JPH01282821A - 蒸気乾燥装置 - Google Patents
蒸気乾燥装置Info
- Publication number
- JPH01282821A JPH01282821A JP11319188A JP11319188A JPH01282821A JP H01282821 A JPH01282821 A JP H01282821A JP 11319188 A JP11319188 A JP 11319188A JP 11319188 A JP11319188 A JP 11319188A JP H01282821 A JPH01282821 A JP H01282821A
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- Japan
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- vapor
- ipa
- carrier
- semiconductor wafer
- isopropyl alcohol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体デバイスの製造工程のウェット処理さ
れた後の乾燥に用いられる蒸気乾燥装置に関するのであ
る。
れた後の乾燥に用いられる蒸気乾燥装置に関するのであ
る。
半導体ウェハー上の付着水を脱水乾燥させる方法には、
遠心乾燥蒸気乾燥、熱風乾燥等の方法があり、半導体ウ
ェハーの大口径化に伴ない動的に乾燥を行なう遠心乾燥
は使用されなくなり静的に乾燥を行なう蒸気乾燥が使用
される様に移行しつつある。蒸気乾燥に用いられる有機
溶媒は、イソプロピルアルコール（以下ＩＰＡとする）
を用いるのが一般的である。ＩＰＡを用いる蒸気乾燥は
、ＩＰＡが水と相溶性があるため濡れた半導体ウェハー
を直接ＩＰＡ蒸気に当てることができ、半導体ウェハー
表面に凝縮したＩＰＡで水が置換され半導体ウェハー温
度がＩＰＡ蒸気温度に上昇すれば乾燥が完了する。
遠心乾燥蒸気乾燥、熱風乾燥等の方法があり、半導体ウ
ェハーの大口径化に伴ない動的に乾燥を行なう遠心乾燥
は使用されなくなり静的に乾燥を行なう蒸気乾燥が使用
される様に移行しつつある。蒸気乾燥に用いられる有機
溶媒は、イソプロピルアルコール（以下ＩＰＡとする）
を用いるのが一般的である。ＩＰＡを用いる蒸気乾燥は
、ＩＰＡが水と相溶性があるため濡れた半導体ウェハー
を直接ＩＰＡ蒸気に当てることができ、半導体ウェハー
表面に凝縮したＩＰＡで水が置換され半導体ウェハー温
度がＩＰＡ蒸気温度に上昇すれば乾燥が完了する。
従来の蒸気乾燥装置の構造は、第３図に示すように、Ｉ
ＰＡ蒸気槽３に入れられたＩＰＡ６はヒーター８により
加熱され蒸気となる。ＩＰＡの蒸気は、蒸気冷却管４に
より再度液化される。そこで、あるラインを境に下方で
はＩＰＡ蒸気濃度が高く、上方では大気となるペーパー
ライン５が形成される。水に濡れたキャリア２と半導体
ウェハー１は、キャリア昇降機９により上方よりベーパ
ーライン５を通りＩＰＡ蒸気濃度が高い領域に入る。半
導体ウェハー１とＩＰＡ蒸気の温度差及び濃度差により
キャリア２及び半導体ウェハー１の表面にてＩＰＡが凝
縮し水と溶けあい、しずくとなり凝縮液受皿７に落ちる
。上述の凝縮落下をくり返すことにより水はＩＰＡで置
換される。−定時間経過後キャリア昇降機９によりペー
パーライン５を通り大気に出され、置換されたＩＰＡは
揮発し乾燥する。
ＰＡ蒸気槽３に入れられたＩＰＡ６はヒーター８により
加熱され蒸気となる。ＩＰＡの蒸気は、蒸気冷却管４に
より再度液化される。そこで、あるラインを境に下方で
はＩＰＡ蒸気濃度が高く、上方では大気となるペーパー
ライン５が形成される。水に濡れたキャリア２と半導体
ウェハー１は、キャリア昇降機９により上方よりベーパ
ーライン５を通りＩＰＡ蒸気濃度が高い領域に入る。半
導体ウェハー１とＩＰＡ蒸気の温度差及び濃度差により
キャリア２及び半導体ウェハー１の表面にてＩＰＡが凝
縮し水と溶けあい、しずくとなり凝縮液受皿７に落ちる
。上述の凝縮落下をくり返すことにより水はＩＰＡで置
換される。−定時間経過後キャリア昇降機９によりペー
パーライン５を通り大気に出され、置換されたＩＰＡは
揮発し乾燥する。
上述した従来の蒸気乾燥装置は、ＩＰＡを加熱し蒸気に
する機能は１ケ所のみでさらにＩＰＡ蒸気槽３の底部に
しか取付けられていなかった。そのため、ＩＰＡ蒸気内
に温度の近い半導体ウェハー１．キャリア２が入りＩＰ
Ａの凝縮が開始されると同時に半導体ウェハー近傍のＩ
ＰＡ蒸気濃度及び温度は急激に低下し、凝縮する量が極
端に低下し、ひいては、乾燥時間が長くなり置換が不完
全となるという欠点があった。
する機能は１ケ所のみでさらにＩＰＡ蒸気槽３の底部に
しか取付けられていなかった。そのため、ＩＰＡ蒸気内
に温度の近い半導体ウェハー１．キャリア２が入りＩＰ
Ａの凝縮が開始されると同時に半導体ウェハー近傍のＩ
ＰＡ蒸気濃度及び温度は急激に低下し、凝縮する量が極
端に低下し、ひいては、乾燥時間が長くなり置換が不完
全となるという欠点があった。
本発明の蒸気乾燥装置は、半導体ウェハー上の付着水を
蒸気潜熱の小さい有機溶媒に置換し、その有機溶媒を蒸
発させることによって該半導体ウェハーを乾燥させる蒸
気乾燥装置において、有機溶媒の蒸気を強制的に送り込
む機能を有することを特徴とする。
蒸気潜熱の小さい有機溶媒に置換し、その有機溶媒を蒸
発させることによって該半導体ウェハーを乾燥させる蒸
気乾燥装置において、有機溶媒の蒸気を強制的に送り込
む機能を有することを特徴とする。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の概要図である。図に示すよ
うにＩＰＡ蒸気槽３とは別に蒸気槽１０がありゲートバ
ルブ１３を通しキャリア２の上方に配管されている。蒸
気槽１０にはＩＰＡＩＩが入りヒーター１２により加熱
され、ＩＰＡ蒸気ができる。半導体ウェハー１．キャリ
ア２がキャリア昇降機９により下降すると同時にゲート
バルブ１３が開き、半導体ウェハー１の上方よりＩＰＡ
蒸気を吹き付けられＩＰＡの凝縮は低下する事なく置換
は進行する。
うにＩＰＡ蒸気槽３とは別に蒸気槽１０がありゲートバ
ルブ１３を通しキャリア２の上方に配管されている。蒸
気槽１０にはＩＰＡＩＩが入りヒーター１２により加熱
され、ＩＰＡ蒸気ができる。半導体ウェハー１．キャリ
ア２がキャリア昇降機９により下降すると同時にゲート
バルブ１３が開き、半導体ウェハー１の上方よりＩＰＡ
蒸気を吹き付けられＩＰＡの凝縮は低下する事なく置換
は進行する。
第２図は本発明の他の実施例を示す概要図である。蒸気
槽１０より送風機１４を通しキャリア２の上方に配管さ
れている。蒸気槽１０にはＩＰＡｌｌが入り、ヒーター
１２により加熱され、ＩＰＡ蒸気ができる。半導体ウェ
ハー１．キャリア２がキャリア昇降機９により加工する
と同時に１４送風機が動作し、半導体ウェハー１の上方
より工ＰＡ蒸気を吹き付けられる。
槽１０より送風機１４を通しキャリア２の上方に配管さ
れている。蒸気槽１０にはＩＰＡｌｌが入り、ヒーター
１２により加熱され、ＩＰＡ蒸気ができる。半導体ウェ
ハー１．キャリア２がキャリア昇降機９により加工する
と同時に１４送風機が動作し、半導体ウェハー１の上方
より工ＰＡ蒸気を吹き付けられる。
以上説明したように本発明は、本体とは別の蒸気槽を取
付けＩＰＡの蒸気を強制的に送り込む機能を有する事に
より、ＩＰＡ蒸気内に温度の低い半導体ウェハーキャリ
アが入りＩＰＡの凝縮が開始されると同時にＩＰＡ蒸気
濃度及び温度は急激に低下する事を防止する効果を有し
、ひいては乾燥時間を短かくし置換が完全とすることが
可能となる。
付けＩＰＡの蒸気を強制的に送り込む機能を有する事に
より、ＩＰＡ蒸気内に温度の低い半導体ウェハーキャリ
アが入りＩＰＡの凝縮が開始されると同時にＩＰＡ蒸気
濃度及び温度は急激に低下する事を防止する効果を有し
、ひいては乾燥時間を短かくし置換が完全とすることが
可能となる。
第１図は本発明の一実施例を示す概要図、第２図は本発
明の他の実施例を示す概要図、第３図は従来例を示す概
要図である。 １・・・・・・半導体ウェハー、２・・・・・・キャリ
ア、３・・・・・・ＩＰＡ蒸気槽、４・・・・・・蒸発
冷却管、５・・・・・・ペーパーライン、６・・・・・
・ＩＰＡ、７・・・・・・凝縮液受皿、８・・・・・・
ヒーター、９・・・・・・キャリア昇降機、１０・・・
・・・蒸気槽、１１・・・・・・ＩＰＡ、１２・・・・
・・ヒーター、１３・・・・・・ゲートバルブ、１４・
・・・・・送風機。 代理人 弁理士 内 原 音
明の他の実施例を示す概要図、第３図は従来例を示す概
要図である。 １・・・・・・半導体ウェハー、２・・・・・・キャリ
ア、３・・・・・・ＩＰＡ蒸気槽、４・・・・・・蒸発
冷却管、５・・・・・・ペーパーライン、６・・・・・
・ＩＰＡ、７・・・・・・凝縮液受皿、８・・・・・・
ヒーター、９・・・・・・キャリア昇降機、１０・・・
・・・蒸気槽、１１・・・・・・ＩＰＡ、１２・・・・
・・ヒーター、１３・・・・・・ゲートバルブ、１４・
・・・・・送風機。 代理人 弁理士 内 原 音
Claims (1)
- 半導体ウェハー上の付着水を蒸発潜熱の小さい有機溶
媒に置換し、その有機溶媒を蒸発させることによって該
半導体ウェハーを乾燥させる蒸気乾燥装置において、有
機溶媒の蒸気を強制的に送り込む機能を有することを特
徴とする蒸気乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11319188A JPH01282821A (ja) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | 蒸気乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11319188A JPH01282821A (ja) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | 蒸気乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01282821A true JPH01282821A (ja) | 1989-11-14 |
Family
ID=14605862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11319188A Pending JPH01282821A (ja) | 1988-05-09 | 1988-05-09 | 蒸気乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01282821A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381931A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-12 | Hitachi Ltd | 乾燥装置 |
-
1988
- 1988-05-09 JP JP11319188A patent/JPH01282821A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381931A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-12 | Hitachi Ltd | 乾燥装置 |
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