JPS62293723A - 基板乾燥装置および基板乾燥方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 産業上の利用分訂 この発明は簡単な方法でしかも基板表面に汚染物質が付
着しない基板乾燥装置および乾燥方法に関する。

従来の技術 従来、シリコン基板を乾燥する方法として第４図に示す
ような遠心力を利用する装置が市販されている。

モーター１ＶＣシヤフト２が連結され、さらに基板ホル
ダー３が連結され、カバー４が設けられている基板乾燥
装置がある。その乾燥装置に洗浄済みの基板５を基板ホ
ルダー３にセットする。そしてモーター１を回転させれ
ば基板ホルダー３が回転し、遠心力により基板６に付着
している洗浄液が飛び、基板５を乾燥することができる
。

発明が解決しようとする問題点 従来の遠心力を利用した乾燥装置を用いる乾燥方法では
基板が高速で回転するために基板と窒素ガスもしくは空
気との摩擦によって、基板に静工気が生じ、空気中のダ
ストが基板に付着しやすくなる。また、回転によって乾
燥装置内のダストが舞い上り、基板にダストが付着する
という問題がある。さらに洗浄および乾燥を自動化させ
ようとする場合、回転しても基板を破損させることのな
いように自動的に基板をセットするのは困難であるので
、洗浄、乾燥工程を自動化するのは困難である。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決する本発明の技術的手段は、洗浄槽中
に加熱した液があり、前記液面上の所定の領域が前記液
温よりも低い領域を設けて蒸気洗浄をした後、高温領域
で前記基板に付着した液を蒸発させて乾燥させる。

作用 この技術的手段による作用は次のようになる。

すなわち、基板にダストが付着することなく乾燥するこ
とができる。また、洗浄、乾燥工程の自動化が容易にな
る。

実施例 以下、本発明の第１の実施例として、加熱した液に純水
を用いてシリコン基板を乾燥する場合を第１図にもとづ
いて説明する。

石英製の洗浄槽１０の中に超純水１１を入れ、深さがシ
リコン基板１２の直径と同じになるようにする。そして
超純水１１を加熱するだめのヒーター１３が設けられて
いる。また、超純水１１の水面の高さからシリコン基板
１２の直径の１〜１．６倍の高さまで、洗浄槽１ｏの周
囲に冷却用コイル１４を設ける。冷却用コイル１４の上
部にシリコン基板１２の直径の１〜２倍の幅で、洗浄槽
１゜の周囲にヒーター１５を設ける。

そうすると洗浄槽１０内の温度は下記のようになる。即
ち、超純水１１はヒーター１３により９゜〜１ｏＯ°Ｃ
になっている。そして超純水１１の表面から冷却用コイ
ルの端までの距離Ｘは超純水１１よシも低い６０〜８０
°Ｃになるように冷却用コイル内に冷却水を流して低温
領域１６を形成する。

さらにヒーター１６により低温領域１６上に１１０〜１
５０’Ｃの高温領域１７を形成する。

シリコン基板の乾燥方法は、まず水洗の終了したシリコ
ン基板１２を低温領域１６で保持する。

そうすると、超純水１１で蒸発した水蒸気が低温領域１
６で液化する。そうすると、低温領域１６に保持されて
いるシリコン基板１２表面で液化し、液化した水滴が超
純水１１中に落下してシリコン基板１２表面が液化した
水滴で洗浄される。

次にシリコン基板を高温領域１７に保持すると基板表面
に付着している水分が蒸発し、シリコン基板１２を乾燥
することができる。

上記のシリコン基板１２は一枚一枚洗浄、乾燥しても良
いし、カセ１７）に入れて複数枚洗浄、乾燥しても良い
。

第２の実施例として、冷却コイル、ヒーターを洗浄槽内
に入れた場合を第２図に示す。

低温領域１６は洗浄槽１０内に石英製冷却コイル２Ｑを
入れ、冷却コイル内に冷却水を流すことにより実現する
。また高温領域１７は石英パイプ２１内にヒーター２２
を入れて実現する。そしてシリコン基板１２はまず冷却
コイル２ｏの間に入れて蒸気洗浄後、高温領域１７のヒ
ーター２２の間に入れて乾燥する。

上記第１．第２の実施例において超純水１１を第３図に
示すように温水１１を入口側３Ｑから入れ、出口側３１
から出して流水でシリコン基板１２を洗浄した後、第１
の実施例もしくは第２の実施例で乾燥する。

上記第１．第２の実施例において、超純水１１が蒸発し
た水蒸気が低温領域１６で液化し、シリコン基板１２表
面を洗浄することができる。水蒸気が液化した液で洗浄
するので液中に微粒子の含まれていない液で基板を洗浄
することができる。

また、超純水の代りにイソプロピルアルコール。

フロン等の有機液体を用いても良い。

発明の効果 以上のように本発明によれば、微粒子の含まれていない
液体で基板洗浄をした後、乾燥することができるので微
粒子付着のない乾燥をすることができる。

また、回転機構なしに基板を乾燥することができるので
、乾燥の際基板：て微粒子が付着することはない。さら
に回転機構がないので自動化が容易である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例における洗浄。 乾燥装置の断面図、第２図は本発明の第２の実施例にお
ける洗浄・乾燥装置の断面図、第３図は流水で洗浄する
場合について説明する断面図、第４図は従来の遠心力に
よる基板乾燥装置の断面図である。 １０・・・・・・洗浄槽、１１・・・・・・超純水、１
６・・・・・・低温領域、１７・・・・・・高温領域、
１３・・・・・・超純水を加熱するだめのヒーター、１
４．２０・・・・・・低温領域を形成するための冷却コ
イル、１５，２２・・・・・・高温領域を形成するため
のヒーター。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名菓　
１　図 第２図 第３図 第４図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）洗浄槽中に加熱した液を入れ、前記液面上の所定
   の領域に前記液温よりも低い低温領域を設け、前記低温
   領域上の所定の領域に前記液温よりも高い高温領域を設
   けてなる基板乾燥装置。
2. （２）洗浄槽の加熱した液の上部の領域が前記液の温度
   よりも低温になっていて、前記液から発生した蒸気が前
   記基板上で液化させて、液化した液体が前記液中に落下
   させる工程、前記基板を前記液の温度よりも高い領域に
   置き、前記基板に付着している液体を蒸発させて乾燥さ
   せる工程とを有する基板乾燥方法。
3. （３）洗浄槽内に加熱した液中に基板を浸積した後、前
   記加熱した液上の低温領域中に置く特許請求の範囲第２
   項に記載の基板乾燥方法。