JP2001033168A - 表面処理方法、並びにそれに用いる装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 炭化水素などの有機溶剤系洗浄液を用いた真
空乾燥工程において、短時間で汚れ残りのない乾燥方法
を提供する。 【解決手段】 有機溶剤系の処理液を用いて目的物の表
面を処理する方法において、該処理に用いる処理槽内に
該目的物を入れ槽内を減圧する工程と、沸騰状態に加熱
した有機溶剤を該処理対象物に接触させ目的物表面に作
用させながら昇温を行なう工程と、更に減圧を行い、該
溶剤を気化蒸発させ乾燥を行なう工程を有することを特
徴とする処理方法、及び前記各工程のための手段を備え
た処理装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は有機溶剤を用いた電
子・機械部品等の乾燥、または洗浄及び乾燥に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明が関する電子・機械部品等の目的
物(以下ワークとも呼ぶ。これには洗浄前のものも、洗
浄後の乾燥前のものも含む)の乾燥方法は、短時間でか
つ汚れ残りの無い乾燥をすることが重要な要素の一つと
なっている。

【０００３】この目的のため、通常は熱風による乾燥方
法が提案されている。例えば、従来の炭化水素洗浄で
は、洗浄後に仕上げ洗浄と液切りの工程がありその後熱
風乾燥によりワークを乾燥させ洗浄工程を完了している
が、この方法ではワークに付着する洗浄液の汚染物質が
熱乾燥をすることにより凝縮残留してしまうことがあ
り、乾燥方法としては十分とはいえない。

【０００４】そこで、新たな方法として真空乾燥法が提
案されている。これは、まずワーク乾燥に用いる乾燥槽
内に洗浄の完了したワークを入れ槽内を減圧した後、熱
平衡状態にある炭化水素系溶剤蒸気を導入し、その溶剤
蒸気がワーク表面で凝縮する相変化を利用した凝縮潜熱
にて昇温を行う。そして、ワーク表面温度が炭化水素系
溶剤蒸気温度に等しくなった時点で更に減圧を行い、溶
剤を気化蒸発させ乾燥を行う方法である。

【０００５】例えば特開平９-１４１２１６号公報に
は、真空乾燥を用いた洗浄装置が開示されている。

【０００６】この技術は真空乾燥方法を用いる洗浄装置
に関する発明で、超音波洗浄、仕上げリンス、真空乾燥
を一連の洗浄動作として説明されている。ここでは本発
明に関係する真空乾燥に関連する部分のみを取り上げ説
明する。(図２参照) 真空乾燥に至る経緯としては、まず、洗浄完了後、蒸気
による仕上げ洗浄を行うため真空弁Ｖ１のみを開放し、
真空ポンプ１０８によって洗浄槽１０２を６０ｍｍＨg
まで減圧した後、真空弁Ｖ１を閉じる。次に蒸気導入弁
Ｖ８、洗浄液排出弁Ｖ５、及び真空弁Ｖ７を開放して真
空ポンプ１０８を駆動する。すると、蒸気発生槽１０４
で発生した洗浄蒸気が洗浄槽１０２に導入され、被洗浄
物を蒸気洗浄しつつ一部は液化し、蒸気と共に洗浄液排
出弁Ｖ５を通って洗浄液タンクに伝えられる。

【０００７】この操作で被洗浄物には同時に自熱乾燥に
必要な熱エネルギーが与えられる。続いて、洗浄液排出
弁Ｖ５と真空弁Ｖ７とを閉じると共に、真空弁Ｖ１を開
放して真空ポンプ１０８によって洗浄槽を減圧する。す
ると、被洗浄物に付着している洗浄液は、被洗浄物のも
つ自熱だけで瞬時に沸騰乾燥する。

【０００８】このように被洗浄物の乾燥は、蒸留蒸気の
熱エネルギーだけを利用した自熱乾燥方式としているの
で、熱風や輻射熱などの危険性の高い乾燥熱とエネルギ
ーが一切不要となり、蒸気圧を利用した高真空乾燥によ
り、あらゆる形状・姿勢の被洗浄物でも高速乾燥するこ
とができるとされ、一応の効果を奏している。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この手
法では、炭化水素系溶剤の蒸気による加熱を利用する点
において、ワーク昇温のための熱伝達効率が液体の直接
接触に比べ悪く、またワークの量によってはワーク間の
隙間への熱伝達不足がおこり自熱を高めるための時間が
かかり、結果的に乾燥時間が長くなるという問題をもた
らしている。

【００１０】本発明の主な目的の一つは、炭化水素系洗
浄液を用いた洗浄に関する真空乾燥工程において、短時
間で汚れ残りのない乾燥を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、有
機溶剤系の処理液を用いて目的物(ワーク)の表面を処理
する方法において、該処理に用いる処理槽内に該目的物
を入れ槽内を減圧する工程と、沸騰状態に加熱した有機
溶剤を該処理対象物に接触させ目的物表面に作用させな
がら昇温を行なう工程と、更に減圧を行い、該溶剤を気
化蒸発させ乾燥を行なう工程を有することを特徴とする
処理方法についてのものである。

【００１２】また、有機溶剤系の処理液を用いて目的物
の表面を処理する装置において、該処理の場であり、密
閉して内部を減圧可能な処理槽と、該処理槽の内部を脱
気減圧する手段と、該処理槽内に沸騰した有機溶剤を供
給し該目的物に接触させ目的物表面に作用させながら昇
温を行なう手段と、を有することを特徴とする処理装置
についてのものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の処理においては別途洗浄
処理されたワークの乾燥を行なうことを主目的とする
が、有機溶剤の種類を工夫し、処理槽内に超音波振動子
を設置することで、未洗浄、あるいは予備洗浄のみ施さ
れた表面に汚れが付着したワークの洗浄をも併せ行なう
ことも可能となっている。

【００１４】以下の説明は基本的な乾燥処理についての
ものであるが、洗浄が行なわれる場合も構成や操作自体
に本質的差異はない。

【００１５】本発明の特徴は、ワークの真空乾燥時にワ
ーク温度(以後自熱と称する)を高温とするため、真空乾
燥直前に沸騰状態に加熱した有機溶剤をワークに接触さ
せる方式を用いることである。

【００１６】これにてワークは瞬時に高温(有機溶剤の
沸騰温度)に達し、ワーク真空乾燥操作時にワーク周囲
の雰囲気の減圧を行うと、炭化水素系溶剤が自熱により
瞬時に沸騰気化しワークから離脱することで乾燥が行わ
れる。

【００１７】これは、ワークの昇温手段に従来の有機溶
剤の蒸気によるワーク表面での凝縮潜熱を利用する方法
ではなく、高温の有機溶剤を液体のまま直にワークに接
触させることで自熱乾燥に必要な熱エネルギーをワーク
に効率よく与えられ、ワーク昇温時間の短縮と減圧時の
有機溶剤沸騰気化時間が短くなるという効果があり、全
体的に真空乾燥時間の短縮が行われるものである。

【００１８】処理されるワークとしては、特に制限はな
いが、機械・電子部品などで、処理に用いる有機溶剤に
侵されず、かつ表面汚れ成分が疎水性で前記溶剤によく
溶けるものが好ましい。

【００１９】具体的には、プレス加工部品及び切削部品
等が挙げられ、特にバスケットにバラ入れした時、ワー
クどうし隙間がでるような折り曲げ部品が好ましい。例
えば、コネクター、端子、フロッピーなどリムーバブル
ディスクのシャッター、板バネ、フレーム、シャーシ、
リードフレーム、モータ・コアなどが挙げられる。

【００２０】有機溶剤としては低臭気及び皮膚への刺激
が少ない点から炭素数１０前後のパラフィン系炭化水素
を主成分とする液が好ましい。例えば市販品では東ソー
(株)のＨＣ-２５０、ＨＣ-３７０、ＨＣ-ＦＸ５０、Ｈ
Ｃ-ＦＸ７０などがある。本方式では、臭気及び皮膚へ
の刺激性を問題としない場合はナフテン系及び芳香族系
炭化水素も使用でき、さらに、グリコールエーテル系溶
剤も使用できる。また、これらの混合物を用いてもよ
い。

【００２１】図１により本発明の一実施形態としての真
空乾燥装置の構成を示しながらワーク乾燥方法を説明す
る。

【００２２】この装置は、洗浄されたワーク１を入れ乾
燥を行う密閉蓋付きの真空乾燥槽２と、真空乾燥槽２内
の脱気を行う真空ポンプ４と、ワーク１昇温用の有機溶
剤８が入った沸騰槽６、７とを中心的に備えており、こ
の二つの沸騰槽６、７は用途を異にしている。二つの沸
騰槽６、７のうち一つは、真空乾燥槽２内のワーク１に
直接接触させワーク自熱の昇温を行うために使用する有
機溶剤８を加熱し沸騰状態にするためのもので、もう一
つはワーク１に接触後、微量の不純物や汚れ成分が混入
する使用済みの有機溶剤を回収する役目に使用する。

【００２３】真空乾燥槽２には真空ポンプ４がバルブ３
を通じて接続している。また槽壁面には大気開放バルブ
２０が付き大気に連通している。沸騰槽７と真空乾燥槽
２は溶剤移送管３０により接続している。溶剤移送管３
０には真空乾燥槽２へ有機溶剤８を供給するためのポン
プ１１とバルブ１０が接続している。

【００２４】また、真空乾燥槽２の下部には溶剤返送管
３１がありバルブ１２を通じ沸騰槽６に接続している。
沸騰槽６は真空乾燥槽２と管３２でも接続されており、
これは両槽の内部圧力の均等化に利用される。

【００２５】沸騰槽６は沸騰槽７と槽上部で連通してお
り、どちらの槽内にも有機溶剤８が溜まっている。この
溶剤８は加熱部９により常に溶剤沸点と槽６、７の内部
圧力とに対応した所定温度で加熱されており、有機溶剤
８の蒸気を常に発生している。

【００２６】沸騰槽６はコンデンサ１５とバルブ１４を
通じて接続しており、またコンデンサ１５の先にはエゼ
クタ１３を介しセパレータ１６が接続されている。沸騰
槽内の有機溶剤はバルブ１４を通りコンデンサ１５に達
することで熱交換が行われ凝集液化し、エゼクタ１３に
より吸引されてセパレータ１６に導入される。セパレー
タ１６は管３３を通じ圧力開放タンク１７に接続されて
いる。液化した有機溶剤は一時ここに蓄えられる。

【００２７】上述の沸騰槽６から圧力開放タンク１７ま
での流れは、有機溶剤の蒸留再生の工程となる。

【００２８】圧力開放タンク１７は液量コントロール１
８、１９に接続され、回収された再生有機溶剤は２つに
分けられる。液量コントロール１８、１９は各々沸騰槽
６、７と接続されており、沸騰槽内の有機溶剤の液量を
コントロールする。

【００２９】次に図１を基に、本実施形態の動作を説明
する。

【００３０】洗浄されたワーク１を密閉蓋付きの真空乾
燥槽２に入れ、まずバルブ３を開き真空ポンプ４を作動
させ真空乾燥槽２内を大気圧以下の所定の圧力まで減圧
する。このときの圧力は特に制限はないが、下記の沸騰
槽の圧力よりは十分低くする必要がある。例えば１００
ｍｍＨg以下であり、より好ましくは６０〜８０ｍｍＨg
である。このときバルブ５、１０、１２は閉じられてい
る。

【００３１】次にバルブ３を閉じバルブ５を開き、エゼ
クタ１３にてあらかじめ減圧されている沸騰槽６および
沸騰槽６と槽上部で連通している沸騰槽７と、真空乾燥
槽２を連通させ減圧雰囲気を同一とする。このときの圧
力は有機溶剤の沸騰温度を操作に適した範囲に収めるこ
とが好ましい。例えば１５０ｍｍＨg以下であり、より
好ましくは８０〜１００ｍｍＨgである。また沸騰槽の
初期圧力は連通後の圧力よりやや高め(例えば１００〜
１５０ｍｍＨg)とする。

【００３２】沸騰槽６、７にはそれぞれに独立してワー
ク加熱用の媒体である有機溶剤８が入っており、加熱機
構９により所定の温度(沸騰槽内雰囲気の圧力にて沸騰
する温度)まで加熱されている。

【００３３】この温度は有機溶剤の種類や沸騰槽内雰囲
気の圧力により変化するが、１１０℃以上とするのが好
ましく、より好ましくは１２０〜１４０℃である。

【００３４】沸騰槽７内の有機溶剤８は、バルブ１０、
１２を開けた後ポンプ１１にて溶剤供給管３０を通じて
真空乾燥槽２に供給され、ノズル２１から噴射され真空
乾燥槽２内のワーク１と接触することでワーク１の表面
温度を上げる。

【００３５】ワーク１に接触した後飛散し真空乾燥槽２
底部に流入した有機溶剤は、バルブ１２を開くことで沸
騰槽６に回収される。

【００３６】ワーク１はこの操作を繰り返すことで沸騰
状態まで加熱されている有機溶剤の液温まで短時間で昇
温され高い自熱を得ることとなる。

【００３７】このときの温度は圧力の関係より前記沸騰
槽における温度より若干低くなる。例えば９０℃とする
のが好ましく、より好ましくは１００℃以上である。

【００３８】またワーク１の汚れに対し溶解力・剥離力
をもつ溶剤を使用した場合には先の洗浄工程で落ちきれ
なかった汚れ等も溶剤の溶解力・剥離力により除去され
る。有機溶剤８によるワーク１の昇温が完了した後にワ
ーク１表面に残った有機溶剤分は、バルブ５、バルブ１
０、バルブ１２を閉じ、バルブ３を開き真空ポンプ４に
てさらに減圧を行うと、ワーク１のもつ自熱だけで瞬時
に沸騰乾燥が行われる。

【００３９】これは、有機溶剤は大気圧下での加熱した
場合の沸点に比べ減圧下では比較的低沸点で沸騰させる
ことができる性質に加え、あらかじめ有機溶剤を媒体と
した加熱も行うことでワークの自熱を高め、短時間で減
圧雰囲気での沸点まで到達する環境をつくっているため
である。

【００４０】有機溶剤８の入っている沸騰槽６、７は沸
騰している有機溶剤８の蒸気レベルでの行き来ができる
ように槽上部で連通しており、この槽で気化した有機溶
剤８は通常バルブ１４を開とし、バルブ５、バルブ１
０、バルブ１５を閉とした状態でコンデンサ１５、セパ
レータ１６に導かれ、熱交換により冷却液化され、圧力
が大気圧雰囲気となっている圧力開放タンク１７に供給
される。なお、コンデンサ及びセパレータの操作圧力は
沸騰槽の圧力と同じになる。

【００４１】圧力開放タンク１７内の有機溶剤は、各沸
騰槽６、７に通じる液量コントロール１８、１９にて液
量が調節され、各槽に必要量が逐一供給されることとな
る。沸騰槽７には再生された有機溶剤８のみが蓄積さ
れ、沸騰槽６には真空乾燥槽２から回収され使用済み有
機溶剤と液量調節の時に限り液量コントロール１８より
有機溶剤が供給される。この一連の流れは有機溶剤の蒸
留再生のルートとなる。

【００４２】以上の構成において、ワークの自熱乾燥時
に必要な熱エネルギーの供給に、沸騰槽７から加熱した
有機溶剤８を液体のまま直接ワーク１に接触(シャワー
方式、スプレー方式等利用)させることとしているた
め、従来の溶剤蒸気によるワーク１表面での凝縮潜熱を
利用した方法と比べ熱効率が良好で自熱乾燥に必要な熱
エネルギーをワーク１に効率よく与えられることになる
ため、短時間でワーク自熱を高温とすることができ(昇
温時間の短縮)、真空乾燥時にワークに付着する溶剤が
瞬時に沸騰乾燥するため、全体的な乾燥工程に費やす時
間が短くなるという効果が得られる。

【００４３】また、上述の熱伝達に利用する有機溶剤の
貯蔵箇所に二つの沸騰槽を用意し、一つは使用済み有機
溶剤の回収専用に用い、もう一つは蒸留再生し清浄度の
高い有機溶剤貯蔵に用い、蒸留再生した溶剤のみを真空
乾燥槽内のワークに供給する構成となっているため、溶
剤清浄度劣化による乾燥完了後にワーク表面に発生する
不純残留物の発生がない。

【００４４】従って、乾燥ムラや溶剤汚れによる乾燥シ
ミの無い真空乾燥を短時間で行えるという効果がもたら
される。

【００４５】本実施形態において、ワークの乾燥を主目
的とする場合は有機溶剤系洗浄液は必ずしもワークに付
着する汚れを除去できる能力を持つ必要はなく、特に限
定はしないが洗浄部にてワークに付着した洗浄液を置換
でき、ワークに対して悪影響を及ぼす性質の無い液であ
れば他の有機溶剤を使用しても良い。

【００４６】一方、ワークの汚れに対し溶解力・剥離力
をもつ溶剤を使用した場合は、その性能にもよるが、十
分な洗浄能力をもつ場合、処理するワークは洗浄済みの
ものだけでなく未洗浄もしくは予備洗浄のみの汚れた状
態のものでもよい。すなわち、本実施形態は乾燥のみな
らず、真空乾燥槽２をそのまま真空洗浄乾燥槽とし、前
記と同一の操作で洗浄をも同時に行なうことができる。

【００４７】この目的にかなう有機溶剤としては前記東
ソー(株)のＨＣ-ＦＸ５０が挙げられ、これは洗浄能力
に優れるため未洗浄または洗浄不十分のワークに対して
用いることができる。また、前記ナフテン系及び芳香族
系炭化水素も使用でき、フラックス等の洗浄に関しては
グリコールエーテル系洗浄剤も使用できる。また、これ
らの混合物を用いてもよい。

【００４８】また、真空洗浄乾燥槽に超音波振動子を設
置することで、更なる清浄度を確保することができる。
周波数出力の例としては、２８kＨz １kＷのものが挙
げられる。

【００４９】

【実施例】[実施例１]前述の実施形態によるワーク乾燥
の一例について述べる。

【００５０】前記図１において、バルブ５、１０、１２
を閉じた状態で、洗浄され実用上汚れがない状態のワー
ク１として、２０ｍｍ角のステンレスプレス加工部品を
１５kgを幅３００ｍｍ×長さ４００ｍｍ×高さ２００ｍ
ｍのバスケットに入れたものを、密閉蓋付きの真空乾燥
槽２(材質:ＳＵＳ３０４、幅３６６ｍｍ×奥行き４７０
ｍｍ×高さ４６５ｍｍ)に入れ、まずバルブ３を開き真
空ポンプ４を作動させ真空乾燥槽２内を６０ｍｍＨg程
度になるまで減圧した。

【００５１】次にバルブ３を閉じバルブ５を開き、エゼ
クタ１３にてあらかじめ１００〜１５０ｍｍＨgにまで
減圧されている沸騰槽６(材質:ＳＵＳ３０４、内径φ３
００ｍｍ×長さ８００ｍｍ)および沸騰槽６と槽上部で
連通している沸騰槽７(材質寸法は沸騰槽６に同じ)と、
真空乾燥槽２を連通させ減圧雰囲気を同一とした。この
ときの減圧雰囲気は１００ｍｍＨg程度であった。

【００５２】ワーク加熱用の媒体である有機溶剤８とし
ては、パラフィン系炭化水素として、東ソー(株)ＨＣ-
２５０を用い、あらかじめ沸騰槽６に２０〜３０L、７
に２０〜３０L入れておき、加熱機構９にて１３０〜１
４０℃になるまで加熱した。加熱機構９としては、熱媒
オイルとして日本石油(株) ハイサームシリーズを用い
た熱交換ヒーターを用い、熱媒の加熱にはジャスト(株)
のＬＡＧＳＵＳプラグヒーター(電気ヒーター、１０〜
１５kＷ)を用いた。

【００５３】続いてバルブ１０、１２を開けた後、沸騰
槽７内の炭化水素系溶剤８をポンプ１１にて溶剤供給管
３０を通じて真空乾燥槽２に供給し、ノズル２１よりシ
ャワー方式で噴射し真空乾燥槽２内のワーク１に接触さ
せることで、ワーク１の表面温度を１００〜１１５℃ま
で上昇させた。昇温には約３分を要した。

【００５４】ワーク１に接触した後飛散し真空乾燥槽２
底部に流入した有機溶剤は、バルブ１２を開くことによ
り沸騰槽６に回収した。

【００５５】有機溶剤８はワーク１の汚れに対し溶解力
・剥離力をもつため、先の洗浄工程で落ちきれなかった
汚れ等も溶剤の溶解力・剥離力により除去された。

【００５６】有機溶剤８によるワーク１の昇温が完了し
た後にワーク１表面に残った有機溶剤分は、バルブ５、
バルブ１０、バルブ１２を閉じ、バルブ３を開き真空ポ
ンプ４にてさらに減圧を行うことにより、ワーク１のも
つ自熱だけで瞬時に沸騰乾燥が行われた。

【００５７】沸騰槽６、７で気化した有機溶剤８はバル
ブ１４を開とし、バルブ５、バルブ１０、バルブ１２を
閉とした状態でコンデンサ１５にて１００〜１５０ｍｍ
Ｈg、６０〜８０℃、さらにセパレータ１６に導き、３
０〜４０℃にまで熱交換により冷却液化し、圧力が大気
圧雰囲気となっている圧力開放タンク１７に供給した。

【００５８】圧力開放タンク１７内の有機溶剤は、各沸
騰槽６、７に通じる液量コントロール１８、１９にて液
量が調節され、各槽に必要量が逐一供給された。

【００５９】沸騰槽７には再生された有機溶剤８のみが
蓄積され、沸騰槽６には真空乾燥槽２から回収され使用
済み有機溶剤と液量調節の時に限り液量コントロール１
８より有機溶剤が供給された。この一連の流れは有機溶
剤の蒸留再生のルートとなっていた。

【００６０】以上の構成において、ワークの自熱乾燥時
に必要な熱エネルギーの供給に、有機溶剤を液体のまま
接触させることとしているため、従来の蒸気を利用した
方法に比べ熱エネルギーが効率よくワークに与えられ
た。

【００６１】また、上述の熱伝達に利用する有機溶剤の
貯蔵箇所に二つの沸騰槽を用意し、一つは使用済み有機
溶剤の回収専用に用い、もう一つは蒸留再生し清浄度の
高い有機溶剤貯蔵に用い、蒸留再生した溶剤のみを真空
乾燥槽内のワークに供給する構成となっているため、溶
剤清浄度劣化による乾燥完了後にワーク表面に発生する
不純残留物の発生がなかった。

【００６２】従って、乾燥ムラや溶剤汚れによる乾燥シ
ミの無い真空乾燥を短時間で行えるという効果がもたら
された。

【００６３】また、真空乾燥層２に例えば２８kＨz １
kＷの超音波振動子を設置することで、更なる清浄度が
確保できた。

【００６４】[実施例２]実施例１と同様の装置を用い
て、ワーク加熱用の媒体である有機溶剤８として、東ソ
ー(株)ＨＣ-ＦＸ５０を用いた他は同様の実験を行なっ
た。

【００６５】真空乾燥槽２及び沸騰槽の減圧は実施例１
と同様である。但し、加熱機構９での加熱温度は１２０
〜１３０℃とし、ワーク１の表面温度の上昇は９０〜１
０５℃までとした。昇温には約２分を要した。

【００６６】有機溶剤８の冷却はコンデンサ１５にて１
００〜１５０ｍｍＨg、６０〜８０℃、さらにセパレー
タ１６に導き、３０〜４０℃にまで熱交換により冷却液
化した。

【００６７】本実施例の有機溶剤８として用いたＨＣ-
ＦＸ５０はワーク１の汚れに対し溶解力・剥離力をもつ
ため、実施例１より更に清浄度が向上し、真空乾燥層２
に例えば２８kＨz １kＷの超音波振動子を設置するこ
とで、更なる清浄度が確保できた。

【００６８】[実施例３]実施例１と同様の条件で、ワー
ク１に汚れが表面積あたりで約５０ｍg/cｍ²残存した状
態のものを適用し、洗浄を同時に行なうことを試みた。
ＨＣ-２５０はワーク１の汚れに対しての溶解力・剥離
力が劣るため、乾燥自体は実施例１および２と同様に達
成されたが、汚れの一部が残存し、乾燥後の汚れは０.
１〜０.５ｍg/cｍ²であった。

【００６９】[実施例４]実施例２と同様の条件で、ワー
ク１に実施例３と同じ汚れたものを適用した。ＨＣ-Ｆ
Ｘ５０はワーク１の汚れに対し溶解力・剥離力をもつた
め、汚れの大部分が溶剤の溶解力・剥離力により除去さ
れ、乾燥後の汚れを２０〜３０μg/cｍ²以下に抑えるこ
とができた。

【００７０】また、真空乾燥層２に例えば２８kＨz １
kＷの超音波振動子を設置することで、更なる清浄度が
確保できた。

【００７１】

【発明の効果】ワークの自熱乾燥時に必要な熱エネルギ
ーの供給に、有機溶剤を液体のまま接触させることとし
ているため、従来の蒸気を利用した方法に比べ熱エネル
ギーが効率よくワークに与えられた。

【００７２】また、上述の熱伝達に利用する有機溶剤の
貯蔵箇所に二つの沸騰槽を用意し、一つは使用済み有機
溶剤の回収専用に用い、もう一つは蒸留再生し清浄度の
高い有機溶剤貯蔵に用い、蒸留再生した溶剤のみを真空
乾燥槽内のワークに供給する構成となっているため、溶
剤清浄度劣化による乾燥完了後にワーク表面に発生する
不純残留物の発生がなかった。

【００７３】従って、乾燥ムラや溶剤汚れによる乾燥シ
ミの無い真空乾燥を短時間で行えるという効果がもたら
された。

【００７４】また、溶剤に洗浄力の高いものを用いるこ
とで、同様の操作で洗浄機として用いることができ、ワ
ークの洗浄・乾燥を一つの槽で行えることとなった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態としての真空乾燥・洗浄装
置の構成図を示す。

【図２】従来の真空洗浄機の構成図を示す。

【符号の説明】

１ ワーク ２ 真空乾燥槽(洗浄槽) ４ 真空ポンプ ３、５、１０、１２、１４ バルブ ６、７ 沸騰槽 ８ 有機溶剤 ９ 加熱機構 １１ ポンプ １３ エゼクタ １５ コンデンサ １６ セパレータ １７ 圧力開放タンク １８、１９ 流量コントロール ２０ 大気開放バルブ ２１ ノズル ３０ 溶剤移送管 ３１ 溶剤返送管 ３２ 管 ３３ 管 １０２ 洗浄槽 １０４ 蒸気発生槽 １０８ 真空ポンプ Ｖ１ 真空弁 Ｖ５ 洗浄液排出弁 Ｖ７ 真空弁 Ｖ８ 蒸気導入弁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3B201 AA48 AB01 AB45 BB03 BB82 BB95 CB01 CC21 CD11 3L113 AA01 AB05 AB10 AC01 AC24 BA34 DA10 4K053 PA03 PA17 QA04 RA04 RA32 RA41 RA57 SA06 SA18 TA13 TA19 XA11 XA15 XA24 XA26 XA45 YA10

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 有機溶剤系の処理液を用いて目的物の表
   面を処理する方法において、 該処理に用いる処理槽内に該目的物を入れ槽内を減圧す
   る工程と、 沸騰状態に加熱した有機溶剤を該処理対象物に接触させ
   目的物表面に作用させながら昇温を行なう工程と、 更に減圧を行い、該溶剤を気化蒸発させ乾燥を行う工程
   を有することを特徴とする処理方法。
2. 【請求項２】 該有機溶剤を減圧下で加熱し沸騰状態に
   加熱する工程と、 気化蒸発した該溶剤の蒸気を回収し凝縮する工程と、 凝縮された該溶剤を貯留し、再び加熱装置に送る工程を
   さらに有する請求項１に記載の処理方法。
3. 【請求項３】 前記処理により前記目的物の乾燥が行な
   われる請求項１または２に記載の処理方法。
4. 【請求項４】 前記処理により前記目的物の洗浄及び乾
   燥が行なわれる請求項１または２に記載の処理方法。
5. 【請求項５】 前記処理槽内に超音波振動子を設置する
   ことで、目的物表面の更なる清浄度を確保する、請求項
   ４に記載の処理方法。
6. 【請求項６】 前記有機溶剤として前記目的物表面に残
   存する異物を溶解または剥離可能なものを使用すること
   により、該目的物表面の清浄度を向上する、請求項４ま
   たは５に記載の処理方法。
7. 【請求項７】 前記有機溶剤が炭化水素、グリコールエ
   ーテル、またはそれらの混合物である請求項１〜６のい
   ずれかに記載の処理方法。
8. 【請求項８】 有機溶剤系の処理液を用いて目的物の表
   面を処理する装置において、 該処理の場であり、密閉して内部を減圧可能な処理槽
   と、 該処理槽の内部を脱気減圧する手段と、 該処理槽内に沸騰した有機溶剤を供給し該目的物に接触
   させ目的物表面に作用させながら昇温を行なう手段と、 を有することを特徴とする処理装置。
9. 【請求項９】 該有機溶剤を減圧下で加熱し沸騰状態に
   加熱する手段を備えた沸騰槽と、 気化蒸発した該溶剤の蒸気及び凝結した該溶剤を回収す
   る手段と、 該回収した溶剤の蒸気を凝縮する手段としての凝縮器
   と、 凝縮された該溶剤を貯留する貯留槽と、 該貯留している溶剤を再び加熱装置である沸騰槽に送る
   手段をさらに有する、請求項７に記載の処理装置。
10. 【請求項１０】 前記処理槽内に更なる清浄度を確保す
    る手段としての超音波振動子を設置してなる、請求項８
    または９のいずれかに記載の装置。