JPS62291927A - 基板保持治具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 産業上の利用分野 この発明は、簡単な方法でしかも基板表面に汚染物質が
付着しないよう基板乾燥装置および乾燥方法に用いる基
板保持治具に関する。

従来の技術 従来、シリコン基板を乾燥する方法として第４図に示す
ような遠心力を利用する装置が市販されている。

モーター１にシャフト２が連結され、さらに基板ホルダ
ー３が連結され、カバー４が設けられている基板乾燥装
置がある。その乾燥装置に洗浄済みの基板６を基板ホル
ダー３にセットする。そしてモーター１を回転させれば
基板ホルダー３が回転し、遠心力により基板５に付着し
ている洗浄液が飛び、基板５を乾燥することができる。

発明が解決しようとする問題点 従来の遠心力を利用した乾燥方法では基板が高速で回転
するために基板と窒素ガスもしくは空気との摩擦によっ
て、基板に静電気が生じ、空気中のダストが基板に付着
しやすくなる。また、回転によって乾燥装置内のダスト
が舞い上り、基板；てダストが付着するという問題があ
る。さらに洗浄および乾燥を自動化させようとする場合
、回転しても基板を破損させることのないように自動的
に基板をセットするのは困難であるので、洗浄、乾燥工
程を自動化するのは困難である。

また、第６図に示すように、シリコン基板５に５ｉ０２
　膜ｅが形成されていると、５ｉ０２　膜は水との表面
親和力が強いため表面が親水性であるので表面に薄く水
の膜が形成される。まだシリコン基板の最下部端には水
の表面張力によって水滴７かたまり、この状態でシリコ
ン基板５を乾燥すると、水滴７領域の乾燥が困難である
。

問題点を解決するだめの手段 上記問題点を解決する本発明の技術的手段は少くとも基
板の最下端に接するような棒が設けられていて、前記棒
の材質が所定の液に対する表面親和力が基板と同じか大
きな材質で形成されていて、所定の液が前記基板の最下
端部から前記棒に流れるようにし、基板表面に付着する
液の量を少くすることにより容易に基板を乾燥させるこ
とができる。

作用 この技術的手段による作用は次のようになる。

すなわち、基板にダストが付着することなく乾燥するこ
とができる。また、洗浄、乾燥工程の自動化が容易にな
る。

実施例 以下、本発明の第１の実施例として表面に５ｉ０２膜を
形成したシリコン基板を水洗後高温雰囲気で乾燥する場
合にシリコン基板の最下端部が石英の突起棒と接する場
合を第１図人、Ｂにもとづいて説明する。

石英製の棒１０に溝１１を設け、シリコン基板６の両端
が溝１１で保持し、固定されるようになっていて、シリ
コン基板６の最下端１２に突起した石英棒１３が接する
ようになって、おり、その下に石英棒１４を設けた基板
保持冶具になっている。

そうすると、シリコン基板５表面に付着した水滴は重力
でシリコン基板６の下側に伝わっていく。

この場合、シリコン基板６表面は５ｉ０２　膜で形成さ
れているし、棒１３．１４も５ｉ０２　　であるので水
に対する表面親和力は強く、表面は親水性である。そう
すると、シリコン基板６の最下端１２に来た水滴は石英
棒１３．１４を伝ってさらに下方に落下していく。故に
シリコン基板６に水滴が溜まることはないので１２０〜
１６０℃の高温雰囲気で乾燥すると短時間で基板表面を
乾燥することができる。

またシリコン基板５表面に５ｉ０２　　膜が形成されて
いないと、水に対する表面親和力が小さいだめ、水滴は
水に対して親和力の強い石英棒１３に完全に移るのでよ
り一層乾燥が容易である。

第２の実施例としてシリコン基板の最下端に接する棒が
傾斜している場合を第２図にもとづいて説明する。

シリコン基板５の最下端１２に接する石英製の棒２ｏが
水平に対して５〜１５°傾いていて、シリコン基板６か
ら流れてきた水滴２１は俸２０に流れる。そして棒は傾
斜しているので下流側に流れていき、棒２ｏに水滴が滞
溜することはないのでシリコン基板６にも水滴が滞溜す
ることはない。

この基板保持治具を用いて、第３図に示すように温水洗
浄、低温領域での蒸気洗浄、高温領域での乾燥を行うと
微粒子が基板に付着せず、容易に乾燥することができる
。

石英製の洗浄槽３０の中に温水３１の超純水の流水があ
り、超純水を加熱するヒーター３３が設けられている。

また、超純水３１の水面の高さからシリコン基板５の直
径の１〜１・６倍の高さまで洗浄槽３０の周囲に冷却用
コイル３４を設ける。

冷却コイル３４の上部にシリコン基板５の直径の１〜２
倍の幅で洗浄槽３ｏの周囲にヒーター３５を設ける。

そうすると洗浄槽３０内の温度は下記のようになる。即
ち、超純水３１はヒーター３３により９０〜１００℃に
なっている。そして超純水３１の表面から冷却用コイル
３４の上端までは超純水３１よりも低い６０〜８０℃に
なるように冷却用コイル３４内に冷却水を流して低温領
域３６を形成する。さらにヒーター１５により低温領域
３６上に１１０〜１５０℃の高温領域３７を形成する。

上記洗浄、乾燥装置内に基板保持治具３９に固定したシ
リコン基板を超純水３１で水洗する。その後低温領域３
６で保持する（第３図に示しだ状態）。そうすると、超
純水３１で蒸発した水蒸気が低温領域３６で液化し、シ
リコン基板５表面で液化した水はシリコンの最下端部１
２から基板保持冶具３９の棒に流れこみ、シリコン基板
５表面、特に下部に水滴がたまることはない。そのため
に高温領域３７では短時間に基板を乾燥することができ
る。

発明の効果 以上のように本発明によれば、回転機構なしに基板を乾
燥することができるので、乾燥の際基板に微粒子が付着
することはない。さらに回転機構がないので自動化が容
易である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例における基板保持治具に
基板を設置した状態を示す断面図、第２図は同第２の実
施例における基板保持治具に基板を設置した状態を示す
断面図、第３図は第１．第２の実施例の基板保持治具を
用いて基板を洗浄。 乾燥する状態を示す断面図、第４図は従来の遠心力によ
る基板乾燥装置の断面図、第６図はシリコン基板を水洗
槽から出した状態金示す断面図である。 １ｏ・・・・・・シリコン基板を保持し、固定するだめ
の石英棒、１３・・・・・・シリコン基板の最下端と接
する石英棒、２ｏ・・・・・・シリコン基板の最下端に
接している傾斜した石英棒。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　はが１名第１
図 （Ｂ） 、り 第２図 ５−　シリコン某オ及 ３７−高温領域 ３９−　　某扱イ呆符治具 第４図 第５０

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）少くとも基板の最下端に接するように棒が設けら
   れ、前記棒の材質が所定の液に対する表面親和力が前記
   基板と同じか大きな材質で形成され、所定の液が前記基
   板の最下端で滞留しないように構成されている基板保持
   治具。
2. （２）棒に液が滞留しないように棒が傾斜構造になって
   いる特許請求の範囲第１項記載の基板保持治具。
3. （３）棒に凸部を設けて前記凸部が基板の最下端に接す
   る構造になっている特許請求の範囲第１項記載の基板保
   持治具。
4. （４）棒の材質が石英で形成されている特許請求の範囲
   第１項記載の基板保持治具。