JP2000105073A - ベーパ乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】被乾燥物の表面にしみ（ウォータマーク）が生
じることを防止するベーパ乾燥装置を提供する。 【解決手段】ベーパ乾燥装置１は装置本体４と支持装置
５とリンス処理部６と第１及び第２の不活性ガス供給装
置２，４２と排気装置４１と制御装置４４とを備えてい
る。装置本体４はベーパ槽７と外槽８を備え有機溶剤Ｙ
及びベーパＶを収容する。支持装置５は半導体ウェーハ
３を支持する。第１の不活性ガス供給装置２はベーパＶ
内に不活性ガスを供給する。第２の不活性ガス供給装置
４２はベーパ槽７の上端部１３ｂから不活性ガスを供給
する。排気装置４１はベーパ槽７内の気体を排出する。
リンス処理部６はベーパ槽７内に設けられたベーパ室内
槽１７などを備えている。リンス処理部６はベーパ槽７
内においてウェーハ３を水洗いする。制御装置４４は装
置１全体の制御をつかさどる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば洗浄後の半
導体ウェ−ハ、液晶表示装置用の基板及び記録ディスク
用の基板などの被乾燥物を乾燥させるベーパ乾燥装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】洗浄などの処理後の半導体ウェ−ハ（以
下、単にウェーハと呼ぶ）などの被乾燥物を乾燥するた
めの装置として、例えば図１１に示すベーパ乾燥装置１
００が知られている。図１１に例示されたベーパ乾燥装
置１００は、装置１００の外郭を構成する装置本体１０
１と、ウェーハ３を支持する支持装置１０２と、液回収
部１０３などを備えている。

【０００３】前記装置本体１０１は、有機溶剤Ｙを収容
するベーパ槽１０４と、このベーパ槽１０４の外周を包
囲する外槽１０５とを備えた二重構造となっている。有
機溶剤Ｙの一例として、イソプロピルアルコール（isop
ropyl alcohol ：以下ＩＰＡと呼ぶ）が用いられる。ベ
ーパ槽１０４の底部１０６と外槽１０５との間に発熱装
置１０７が設けられている。有機溶剤Ｙは、発熱装置１
０７によって加熱ざれることによって蒸発し、ベーパＶ
を発生する。

【０００４】乾燥されるべきウェーハ３は、ベーパ槽１
０４内に挿入される前に、洗浄工程において、処理液と
してのフッ化水素や純水などの洗浄液によって洗浄され
ているとともに、この洗浄工程後のリンス工程におい
て、処理液としての純水などのリンス液によって、水洗
いされている。

【０００５】このため、ベーパ槽１０４に挿入された直
後のウェーハ３は、その表面に純水などの処理液が付着
しているとともに、比較的温度が低くなっている。さら
に、ウェーハ３は、洗浄工程などにおいてフッ化水素な
どの洗浄液などによって洗浄されているので、その表面
が、疎水性になっているとともに活性化して酸化物など
を生じさせやすくなっている。

【０００６】純水などの処理液が付着したウェーハ３
は、支持装置１０２によって支持され、ベーパ槽１０４
内に挿入されることによって、ベーパＶにさらされる。
この状態になるとウェーハ３の表面において有機溶剤ベ
ーパＶが凝縮し、ウェーハ３の表面に有機溶剤が付着す
る。

【０００７】このため、ウェーハ３の表面に付着してい
た純水などの処理液が、ウェーハ３の表面の有機溶剤と
置換する。図１１中の符号Ｓで示すように、置換した処
理液はウェーハ３の表面から流れ落ち、液回収部１０３
によって回収される。そしてウェーハ３の表面の有機溶
剤Ｙが蒸発することにより、ウェーハ３が短時間に乾燥
する。また、ウェーハ３の表面に付着していた異物であ
るパーティクルは、ウェーハ３の表面から処理液が流れ
落ちる際に、この処理液とともに流れ落ちる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述した従来
のベーパ乾燥装置１００を用いた半導体ウェーハ３の製
造設備においては、リンス工程を行うリンス槽とベーパ
乾燥装置１００とが互いに別体となっている。このた
め、搬送装置などによって、リンス工程後のウェーハ３
を大気中にさらしたままベーパ乾燥装置１００まで搬送
した後、前述したようにウェーハ３の表面に付着してい
る処理液と有機溶剤とを置換してウェーハ３を乾燥して
いる。

【０００９】このとき、ウェーハ３は、その表面が洗浄
工程などにおいて疎水性となっているとともに活性化さ
れているため、リンス槽からベーパ乾燥装置までの間の
搬送の際に自然乾燥される。このとき、ウェーハ３に付
着していた処理液の滴の輪郭に沿って、自然酸化膜すな
わちウォータマークと呼ばれるしみが生じ、好ましくな
い。

【００１０】また、ウェーハ３は、洗浄工程やリンス工
程などにおいて、比較的温度が低い状態となっている。
この比較的温度が低い状態のウェーハ３がベーパ乾燥装
置１００内に挿入されると、ウェーハ３の表面に急激に
ベーパＶが凝縮し、ベーパ槽１０４内のベーパＶの体積
が急激に減少してしまう。発熱装置１０７は有機溶剤Ｙ
を加熱し続けているので、有機溶剤ＹはベーパＶを発生
し続けるが、ウェーハ３全体がベーパＶによって覆われ
るまでに、例えば数十秒程度かかることがある。

【００１１】この場合、全体がベーパＶによって覆われ
るまでに、ウェーハ３は空気にさらされるため、自然乾
燥される状態となる。このため、前述したウォータマー
クと呼ばれるしみが生じ、好ましくない。

【００１２】さらに、前述したリンス工程において、純
水などの処理液中にパーティクルなどが混入しているこ
とがある。この場合、リンス工程の処理液などが付着し
た状態のウェーハ３の表面には、処理液とともにパーテ
ィクルが付着している。前記従来のベーパ乾燥装置１０
０を用いて、パーティクルを除去する際に、このパーテ
ィクルは処理液と置換された処理液とともに流れ落ち
る。しかし、単純に処理液とともに流れ落ちるだけで
は、パーティクルがウェーハ３の表面から充分に除去さ
れないことがあり、好ましくない。

【００１３】そのうえ、前述したように比較的低温な状
態のウェーハ３をベーパ槽１０４内に挿入された直後
に、瞬時に多量の有機溶剤がウェーハ３の表面に凝縮し
て、有機溶剤がウェーハ３の温度を徐々に上昇させなが
ら、処理液と置換される。このため、有機溶剤の使用量
が多くなり、ウェーハ３の洗浄及び乾燥工程にかかるコ
ストが上昇する傾向となっていた。

【００１４】本発明は前記事情に着目してなされたもの
で、その第１の目的とするところは、ウェーハ等の被乾
燥物にウォ−タマークを生じさせないベーパ乾燥装置を
提供することにある。第２の目的は、ウェーハ等の被乾
燥物を乾燥させる乾燥工程において作業工程にかかるコ
ストを抑制することができるベーパ乾燥装置を提供する
ことにある。第３の目的は、ウェーハ等の被乾燥物の表
裏両面から確実にパーティクルを除去することができる
ベーパ乾燥装置を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決し第１の
目的を達成するために、請求項１に記載のベーパ乾燥装
置は、洗浄された被乾燥物を乾燥する装置であって、被
乾燥物を通過させることのできる大きさの開口部を上部
に有しかつ内部に有機溶剤を有するベーパを収容するベ
ーパ槽と、ベーパ槽内に設けられかつ内部に前記被乾燥
物を収容するとともに処理液が供給される内槽と、を備
えたことを特徴としている。

【００１６】請求項２に記載のベーパ乾燥装置は、請求
項１に記載のベーパ乾燥装置において、前記ベーパ槽の
内部に有機溶剤が収容され、かつこのベーパ槽内の有機
溶剤を加熱することによりベーパを発生させる発熱装置
を備えたことを特徴としている。

【００１７】前記第１の目的に加え第２の目的を達成す
るために、請求項３に記載のベーパ乾燥装置は、請求項
２に記載のベーパ乾燥装置において、前記ベーパ槽内の
ベーパに不活性ガスを吹き込む第１の不活性ガス供給手
段を備えたことを特徴としている。

【００１８】前記第１及び第２の目的に加え第３の目的
を達成するために、請求項４に記載のベーパ乾燥装置
は、請求項３に記載のベーパ乾燥装置において、前記被
乾燥物を保持する保持手段と、前記ベーパ槽内の有機溶
剤ベーパとこのベーパの上側に存在する気体との境に、
ベーパと気体との気相界面を形成する界面形成手段と、
前記保持手段によって保持された被乾燥物を、前記気相
界面の下側に挿入した後に上昇させることにより、前記
気相界面に通すことを特徴としている。

【００１９】請求項５に記載のベーパ乾燥装置は、請求
項４に記載のベーパ乾燥装置において、前記界面形成手
段が、前記ベーパ槽の上部からこのベーパ槽内に不活性
ガスを吹き込む第２の不活性ガス供給手段と、前記ベー
パ槽の上部からベーパ槽の内部の気体を排出する排気手
段と、前記ベーパ槽の開口部の近傍に設けられて前記ベ
ーパを凝縮させる冷却手段と、を備え、前記第２の不活
性ガス供給手段と前記排気手段とを制御する制御手段を
備え、この制御手段が、前記排気手段によるベーパ槽内
からの気体の排出量に対応した量の不活性ガスがベーパ
槽内に供給されるように、前記第２の不活性ガス供給手
段を制御することを特徴としている。

【００２０】請求項６に記載のベーパ乾燥装置は、請求
項１ないし請求項５のうちいずれか一項に記載のベーパ
乾燥装置において、前記内槽内に前記処理液が収容さ
れ、かつ前記被乾燥物が内槽内の処理液内に挿入された
際に、前記有機溶剤ベーパが内槽の外表面において凝縮
されて、有機溶剤ベーパの上昇が抑制されることを特徴
としている。

【００２１】請求項１に記載のベーパ乾燥装置は、内部
に有機溶剤を有するベーパを収容するベーパ槽内に処理
液が供給される内槽を設けている。このため、例えばリ
ンス工程などの純水などの処理液によって被乾燥物を水
洗いする工程をベーパ槽内で行うことができる。

【００２２】したがって、乾燥工程の前工程のリンス工
程などが施された被乾燥物を大気中にさらしたまま搬送
する必要がなくなって、乾燥工程の前工程において被乾
燥物の表面が活性化されても、この被乾燥物の表面に自
然酸化膜としてのウォータマークが生じることを確実に
防止できる。

【００２３】請求項２に記載のベーパ乾燥装置は、ベー
パ槽内に有機溶剤を収容しかつ発熱装置がこの有機溶剤
を加熱してベーパを発生させる。このため、有機溶剤を
有するベーパをベーパ乾燥装置とは別体の外部装置で発
生させてベーパ槽内に注入する場合よりも、比較的不純
物が少ないとともに比較的濃度が安定しかつ均一なベー
パを、被乾燥物の乾燥に用いることができる。

【００２４】請求項３に記載のベーパ乾燥装置は、不活
性ガスをベーパに吹き込む第１の不活性ガス供給手段を
備えている。この不活性ガス供給手段は、被乾燥物がベ
ーパ槽内に挿入されたときに、例えば窒素などの不活性
ガスをベーパ槽内に吹き込むためのガス噴射口を備えて
いる。このため、ベーパ槽内のベーパは、この不活性ガ
スによって希釈されつつ、その体積が増加する。

【００２５】洗浄液やリンス液などの処理液などが付着
しかつ低温状態の被乾燥物がベーパ槽内に挿入され、被
乾燥物が有機溶剤ベーパによって覆われたとき、被乾燥
物の表面に有機溶剤ベーパが凝縮する。

【００２６】そして、この凝縮時に、前記第１の不活性
ガス供給手段によって、ベーパ槽内のベーパに不活性ガ
スが供給される。これにより、ベーパが希釈されつつベ
ーパの体積が増加する。このため、被乾燥物の表面に有
機溶剤ベーパが凝縮しても、有機溶剤べーパとこのベー
パの上側の気体との境に形成される気相界面の高さが維
持され、被乾燥物全体をベーパによって覆うことができ
る。

【００２７】したがって、被乾燥物の表面に隙間なく有
機溶剤が付着することとなって、被乾燥物が大気中にさ
らされることがなくなって、この被乾燥物の表面に自然
酸化膜としてのウォータマークが生じることをより一層
確実に防止できる。

【００２８】さらに、被乾燥物を覆う有機溶剤ベーパが
窒素などの不活性ガスによって希釈させるので、被乾燥
物を乾燥させる際に要する有機溶剤の使用量を抑制する
ことができる。したがって、被乾燥物を乾燥させる乾燥
工程において作業にかかるコストを抑制することができ
る。

【００２９】請求項４に記載のベーパ乾燥装置は、ベー
パ槽内に、有機溶剤ベーパとこのベーパの上側に存在す
る気体との境に気相界面を形成する。そして、表面に隙
間なく有機溶剤が付着した被乾燥物をこの気相界面を通
して引き上げる。

【００３０】被乾燥物をベーパ槽内から引き上げる際
に、被乾燥物の表面上に前述した気体と凝縮した有機溶
剤との界面が形成される。前述した有機溶剤の表面張力
に勾配が生じるので、この界面には凝縮した有機溶剤側
に引張られる力が生じる。このため、気相界面に形成さ
れる有機溶剤液層の表面張力によって、被乾燥物に付着
した有機溶剤は擦り落とされる。

【００３１】このとき、パーティクルは、被乾燥物の表
面から遊離して有機溶剤内に存在しているか、または被
乾燥物の表面から遊離しやすい状態で被乾燥物の表面に
付着している。このため、パーティクルは、有機溶剤と
ともに気相界面に形成される有機溶剤液層の表面張力に
よって被乾燥物の表面から擦り落とされる。

【００３２】したがって、ウォータマークを生じさせに
くくかつ作業にかかるコストを抑制できることにくわ
え、確実にパーティクルを除去することができる。

【００３３】請求項５に記載のベーパ乾燥装置は、ベー
パ槽内に不活性ガスを吹き込む第２の不活性ガス供給手
段と、ベーパ槽内の気体を吸入するための排気手段と、
を備えている。乱れのない安定した気相界面を形成する
ために、第２の不活性ガス供給手段による不活性ガスの
供給量と、排気手段による排気量の制御が行われる。

【００３４】すなわち、被乾燥物が気相界面を通って引
き上げられる際に、排気手段によるベーパ槽内の気体の
排出を停止するとともに、第２の不活性ガス供給手段に
よる不活性ガスの供給を停止するなどの不活性ガスの供
給量を減少させる。

【００３５】こうすることにより気相界面が安定するた
め、被乾燥物の表面に付着している有機溶剤とパーティ
クルとを、気相界面における表面張力によって確実に擦
り取ることができる。

【００３６】また、第２の不活性ガス供給手段がベーパ
槽の上部から不活性ガスをベーパ槽内に吹き込むので、
気相界面の上側が不活性ガスで満たされる。このため、
被乾燥物が気相界面を通過した後も不活性ガスで覆われ
るので、より一層ウォータマークが生じることを防止で
きる。さらに、作業にかかるコストを抑制できることに
くわえ、より確実にパーティクルを除去することができ
る。

【００３７】なお、この明細書で言う、不活性ガスと
は、窒素をはじめとして、ヘリウム等の希ガス類元素の
ように、化学的に不活性で、有機溶剤と反応しないガス
を意味している。なお、本明細書で言う純水とは、塵な
どの水以外の物質の混合量を極めて少なくした水を示し
ている。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て、図１から図９を参照して説明する。

【００３９】図１は本発明の一実施形態のベーパ乾燥装
置１の縦断面図を示し、図２ないし図９はベーパ乾燥装
置１を用いた乾燥方法の工程を示している。

【００４０】図１に示すように、ベーパ乾燥装置１は、
装置１の外郭を構成する装置本体４と、保持手段をなす
支持装置５と、搬送手段をなす搬送装置４３と、第１及
び第２の不活性ガス供給手段をそれぞれなす第１及び第
２の不活性ガス供給装置２，４２と、排気手段をなす排
気装置４１と、リンス処理部６と、制御手段をなす制御
装置４４と、を備えている。

【００４１】支持装置５は、被乾燥物の一例としての洗
浄後のウェーハ３を支持する。第１及び第２の不活性ガ
ス供給装置２，４２は、それぞれ装置本体４の内部に不
活性ガス（例えば窒素ガス）を供給する。排気装置４１
は装置本体４の後述するベーパ槽７内の気体（主として
ベーパＶと不活性ガス）を装置本体４の外部に排出する
機能を有している。リンス処理部６は、洗浄後のウェー
ハ３を処理液としての純水などを用いて水洗いする機能
を有している。

【００４２】前記装置本体４は、ベーパ槽７と外槽８と
を有する二重構造となっている。ベーパ槽７は、乾燥槽
として機能する。ベーパ槽７の内部には、イソプロピル
アルコール（ＩＰＡ：isopropyl alcohol ）等の有機溶
剤Ｙが収容される。外槽８はベーパ槽７の外周を包囲し
ている。この外槽８により、ベーパ槽７の内部は、装置
本体４の外部と熱的に遮断される。

【００４３】ベーパ槽７と外槽８の上部には、支持装置
５とウェーハ３が通ることのできる大きさの上部開口
９，１０が形成されている。ベーパ槽７の上部開口９は
本明細書に記した開口部に相当する。また、ベーパ槽７
の上端部１３ｂには、上部開口９を閉じてベーパ槽７の
内部を装置本体４の外部と遮断可能な蓋４５が上部開口
９を開閉自在に取付けられている。

【００４４】ベーパ槽７は有機溶剤Ｙによって腐食され
にくい材料（例えば石英など）からなる。外槽８は、ベ
ーパ槽７の内部を装置本体４の外部と熱的に遮断するた
めに、ステンレス鋼板等などのように熱伝導率の比較的
低い材料からなる。ベーパ槽７と外槽８は、いずれも箱
状に形成されている。

【００４５】ベーパ槽７の底部１１と外槽８との間に
は、発熱装置１２が設けられている。この発熱装置１２
は、ベーパ槽７内の有機溶剤Ｙを加熱して、この有機溶
剤Ｙを有するベーパＶ（図２などに示す）を発生する機
能を有している。発熱装置１２の一例は、周知のプレー
トヒータである。発熱装置１２が有機溶剤Ｙを加熱して
ベーパＶを発生させるため、ペーパ槽７はベーパＶを収
容する。

【００４６】ベーパ槽７に溶剤供給管１４が接続してい
る。溶剤供給管１４は、外槽８を貫通し、装置本体４の
外部に導出されている。溶剤供給管１４は、ベーパ槽７
の内部に有機溶剤Ｙを供給する機能を有している。ベー
パ槽７の下端部１３ａに溶剤排出管４０が接続してい
る。溶剤排出管４０は、外槽８を貫通し、装置本体４の
外部に導出されている。溶剤排出管４０は、ベーパ槽７
内の有機溶剤Ｙを排出する機能を有している。

【００４７】ベーパ槽７の上部開口９の近傍に冷却手段
としての冷却管１６が設けられている。冷却管１６の内
部に、冷却媒体としての冷却水が循環する。冷却管１６
は、ベーパ槽７の内側壁１５に沿ってコイル状に形成さ
れている。冷却管１６は、図５などに示すように、ベー
パ槽７の上部開口９の近傍に存在するべーパＶを冷却し
て液化する機能を有している。従ってこの冷却管１６
は、ベーパ槽７内のベーパＶが上部開口９から出てゆく
ことを防ぐ機能を有している。

【００４８】支持装置５は、図１に示すように、円板状
の複数枚のウェーハ３を同時に保持可能なキャリア部材
２２と、キャリア部材２２を吊持する一対の吊持部材２
３，２４とを備えている。キャリア部材２２は、複数枚
のウェーハ３を垂直に立てた姿勢で、互いに並行でかつ
等間隔に保持する。キャリア部材２２は、図１において
手前側（正面方向）から奥側に亘って一対の引掛け部２
５を有している。

【００４９】吊持部材２３，２４は、上下方向に延びて
いる。吊持部材２３，２４の下端には、互いに向かい合
う一対のフランジ部２７が設けられている。吊持部材２
３，２４が、搬送装置４３によって図１中の矢印Ｋ１に
沿って互いに近接する方向に移動すると、フランジ部２
７をキャリア部材２２の引掛け部２５，２５に係止す
る。キャリア部材２２は、フランジ部２７の上面２６に
よって支持される。吊持部材２３，２４は、キャリア部
材２２の寸法に応じて、図１において手前側から奥側に
わたって、複数対設けられていてもよい。

【００５０】吊持部材２３，２４の上端には、図１中の
一点鎖線Ｐで示すように、搬送装置４３が接続してい
る。搬送装置４３は、吊持部材２３，２４を矢印Ｋで示
す互いに接離する方向に移動させることができる。さら
に、この搬送装置４３は、吊持部材２３，２４を、上下
方向（矢印Ｊで示す方向）及び水平方向（矢印Ｈで示す
方向）に移動させることもできる。

【００５１】従ってキャリア部材２２は、搬送装置４３
によって所望位置に移動させることができる。このキャ
リア部材２２は、上部開口９を通ってベーパ槽７の内部
に降下することができ、かつ、ベーパ槽７の内部から上
部開口９を通って上昇することもできる。

【００５２】搬送装置４３は、キャリア部材２２を上下
方向（矢印Ｊで示す方向）と水平方向（矢印Ｈで示す方
向）に移動させることにより、ウェーハ３を、洗浄機
（図示せず）から乾燥装置１まで移動させる。ウェーハ
３は、搬送装置４３によって、ベーパ槽７及びベーパ室
内槽１７内に挿入された後、ベーパ槽７の内部において
気相界面Ｂを通ってこの気相界面Ｂの上側に位置する気
体中に引き上げられ、さらに上部開口９からベーパ槽７
外へ搬出されて次工程へと搬送される。

【００５３】第１の不活性ガス供給手段２は、ガス供給
管３０と、環状管３１と、この環状管３１に設けた複数
のガス噴射口３２とを備えている。ガス供給管３０の一
端は不活性ガス供給源３３に接続されている。ガス供給
管３０の他端は、環状管３１に接続されている。環状管
３１は、ベーパ槽７の内側壁１５に沿って環状に形成さ
れている。環状管３１は有機溶剤Ｙの液面Ｒとベーパ室
内槽１７との間に位置している。

【００５４】複数のガス噴射口３２は、環状管３１の周
方向（管の長手方向）に所定間隔で設けられている。こ
れらのガス噴射口３２は、オリフィス形状に形成されて
いる。ガス噴射口３２は、互いに向かい合うように環状
管３１の内側を向いているとともに、矢印Ｈに対して有
機溶剤Ｙの液面Ｒに向って傾斜している。

【００５５】図５などに示すように、不活性ガス供給源
３３からガス供給管３０を介して環状管３１に供給され
た不活性ガスＮは、ガス噴射口３２からベーパ槽７内に
噴出して、発熱装置１２によって発生されたベーパＶ内
に噴出する。このように、第１の不活性ガス供給装置２
は、ベーパＶ内に不活性ガスＮを吹き込む。

【００５６】第２の不活性ガス供給装置４２は、ベーパ
槽７の上部としての上端部１３ｂに一端が開口するガス
供給管３４などを備えている。ガス供給管３４は、その
他端が外槽８を貫通して不活性ガス供給源３３に接続し
ている。図２などに示すように、不活性ガス供給源から
ガス供給管３４に供給された不活性ガスＮ１は、ベーパ
槽７の上端部１３ｂからこのベーパ槽７内に噴出して、
気相界面Ｂの上側に供給される。このように、第２の不
活性ガス供給装置４２は、ベーパ槽７の上端部１３ｂか
らベーパ槽７内に不活性ガスＮ１を吹き込む。

【００５７】排気装置４１は、ベーパ槽７に一端が開口
する排気管４６と、この排気管４６の他端側に接続され
た排気弁４７と、を備えている。排気管４６は、冷却管
１６の上方に開口している。排気管４６は、図示しない
吸引装置、例えばバキュームポンプに接続されている。
排気装置４１は、排気弁４７が開いたときに、ベーパ槽
７内の気体を装置本体４の外部へ排出する。この排気装
置４１は、第２の不活性ガス供給装置４２などから供給
された不活性ガスＮ１などや、冷却管１６などによって
液化しきれなかったベーパＶを吸収する。このため、ベ
ーパＶが上部開口９から外部に出てゆくことを、より確
実に防止できる。

【００５８】前記冷却管１６と、第２の不活性ガス供給
装置４２と、排気装置４１とで、気相界面Ｂを形成する
本明細書に記した界面形成手段を構成する。

【００５９】リンス処理部６は、ベーパ槽７の内部に設
けられた内槽としてのベーパ室内槽１７と、このベーパ
室内槽１７の底部に連通する給排液管１８と、ベーパ室
内槽１７の上端部に開口する排液管２０と、を備えてい
る。

【００６０】ベーパ室内槽１７は、有機溶剤Ｙの液面Ｒ
よりも高い位置にある。このベーパ室内槽１７は、上部
に開口部１９を有している。ベーパ室内槽１７及び開口
部１９は、支持装置５によって支持されたウェーハ３
が、支持装置５とともに、ベーパ室内槽１７の内部に侵
入できる大きさに形成されている。

【００６１】給排液管１８の一端は、ベーパ室内槽１７
の底部に接続している。給排液管１８の他端側には弁３
５が接続している。給排液管１８はベーパ槽７と外槽８
とを貫通して図示しない処理液供給源に接続している。
処理液供給源は、給排液管１８にリンス工程に用いられ
る処理液の一例としての純水を供給する。

【００６２】ベーパ室内槽１７と、弁３５との間におい
て、給排液管１８の途中に排液管２１の一端が接続して
いる。排液管２１の他端側には弁３６が接続している。
排液管２１は、装置本体４の外部に向って延びている。

【００６３】排液管２０は、一端がベーパ室内槽１７の
上端部に開口しているとともに、他端がベーパ槽７及び
外槽８を貫通して装置本体４の外部に導出されている。

【００６４】リンス処理部６は、弁３５が開きかつ弁３
６が閉じたときに、処理液供給源から給排液管１８を介
してベーパ室内槽１７内に純水を供給する。ベーパ室内
槽１７の底部から供給された純水は、ベーパ室内槽１７
を満たす。そして、ベーパ室内槽１７から溢れでようと
する純水は、排液管２０を経て装置本体４の外部に排出
される。

【００６５】また、リンス処理部６は、弁３５が閉じか
つ弁３６が開いたときに、ベーパ室内槽１７の純水およ
びウェーハ３から流れ落ちる液体（主として純水及びＩ
ＰＡ）を、給排液管１８及び排液管２１を介して、装置
本体４の外部に排出する。

【００６６】制御装置４４は、周知のＣＰＵ、ＲＯＭ及
びＲＡＭなどを有する演算機能と制御機能とを有する演
算装置である。制御装置４４は、搬送装置４３と、不活
性ガス供給源３３と、排気装置４１と、リンス処理部６
などに電気的に接続され、これら各機器の動作を制御す
ることにより、ベーパ乾燥装置１全体の制御をつかさど
る。

【００６７】例えば、制御装置４４が出力する信号によ
って排気弁４７が開くと、ベーパ槽７内の気体が排気さ
れる。この際に制御装置４４は、不活性ガス供給源３３
に不活性ガスをガス供給管３４に供給させる信号を出力
することにより、所定量の不活性ガスをベーパ槽７の上
端部１３ｂからベーパ槽７内に供給する。

【００６８】制御装置４４が出力する信号によって排気
弁４７が閉じると、ベーパ槽７内の排気は停止する。こ
のとき、制御装置４４は不活性ガス供給源３３にガス供
給管３４への不活性ガスの供給を停止する信号を出力す
ることにより、ベーパ槽７内への不活性ガスの供給を停
止する。

【００６９】このように、制御装置４４は、排気装置４
１による排気量がなくなると第２の不活性ガス供給装置
４２による不活性ガスの供給を停止するなどの不活性ガ
スの供給量を減少させる。制御装置４４は、排気装置４
１によるベーパ槽７内からの気体の排出量に対応した量
の不活性ガスがベーパ槽７内に供給されるように、第２
の不活性ガス供給装置４２を制御する。

【００７０】こうすることによって、ベーパ槽７内、特
に気相界面Ｂの上側が不活性ガスで満たされて、ウェー
ハ３が大気中の酸素などと接触することが防止させると
ともに、ベーパ槽７内に流入する不活性ガスＮ１の流量
と、ベーパ槽７内から排出される気体の流量とがほぼ一
致するため、気相界面Ｂ（図５などに示す）が乱される
ことが防止される。

【００７１】また、制御装置４４が出力する信号によっ
て弁３５を開きかつ弁３６を閉じると、ベーパ室内槽１
７へ純水を供給する。このとき、制御装置４４は不活性
ガス供給源３３にガス供給管３０への不活性ガスの供給
を停止する信号を出力することにより、ベーパ槽７内へ
の不活性ガスの供給を停止した状態を維持する。

【００７２】制御装置４４が出力する信号によって弁３
５を閉じかつ弁３６を開くと、ベーパ室内槽１７内の液
体を排出する。この際、制御装置４４は、不活性ガス供
給源３３に不活性ガスを第１の不活性ガス供給装置２の
ガス供給管３０に供給させる信号を出力することによ
り、所定量の不活性ガスをベーパ槽７内のベーパＶ内に
供給する。

【００７３】こうすることによって、ベーパＶがウェー
ハ３の表裏両面に付着してその体積が急激に減少する場
合において、不活性ガスＮがベーパＶを希釈して、この
ベーパＶの体積を増加させる。

【００７４】次に、前述したベーパ乾燥装置１の作用に
ついて説明する。

【００７５】まず、ウェーハ３などの被乾燥物の搬入を
待つ待機工程において、図２に示すように、ベーパ室内
槽１７には給排液管１８などを介して処理液供給源よ
り、純水が供給されており、このベーパ室内槽１７の開
口部１９からあふれ出ようとする純水は、排液管２０か
ら装置本体４外へと排出されている。

【００７６】このとき、溶剤供給管１４よりベーパ槽７
内に供給されている有機溶剤Ｙが発熱装置１２によって
加熱沸騰されることにより、ベーパ槽７内に有機溶剤Ｙ
のベーパＶが発生する。

【００７７】さらに、同時に不活性ガス供給源３３より
第２の不活性ガス供給装置４２のガス供給管３４を介し
てペーパ槽７内にその上端部から不活性ガスＮ１が供給
されているとともに、排気装置４１の排気管４６を介し
てベーパ槽７内の気体が装置本体４外に排出されてい
る。

【００７８】ベーパＶは、ベーパ槽７の内部において気
液平衡状態になる。ベーパＶの上側には気体としての不
活性ガスＮ１が存在するため、ベーパＶと不活性ガスＮ
１との境に気相界面Ｂが形成される。

【００７９】ベーパ室内槽１７の近傍においては、この
ベーパ室内槽１７内に供給されている純水などによって
ベーパＶが冷却されるため、このベーパ室内槽１７の外
表面などでベーパＶが凝縮する。凝縮して液化したベー
パＶ、すなわち有機溶剤Ｙは、図２から図５及び図８な
いし図９中に符号Ｙ１で示すように、ベーパ槽７内の有
機溶剤Ｙ内に落下する。このため、気相界面Ｂがベーパ
室内槽１７の下端部の近傍に形成される。

【００８０】なお、図２に示す待機工程においては、蓋
４５が上部開口９を閉じた状態となっており、ベーパ槽
７の内部は外部と遮断されている。このため、ベーパ槽
７内においては、気相界面Ｂを境にして、その下側は有
機溶剤Ｙ及びベーパＶが満たされているとともに、上側
は第２の不活性ガス供給装置４２によって供給された不
活性ガスが満たされている。また、主としてベーパ室内
槽１７の外表面にて液化されなかったベーパＶと不活性
ガスとの混合気が排気管４６から装置本体４外へ排出さ
れる。

【００８１】リンス工程において、まず、フッ化水素な
どの洗浄液によって洗浄されたウェーハ３が、図３に示
されるように、支持装置５によって支持された状態で、
装置本体４の上方に搬送されてくるとともに、蓋４５が
ベーパ槽７の上部開口９を解放する。このとき、ウェー
ハ３の表面には、洗浄液とともにパーティクルＰＡが付
着している。

【００８２】このウェーハ３は、図４に示されるように
キャリア部材２２によって支持された状態で、搬送装置
４３によって、上部開口９，１０を通って、ベーパ槽７
内のベーパ室内槽１７内に支持装置５毎挿入される。な
お、ウェーハ３がベーパ室内槽１７内に挿入されると、
蓋４５が閉じられる。

【００８３】このとき、給排液管１８を介してベーパ室
内槽１７内に継続的に純水が供給されており、給排気管
１８とベーパ室内槽１７と排液管２０などの中には、純
水が流れている。ウェーハ３は、ベーパ室内槽１７内に
所定時間保持されており、前述した純水の流れによって
水洗いされて、洗浄液とパーティクルの大部分とが流し
落される。

【００８４】図４に示す状態で所定時間が経過して、リ
ンス工程が終了すると、図５及び図６に示す凝縮工程に
移行する。図５に示すように、弁３５を閉じかつ弁３６
を開いてベーパ室内槽１７内の液体（主として純水）を
装置本体４外へ排出する。このベーパ室内槽１７内の液
体の排出と同時に、不活性ガス供給源３３から不活性ガ
スＮを第１の不活性ガス供給装置２の環状管３１に供給
することにより、不活性ガスＮをガス噴射口３２からベ
ーパ槽７内に噴射する。

【００８５】ベーパＶはこのガスＮによって希釈される
ことにより体積が増加する。しかもこのガスＮは、互い
に向かい合いかつ液面Ｒに向って傾斜した複数のガス噴
射口３２から同時に噴射されるので、各噴射口３２から
出た不活性ガスＮが互いにぶつかり合うとともに液面Ｒ
にぶつかる。

【００８６】このため、図５中に矢印Ｎ２で示すよう
に、ベーパ槽７内にベーパＶの上昇気流が生じるととも
に、ベーパＶとガスＮとがほぼ均一に混じり合う。この
ため、希釈されたベーパＶはその一部がベーパ室内槽１
７の外表面に凝縮して付着しながれも、気相界面Ｂの高
さが強制的に上昇される。

【００８７】すると、気相界面Ｂの上昇に伴って、希釈
されたベーパＶが開口部１９からベー室内槽１７内に侵
入する。ベーパ室内槽１７内の液体の液面の低下に伴っ
て徐々にウェーハ３が露出する。このとき、ウェーハ３
は未だ低温状態にあるため、ウェーハ３の表面において
ベーパＶが急冷される。これにより、瞬時のうちにウェ
ーハ３の表面に有機溶剤ベーパＶが凝縮する。

【００８８】上記のように、ウェーハ３の表面において
有機溶剤ベーパＶが凝縮することにより、有機溶剤の膜
がウェーハ３の表面に形成されると、ウェーハ３の表面
に凝縮した有機溶剤が付着していた純水に溶解する。有
機溶剤が溶解した純水は、ウェーハ３の表面に沿ってベ
ーパ室内槽１７に向かって流れ落ちる。この流れ落ちる
純水と共に、ウェーハ３の表面に付着していたパーティ
クルもベーパ室内槽１７内に流れ落ちる。ベーパ室内槽
１７に入った純水は、給排液管１８を経てベーパ槽７の
外部に排出されるので、ベーパ槽７内の有機溶剤Ｙの純
度はほぼ一定に保たれる。そして、ウェーハ３の表面に
有機溶剤の膜が付着する。このためベーパＶの体積が減
少する。

【００８９】しかし、ベーパ槽７内にはガス噴射口３２
から不活性ガスＮが噴射されているので、ベーパＶはこ
のガスＮによって希釈されることにより体積が増加す
る。しかも、図５中に矢印Ｎ２で示すように、ベーパ槽
７内にベーパＶの上昇気流が生じるとともに、ベーパＶ
とガスＮとがほぼ均一に混じり合う。このため、気相界
面Ｂの高さが、ウェーハ３の表面に付着する前とほぼ同
じレベルに維持され、ウェーハ３はベーパＶに十分覆わ
れた状態となり、ウェーハ３の表面におけるベーパＶの
凝縮がウェーハ全面に達する。

【００９０】なお、不活性ガスＮによって希釈されたベ
ーパＶは、冷却管１６の近傍においては、冷却管１６に
よって冷却されるため、冷却管１６の表面などで凝縮す
る。凝縮して液化したベーパＶ、すなわち有機溶剤Ｙ
は、図５から図７中に符号Ｙ２で示すように、ベーパ槽
７内の有機溶剤Ｙに落下する。このため、気相界面Ｂが
冷却管１６の下端巻回部１６ａの近傍に形成され、ウェ
ーハ３は、気相界面Ｂの下側に位置する。

【００９１】こうして、ベーパ室内槽１７内の液体の液
面の低下に伴って、ウェーハ３の表面に付着した純水が
有機溶剤と置換される。有機溶剤ベーパＶがウェーハ３
の表面全体に凝縮するまで、ガス噴射口３２からベーパ
槽７内に不活性ガスＮが供給され続け、ウェーハ３に付
着した純水が有機溶剤と完全に置換され、図６に示すよ
うに、ウェーハ３の表面全体に有機溶剤の膜が付着す
る。なお、図５から図７に示される平行斜線Ｑは、ウェ
ーハ３の表面に有機溶剤が付着した領域を示している。

【００９２】なお、このとき、ウェーハ３の表面に残留
したパーティクルは、この表面から遊離して凝縮した有
機溶剤中に存在しているとともに、ウェーハ３の表面か
ら遊離しやすい状態で付着している。

【００９３】ウェーハ３の表面全体に有機溶剤の膜が付
着して、ウェーハ３に付着していた純水が有機溶剤ベー
パＶと完全に置換された後、第１及び第２の不活性ガス
供給装置２，４２からのベーパ槽７内への不活性ガス
Ｎ，Ｎ１の供給を停止するとともに、排気装置４１によ
るベーパ槽７内の気体の装置本体４外への排出を停止す
る。こうすることにより、ベーパ槽７内の気相界面Ｂの
動揺が抑制され、安定した気相界面Ｂが得られる。

【００９４】そののち、上昇工程において、ベーパ槽７
内において、搬送装置４３によって支持装置５を上昇さ
せることにより、ウェーハ３を、キャリア部材２２ご
と、気相界面Ｂ下からゆっくりと取り出す。すなわちウ
ェーハ３は、図６に示す位置から、図７に示す位置を経
て、図８に示す位置まで上昇する。この上昇の途中で、
ウェーハ３は、図７に示すように気相界面Ｂを通過す
る。気相界面Ｂを通過する際のウェーハ３の上昇速度
は、好ましくは５mm／sec から１０mm／sec の範囲であ
り、さらに好ましい上昇速度は７mm／sec 前後である。

【００９５】ウェーハ３が気相界面Ｂを通過するとき、
ウェーハ３の表面上において、不活性ガスと凝縮した有
機溶剤との界面Ｂ１が生じる。この界面Ｂ１には、凝縮
した有機溶剤の表面張力に勾配が生じ、ウェーハ３の表
面上に付着した有機溶剤に凝縮した有機溶剤側に引張ら
れる力が生じる。このため、ウェーハ３の表面上に付着
していた有機溶剤が、気相界面Ｂを通過する際に擦り落
される。

【００９６】このように、ウェーハ３が気相界面Ｂを通
過するとき、ウェーハ３の表面に凝縮していた有機溶剤
は、気相界面Ｂに形成されているＩＰＡ液層の表面張力
によって擦り落とされ、図７中の符号Ｙ３で示すように
ベーパ室内槽１７内に落ちる。このため、気相界面Ｂの
上に出たウェーハ３は、短時間で乾燥する。

【００９７】また、ウェーハ３の表面に遊離し有機溶剤
中に存在しているパーティクル及びウェーハ３の表面か
ら遊離しやすい状態でこの表面に付着しているパーティ
クルは、ウェーハ３の表面から擦り落とされた有機溶剤
と一緒にベーパ室内槽１７に落下し、給排液管１８及び
排液管２１を経て装置本体４の外部に排出される。

【００９８】ウェーハ３の下端が気相界面Ｂの上に出た
後に、図８に示すように、ベーパ室内槽１７内に給排液
管１８などを介して純水を供給する。また、同時に、第
２の不活性ガス供給装置４２のガス供給管３４を介して
不活性ガスＮ１をベーパ槽７内に供給するとともに、排
気弁４７を開けることにより、ベーパ槽７内の気体を装
置本体４の外部へ排出する。

【００９９】すると、ベーパ槽７内のベーパＶは、排気
管４６を通して装置本体４の外部に排出されるととも
に、ベーパ室内槽１７内の純水によって冷却されかつベ
ーパ室内槽１７の外表面において凝縮する。このため、
気相界面Ｂが低下して、ウェーハ３が不活性ガスによっ
て覆われる。

【０１００】ベーパ槽７内が不活性ガスによって満たさ
れた後、図９に示すように、蓋４５を開いて、ベーパ槽
７の上部開口９からウェーハ３を搬送装置４３によって
支持装置５毎装置本体４の外部に搬出して、次工程に移
送する。

【０１０１】本実施形態によれば、ベーパ槽７内にリン
ス工程に用いる処理液の一例としての純水が供給される
ベーパ室内槽１７を設けて、このベーパ乾燥装置１内に
おいて、ウェーハ３を水洗いするリンス工程と、水洗い
後のウェーハ３を乾燥する乾燥工程と、を行う。このた
め、リンス工程と乾燥工程との間において、ウェーハ３
を大気中にさらしまま搬送する必要がなくなる。したが
って、ウェーハ３の表裏両面に、自然酸化膜としてのウ
ォータマークが生じることを確実に防止することができ
る。

【０１０２】また、ベーパ槽７内に有機溶剤Ｙが収容さ
れかつ発熱装置１２がこの有機溶剤Ｙを加熱してベーパ
Ｖを発生させるので、ベーパ乾燥装置１とは別体の外部
装置を用いてベーパＶを発生させてベーパ槽７内に供給
する方法よりも、不純物が少なくかつ濃度が安定しかつ
均一なベーパＶをウェーハ３の乾燥に用いることができ
る。

【０１０３】水洗いされた低温状態のウェーハ３にベー
パＶが凝縮する際に、第１の不活性ガス供給装置２によ
ってベーパ槽７内に不活性ガスＮを供給することによ
り、ベーパＶの体積を増加させる。しかもガス噴射口３
２からベーパ槽７内に噴出する不活性ガスＮによって、
ベーパＶの上昇気流を生じさせる。

【０１０４】このため、ウェーハ３の表面においてベー
パＶの有機溶剤成分が凝縮し続けても、気相界面Ｂの高
さが低下することを回避でき、その結果、ベーパＶによ
ってウェーハ３を十分に覆うことができる。

【０１０５】このため、ウェーハ３に付着している純水
などの処理液は、短時間に確実に有機溶剤と置換するの
で、ウェーハ３の全表面に有機溶剤がむらなく付着す
る。そしてこの状態でウェーハ３が気相界面Ｂを通るよ
うにしているため、ウェーハ３に付着していた有機溶剤
を気相界面Ｂの表面張力によって確実に擦り落とすこと
ができる。ウェーハ３に付着していたパーティクルも、
有機溶剤と共にウェーハ３から確実に除去される。しか
もベーパ槽７内ではウェーハ３の周囲が不活性ガス雰囲
気となるので、ウェーハ３の表面に自然酸化膜であるウ
ォ−タマークが生じることを確実に防止できる。

【０１０６】ウェーハ３の表面に凝縮した有機溶剤を気
相界面Ｂによって擦り落とす際には、排気弁４７を閉じ
かつ第１及び第２の不活性ガス供給装置２，４２からの
不活性ガスＮ，Ｎ１の供給を停止している。このため気
相界面Ｂが安定し、この気相界面Ｂによって、ウェーハ
３の表面の有機溶剤とパーティクルを確実に除去するこ
とができる。

【０１０７】また、本発明において、支持装置５は、図
１０に示すように、ウェーハ３を保持しかつ吊持する一
対の吊持部材５１，５２と、上下一対の連結部材５３，
５４を備えて構成されても良い。これらの吊持部材５
１，５２は、搬送装置４３に接続している。吊持部材５
１，５２は、それぞれ上下方向に延びている。

【０１０８】吊持部材５１，５２は、同時に吊持する複
数のウェーハ３のうち最も手前側に位置するウェーハ３
の手前側と、最も奥側に位置するウェーハ３の奥側とに
それぞれ設けられている。吊持部材５１，５２は、同時
に吊持するウェーハ３の枚数等に応じて、手間側から奥
側まで間にさらに設けられても良い。

【０１０９】正面側に位置する吊持部材５１，５２と、
奥側に位置する吊持部材５１，５２とは互いに上下一対
の連結部材５３，５４によって連結されている。連結部
材５３，５４は、吊持部材５１，５２の下端部に上下方
向に離間して設けられている。下方に位置する連結部材
５３，５３間の間隔が上方に位置する連結部材５４，５
４の間隔より狭くなるように吊持部材５１，５２に連結
している。

【０１１０】各々の連結部材５３，５４は、吊持部材５
１，５２が左右からウェーハ３を挾持できるようにウェ
ーハ３の外周部に沿って切欠かれた切欠き部５５を備え
ている。これらの切欠き部５５は、同時に保持するウェ
ーハ３の枚数に応じて設けられている。

【０１１１】前述した構成によって、吊持部材５１，５
２は、複数のウェーハ３を左右から挾持し、上部開口９
からベーパ槽７内にウェーハ３を出し入れ自在としか
つ、ベーパ室内槽１７内にウェーハ３を保持する。

【０１１２】本発明の乾燥装置および乾燥方法は、前述
した実施形態に制約されるものではない。本発明は半導
体ウェーハ以外の被乾燥物、例えば、液晶表示装置用の
ガラス基板や、光記録ディスクおよび磁気記録ディスク
等の記録ディスク用基板などの各種基板を乾燥する用途
にも適用できる。

【０１１３】

【発明の効果】請求項１に記載の本発明によると、乾燥
工程の前工程のリンス工程などが施された被乾燥物を大
気中にさらしままま搬送する必要がなくなる。したがっ
て、被乾燥物の表面にウォータマークが生じにくくな
る。

【０１１４】請求項２に記載の本発明によると、請求項
１の効果にくわえ、比較的不純物が少ないとともに比較
的濃度が安定かつ均一なベーパを、被乾燥物の乾燥に用
いることができる。

【０１１５】請求項３に記載の本発明によると、被乾燥
物の表面に有機溶剤ベーパが凝縮しても、有機溶剤べー
パとこのベーパの上側の空気との境に形成される気相界
面の高さが維持される。このため、被乾燥物全体をベー
パによって覆うことができる。

【０１１６】したがって、被乾燥物の表面にウォータマ
ークをより一層生じさせにくくなるとともに、被乾燥物
を覆う有機溶剤ベーパが窒素などの不活性ガスによって
希釈させるので、乾燥工程において作業工程にかかるコ
ストを抑制することができる。

【０１１７】請求項４に記載の本発明によると、表面に
有機溶剤が付着した被乾燥物を気相界面に通して引き上
げる。気相界面に形成される有機溶剤液層の表面張力に
よって、被乾燥物に付着したパーティクルは有機溶剤と
ともに擦り落とされる。

【０１１８】したがって、ウォータマークを生じさせに
くくかつ作業工程にかかるコストを抑制できることにく
わえ、確実にパーティクルを除去することができる。

【０１１９】請求項５に記載の本発明によると、被乾燥
物が気相界面を通って引き上げられる際に、気相界面が
安定した状態に保たれるので、被乾燥物の表面に付着し
ている有機溶剤とパーティクルとを、気相界面における
表面張力によって確実に擦り取ることができる。

【０１２０】したがって、ウォータマークを生じさせに
くくかつ作業工程にかかるコストを抑制できることにく
わえ、より確実にパーティクルを除去することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態のベーパ乾燥装置の縦断面
図。

【図２】同実施形態のベーパ乾燥装置においてウェーハ
をベーパ槽に挿入する前の待機状態を示す図。

【図３】同実施形態のベーパ乾燥装置においてウェーハ
をベーパ槽に挿入する状態を示す縦断面図。

【図４】同実施形態のベーパ乾燥装置においてウェーハ
がベーパ室内槽に挿入された状態を示す縦断面図。

【図５】同実施形態のベーパ乾燥装置においてベーパ室
内槽内の液体を排出する状態を示す縦断面図。

【図６】同実施形態のベーパ乾燥装置においてウェーハ
の表面に有機溶剤が凝縮した状態を示す縦断面図。

【図７】同実施形態のベーパ乾燥装置においてウェーハ
に付着している有機溶剤が気相界面によって擦り取られ
る様子を示す縦断面図。

【図８】同実施形態のベーパ乾燥装置においてウェーハ
が気相界面の上方に移動した状態を示す縦断面図。

【図９】同実施形態のベーパ乾燥装置においてウェーハ
が搬送装置によって次工程に移送される直前の状態を示
す縦断面図。

【図１０】同実施形態のベーパ乾燥装置において支持装
置の変形例を示す図。

【図１１】従来のベーパ乾燥装置を示す縦断面図。

【符号の説明】

１…ベーパ乾燥装置 ２…第１の不活性ガス供給装置（第１の不活性ガス供給
手段） ３…半導体ウェーハ（被乾燥物） ５…支持装置（保持手段） ７…ベーパ槽 ９…上部開口（開口部） １２…発熱装置 １６…冷却管（冷却手段） １７…ベーパ室内槽（内槽） ４１…排気装置（排気手段） ４２…第２の不活性ガス供給装置（第２の不活性ガス供
給手段） ４４…制御装置（制御手段） Ｙ…有機溶剤 Ｖ…ベーパ Ｎ，Ｎ１…不活性ガス Ｂ…気相界面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3L113 AA01 AC08 AC21 AC24 AC28 AC45 AC46 AC48 AC49 AC53 AC57 AC63 AC67 AC73 AC75 AC76 AC79 AC90 BA34 DA06 DA10 DA24

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】洗浄された被乾燥物を乾燥する装置であっ
   て、 被乾燥物を通過させることのできる大きさの開口部を上
   部に有しかつ内部に有機溶剤を有するベーパを収容する
   ベーパ槽と、 ベーパ槽内に設けられかつ内部に前記被乾燥物を収容す
   るとともに処理液が供給される内槽と、 を備えたことを特徴とするベーパ乾燥装置。
2. 【請求項２】前記ベーパ槽の内部に有機溶剤が収容さ
   れ、かつこのベーパ槽内の有機溶剤を加熱することによ
   りベーパを発生させる発熱装置を備えたことを特徴とす
   る請求項１記載のベーパ乾燥装置。
3. 【請求項３】前記ベーパ槽内のベーパに不活性ガスを吹
   き込む第１の不活性ガス供給手段を備えたことを特徴と
   する請求項２記載のベーパ乾燥装置。
4. 【請求項４】前記被乾燥物を保持する保持手段と、 前記ベーパ槽内の有機溶剤ベーパとこのベーパの上側に
   存在する気体との境に、ベーパと気体との気相界面を形
   成する界面形成手段と、 前記保持手段によって保持された被乾燥物を、前記気相
   界面の下側に挿入した後に上昇させることにより、前記
   気相界面に通すことを特徴とする請求項３記載のベーパ
   乾燥装置。
5. 【請求項５】前記界面形成手段が、前記ベーパ槽の上部
   からこのベーパ槽内に不活性ガスを吹き込む第２の不活
   性ガス供給手段と、前記ベーパ槽の上部からベーパ槽の
   内部の気体を排出する排気手段と、前記ベーパ槽の開口
   部の近傍に設けられて前記ベーパを凝縮させる冷却手段
   と、を備え、 前記第２の不活性ガス供給手段と前記排気手段とを制御
   する制御手段を備え、 この制御手段が、前記排気手段によるベーパ槽内からの
   気体の排出量に対応した量の不活性ガスがベーパ槽内に
   供給されるように、前記第２の不活性ガス供給手段を制
   御することを特徴とする請求項４記載のベーパ乾燥装
   置。
6. 【請求項６】前記内槽内に前記処理液が収容され、かつ
   前記被乾燥物が内槽内の処理液内に挿入された際に、前
   記有機溶剤ベーパが内槽の外表面において凝縮されて、
   有機溶剤ベーパの上昇が抑制されることを特徴とする請
   求項１ないし請求項５のうちいずれか一項に記載のベー
   パ乾燥装置。