JPS60257140A - 高圧ジエツト洗浄方法とその装置 - Google Patents
高圧ジエツト洗浄方法とその装置Info
- Publication number
- JPS60257140A JPS60257140A JP11331784A JP11331784A JPS60257140A JP S60257140 A JPS60257140 A JP S60257140A JP 11331784 A JP11331784 A JP 11331784A JP 11331784 A JP11331784 A JP 11331784A JP S60257140 A JPS60257140 A JP S60257140A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaning liquid
- cleaned
- rinsing
- atmosphere
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G3/00—Apparatus for cleaning or pickling metallic material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光ディスクあるいは半導体製造工程等における
非常に高い清浄面を必要とするクリーン洗浄に関するも
のである。
非常に高い清浄面を必要とするクリーン洗浄に関するも
のである。
従来例の構成とその問題点
種々の洗浄方法の中でも高圧流体を細いノズルから高速
で吹き出し、その高速流を被洗浄物に当てて異物を除去
するいわゆる高圧ジェット洗浄法は強い物理的エネルギ
ーを有し強固に付着した異物の除去には非常に有効であ
る。以下例えば円板を洗浄する場合の従来の高圧ジェッ
ト洗浄装置の１例を概略で示す第１図に基づき説明する
。
で吹き出し、その高速流を被洗浄物に当てて異物を除去
するいわゆる高圧ジェット洗浄法は強い物理的エネルギ
ーを有し強固に付着した異物の除去には非常に有効であ
る。以下例えば円板を洗浄する場合の従来の高圧ジェッ
ト洗浄装置の１例を概略で示す第１図に基づき説明する
。
第１図において１は洗浄装置の機体で２は洗浄液３がた
められた洗浄槽である。４は公知の沸騰槽でヒータ５を
有しその中にためられた洗浄液を沸騰させる。６は機体
の上部に巻回された冷却パイプで開ロアの空間を冷却し
前記沸騰槽４から蒸発した洗浄液の蒸気を冷却した凝結
液化せしめ開ロアから前記蒸気が逃げて機体内の洗浄液
が減ることを防止する。前記冷却パイプの表面に凝結液
化した洗浄液はその下部に設けた棚８の中を流れて公知
の水と洗浄液の比重差を利用した水分離器９に回収され
、洗浄液と共に液化した空気中の水は洗浄液から分離さ
れてドレン１Ｑから排出され、洗浄液は洗浄槽２に流入
する。前記開ロアには上記の冷却バイブロの冷却作用に
より洗浄液の液化温度となる界面１１を境界として下部
には通常過飽和状態にあを飽和蒸気雰囲気１２、上部に
は蒸気密度の低い領域１３が形成される。１４は回転軸
１５に機械的手段により保持された円板状の被洗浄物で
ある。１６はモータを内蔵するハウジングで回転軸１６
とこのモータの軸は公知のマグネットカップリングで結
合されている。１７は前記モータハウジング１６を上下
動せしめる昇降ロッドで図示しない手段あるいは手動に
より上下駆動させる。１８は洗浄槽２に固定され支柱１
９に取付けられた高圧ノズルである。２０，２１．２２
は洗浄槽内の洗浄液３を常に清浄に保つため設けられた
それぞれプレフィルタ、循環ポンプ、ファイナルフィル
タである。２３．２４は高圧ノズル１８に清浄な高圧の
洗浄液を供給するために設けられた高圧ポンプと高耐圧
ファイナルフィルタである。３１は洗浄槽２の内壁に巻
回された冷却パイプで洗浄槽中の洗浄液３を冷却する。
められた洗浄槽である。４は公知の沸騰槽でヒータ５を
有しその中にためられた洗浄液を沸騰させる。６は機体
の上部に巻回された冷却パイプで開ロアの空間を冷却し
前記沸騰槽４から蒸発した洗浄液の蒸気を冷却した凝結
液化せしめ開ロアから前記蒸気が逃げて機体内の洗浄液
が減ることを防止する。前記冷却パイプの表面に凝結液
化した洗浄液はその下部に設けた棚８の中を流れて公知
の水と洗浄液の比重差を利用した水分離器９に回収され
、洗浄液と共に液化した空気中の水は洗浄液から分離さ
れてドレン１Ｑから排出され、洗浄液は洗浄槽２に流入
する。前記開ロアには上記の冷却バイブロの冷却作用に
より洗浄液の液化温度となる界面１１を境界として下部
には通常過飽和状態にあを飽和蒸気雰囲気１２、上部に
は蒸気密度の低い領域１３が形成される。１４は回転軸
１５に機械的手段により保持された円板状の被洗浄物で
ある。１６はモータを内蔵するハウジングで回転軸１６
とこのモータの軸は公知のマグネットカップリングで結
合されている。１７は前記モータハウジング１６を上下
動せしめる昇降ロッドで図示しない手段あるいは手動に
より上下駆動させる。１８は洗浄槽２に固定され支柱１
９に取付けられた高圧ノズルである。２０，２１．２２
は洗浄槽内の洗浄液３を常に清浄に保つため設けられた
それぞれプレフィルタ、循環ポンプ、ファイナルフィル
タである。２３．２４は高圧ノズル１８に清浄な高圧の
洗浄液を供給するために設けられた高圧ポンプと高耐圧
ファイナルフィルタである。３１は洗浄槽２の内壁に巻
回された冷却パイプで洗浄槽中の洗浄液３を冷却する。
次にこの装置の動作について説明する。第１図において
被洗浄物である円板１４は開ロアの上部のＢ位置にて回
転軸１６に保持され、次に昇降ロッド１７が下降してＣ
位置すなわち円板１４は洗浄液３に浸かる位置まで下降
する。この状態でモータを駆動し円板１４を回転せしめ
ると共に高圧ポンプ２４を駆動し高圧ノズル１８から洗
浄液の高圧ジェット流２６を噴射せしめつつ昇降ロッド
１７をゆっくり上昇させて円板１４の全面と洗浄する次
に昇降ロッド１７が」１昇し円板１４は飽和蒸気雰囲気
１２の中のＤ位置に移送される。円板１４は冷却パイプ
３１により冷却された洗浄液３に浸っていたことにより
冷却されているから円板１４の表面で蒸気が凝結液化し
た非常に清浄な凝結液が円板１４の表面を濡らして流れ
おち、表面にわずかに付着している異物や油脂を洗い落
すいわするすすぎ洗浄が行なわれる。この凝結液化は円
板１４の温度が洗浄液の液化温度に」―昇するまで行な
われる。すすぎ洗浄が完了すると次に円板１４はＤから
Ｂへゆっくり引き」二げ゛られる。円板１４が前記界面
１１を越えて蒸着密度の底い領域１３へ移送される時円
板１４の表面を濡らしていた前記液化洗浄液はすみやか
に蒸発し円板１４は乾燥する。乾燥後円板１４を回転軸
１５から取外して洗浄を終了する。しかしこの洗浄方法
のように液中にて洗浄後、被洗浄物を液より引き上げる
際にこの液中に浮遊しいる異物が再付着するということ
がある。この再付着異物は次の飽和蒸気雰囲気中で該蒸
気を被洗浄物面に凝結液化せしめて被洗浄物表面を濡ら
して流れ落させて行なう程度のすすぎ洗浄では１部は除
去できるが完全には除去できないという問題があった。
被洗浄物である円板１４は開ロアの上部のＢ位置にて回
転軸１６に保持され、次に昇降ロッド１７が下降してＣ
位置すなわち円板１４は洗浄液３に浸かる位置まで下降
する。この状態でモータを駆動し円板１４を回転せしめ
ると共に高圧ポンプ２４を駆動し高圧ノズル１８から洗
浄液の高圧ジェット流２６を噴射せしめつつ昇降ロッド
１７をゆっくり上昇させて円板１４の全面と洗浄する次
に昇降ロッド１７が」１昇し円板１４は飽和蒸気雰囲気
１２の中のＤ位置に移送される。円板１４は冷却パイプ
３１により冷却された洗浄液３に浸っていたことにより
冷却されているから円板１４の表面で蒸気が凝結液化し
た非常に清浄な凝結液が円板１４の表面を濡らして流れ
おち、表面にわずかに付着している異物や油脂を洗い落
すいわするすすぎ洗浄が行なわれる。この凝結液化は円
板１４の温度が洗浄液の液化温度に」―昇するまで行な
われる。すすぎ洗浄が完了すると次に円板１４はＤから
Ｂへゆっくり引き」二げ゛られる。円板１４が前記界面
１１を越えて蒸着密度の底い領域１３へ移送される時円
板１４の表面を濡らしていた前記液化洗浄液はすみやか
に蒸発し円板１４は乾燥する。乾燥後円板１４を回転軸
１５から取外して洗浄を終了する。しかしこの洗浄方法
のように液中にて洗浄後、被洗浄物を液より引き上げる
際にこの液中に浮遊しいる異物が再付着するということ
がある。この再付着異物は次の飽和蒸気雰囲気中で該蒸
気を被洗浄物面に凝結液化せしめて被洗浄物表面を濡ら
して流れ落させて行なう程度のすすぎ洗浄では１部は除
去できるが完全には除去できないという問題があった。
発明の目的
本発明は被洗浄物に付着している異物を確実に除去する
と共に再汚染を確実に防止して優れた洗浄効果を得るこ
とができる高圧ジェット洗浄装置を提供することを目的
とする。
と共に再汚染を確実に防止して優れた洗浄効果を得るこ
とができる高圧ジェット洗浄装置を提供することを目的
とする。
発明の構成
本発明は洗浄液中にて、液の高圧ジェット流を被洗浄物
に作用せしめ、次に被洗浄物を前記洗浄液の飽和蒸気雰
囲気中に移送せしめて、前記被洗浄物に所要の孔径のフ
ィルタでろ過されると共に所要温度に調整された前記洗
浄液を噴射せしめて１次すすぎ洗浄し続いて飽和蒸気雰
囲気中にて、前記被洗浄物表面に蒸気の凝結液化せしめ
てこの凝結液が被洗浄物面を濡らして流れ落ちることに
よって２次すすぎ洗浄し、次に被洗浄物を前記蒸気飽和
蒸気雰囲気より蒸気密度の低い雰囲気に移送せしめて被
洗浄物表面の洗浄液を蒸発せしめることにより高清浄な
表面を得ることができるものである。
に作用せしめ、次に被洗浄物を前記洗浄液の飽和蒸気雰
囲気中に移送せしめて、前記被洗浄物に所要の孔径のフ
ィルタでろ過されると共に所要温度に調整された前記洗
浄液を噴射せしめて１次すすぎ洗浄し続いて飽和蒸気雰
囲気中にて、前記被洗浄物表面に蒸気の凝結液化せしめ
てこの凝結液が被洗浄物面を濡らして流れ落ちることに
よって２次すすぎ洗浄し、次に被洗浄物を前記蒸気飽和
蒸気雰囲気より蒸気密度の低い雰囲気に移送せしめて被
洗浄物表面の洗浄液を蒸発せしめることにより高清浄な
表面を得ることができるものである。
実施例の説明
以下本発明の一実施例を第２図を参照して説明する。
第２図において、従来と同一構成要素は同一番号で示す
。第２図に示す２７は前記飽和蒸気雰囲気１２中に固定
され支柱２８に取付けられた低圧ノズルである。また第
２図ではこのノズルは１ケナルフイルタである。以上の
構成において円板１４を洗浄槽２の洗浄液中にて高圧洗
浄された後前記洗浄液の飽和蒸気雰囲気１２中のＤ位置
に移送される時、低圧ノズル用ポンプ３ｏを駆動してフ
ァイナルフィルタ３３でろ過された異物を含まない清浄
な洗浄液を円板１４の表面に噴射させて１次すすぎ洗浄
を行なう。この様に洗浄液３中で高圧洗浄した後、前記
飽和蒸気雰囲気中に移送して高清浄にろ過された異物を
含まない洗浄液を円板１４０表面に噴射することにより
洗浄液３から引き上げるときに再付着した異物は完全に
除去できる。
。第２図に示す２７は前記飽和蒸気雰囲気１２中に固定
され支柱２８に取付けられた低圧ノズルである。また第
２図ではこのノズルは１ケナルフイルタである。以上の
構成において円板１４を洗浄槽２の洗浄液中にて高圧洗
浄された後前記洗浄液の飽和蒸気雰囲気１２中のＤ位置
に移送される時、低圧ノズル用ポンプ３ｏを駆動してフ
ァイナルフィルタ３３でろ過された異物を含まない清浄
な洗浄液を円板１４の表面に噴射させて１次すすぎ洗浄
を行なう。この様に洗浄液３中で高圧洗浄した後、前記
飽和蒸気雰囲気中に移送して高清浄にろ過された異物を
含まない洗浄液を円板１４０表面に噴射することにより
洗浄液３から引き上げるときに再付着した異物は完全に
除去できる。
次に前記飽和蒸気雰囲気のＤ位置にて飽和蒸気雰囲気中
の蒸気を円板１４の表面に凝結液化させて異物はもちろ
ん、油脂等も一切含まれていないその凝結液が円板表面
を流れ落ることによって２次すすぎ洗浄を行なう。この
２次すすぎ洗浄を行なうことにより１次すすぎ洗浄では
除去しにくい油脂を除去し、高清浄々表面を得ることが
できるものである。
の蒸気を円板１４の表面に凝結液化させて異物はもちろ
ん、油脂等も一切含まれていないその凝結液が円板表面
を流れ落ることによって２次すすぎ洗浄を行なう。この
２次すすぎ洗浄を行なうことにより１次すすぎ洗浄では
除去しにくい油脂を除去し、高清浄々表面を得ることが
できるものである。
また、一般に洗浄液の温度は高い方が洗浄効果は高く々
る。そこでその他の実施例として洗浄液の温度を上げて
洗浄する高圧ジェット洗浄装置について第３図に基づき
説明する。第３図において第２図と同一構成要素は同一
番号で示す。２９は洗浄槽２の下部に設けた洗浄液３の
加熱ヒータであり洗浄液３を所要の温度に加熱する。３
２は熱交換機で低圧ノズルポンプにより圧送された洗浄
液３を強制冷却し低圧ノズル２７に供給する。
る。そこでその他の実施例として洗浄液の温度を上げて
洗浄する高圧ジェット洗浄装置について第３図に基づき
説明する。第３図において第２図と同一構成要素は同一
番号で示す。２９は洗浄槽２の下部に設けた洗浄液３の
加熱ヒータであり洗浄液３を所要の温度に加熱する。３
２は熱交換機で低圧ノズルポンプにより圧送された洗浄
液３を強制冷却し低圧ノズル２７に供給する。
以上の構成によれば、加熱された洗浄液中で該加熱され
た洗浄液の高圧ジェット流を被洗浄物に作用せしめるこ
とができるので更に洗浄力をあげることができるもので
ある。さらに高圧ジェット流による洗浄の後飽和蒸気雰
囲気１２中に移送して１次すすぎ洗浄を行なうが、ここ
で用いる洗浄液３は熱交換機３２により強制冷却されて
いるので円板１４は前記飽和蒸気雰囲気中の蒸気の液化
温度よりもさらに冷却されることによって２次すすぎの
ための蒸気の凝縮液化が十分行なわれ、円１ｏ ・ 去できシミ等のない高清浄な面を得ることができる。ま
だ第３図において熱交換機３２は低圧ノズルポンプ３ｏ
とファイナルフィルタ３３との間に設けているが、低圧
ノズル２７とファイナルフィルタ３３との間に設けても
よい。
た洗浄液の高圧ジェット流を被洗浄物に作用せしめるこ
とができるので更に洗浄力をあげることができるもので
ある。さらに高圧ジェット流による洗浄の後飽和蒸気雰
囲気１２中に移送して１次すすぎ洗浄を行なうが、ここ
で用いる洗浄液３は熱交換機３２により強制冷却されて
いるので円板１４は前記飽和蒸気雰囲気中の蒸気の液化
温度よりもさらに冷却されることによって２次すすぎの
ための蒸気の凝縮液化が十分行なわれ、円１ｏ ・ 去できシミ等のない高清浄な面を得ることができる。ま
だ第３図において熱交換機３２は低圧ノズルポンプ３ｏ
とファイナルフィルタ３３との間に設けているが、低圧
ノズル２７とファイナルフィルタ３３との間に設けても
よい。
まだ第２図では熱交換機は設けていないが前述したよう
に低圧ノズルポンプ３０とファイナルフィルタ３３との
間または、低圧ノズル２７とファイナルフィルタ３３と
の間に設けてもよいわけであり、熱交換機を設けること
により、更に冷却された洗浄液を円板１４に供給でき、
円板１４の冷却効果を上げることができる。従って円板
１４表面での蒸気のａ給液化量が多くなり油脂の除去効
果を上げることができる。従って洗浄液３中に混入する
油脂、多くなって円板１４の表面に再付着する量が増加
しても前記冷却により２次すすぎ洗浄力を向上させたこ
とにより完全に除去できるため洗浄液の交換頻度を少な
くでき運転コストを下げることができる。
に低圧ノズルポンプ３０とファイナルフィルタ３３との
間または、低圧ノズル２７とファイナルフィルタ３３と
の間に設けてもよいわけであり、熱交換機を設けること
により、更に冷却された洗浄液を円板１４に供給でき、
円板１４の冷却効果を上げることができる。従って円板
１４表面での蒸気のａ給液化量が多くなり油脂の除去効
果を上げることができる。従って洗浄液３中に混入する
油脂、多くなって円板１４の表面に再付着する量が増加
しても前記冷却により２次すすぎ洗浄力を向上させたこ
とにより完全に除去できるため洗浄液の交換頻度を少な
くでき運転コストを下げることができる。
、−：′声明の効果
以上のように本発明によれは、洗浄液中にて被洗浄物に
高圧のジェット流を噴射せしめ、その後前記洗浄液」一
部の飽和蒸気雰囲気中に所要のフィルタでろ過された清
浄な洗浄液を噴射して１次すすぎ洗浄することにより被
洗浄物を前記洗浄液より引き上げる際に再付着した異物
を除去できる。
高圧のジェット流を噴射せしめ、その後前記洗浄液」一
部の飽和蒸気雰囲気中に所要のフィルタでろ過された清
浄な洗浄液を噴射して１次すすぎ洗浄することにより被
洗浄物を前記洗浄液より引き上げる際に再付着した異物
を除去できる。
また飽和蒸気雰囲気で蒸気を凝結液化して流れ落とし２
次すすぎ洗浄することにより油脂等を完全に除去できシ
ミ等のない高清浄な表面を得ることができる。また熱交
換機により冷却された洗浄液を用いることにより飽和蒸
気中に移送されてきた被洗浄物が冷えていなくても前記
冷却された洗浄液の１次すすぎ洗浄により十分蒸気が凝
結液化する温度まで冷却することが可能であるので高圧
洗浄の洗浄液の温度を」二げてより効果の高い洗浄を行
なうことが可能である。
次すすぎ洗浄することにより油脂等を完全に除去できシ
ミ等のない高清浄な表面を得ることができる。また熱交
換機により冷却された洗浄液を用いることにより飽和蒸
気中に移送されてきた被洗浄物が冷えていなくても前記
冷却された洗浄液の１次すすぎ洗浄により十分蒸気が凝
結液化する温度まで冷却することが可能であるので高圧
洗浄の洗浄液の温度を」二げてより効果の高い洗浄を行
なうことが可能である。
第１図は従来の高圧ジェット洗浄装置の概略構成図、第
２図は本発明の一実施例における高圧ジュツト洗浄装置
の概略構成図、第３図は同洗浄液第１図 を加熱するヒータと強制冷却する熱交換機を具備した高
圧洗浄装置の概略構成図である。 ２・・・・・・洗浄槽、３・・・・・・洗浄液、４・・
・・・・沸騰槽、６・・・・・・冷却パイプ、１８・・
・・・・高圧ノズル、２３・・・・・・高圧ポンプ、２
４・・・・・・高耐圧フィルタ、３２・・・・・・熱交
換機、２９・・・・・化−ター、２７・・・・・・低圧
ノズル、３ｏ・・・・・・低圧ノズルポンプ、３１・・
印・冷却パイプ。
２図は本発明の一実施例における高圧ジュツト洗浄装置
の概略構成図、第３図は同洗浄液第１図 を加熱するヒータと強制冷却する熱交換機を具備した高
圧洗浄装置の概略構成図である。 ２・・・・・・洗浄槽、３・・・・・・洗浄液、４・・
・・・・沸騰槽、６・・・・・・冷却パイプ、１８・・
・・・・高圧ノズル、２３・・・・・・高圧ポンプ、２
４・・・・・・高耐圧フィルタ、３２・・・・・・熱交
換機、２９・・・・・化−ター、２７・・・・・・低圧
ノズル、３ｏ・・・・・・低圧ノズルポンプ、３１・・
印・冷却パイプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）洗浄槽にためられた洗浄液中にて高圧の洗浄液の
ジェット流を被洗浄物に噴射せしめて被洗浄物を洗浄し
、次に前記被洗浄物を前記洗浄液の飽和蒸気雰囲気中に
移送せしめて前記被洗浄物に所要の孔径のフィルタでろ
過されると共に所要温度に調整された前記洗浄液を噴射
せしめて１次すすぎ洗浄し、続いて飽和蒸気雰囲気中に
て前記被洗浄物表面に蒸気を凝結液化せしめてこの凝結
液が前記洗浄物面を濡らして流れ落ちることによって２
次すすぎ洗浄し、次に被洗浄物を前記飽和蒸気雰囲気よ
り蒸気密度の低い雰囲気に移送せしめて被洗浄物表面の
洗浄液を蒸発させて前記被洗浄物を乾燥せしめることを
特徴とする高圧ジェット洗浄方法。 （呻 １次すすぎ洗浄に強制冷却された洗浄液を用いる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の高圧ジェ
ット洗浄方法。 （３）洗浄槽にためられた洗浄液中にて、この洗浄液の
高圧ジェット流を被洗浄物に作用せしめる手段と、前記
洗浄液の上方にこの洗浄液の飽和蒸気雰囲気を、更に前
記飽和蒸気雰囲気の上方に蒸気密度の低い雰囲気をそれ
ぞれ形成せしめる手段と、前記洗浄液を所要の孔径のフ
ィルタでろ過して前記飽和蒸気雰囲気中で被洗浄物に噴
射せしめる１次すすぎ洗浄手段と、前記１次すすぎ洗浄
手段に供給する洗浄液を所要温度に調整する温度調整手
段とにより構成してなる高圧ジェット洗浄装置。 （４）温度調整手段を、前記洗浄液が前記洗浄槽から汲
み出されてから前記１次すすぎ洗浄手段により噴射され
るまでの間に前記洗浄液を強制冷却する手段によシ構成
してなる特許請求の範囲第３項記載の高圧ジェット洗浄
装装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11331784A JPS60257140A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 高圧ジエツト洗浄方法とその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11331784A JPS60257140A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 高圧ジエツト洗浄方法とその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60257140A true JPS60257140A (ja) | 1985-12-18 |
Family
ID=14609162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11331784A Pending JPS60257140A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 高圧ジエツト洗浄方法とその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60257140A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62197102A (ja) * | 1986-02-21 | 1987-08-31 | ウエスチングハウス エレクトリック コ−ポレ−ション | 溶媒の清浄装置 |
| JPS63156583A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-29 | 日立プラント建設株式会社 | スプレ−洗浄装置 |
| JPS63185493U (ja) * | 1987-05-23 | 1988-11-29 | ||
| JPH0536664A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ウエーハ洗浄槽 |
| JPH07201785A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Nec Corp | ウェット処理方法及び処理装置 |
| FR2744325A1 (fr) * | 1996-02-06 | 1997-08-08 | Mecalor | Dispositif embarque de lavage et de traitement, notamment pour machine a vendanger |
-
1984
- 1984-06-01 JP JP11331784A patent/JPS60257140A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62197102A (ja) * | 1986-02-21 | 1987-08-31 | ウエスチングハウス エレクトリック コ−ポレ−ション | 溶媒の清浄装置 |
| JPS63156583A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-29 | 日立プラント建設株式会社 | スプレ−洗浄装置 |
| JPS63185493U (ja) * | 1987-05-23 | 1988-11-29 | ||
| JPH0536664A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ウエーハ洗浄槽 |
| JPH07201785A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Nec Corp | ウェット処理方法及び処理装置 |
| FR2744325A1 (fr) * | 1996-02-06 | 1997-08-08 | Mecalor | Dispositif embarque de lavage et de traitement, notamment pour machine a vendanger |
| WO1997028679A1 (fr) * | 1996-02-06 | 1997-08-14 | Mecalor | Dispositif embarque de lavage et de traitement, notamment pour machine a vendanger |
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