を通って排液管路を通り排出され
る。さらに、ポンプや濾過手段および濾過手段以降の管
路内を洗浄する場合には、洗浄槽からの流体を排液管路
から第2の循環管路に通すことによって循環させること
ができ、管路内の洗浄を行うことができる。したがっ
て、オーバフロー槽の排液孔から第1の循環管路に流体
を送っていたものに比べて流体の量が格段に少ない量で
洗浄を行うことができ、流体の節約が可能となる。
【図1】本発明の一実施例の洗浄装置1の構成を示す系
統図である。
統図である。
【図2】従来技術の洗浄装置31の系統図である。
1 洗浄装置 2,2a 洗浄槽 3,3a オーバフロー槽 5,6,11 排液孔 9 排液管路 12 ポンプ 13 フィルタ 14 循環管路 19,20 流量調整バルブ
Claims (3)
- 【請求項1】 洗浄槽と、前記洗浄槽の上端に設けら
れ、洗浄槽から溢れる流体を受けるオーバフロー槽と、 前記オーバフロー槽の底部に形成される排液孔からの流
体を、ポンプおよび濾過手段を介して前記洗浄槽に戻す
第1の循環管路と、 前記洗浄槽の底部に形成される排液孔からの流体を、ポ
ンプおよび濾過手段を介して前記洗浄槽に戻す第2の循
環管路とを含むことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項2】 前記第1および第2の循環管路は、ポン
プと濾過手段と濾過手段以降の管路とを共有することを
特徴とする請求項1記載の洗浄装置。 - 【請求項3】 前記第1および第2の循環管路は、排液
孔とポンプとの間にそれぞれ流量調節弁を介在すること
を特徴とする請求項2記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31054892A JPH06164112A (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31054892A JPH06164112A (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06164112A true JPH06164112A (ja) | 1994-06-10 |
Family
ID=18006566
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31054892A Pending JPH06164112A (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06164112A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000027639A1 (fr) * | 1998-11-06 | 2000-05-18 | Michel Bourdat | Procede et machine de nettoyage d'objets en forme de plaques |
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1992
- 1992-11-19 JP JP31054892A patent/JPH06164112A/ja active Pending
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