JPH07222961A - 洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents

洗浄方法及び洗浄装置

Info

Publication number
JPH07222961A
JPH07222961A JP4311694A JP4311694A JPH07222961A JP H07222961 A JPH07222961 A JP H07222961A JP 4311694 A JP4311694 A JP 4311694A JP 4311694 A JP4311694 A JP 4311694A JP H07222961 A JPH07222961 A JP H07222961A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
tank
liquid
cleaning liquid
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4311694A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2554017B2 (ja
Inventor
Teruo Hattori
照夫 服部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kimura Chemical Plants Co Ltd
Original Assignee
Kimura Chemical Plants Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kimura Chemical Plants Co Ltd filed Critical Kimura Chemical Plants Co Ltd
Priority to JP6043116A priority Critical patent/JP2554017B2/ja
Publication of JPH07222961A publication Critical patent/JPH07222961A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2554017B2 publication Critical patent/JP2554017B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 炭化水素系洗浄液を用いて被洗浄物を効率よ
く洗浄することが可能な洗浄方法及び洗浄装置を提供す
る。 【構成】 炭化水素系の洗浄液1を入れた洗浄槽2の気
相中に被洗浄物(洗浄治具3)を保持し、真空(減圧)
下に、洗浄槽2の気相中に洗浄液蒸気を供給して、リン
ス洗浄を行いつつ被洗浄物を加温するリンス洗浄・加温
工程と、洗浄槽2内の真空度をリンス洗浄・加温工程の
真空度より上昇させ、所定の温度にまで加温された被洗
浄物を洗浄槽2内の洗浄液1中に浸漬して、加温された
被洗浄物の表面より洗浄液1を沸騰バブリングさせて洗
浄を行う浸漬洗浄工程とを組み合わせる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本願発明は、洗浄方法及び洗浄装
置に関し、詳しくは、炭化水素系洗浄液を用いて電子部
品、機械部品などの種々の部品や製品(被洗浄物)を洗
浄するための洗浄方法及び洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
電子部品や機械部品などを洗浄するための工業用洗浄液
としては、フロン系洗浄液や、トリクロロエタンなどの
塩素系溶剤が用いられてきた。しかし、これらの工業用
洗浄液には、オゾン層の破壊や地下水の汚染、あるいは
作業環境の悪化などを引き起こすという問題点があり、
その使用が規制されつつある。そのため、近年、他の洗
浄液として、炭化水素系の洗浄液を用いる方法が提案、
実施されている。
【0003】そして、炭化水素系の洗浄液を用いて、よ
り効果的な洗浄を行うために、超音波振動を印加した
り、揺動したりしつつ洗浄を行う方法が提案、実施され
ている。
【0004】しかし、この洗浄方法においても、被洗浄
物の種類などによっては必ずしも十分な洗浄効果を得る
ことができない場合があり、さらに洗浄効率に優れた洗
浄方法が要求されている。
【0005】本願発明は、上記要求に応えるものであ
り、炭化水素系洗浄液を用いて被洗浄物を効率よく洗浄
することが可能な洗浄方法及び洗浄装置を提供すること
を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願発明の洗浄方法は、炭化水素系の洗浄液を用い
て被洗浄物を洗浄する洗浄方法において、洗浄液を入れ
た洗浄槽の気相中に被洗浄物を保持し、真空(減圧)下
に、洗浄槽の気相中に洗浄液蒸気を供給して、リンス洗
浄を行いつつ被洗浄物を加温するリンス洗浄・加温工程
と、洗浄槽内の真空度を前記リンス洗浄・加温工程の真
空度より上昇させ、所定の温度にまで加温された被洗浄
物を洗浄槽内の洗浄液中に浸漬して、加温された被洗浄
物の表面より洗浄液を沸騰バブリングさせて洗浄を行う
浸漬洗浄工程とを含むことを特徴としている。
【0007】また、上記洗浄方法の浸漬洗浄工程におい
て、さらに、洗浄液中で被洗浄物を揺動して洗浄する揺
動洗浄と、超音波振動を印加して洗浄する超音波振動洗
浄を行うことを特徴としている。なお、本願発明の洗浄
方法において、揺動とは、振動や振盪、あるいは回転な
どを含む広い概念である。
【0008】さらに、洗浄後に被洗浄物を洗浄槽内の洗
浄液中から気相中に引き上げて、真空吸引することによ
り、被洗浄物に付着した洗浄液を蒸発させて除去する乾
燥工程を含むことを特徴としている。
【0009】さらに、前記リンス洗浄・加温工程や乾燥
工程において、前記洗浄槽から排出される洗浄液蒸気を
冷却器に導き、これを、汚れ洗浄液中の水などの低沸点
物質を凝縮させることなく、気体として真空排気するこ
とが可能な温度に冷却して凝縮させることにより再生洗
浄液として回収することを特徴としている。
【0010】また、本願発明の洗浄装置は、上記の洗浄
方法を実施するための洗浄装置であって、炭化水素系の
洗浄液を入れて被洗浄物の洗浄を行う洗浄槽と、被洗浄
物を、洗浄槽内の洗浄液に浸漬したり洗浄液から引き上
げたりする昇降手段と、洗浄液を加熱、蒸発させて、洗
浄液蒸気を前記洗浄槽の気相側に供給する蒸発槽と、前
記洗浄槽に真空ラインを介して接続された、系内を所定
の真空度になるように真空吸引する真空吸引手段と、前
記洗浄槽と前記真空吸引手段との間の真空ラインに配設
され、前記洗浄槽から排出される洗浄液蒸気を所定の温
度に冷却して凝縮させるとともに、必要に応じて洗浄槽
内の洗浄液を導いて冷却する冷却器とを具備することを
特徴としている。
【0011】なお、上記の本願発明において、被洗浄物
とは、被洗浄物自体はもちろん、例えば洗浄かごなどの
洗浄治具に入れられた被洗浄物をも含む概念である。
【0012】
【作用】リンス洗浄・加温工程では、洗浄液を入れた洗
浄槽の気相中に保持された被洗浄物が、真空(減圧)下
に、洗浄液蒸気によりリンス洗浄されつつ、所定の温度
に加温される。そして、浸漬洗浄工程では、前記リンス
洗浄・加温工程よりも真空度が高い状態(すなわち洗浄
液の沸点を低下させた状態)で、所定の温度にまで加温
された被洗浄物が洗浄槽内の洗浄液中に浸漬されること
により、被洗浄物の表面で洗浄液が沸騰バブリングす
る。
【0013】このように、本願発明の洗浄方法において
は、リンス洗浄及び被洗浄物の加温と浸漬洗浄(沸騰バ
ブリング洗浄)とが効率よく組み合わされており、通常
のリンス洗浄や浸漬洗浄などの洗浄方法では落ちなかっ
た汚れを沸騰バブリング洗浄によって除去して、被洗浄
物を極めて効率よく洗浄することができるようになる。
【0014】また、浸漬洗浄工程において、さらに、洗
浄液中で被洗浄物を揺動して洗浄する揺動洗浄と、超音
波振動を印加して洗浄する超音波振動洗浄を行うことに
より、洗浄効率をさらに向上させることができる。
【0015】なお、揺動洗浄と超音波振動洗浄は、同時
に行ってもよく、また、別々に行ってもよい。
【0016】さらに、洗浄後に被洗浄物を洗浄槽内の洗
浄液中から気相中に引き上げて、真空吸引し、被洗浄物
に付着した洗浄液を蒸発させて除去する乾燥工程を組み
合わせることにより、一つの洗浄槽内で、被洗浄物の洗
浄から乾燥までを一貫して行うことが可能になる。
【0017】また、洗浄槽から排出される洗浄液蒸気を
冷却器に導き、これを、水などの低沸点物質を凝縮させ
ることなく、気体として真空排気することが可能な温度
に冷却して凝縮させることにより、汚れ洗浄液中の水な
どを含まない清浄な再生洗浄液を回収することが可能に
なる。
【0018】また、炭化水素系の洗浄液を入れて被洗浄
物の洗浄を行う洗浄槽と、被洗浄物の昇降手段と、洗浄
液を蒸発させて洗浄液蒸気を洗浄槽の気相側に供給する
蒸発槽と、系内を所定の真空度になるように真空吸引す
る真空吸引手段と、洗浄槽から排出される洗浄液蒸気を
所定の温度に冷却して凝縮させるとともに、必要に応じ
て洗浄槽内の洗浄液を導いて冷却する冷却器とを組み合
わせた洗浄装置を用いることにより、上記本願発明の洗
浄方法を確実に実施することが可能になり、本願発明の
洗浄方法を実効あらしめることができる。
【0019】
【実施例】以下、本願発明の実施例を図に基づいて説明
する。図1は、本願発明の一実施例にかかる洗浄方法を
実施するのに用いた洗浄装置を示す図である。
【0020】この洗浄装置は、被洗浄物の洗浄と乾燥を
行う洗浄槽(洗浄乾燥槽)2、被洗浄物(図示せず)を
入れた洗浄治具3を洗浄槽2内の洗浄液1に浸漬したり
洗浄液1から引き上げたりする昇降手段4、洗浄液1を
加熱、蒸発させて洗浄液蒸気を洗浄槽2の気相側に供給
する蒸発槽5、洗浄槽2に真空ライン6を介して接続さ
れた、系内を所定の真空度になるように真空吸引する真
空吸引手段7、洗浄槽2と真空吸引手段7との間の真空
ライン6に配設され、洗浄槽2から排出される洗浄液蒸
気を所定の温度に冷却して凝縮させるとともに、必要に
応じて洗浄槽2内の洗浄液1を導いて冷却する冷却器8
を備えて構成されている。
【0021】さらに、洗浄槽2には、洗浄治具3を出し
入れする際に開閉される真空シャッター9、洗浄治具3
を載置、固定する洗浄台10、洗浄槽2内で洗浄治具3
を回転、揺動させる回転揺動手段11、超音波振動洗浄
を行うための超音波振動子12が配設されている。な
お、超音波振動子12は、洗浄槽2の下面側に設けられ
た振動子槽12a内に張り込まれた水中に没するように
配設されている。また、洗浄槽2には、洗浄液1の溢流
及び蒸発槽5で発生した洗浄液蒸気の供給のための管1
3、洗浄槽2の真空を破るための窒素供給用の管15が
接続されており、管13及び管15にはそれぞれ弁1
4、弁(窒素供給弁)16が設けられている。
【0022】また、蒸発槽5には、洗浄液を加温し、蒸
発させるためのスチームヒータ17、液面制御警報器2
0が配設されている。
【0023】さらに、この洗浄装置は、洗浄液を冷却器
8に送液し、冷却して循環するための循環ポンプ18、
洗浄液中の固形物を分離除去するためのフィルタ19を
備えているとともに、真空・温度・液面などを制御する
ための制御警報計器や、洗浄液・廃液・水道水の連結管
ノズルなどが配設されている。
【0024】次に、上記洗浄装置を用いて被洗浄物を洗
浄する場合の手順について説明を行う。但し、被洗浄
物、洗浄治具、洗浄液及び処理量などは以下の通りであ
る。 被洗浄物 : 電子部品のリードフレーム 洗浄治具 : 角型かご 洗浄液 : 炭化水素系洗浄液 処理量 : 6洗浄治具/hr
【0025】(1)各手動弁を閉とする。 (2)各制御警報計器を所定の条件に設定する。 (3)洗浄槽2と蒸発槽5の間の弁14を開とする。 (4)洗浄液供給弁21を開けて、蒸発槽5の液面制御警
報器20の上限警報が発せられるまで、洗浄槽2を経由
して蒸発槽5に洗浄液を張り込んだ後、洗浄液供給弁2
1及び弁14を閉とする。 (5)冷水供給弁22を開き、冷却器8に冷水を通して冷
却する。 (6)洗浄槽2の昇降手段4を作動させ、洗浄台10を上
限まで上昇させる。 (7)真空シャッター駆動モータ9aを作動させ、真空シ
ャッター9を開とする。 (8)洗浄台10に、被洗浄物が入れられた洗浄治具3を
載置し、固定する。 (9)真空シャッター駆動モータ9aを作動させ、真空シ
ャッター9を閉とする。 (10)真空吸引手段7を運転して、洗浄槽2、冷却器8を
真空(減圧)にする(真空度:30Torr)。 (11)洗浄槽2と蒸発槽5の間の弁14を開とし、全系を
真空(減圧)にする(真空度:30Torr)。 (12)洗浄槽2と循環ポンプ18の間の弁23と、循環ポ
ンプ18とフィルタ19の間の弁24を開とする。 (13)循環ポンプ18を作動させ、洗浄液のろ過、冷却を
行う。 (14)スチーム弁25を開にして、蒸発槽5のスチームヒ
ータ17にスチームを供給し、洗浄液1を加熱、蒸発さ
せて洗浄液蒸気を洗浄槽2内に供給し、洗浄治具3内の
被洗浄物(図示せず)をリンス洗浄しつつ、加温する。 (15)洗浄槽2の洗浄台10が所定の温度に達した後(こ
のとき、洗浄治具3内の被洗浄物も加温されている(被
洗浄物温度:75℃))、洗浄槽2と蒸発槽5の間の弁
14を閉とし、洗浄槽2内の真空度を上昇させる(例え
ば真空度:10Torr)とともに、昇降手段4により洗浄
台10を下限まで下降させ、被洗浄物を洗浄液1に浸漬
し、被洗浄物の表面で沸騰バブリングを生じさせながら
浸漬洗浄(沸騰バブリング洗浄)を行う(この間に洗浄
液温度はある程度低下する)。 (16)次いで、洗浄槽2内の真空度を下降させ(真空度3
0Torr)、必要に応じて洗浄液1を冷却器8に導いて所
定の温度に冷却するとともに、回転揺動手段11を作動
させ、洗浄台10を揺動または回転させながら所定時間
浸漬洗浄を行う(洗浄液温度:40℃)。 (17)それから、超音波振動子12を入れた振動子槽12
aに冷水を供給し、超音波振動子12を水没させて冷却
する。 (18)回転揺動手段11を停止し、超音波振動子12を作
動させ、所定時間超音波振動洗浄を行う(洗浄液温度:
40℃)。 (19)次いで、超音波振動子12の作動を停止し、回転揺
動手段11を作動させ、洗浄台10を揺動させる。 (20)昇降手段4を作動させて洗浄台10を上限まで上昇
させるとともに、洗浄槽2と蒸発槽5の間の弁14を開
とし、所定時間リンス洗浄を行う(真空度:30Torr,
洗浄液蒸気温度75℃)。 (21)リンス洗浄後、洗浄槽2と蒸発槽5の間の弁14を
閉とし、真空制御弁26を全開にして、洗浄槽2をさら
に真空吸引する(真空度:5Torr)ことにより、所定時
間真空乾燥を行う(被洗浄物温度:75℃→約50
℃)。 (22)乾燥完了後、真空制御弁26を閉とする。 (23)窒素供給弁16を開とし、洗浄槽2に、大気圧とな
るまで窒素ガスを供給する。 (24)真空シャッター9を開く。 (25)洗浄台10上の洗浄治具3を取り外す。 (26)未洗浄の洗浄対象物が入れられた別の洗浄治具を洗
浄台10に載置、固定する。 (27)真空シャッター9を閉とする。 (28)真空制御弁26を開とする。 (29)洗浄槽2と蒸発槽5の間の弁14を閉とする。 (30)以後、上記(15)〜(29)の手順により洗浄、乾燥を行
【0026】なお、蒸発槽5の液面制御警報器20の下
限警報または、中限警報が作動した場合には、真空制御
弁26を閉とし、窒素供給弁16を開として、洗浄槽
2、蒸発槽5、冷却器8などの全系を大気圧とし、洗浄
液補給または廃液抜取りを行う。
【0027】また、この洗浄装置を停止する際には、各
モーターを停止し、各弁を閉とした後、各部を停止す
る。
【0028】なお、上記の手順は、沸騰バブリング洗浄
を一度だけ行う場合のものであるが、上記(15)〜(20)の
操作を繰り返すことにより、リンス洗浄とバブリング洗
浄を繰り返して行うことも可能である。
【0029】なお、上記実施例の洗浄方法においては、
洗浄槽2から排出される洗浄液蒸気を冷却器8に導き、
これを、水などの低沸点物質を凝縮させることなく、気
体として真空排気することが可能な所定の温度(例え
ば、真空度30Torrで、温度40℃)に冷却して凝縮さ
せるようにしているので、汚れ洗浄液中の水などを含ま
ない清浄な再生洗浄液を回収することができる。
【0030】なお、この発明は、上記実施例に限定され
るものではなく、リンス洗浄・加温工程や洗浄液を沸騰
バブリングさせて洗浄を行う浸漬洗浄工程の具体的な条
件、揺動洗浄や超音波振動洗浄、あるいは乾燥工程の真
空度などの具体的な条件、冷却器の運転条件、さらに
は、この発明の洗浄方法を実施するための洗浄装置の細
部の構成などに関し、発明の要旨の範囲内において、種
々の応用、変形を加えることが可能である。
【0031】
【発明の効果】上述のように、本願発明の洗浄方法にお
いては、リンス洗浄及び被洗浄物の加温と浸漬洗浄(沸
騰バブリング洗浄)とが効率よく組み合わされており、
通常のリンス洗浄や浸漬洗浄などの洗浄方法では除去し
にくかった汚れを沸騰バブリング洗浄により除去して被
洗浄物を極めて効率よく洗浄することができる。
【0032】さらに、浸漬洗浄工程において、洗浄液中
で被洗浄物を揺動して洗浄する揺動洗浄と、超音波振動
を印加して洗浄する超音波振動洗浄を行うことにより、
洗浄効率をさらに向上させることができる。
【0033】さらに、洗浄後に被洗浄物を洗浄槽内の洗
浄液中から気相中に引き上げて、真空吸引し、被洗浄物
に付着した洗浄液を蒸発させて除去する乾燥工程を組み
合わせることにより、一つの洗浄槽内で、被洗浄物の洗
浄から乾燥までを一貫して行うことが可能になる。
【0034】また、洗浄槽から排出される洗浄液蒸気を
冷却器に導き、これを、水などの低沸点物質を凝縮させ
ることなく、気体として真空排気することが可能な温度
に冷却して凝縮させることにより、汚れ洗浄液中の水な
どを含まない清浄な再生洗浄液を回収することが可能に
なる。
【0035】また、炭化水素系の洗浄液を入れて被洗浄
物の洗浄を行う洗浄槽と、被洗浄物の昇降手段と、洗浄
液を蒸発させて洗浄槽の気相側に供給する蒸発槽と、系
内を所定の真空度になるように真空吸引する真空吸引手
段と、洗浄槽から排出される洗浄液蒸気を所定の温度に
冷却して凝縮させる冷却器とを組み合わせた洗浄装置を
用いることにより、上記本願発明の洗浄方法を確実に実
施して実効あらしめることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明の洗浄方法を実施するために使用した
洗浄装置の一例を示す図である。
【符号の説明】
1 洗浄液 2 洗浄槽(洗浄乾燥槽) 3 洗浄治具 4 昇降手段 5 蒸発槽 7 真空吸引手段 8 冷却器 9 真空シャッター 10 洗浄台 11 回転揺動手段 12 超音波振動子 17 スチームヒータ 18 循環ポンプ 19 フィルタ 20 液面制御警報器

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 炭化水素系の洗浄液を用いて被洗浄物を
    洗浄する洗浄方法において、 洗浄液を入れた洗浄槽の気相中に被洗浄物を保持し、真
    空(減圧)下に、洗浄槽の気相中に洗浄液蒸気を供給し
    て、リンス洗浄を行いつつ被洗浄物を加温するリンス洗
    浄・加温工程と、 洗浄槽内の真空度を前記リンス洗浄・加温工程の真空度
    より上昇させ、所定の温度にまで加温された被洗浄物を
    洗浄槽内の洗浄液中に浸漬して、加温された被洗浄物の
    表面より洗浄液を沸騰バブリングさせて洗浄を行う浸漬
    洗浄工程とを含むことを特徴とする洗浄方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の洗浄方法の浸漬洗浄工程
    において、さらに、洗浄液中で被洗浄物を揺動して洗浄
    する揺動洗浄と、超音波振動を印加して洗浄する超音波
    振動洗浄を行うことを特徴とする洗浄方法。
  3. 【請求項3】 洗浄後に被洗浄物を洗浄槽内の洗浄液中
    から気相中に引き上げて、真空吸引することにより、被
    洗浄物に付着した洗浄液を蒸発させて除去する乾燥工程
    を含むことを特徴とする請求項1または2記載の洗浄方
    法。
  4. 【請求項4】 前記リンス洗浄・加温工程や乾燥工程に
    おいて、前記洗浄槽から排出される洗浄液蒸気を冷却器
    に導き、これを、汚れ洗浄液中の水などの低沸点物質を
    凝縮させることなく、気体として真空排気することが可
    能な温度に冷却して凝縮させることにより再生洗浄液と
    して回収することを特徴とする請求項1,2または3記
    載の洗浄方法。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4記載のいずれかの洗浄方法
    を実施するための洗浄装置であって、 炭化水素系の洗浄液を入れて被洗浄物の洗浄を行う洗浄
    槽と、 被洗浄物を、洗浄槽内の洗浄液に浸漬したり洗浄液から
    引き上げたりする昇降手段と、 洗浄液を加熱、蒸発させて、洗浄液蒸気を前記洗浄槽の
    気相側に供給する蒸発槽と、 前記洗浄槽に真空ラインを介して接続された、系内を所
    定の真空度になるように真空吸引する真空吸引手段と、 前記洗浄槽と前記真空吸引手段との間の真空ラインに配
    設され、前記洗浄槽から排出される洗浄液蒸気を所定の
    温度に冷却して凝縮させるとともに、必要に応じて洗浄
    槽内の洗浄液を導いて冷却する冷却器とを具備すること
    を特徴とする洗浄装置。
JP6043116A 1994-02-16 1994-02-16 洗浄方法及び洗浄装置 Expired - Lifetime JP2554017B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6043116A JP2554017B2 (ja) 1994-02-16 1994-02-16 洗浄方法及び洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6043116A JP2554017B2 (ja) 1994-02-16 1994-02-16 洗浄方法及び洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07222961A true JPH07222961A (ja) 1995-08-22
JP2554017B2 JP2554017B2 (ja) 1996-11-13

Family

ID=12654873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6043116A Expired - Lifetime JP2554017B2 (ja) 1994-02-16 1994-02-16 洗浄方法及び洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2554017B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002143789A (ja) * 2000-11-14 2002-05-21 Koyo Seiko Co Ltd 水置換方法及び装置
JP2003236479A (ja) * 2001-12-14 2003-08-26 Jh Corp 真空脱脂洗浄方法と装置
WO2018105262A1 (ja) * 2016-12-07 2018-06-14 株式会社Ihi 洗浄方法及び洗浄装置
JP2019107598A (ja) * 2017-12-15 2019-07-04 株式会社クリンビー 水系1槽式真空洗浄乾燥機および自動搬送ユニット付き洗浄システム

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002143789A (ja) * 2000-11-14 2002-05-21 Koyo Seiko Co Ltd 水置換方法及び装置
JP2003236479A (ja) * 2001-12-14 2003-08-26 Jh Corp 真空脱脂洗浄方法と装置
WO2018105262A1 (ja) * 2016-12-07 2018-06-14 株式会社Ihi 洗浄方法及び洗浄装置
JPWO2018105262A1 (ja) * 2016-12-07 2019-03-14 株式会社Ihi 洗浄方法及び洗浄装置
CN109715303A (zh) * 2016-12-07 2019-05-03 株式会社Ihi 清洗方法以及清洗装置
CN109715303B (zh) * 2016-12-07 2021-09-24 株式会社Ihi 清洗方法以及清洗装置
DE112017006165B4 (de) 2016-12-07 2024-06-06 Ihi Corporation Reinigungsverfahren und Reinigungsvorrichtung
JP2019107598A (ja) * 2017-12-15 2019-07-04 株式会社クリンビー 水系1槽式真空洗浄乾燥機および自動搬送ユニット付き洗浄システム

Also Published As

Publication number Publication date
JP2554017B2 (ja) 1996-11-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI447799B (zh) 基板洗淨方法及基板洗淨裝置
JPH0969509A (ja) 半導体ウェーハの洗浄・エッチング・乾燥装置及びその使用方法
JP2002282801A (ja) 真空蒸気洗浄方法およびその装置
JP2554017B2 (ja) 洗浄方法及び洗浄装置
JP2977922B2 (ja) 圧力スイング洗浄方法および装置
JP4036626B2 (ja) 超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
JP2000237706A (ja) 単一の処理槽を用いた真空洗浄乾燥方法及び装置
JP3096241B2 (ja) 洗浄装置
JPH06224174A (ja) ワークの処理方法及び装置
JPH0745574A (ja) ワークの洗浄及び乾燥方法とその装置
JPS62173720A (ja) ウエハ洗浄装置
JP4018917B2 (ja) 処理方法及び処理システム
JPH06252115A (ja) 被洗浄物の洗浄方法
JPS60257140A (ja) 高圧ジエツト洗浄方法とその装置
JP2532324B2 (ja) 基板洗浄方法及び減圧乾燥装置
JPH0718478A (ja) 電気接点等小物部品の洗浄方法及び減圧乾燥装置
JP3052103B2 (ja) 真空脱脂洗浄装置
JP2001033168A (ja) 表面処理方法、並びにそれに用いる装置
JP3184672B2 (ja) 金属品洗浄方法及び金属品洗浄装置
JP2922194B1 (ja) 洗浄物の乾燥装置
JP3182136B2 (ja) 洗浄装置
JPH01189127A (ja) ウエハの洗浄方法
JP3445496B2 (ja) 部品洗浄装置
JP2024016633A (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
JPH0821564B2 (ja) 洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19960604