JPH06164112A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄処理によって発生する不要物の濾過作用
の処理効率を向上し、かつ洗浄槽とオーバフロー槽との
洗浄を良好に行うことができる洗浄装置を提供する。 【構成】 洗浄装置１は、洗浄槽２から溢れた洗浄液を
オーバフロー槽３の底部３ａに形成された排液孔１１か
ら、流量調整バルブ２０、ポンプ１２およびフィルタ１
３が介在する循環管路１４を通り、洗浄槽２へ戻すいわ
ゆるオーバーフロー機構と、洗浄槽２の底部２ａに形成
された排液孔５，６から流量調整バルブ１９を介して循
環管路１４を通り、洗浄槽２へ戻すダウンフロー機構と
を備える。これによって、オーバーフロー機構での流量
調整バルブ２０とダウンフロー機構での流量調整バルブ
１９とによって洗浄液の流量を調整しながら循環させ
て、洗浄液中の除去物質を取除いて清浄な洗浄液を保つ
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例として液晶表示装置
を製造する際のガラス基板の洗浄あるいはエッチング処
理などを行う際に用いられる洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置を製造する場合、ガラス基
板上に例としてＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）など
で、透明電極をパターン形成する際に、周知のフォトプ
ロセスを用いてエッチングによりパターン形成し、その
後、エッチング液やガラス基板上の不要物を除去するた
めに洗浄を行っている。

【０００３】図２は、典型的な従来例の洗浄装置３１の
構成を示す系統図である。洗浄装置３１は、前記ガラス
基板などが搬入されて洗浄処理が行われる洗浄槽３２
と、この洗浄槽３２の上端部付近に洗浄槽３２を外囲し
て設けられ、洗浄槽３２から溢れた洗浄液を受けるオー
バフロー槽３３とを備える。また洗浄槽３２のほぼ水平
な底部には、ガラス基板などの洗浄を行うための超音波
発振機３４が設けられる。洗浄槽３２の底部３２ａに
は、排液孔３５，３６が設けられ、これらはバルブ３
７，３８をそれぞれ介在する排液管路３９，４０を介し
て洗浄槽３２内の洗浄液を排出する。

【０００４】一方、前記オーバフロー槽３３の底部３３
ａにも排液孔４１が設けられ、ポンプ４２およびフィル
タ４３を介在する循環管路４４を介して洗浄槽３２と連
通する。この循環管路４４のポンプ４２よりも排液孔４
１側にはバルブ４５が設けられ、必要に応じてオーバフ
ロー槽３３内の洗浄液を排出する。

【０００５】すなわち、洗浄装置３１において、洗浄槽
３２内に洗浄液を供給し、洗浄槽３２から溢れた洗浄液
はオーバフロー槽３３に流入して、前記循環管路４４を
介して再び洗浄槽３２内に戻されている。このように洗
浄液を循環させるのは、洗浄槽３２内の洗浄液の組成を
一定とし、洗浄処理を一定の品質で行うためである。ま
た、洗浄槽３２の形状は洗浄されるガラス基板が矩形板
状である点などに鑑み、直方体形状に構成されている。

【０００６】また、図２と異なる例として、循環管路４
４を洗浄槽３２の上部に接続して洗浄液を送るのではな
く、洗浄槽３２の底部３２ａに循環管路４４を接続して
洗浄液を送る構造の洗浄装置もある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】このような洗浄装置３
１で、例としてガラス基板上のＩＴＯ膜をパターニング
して透明電極を形成する工程の洗浄処理を想定すると、
洗浄処理中の洗浄槽３２内には、前記ＩＴＯやフォトプ
ロセスに用いられたフォトレジストなど、ガラス基板か
ら除去された除去物質が存在する。このような除去物質
の比重が洗浄液の比重よりも大きい場合、除去物質は洗
浄液中に浮遊し、あるいは洗浄槽３２の底部３２ａに堆
積する。したがって洗浄槽３２から溢れた洗浄液を濾過
する従来例では、このような浮遊あるいは堆積している
除去物質を有効に除去することができない。しかもこの
ような除去物質は、循環管路４４から洗浄槽３２内に注
入される洗浄液によってまいあがり、ガラス基板などに
再付着するなどの不具合を生じる。

【０００８】さらに、循環管路４４、ポンプ４２、フィ
ルタ４３、洗浄槽３２の底部３２ａの洗浄および共洗い
を行う場合、洗浄槽３２に洗浄液が満たされているだけ
ではなく、オーバフロー槽３３にも洗浄液がなければポ
ンプ４２は作動せず、循環管路４４内を洗浄液が通過し
ない。したがって、洗浄液は洗浄槽３２を満たして、オ
ーバフロー槽３３に溢れさせなければならず、洗浄およ
び共洗いを行うためには多くの洗浄液が必要となる。

【０００９】本発明の目的は、上述の技術的課題を解消
し、洗浄処理によって発生する不要物の濾過作用の処理
効率を向上し、かつ洗浄槽とオーバフロー槽との洗浄を
良好に行うことができる洗浄装置を提供することであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、洗浄槽と、前
記洗浄槽の上端に設けられ、洗浄槽から溢れる流体を受
けるオーバフロー槽と、前記オーバフロー槽の底部に形
成される排液孔からの流体を、ポンプおよび濾過手段を
介して前記洗浄槽に戻す第１の循環管路と、前記洗浄槽
の底部に形成される排液孔からの流体を、ポンプおよび
濾過手段を介して前記洗浄槽に戻す第２の循環管路とを
含むことを特徴とする洗浄装置である。

【００１１】また本発明は、前記第１および第２の循環
管路は、ポンプと濾過手段と濾過手段以降の管路とを共
有することを特徴とする。

【００１２】また本発明は、前記第１および第２の循環
管路は、排液孔とポンプとの間にそれぞれ流量調節弁を
介在することを特徴とする。

【００１３】

【作用】本発明に従えば、内部に洗浄液などの流体を満
たし、基板などの被洗浄物を浸して洗浄する洗浄槽の上
端には、洗浄槽から溢れる流体を受けるオーバフロー槽
が設けられている。このオーバフロー槽の底部には排液
孔が形成され、溢れた流体は第１の循環管路を通って、
ポンプおよび濾過手段を介して再び洗浄槽に戻される。

【００１４】また、洗浄槽の底部にも排液孔が形成さ
れ、排液孔からの流体は第２の循環管路を通って、ポン
プおよび濾過手段を介して再び洗浄槽に戻される。した
がって、洗浄液より比重の大きい除去物質は第２の循環
管路を通して、比重の小さい除去物質は第１の循環管路
を通して、それぞれ濾過手段に与えられて除去される。
さらに、洗浄装置自体を洗浄するような場合には、流体
を洗浄槽の排液孔から第２の循環管路を通すことによっ
て、洗浄槽の底部に堆積した除去物質を濾過することが
でき、流体がオーバフロー槽に達していなくてもポンプ
や濾過手段および濾過手段以降の管路内の洗浄を行うこ
とができる。

【００１５】また本発明に従えば、前記第１および第２
の循環管路は、共用のポンプと濾過手段と濾過手段以降
の管路とを介して、洗浄槽と接続される。したがって、
配管設備の簡易化を図ることができる。

【００１６】また本発明に従えば、前記第１および第２
の循環管路には、排液孔とポンプとの間に、それぞれ流
量調節弁が設けられ、第１および第２の循環管路を通る
流体の量を調節することができる。したがって、基板な
どの被洗浄物を洗浄する場合には、洗浄を行うことによ
って被洗浄物から除去物質が発生するが、この除去物質
による流体の汚濁状態に応じて、前記オーバフロー槽か
ら前記第１の循環管路に入る流体の量と、前記洗浄槽か
ら第２の循環管路に入る流体の量とを調整して洗浄槽へ
戻すことができ、洗浄槽の中の流体を常に清浄な状態に
保つことができる。

【００１７】

【実施例】図１は、本発明の一実施例の洗浄装置１の系
統図である。洗浄装置１は、例として液晶表示装置の製
造工程や半導体製造工程において、ガラス基板やシリコ
ンウエハの洗浄処理やエッチング処理を行うために用い
られる。この洗浄装置１は、たとえばガラス基板などが
搬入されて洗浄処理が行われる直方体形状に形成された
洗浄槽２と、この洗浄槽２の上端部付近に洗浄槽２を外
囲して設けられ、洗浄槽２から溢れた洗浄液を受けるオ
ーバフロー槽３とを備える。

【００１８】また洗浄槽２のほぼ水平な底部には、ガラ
ス基板などの洗浄を行うための超音波を発生する超音波
発振機４が設けられる。前記オーバフロー槽３の底部３
ａには排液孔１１が設けられ、流量調整バルブ２０、ポ
ンプ１２およびフィルタ１３を介在する循環管路１４を
介して洗浄層２と連通する。この循環管路１４のポンプ
１２よりも排液孔１１側にはバルブ１５が設けられ、必
要に応じてオーバフロー槽３内の洗浄液を排出する。

【００１９】一方、洗浄槽２の底部２ａにも排液孔５，
６が設けられ、バルブ７，８を介在する排液管路９，１
０が設けられる。排液管路９，１０は、その途中から分
岐する管路９ａ，１０ａによって、流量調整バルブ１９
を介して、ポンプ１２と流量調整バルブ２０との間に
て、循環管路１４に連通する。したがって、洗浄槽２内
の洗浄液は、排出されるだけでなく、流量調整バルブ１
９を介してポンプ１２およびフィルタ１３を介在する循
環管路１４を通って洗浄槽２に戻される。

【００２０】すなわち、洗浄装置１において洗浄槽２内
に供給された洗浄液は排液孔５，６から流量調整バルブ
１９を介して循環管路１４を通って再び洗浄槽２へ戻
る、いわゆるダウンフロー機構によって循環する。ま
た、洗浄槽２から溢れた洗浄液は、排液孔１１から循環
管路１４を通って再び洗浄槽２へ戻るオーバーフロー機
構によって循環する。いずれの循環機構においても洗浄
液は同一のポンプ１２を通りフィルタ１３によって循環
濾過が行われる。このように洗浄液を循環させるのは、
洗浄槽２内の洗浄液の組成を一定とし、洗浄処理を一定
の品質で行うためである。

【００２１】つまり、比重の大きな除去物質は洗浄槽２
の底部２ａに堆積したり洗浄液中を浮遊したりするた
め、ダウンフロー機構によって循環濾過され、比重の小
さな除去物質は洗浄液面を浮遊するため、オーバーフロ
ー機構によって循環濾過される。したがって、除去物質
を有効に除去することができることになる。

【００２２】また、２つの流量調整バルブ１９，２０に
よってオーバーフロー機構とダウンフロー機構とを通る
洗浄液の流量のバランスを調整することができる。たと
えば、循環管路１４を流れる洗浄液の流量を１００％と
すると、排液孔５，６を通過して流量調整バルブ１９を
流れる流量をたとえば８０％とし、残りの２０％が排液
孔１１を通過して流量調整バルブ２０を流れる流量とす
ることができる。このように流量を調整することによっ
て、洗浄液中の除去物質の状態に合わせた循環濾過を行
うことができる。

【００２３】さらに、循環管路１４、ポンプ１２、フィ
ルタ１３、洗浄槽２の底部２ａを洗浄する場合や共洗い
を行う場合には、オーバーフロー機構用の流量調整バル
ブ２０を閉めることによって、少量の洗浄液で循環を行
うことができる。

【００２４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板など
の被洗浄物を洗浄する場合には、被洗浄物から除去した
除去物質が流体表面に浮遊するものか、流体中に浮遊す
るものか、あるいは洗浄槽の底部に堆積するものかによ
って、オーバフロー槽から第１の循環管路に入る流体の
量と、洗浄槽から第２の循環管路に入る流体の量とをそ
れぞれの流量調節弁によって調整して洗浄槽へ戻すこと
ができ、流体の中の除去物質が濾過手段によって濾過さ
れて常に清浄な流体に保つことができる。

【００２５】また本発明によれば、流体の中の除去物質
を濾過する濾過手段や、流体を洗浄槽に戻すためのポン
プや濾過手段以降の管路は、第１および第２の循環管路
で共用している。このため配管設備を簡略化することが
できる。

【００２６】さらに本発明によれば、洗浄槽やポンプ、
濾過手段、第１および第２の循環管路といった洗浄装置
自体を洗浄する場合、洗浄槽の底部に堆積した除去物質
は、洗浄槽の排液孔を通って排液管路を通り排出され
る。さらに、ポンプや濾過手段および濾過手段以降の管
路内を洗浄する場合には、洗浄槽からの流体を排液管路
から第２の循環管路に通すことによって循環させること
ができ、管路内の洗浄を行うことができる。したがっ
て、オーバフロー槽の排液孔から第１の循環管路に流体
を送っていたものに比べて流体の量が格段に少ない量で
洗浄を行うことができ、流体の節約が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の洗浄装置１の構成を示す系
統図である。

【図２】従来技術の洗浄装置３１の系統図である。

【符号の説明】

１ 洗浄装置 ２，２ａ 洗浄槽 ３，３ａ オーバフロー槽 ５，６，１１ 排液孔 ９ 排液管路 １２ ポンプ １３ フィルタ １４ 循環管路 １９，２０ 流量調整バルブ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄槽と、前記洗浄槽の上端に設けら
   れ、洗浄槽から溢れる流体を受けるオーバフロー槽と、 前記オーバフロー槽の底部に形成される排液孔からの流
   体を、ポンプおよび濾過手段を介して前記洗浄槽に戻す
   第１の循環管路と、 前記洗浄槽の底部に形成される排液孔からの流体を、ポ
   ンプおよび濾過手段を介して前記洗浄槽に戻す第２の循
   環管路とを含むことを特徴とする洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記第１および第２の循環管路は、ポン
   プと濾過手段と濾過手段以降の管路とを共有することを
   特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記第１および第２の循環管路は、排液
   孔とポンプとの間にそれぞれ流量調節弁を介在すること
   を特徴とする請求項２記載の洗浄装置。