JPH06252115A - 被洗浄物の洗浄方法 - Google Patents
被洗浄物の洗浄方法Info
- Publication number
- JPH06252115A JPH06252115A JP3322293A JP3322293A JPH06252115A JP H06252115 A JPH06252115 A JP H06252115A JP 3322293 A JP3322293 A JP 3322293A JP 3322293 A JP3322293 A JP 3322293A JP H06252115 A JPH06252115 A JP H06252115A
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- JP
- Japan
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- cleaned
- cleaning
- bubbles
- cleaning liquid
- boiling
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 物理的な力を利用して効果的且つ短時間で、
しかも省エネルギーで洗浄し得る被洗浄物の洗浄方法を
提供することにある。 【構成】 減圧雰囲気中で洗浄液２を沸騰させながらそ
の沸騰により洗浄液２中に発生する泡７を利用して被洗
浄物３の洗浄を行なう。それにより、洗浄液２本来の沸
騰点まで加熱せしめることなく沸騰させて該洗浄液２中
に泡を発生させることができ、そして、洗浄液２中の泡
は浮上力のもとで被洗浄物３の表面に衝突しながら、即
ち物理的な力が被洗浄物３の表面に作用して該表面に付
着している汚れを強力に剥して取り除くことができる。
しかも省エネルギーで洗浄し得る被洗浄物の洗浄方法を
提供することにある。 【構成】 減圧雰囲気中で洗浄液２を沸騰させながらそ
の沸騰により洗浄液２中に発生する泡７を利用して被洗
浄物３の洗浄を行なう。それにより、洗浄液２本来の沸
騰点まで加熱せしめることなく沸騰させて該洗浄液２中
に泡を発生させることができ、そして、洗浄液２中の泡
は浮上力のもとで被洗浄物３の表面に衝突しながら、即
ち物理的な力が被洗浄物３の表面に作用して該表面に付
着している汚れを強力に剥して取り除くことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被洗浄物の洗浄方法に
係り、例えば半導体シリコンウェハやガラスフォトマス
ク等の半導体材料をそのエッチング工程やレジスト剥離
工程等へと順次搬送せしめてそれらの処理を行なうため
に、多数枚の半導体材料を収納した状態で前記各工程へ
と搬送するために使用されているテフロン樹脂からなる
カセット（キャリアとも称されている）やその他の材料
を洗浄する洗浄方法に関するものである。
係り、例えば半導体シリコンウェハやガラスフォトマス
ク等の半導体材料をそのエッチング工程やレジスト剥離
工程等へと順次搬送せしめてそれらの処理を行なうため
に、多数枚の半導体材料を収納した状態で前記各工程へ
と搬送するために使用されているテフロン樹脂からなる
カセット（キャリアとも称されている）やその他の材料
を洗浄する洗浄方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及びその問題点】従来、この種の被洗浄物
の洗浄は、被洗浄物を温水や薬品等に侵漬させた状態で
洗浄ブラシで擦ったり、或いは適宜の圧力で温水や薬品
等を被洗浄物に吹き掛けながら行なっていた。しかし乍
ら、この様な従来の洗浄方法では、時間が掛かるばかり
か、複雑な形状を有する即ち凸凹の激しい表面を有する
被洗浄物やポーラス製の被洗浄物等にあっては凸凹な表
面に付着している汚れや内部の穴に入り込んだ汚れを確
実に洗浄して除去することができない。又、温水を用い
ての洗浄時には洗浄時間が掛かるために、所定温度の温
水を製造するその熱エネルギーの無駄が多い等の問題を
有していた。
の洗浄は、被洗浄物を温水や薬品等に侵漬させた状態で
洗浄ブラシで擦ったり、或いは適宜の圧力で温水や薬品
等を被洗浄物に吹き掛けながら行なっていた。しかし乍
ら、この様な従来の洗浄方法では、時間が掛かるばかり
か、複雑な形状を有する即ち凸凹の激しい表面を有する
被洗浄物やポーラス製の被洗浄物等にあっては凸凹な表
面に付着している汚れや内部の穴に入り込んだ汚れを確
実に洗浄して除去することができない。又、温水を用い
ての洗浄時には洗浄時間が掛かるために、所定温度の温
水を製造するその熱エネルギーの無駄が多い等の問題を
有していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこの様な従来
事情に鑑みてなされたもので、物理的な力を利用して効
果的且つ短時間で、しかも省エネルギーで洗浄し得る被
洗浄物の洗浄方法の提供を目的とする。
事情に鑑みてなされたもので、物理的な力を利用して効
果的且つ短時間で、しかも省エネルギーで洗浄し得る被
洗浄物の洗浄方法の提供を目的とする。
【０００４】
【課題を達成するための手段】上記目的を達成するため
に本発明が講じる技術的手段は、減圧雰囲気中で洗浄液
を沸騰させながらその沸騰により洗浄液中に発生する泡
を利用して被洗浄物の洗浄を行なう様にしたことを特徴
とする。
に本発明が講じる技術的手段は、減圧雰囲気中で洗浄液
を沸騰させながらその沸騰により洗浄液中に発生する泡
を利用して被洗浄物の洗浄を行なう様にしたことを特徴
とする。
【０００５】
【作 用】而して、上記した本発明の技術的手段によ
れば、減圧雰囲気中で洗浄液を沸騰されることから、洗
浄液本来の沸騰点まで加熱せしめることなく沸騰させて
該洗浄液中に泡を発生させることができる。洗浄液中の
泡は浮上力のもとで被洗浄物の表面に衝突しながら、即
ち物理的な力が被洗浄物の表面に作用して該表面に付着
している汚れを強力に剥して取り除く。
れば、減圧雰囲気中で洗浄液を沸騰されることから、洗
浄液本来の沸騰点まで加熱せしめることなく沸騰させて
該洗浄液中に泡を発生させることができる。洗浄液中の
泡は浮上力のもとで被洗浄物の表面に衝突しながら、即
ち物理的な力が被洗浄物の表面に作用して該表面に付着
している汚れを強力に剥して取り除く。
【０００６】
【実 施 例】本発明の実施の一例を以下に説明する
と、図１は本実施例ので、１は洗浄液２を貯溜すると共
に被洗浄物３を侵漬する洗浄槽、４は槽１内を適宜の減
圧雰囲気まで減圧せしめる減圧装置、５は槽１内洗浄液
２を沸騰させるべく加熱せしめる加熱装置である。
と、図１は本実施例ので、１は洗浄液２を貯溜すると共
に被洗浄物３を侵漬する洗浄槽、４は槽１内を適宜の減
圧雰囲気まで減圧せしめる減圧装置、５は槽１内洗浄液
２を沸騰させるべく加熱せしめる加熱装置である。
【０００７】洗浄槽１は、上部を解放させた適宜の大き
さ例えばで半導体シリコンウェハやガラスフォトマスク
等の半導体材料をそのエッチング工程やレジスト剥離工
程等へと順次搬送せしめてそれらの処理を行なうため
に、多数枚の半導体材料を収納した状態で前記各工程へ
と搬送するために使用されているテフロン樹脂からなる
カセット等の被洗浄物３を洗浄液２中に完全に侵漬させ
た状態で収容し得る程度の大きさに形成する。そして、
槽１内を減圧装置４により減圧せしめた際に外気が流入
しない様に上部開口部と、この開口部を塞ぐ蓋体1aとを
構成し、気密状態にて洗浄槽１の上部開口部を閉鎖し得
る様に形成する。洗浄液２としては、被洗浄物３の材質
等に合わせて市販されているものを任意に選択するもの
であるが、本実施例では温水や薬液（中性洗剤など）を
用いる。
さ例えばで半導体シリコンウェハやガラスフォトマスク
等の半導体材料をそのエッチング工程やレジスト剥離工
程等へと順次搬送せしめてそれらの処理を行なうため
に、多数枚の半導体材料を収納した状態で前記各工程へ
と搬送するために使用されているテフロン樹脂からなる
カセット等の被洗浄物３を洗浄液２中に完全に侵漬させ
た状態で収容し得る程度の大きさに形成する。そして、
槽１内を減圧装置４により減圧せしめた際に外気が流入
しない様に上部開口部と、この開口部を塞ぐ蓋体1aとを
構成し、気密状態にて洗浄槽１の上部開口部を閉鎖し得
る様に形成する。洗浄液２としては、被洗浄物３の材質
等に合わせて市販されているものを任意に選択するもの
であるが、本実施例では温水や薬液（中性洗剤など）を
用いる。
【０００８】減圧装置４は、真空ポンプを具備する周知
の構造を呈し、洗浄槽１の周囲適宜箇所の壁面に亘り吸
引管６を配管せしめて該洗浄槽１に接続し、被洗浄物３
を槽１内液中に侵漬させ、開口部を蓋体1aにて閉鎖せし
めた後、洗浄槽１内を減圧せしめる様になっている。洗
浄槽１内の減圧圧力は−250mmHg 〜−750mmHg 位とす
る。この−250mmHg 〜−750mmHg 位の減圧雰囲気中で、
洗浄液２として温水を用いた場合、その沸騰温度は15℃
〜90℃である。加熱装置５は、ヒーター等の周知の構造
を呈し、洗浄槽１の壁面や図示した如く底部に備えて、
槽１内液が沸騰するまで加熱する。
の構造を呈し、洗浄槽１の周囲適宜箇所の壁面に亘り吸
引管６を配管せしめて該洗浄槽１に接続し、被洗浄物３
を槽１内液中に侵漬させ、開口部を蓋体1aにて閉鎖せし
めた後、洗浄槽１内を減圧せしめる様になっている。洗
浄槽１内の減圧圧力は−250mmHg 〜−750mmHg 位とす
る。この−250mmHg 〜−750mmHg 位の減圧雰囲気中で、
洗浄液２として温水を用いた場合、その沸騰温度は15℃
〜90℃である。加熱装置５は、ヒーター等の周知の構造
を呈し、洗浄槽１の壁面や図示した如く底部に備えて、
槽１内液が沸騰するまで加熱する。
【０００９】次に、以上の如く構成された洗浄装置によ
る被洗浄物３の洗浄方法を説明すれば、被洗浄物３を槽
１内の洗浄液２中に侵漬させ、開口部を蓋体1aにて閉鎖
せしめた後、減圧装置４により洗浄槽１内を減圧せしめ
て該槽１内を減圧雰囲気中に保つ。洗浄槽１内を減圧せ
しめた後、加熱装置５により槽１内の洗浄液２を沸騰す
る温度まで加熱する。この時、洗浄液２は本来の沸騰点
に達する前に沸騰を起こして該洗浄液２中には泡７が発
生し、洗浄液２中の泡７は浮上力のもとで被洗浄物３の
表面に衝突しながら、即ち物理的な力が凸凹の激しい表
面を有する被洗浄物３の凸凹な表面や内部の穴に作用し
て該表面に付着している汚れや穴内に入り込んだ汚れを
強力に剥して確実に取り除く。洗浄が終了した被洗浄物
３は図２に例示した如く減圧乾燥室８内に入れて減圧乾
燥装置８による減圧力により乾燥させたり、或いは温風
乾燥、遠心乾燥（スピンドルドライヤ）により乾燥させ
るものである。
る被洗浄物３の洗浄方法を説明すれば、被洗浄物３を槽
１内の洗浄液２中に侵漬させ、開口部を蓋体1aにて閉鎖
せしめた後、減圧装置４により洗浄槽１内を減圧せしめ
て該槽１内を減圧雰囲気中に保つ。洗浄槽１内を減圧せ
しめた後、加熱装置５により槽１内の洗浄液２を沸騰す
る温度まで加熱する。この時、洗浄液２は本来の沸騰点
に達する前に沸騰を起こして該洗浄液２中には泡７が発
生し、洗浄液２中の泡７は浮上力のもとで被洗浄物３の
表面に衝突しながら、即ち物理的な力が凸凹の激しい表
面を有する被洗浄物３の凸凹な表面や内部の穴に作用し
て該表面に付着している汚れや穴内に入り込んだ汚れを
強力に剥して確実に取り除く。洗浄が終了した被洗浄物
３は図２に例示した如く減圧乾燥室８内に入れて減圧乾
燥装置８による減圧力により乾燥させたり、或いは温風
乾燥、遠心乾燥（スピンドルドライヤ）により乾燥させ
るものである。
【００１０】尚、上記した実施例にあっては被洗浄物３
として、半導体材料をそのエッチング工程やレジスト剥
離工程等へと搬送するテフロン樹脂からなるカセットの
場合で説明したが、被洗浄物３としてはこれに限定され
るものでなく、自動車部品等の機械部品一般や、或いは
食卓用の食器等の洗浄も本発明は対象としているもので
ある。
として、半導体材料をそのエッチング工程やレジスト剥
離工程等へと搬送するテフロン樹脂からなるカセットの
場合で説明したが、被洗浄物３としてはこれに限定され
るものでなく、自動車部品等の機械部品一般や、或いは
食卓用の食器等の洗浄も本発明は対象としているもので
ある。
【００１１】
【発明の効果】本発明の洗浄方法は叙上の如く、減圧雰
囲気中で洗浄液を沸騰させながらその沸騰により洗浄液
中に発生する泡を利用して被洗浄物の洗浄を行なう様に
したから、洗浄液中の泡は浮上力のもとで被洗浄物の表
面に衝突しながら、即ち物理的な力が凸凹の激しい表面
を有する被洗浄物の凸凹な表面や内部の穴に作用して該
表面に付着している汚れや穴内に入り込んだ汚れを強力
に剥して確実に取り除くことができる。従って、物理的
な力を利用して効果的且つ短時間で被洗浄物を洗浄を行
なうことができる。しかも、洗浄液本来の沸騰点まで加
熱せしめることなく沸騰させて該洗浄液中に泡を発生さ
せることができることから、熱エネルギーが従来方法に
比べて大幅に削減することができ、省エネルギーで洗浄
し得る。
囲気中で洗浄液を沸騰させながらその沸騰により洗浄液
中に発生する泡を利用して被洗浄物の洗浄を行なう様に
したから、洗浄液中の泡は浮上力のもとで被洗浄物の表
面に衝突しながら、即ち物理的な力が凸凹の激しい表面
を有する被洗浄物の凸凹な表面や内部の穴に作用して該
表面に付着している汚れや穴内に入り込んだ汚れを強力
に剥して確実に取り除くことができる。従って、物理的
な力を利用して効果的且つ短時間で被洗浄物を洗浄を行
なうことができる。しかも、洗浄液本来の沸騰点まで加
熱せしめることなく沸騰させて該洗浄液中に泡を発生さ
せることができることから、熱エネルギーが従来方法に
比べて大幅に削減することができ、省エネルギーで洗浄
し得る。
【図１】 本発明の洗浄方法を実施する洗浄装置の基本
構成を示した概略図
構成を示した概略図
【図２】 洗浄後の被洗滌物の乾燥を行なう乾燥装置を
示した概略図
示した概略図
１…洗浄槽 ２…洗浄
液 ３…被洗滌物 ４…減圧
装置
液 ３…被洗滌物 ４…減圧
装置
Claims (1)
- 【請求項１】 減圧雰囲気中で洗浄液を沸騰させながら
その沸騰により洗浄液中に発生する泡を利用して被洗浄
物の洗浄を行なう様にしたことを特徴とする被洗浄物の
洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3322293A JPH06252115A (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | 被洗浄物の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3322293A JPH06252115A (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | 被洗浄物の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06252115A true JPH06252115A (ja) | 1994-09-09 |
Family
ID=12380426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3322293A Pending JPH06252115A (ja) | 1993-02-23 | 1993-02-23 | 被洗浄物の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06252115A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009055834A3 (en) * | 2007-10-27 | 2009-06-11 | Hyperflo Llc | Cyclic nucleation process |
| WO2013102857A1 (en) * | 2012-01-02 | 2013-07-11 | Hyperflo Llc | Methods and systems for cleaning for cyclic nucleation transport (cnx) |
| WO2014146555A1 (zh) * | 2013-03-19 | 2014-09-25 | 北京银河之舟环保科技有限公司 | 用于洗涤、消毒和灭菌的可控泡沫清洗方法及设备 |
| JP2017069529A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 |
| WO2017184650A3 (en) * | 2016-04-19 | 2017-12-14 | Malvern Instruments Incorporated | Differential scanning calorimetry method and apparatus |
| CN111167780A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-05-19 | 瀚天天成电子科技（厦门）有限公司 | 一种调压清洗设备 |
-
1993
- 1993-02-23 JP JP3322293A patent/JPH06252115A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009055834A3 (en) * | 2007-10-27 | 2009-06-11 | Hyperflo Llc | Cyclic nucleation process |
| WO2013102857A1 (en) * | 2012-01-02 | 2013-07-11 | Hyperflo Llc | Methods and systems for cleaning for cyclic nucleation transport (cnx) |
| WO2014146555A1 (zh) * | 2013-03-19 | 2014-09-25 | 北京银河之舟环保科技有限公司 | 用于洗涤、消毒和灭菌的可控泡沫清洗方法及设备 |
| JP2017069529A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 |
| WO2017184650A3 (en) * | 2016-04-19 | 2017-12-14 | Malvern Instruments Incorporated | Differential scanning calorimetry method and apparatus |
| US10386315B2 (en) | 2016-04-19 | 2019-08-20 | Malvern Panalytical Inc. | Differential scanning calorimetry method and apparatus |
| CN111167780A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-05-19 | 瀚天天成电子科技（厦门）有限公司 | 一种调压清洗设备 |
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