JP2756381B2 - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
- Publication number
- JP2756381B2 JP2756381B2 JP23793691A JP23793691A JP2756381B2 JP 2756381 B2 JP2756381 B2 JP 2756381B2 JP 23793691 A JP23793691 A JP 23793691A JP 23793691 A JP23793691 A JP 23793691A JP 2756381 B2 JP2756381 B2 JP 2756381B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaned
- cleaning
- pure water
- degreasing
- cleaning method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は部品または製品の洗浄方
法に関し、特には光学部品の洗浄方法に関する。
法に関し、特には光学部品の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、機械部品や光学部品の加工後にお
ける洗浄はたとえば図２に示す工程により洗浄される。
ける洗浄はたとえば図２に示す工程により洗浄される。
【０００３】以下にその洗浄工程を説明する。
【０００４】ａ工程 被洗浄部材（不図示）の表面に付着しているピッチを非
水性溶剤により除去を行う。
水性溶剤により除去を行う。
【０００５】被洗浄部材を順次第１の脱脂液 １から第
４の脱脂液４まで搬送機構（不図示）により浸漬し、引
き上げる。これら４つの液は、それぞれパークロロエチ
レンである。各液の温度は、常温である。
４の脱脂液４まで搬送機構（不図示）により浸漬し、引
き上げる。これら４つの液は、それぞれパークロロエチ
レンである。各液の温度は、常温である。
【０００６】ｂ工程 前記被洗浄部材の表面を覆った前記非水系液の、水系液
への置換を行う。すなわち、第１の置換液５と第２の置
換液６に浸漬し、引き上げる。
への置換を行う。すなわち、第１の置換液５と第２の置
換液６に浸漬し、引き上げる。
【０００７】第１の置換液５と第２の置換液６は界面活
性剤を含んだ水溶液である。各液の温度は、常温であ
る。
性剤を含んだ水溶液である。各液の温度は、常温であ
る。
【０００８】ｃ工程 仕上げ洗浄を行う。
【０００９】第１の仕上げ洗浄液から第３の仕上げ洗浄
液までに浸漬し、引き上げを行う。
液までに浸漬し、引き上げを行う。
【００１０】第１の仕上げ洗浄液７は市水（水道水）を
用いる。
用いる。
【００１１】第２の仕上げ洗浄液８はアニオン系または
非イオン系の界面活性剤である。
非イオン系の界面活性剤である。
【００１２】第３の仕上げ洗浄液９は洗浄液８と同一で
ある。
ある。
【００１３】ｄ工程 リンスを行う。
【００１４】第１のリンス液１０と第２のリンス液１２
に浸漬し、引き上げを行う。
に浸漬し、引き上げを行う。
【００１５】第１、第２のリンス液ともに市水である。
【００１６】ｅ工程 非水性溶剤への第１の置換液１２と第２の置換液１３に
浸漬し、引き上げを行う。
浸漬し、引き上げを行う。
【００１７】第１、第２の置換液はともにＩＰＡ（イソ
プロピルアルコール）である。
プロピルアルコール）である。
【００１８】ｆ工程 前記被洗浄部材に付着した前記ＩＰＡを乾燥する。
【００１９】フロン液をヒーター（不図示）で加熱して
発生したフロンベーパー１４の中に被洗浄部材を所定時
間滞在させ引き上げる。
発生したフロンベーパー１４の中に被洗浄部材を所定時
間滞在させ引き上げる。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の方法におい
てはフロン系溶剤が必須となるが、近年の環境保護の要
望の高まりから、フロンを使用しない洗浄が各種の他の
分野同様、要求されてきている。フロン以外の洗浄方法
で、特に問題となる事は例えば湿式洗浄後の乾燥工程に
おいて発生する、いわゆるしみ残りである。
てはフロン系溶剤が必須となるが、近年の環境保護の要
望の高まりから、フロンを使用しない洗浄が各種の他の
分野同様、要求されてきている。フロン以外の洗浄方法
で、特に問題となる事は例えば湿式洗浄後の乾燥工程に
おいて発生する、いわゆるしみ残りである。
【００２１】本発明においては、部品または製品の洗浄
方法において、フロン系溶剤を用いる事なく、しみ残り
のない洗浄を行う方法を提供する事である。
方法において、フロン系溶剤を用いる事なく、しみ残り
のない洗浄を行う方法を提供する事である。
【００２２】
【課題を解決するための手段】本発明による部品または
製品などの被洗浄部材を洗浄する方法は、加工工程を経
た前記被洗浄部材を非水系液により脱脂する第１の脱脂
工程と、前記非水系液を溶解する水系液により前記被洗
浄部材を脱脂する第２の脱脂工程と、 前記水系液によ
る仕上げ洗浄工程と、リンス工程と、乾燥工程と、を有
する洗浄方法であって、前記乾燥工程は、複数の純水槽
を設け、最後の純水槽の温度を７０〜８５℃の温度範囲
に設定して前記純水槽から前記被洗浄部材を引き上げる
ことにより、前記被洗浄部材の表面を乾燥させることを
特徴とする。
製品などの被洗浄部材を洗浄する方法は、加工工程を経
た前記被洗浄部材を非水系液により脱脂する第１の脱脂
工程と、前記非水系液を溶解する水系液により前記被洗
浄部材を脱脂する第２の脱脂工程と、 前記水系液によ
る仕上げ洗浄工程と、リンス工程と、乾燥工程と、を有
する洗浄方法であって、前記乾燥工程は、複数の純水槽
を設け、最後の純水槽の温度を７０〜８５℃の温度範囲
に設定して前記純水槽から前記被洗浄部材を引き上げる
ことにより、前記被洗浄部材の表面を乾燥させることを
特徴とする。
【００２３】また、前記複数の純水槽中の純水は洗浄工
程順に温度勾配を有する事を特徴とする。
程順に温度勾配を有する事を特徴とする。
【００２４】さらには、前記最後の純水槽から前記被洗
浄部品を引き上げる速度が前記被洗浄物材の表面積に反
比例するように設定されている事を特徴とする。
浄部品を引き上げる速度が前記被洗浄物材の表面積に反
比例するように設定されている事を特徴とする。
【００２５】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００２６】図２は本発明の被洗浄物の洗浄装置の一実
施例を概略的に示す説明図である。
施例を概略的に示す説明図である。
【００２７】本実施例は、被洗浄物を非水性の液体で洗
浄する４槽の脱脂槽１、２、３、４と、非水性の液体を
洗浄する２槽の洗浄槽５、６と被洗浄物を一般水により
洗浄するリンス槽７、被洗浄物を仕上げ洗浄する洗浄槽
８、９、被洗浄物を純水により洗浄するリンス槽１０、
１１、および被洗浄物を加温した超純水に浸すための温
純水槽１２、１３と、被洗浄物を乾燥させる乾燥槽とし
ての温風ゾーン１４を有している。
浄する４槽の脱脂槽１、２、３、４と、非水性の液体を
洗浄する２槽の洗浄槽５、６と被洗浄物を一般水により
洗浄するリンス槽７、被洗浄物を仕上げ洗浄する洗浄槽
８、９、被洗浄物を純水により洗浄するリンス槽１０、
１１、および被洗浄物を加温した超純水に浸すための温
純水槽１２、１３と、被洗浄物を乾燥させる乾燥槽とし
ての温風ゾーン１４を有している。
【００２８】次に、本実施例による洗浄方法を説明す
る。
る。
【００２９】まず、被洗浄物（例えば公知の研磨工程を
終了した光学ガラス）はパークロルエチレン等の有機溶
剤が充たされた脱脂槽１、２、３、４中に浸され被洗浄
物上に付着したピッチ、油分等が脱脂される。
終了した光学ガラス）はパークロルエチレン等の有機溶
剤が充たされた脱脂槽１、２、３、４中に浸され被洗浄
物上に付着したピッチ、油分等が脱脂される。
【００３０】ａ工程を経た被洗浄物は、界面活性剤が充
たされた洗浄槽５、６に浸されｂ工程を経る。
たされた洗浄槽５、６に浸されｂ工程を経る。
【００３１】ａおよびｂの工程を経た被洗浄物は、一般
水が充たされている洗浄槽７中に浸されさらに界面活性
剤が充たされている洗浄槽８、９に浸されｃ工程の仕上
げ洗浄工程を経る。次いで、純水が充たされたｄ工程の
リンス槽９、１０中に浸されリンス工程を経る。
水が充たされている洗浄槽７中に浸されさらに界面活性
剤が充たされている洗浄槽８、９に浸されｃ工程の仕上
げ洗浄工程を経る。次いで、純水が充たされたｄ工程の
リンス槽９、１０中に浸されリンス工程を経る。
【００３２】ａからｄまでの工程を経た被洗浄物は、ｅ
工程の温純水浸漬工程を経る。後述する超純水製造装置
により精製され、図示しないヒータにより約４０℃に加
熱された超純水（抵抗率が概ね１０ＭΩ・ｃｍ程度以
上）が充たされた超純水槽１２中に浸されて温純水浸漬
工程を経る。次いで被洗浄物は、ｆ工程の引き上げ工程
を経る。引き上げ槽１３には、図示しないヒータにより
約７０℃〜８５℃に加熱された事以外は超純水槽１２中
に充たされている超純水と同等の水質の超純水が充たさ
れている。被洗浄物は、引き上げ槽１３中より３〜１０
ｍｍ／ｓｅｃ．の引き上げ速度で引き上げ槽１３より引
き上げられる。引き上げられた被洗浄物は、図示しない
ヒータにより約６０℃に加熱され、図示しないＨＥＰＡ
フィルター（集塵フィルター）により浄化された温風に
よる乾燥工程ｇを経る。この温風による乾燥工程は乾燥
時間を短縮するがなくても良い。
工程の温純水浸漬工程を経る。後述する超純水製造装置
により精製され、図示しないヒータにより約４０℃に加
熱された超純水（抵抗率が概ね１０ＭΩ・ｃｍ程度以
上）が充たされた超純水槽１２中に浸されて温純水浸漬
工程を経る。次いで被洗浄物は、ｆ工程の引き上げ工程
を経る。引き上げ槽１３には、図示しないヒータにより
約７０℃〜８５℃に加熱された事以外は超純水槽１２中
に充たされている超純水と同等の水質の超純水が充たさ
れている。被洗浄物は、引き上げ槽１３中より３〜１０
ｍｍ／ｓｅｃ．の引き上げ速度で引き上げ槽１３より引
き上げられる。引き上げられた被洗浄物は、図示しない
ヒータにより約６０℃に加熱され、図示しないＨＥＰＡ
フィルター（集塵フィルター）により浄化された温風に
よる乾燥工程ｇを経る。この温風による乾燥工程は乾燥
時間を短縮するがなくても良い。
【００３３】引き上げ槽１３中よりの引き上げ速度と被
洗浄物の表面積の間に表１に示すような結果が得られ
た。
洗浄物の表面積の間に表１に示すような結果が得られ
た。
【００３４】以上の工程により、ガラスレンズを洗浄し
た場合の洗浄度を測定した。
た場合の洗浄度を測定した。
【００３５】用いたレンズの材質はＢＫ７、ＳＦ６、Ｌ
ａｋ８であり、研磨工程上りである測定方法は、焦光灯
下で目視により行った。
ａｋ８であり、研磨工程上りである測定方法は、焦光灯
下で目視により行った。
【００３６】
【表１】
【００３７】（比較例）超純水槽１２中の超純水の温度
が常温であること以外は、実施例と同様の比較例１で
は、被洗浄物はいずれの場合にも洗浄しみが発生した。
が常温であること以外は、実施例と同様の比較例１で
は、被洗浄物はいずれの場合にも洗浄しみが発生した。
【００３８】（比較例２）超純水槽１２中の超純水と引
き上げ槽１３中の超純水がいずれも一般水であること以
外は、実施例と同様の比較例２では、被洗浄物はいずれ
の場合にも洗浄しみが発生した。
き上げ槽１３中の超純水がいずれも一般水であること以
外は、実施例と同様の比較例２では、被洗浄物はいずれ
の場合にも洗浄しみが発生した。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、部品また
は製品の乾燥工程に複数の純水槽を設け、最後の純水槽
の温度を７０〜８５℃の温度範囲に設定して前記純水槽
から前記被洗浄部材を引き上げることにより、前記被洗
浄部材の表面を乾燥させることにより、しみ残りのない
洗浄が可能となった。
は製品の乾燥工程に複数の純水槽を設け、最後の純水槽
の温度を７０〜８５℃の温度範囲に設定して前記純水槽
から前記被洗浄部材を引き上げることにより、前記被洗
浄部材の表面を乾燥させることにより、しみ残りのない
洗浄が可能となった。
【図１】本発明による洗浄方法を模式的に示す説明図で
ある。
ある。
【図２】従来例による洗浄方法を模式的に示す説明図で
ある。
ある。
１ ピッチ除去有機溶剤 ２ ピッチ除去有機溶剤 ３ ピッチ除去有機溶剤 ４ ピッチ除去有機溶剤 ５ 界面活性剤 ６ 界面活性剤 ７ リンス用市水 ８ 仕上げ界面活性剤 ９ 仕上げ界面活性剤 １０ リンス用市水 １１ リンス用市水 １２ 温純水 １３ 温純水引き上げ １４ 温風ゾーン ２０１ ピッチ除去有機溶剤 ２０２ ピッチ除去有機溶剤 ２０３ ピッチ除去有機溶剤 ２０４ ピッチ除去有機溶剤 ２０５ 界面活性剤 ２０６ 界面活性剤 ２０７７ リンス用市水 ２０８ 仕上げ界面活性剤 ２０９ 仕上げ界面活性剤 ２１０ リンス用市水 ２１１ リンス用市水 ２１２ ＩＰＡ ２１３ ＩＰＡ ２１４ フロンベーパー
フロントページの続き (72)発明者 西口 敏司 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平３−207875（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−179228（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−210092（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−130771（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−47365（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−34366（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−100756（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−62133（ＪＰ，Ａ) 実開 昭47−11970（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭63−48597（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭63−45475（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭62−41080（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平４−66626（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C23G 1/00 - 5/06 H01L 21/304,21/341 B08B 1/00 - 11/04
Claims (5)
- 【請求項１】 部品または製品などの被洗浄部材を洗浄
する方法において、 加工工程を経た前記被洗浄部材を非水系液により脱脂す
る第１の脱脂工程と、前記非水系液を溶解する水系溶剤
により前記被洗浄部材を脱脂する第２の脱脂工程と、 前記水系液による仕上げ洗浄工程と、 リンス工程と、 乾燥工程と、を有する洗浄方法であって、前記乾燥工程
は、複数の純水槽からなり、最後の純水槽の温度を７０
〜８５℃の温度範囲に設定して前記最後の純水槽から前
記被洗浄部材を引き上げることにより、前記被洗浄部材
の表面を乾燥させることを特徴とする洗浄方法。 - 【請求項２】 請求項１において前記複数の純水槽中の
純水は洗浄工程順に温度勾配を有する事を特徴とする洗
浄方法。 - 【請求項３】 請求項１において前記最後の純水槽から
前記被洗浄部材を引き上げる速度が前記被洗浄物材の表
面積に反比例するように設定されている事を特徴とする
洗浄方法。 - 【請求項４】 請求項３において被洗浄部材の表面積が
２０〜５０００ｍｍ2の場合引き上げ速度３〜８ｍｍ／
ｓｅｃ．に設定されている事を特徴とする洗浄方法。 - 【請求項５】 請求項１〜４において前記被洗浄物材が
ガラス材である事を特徴とする洗浄方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23793691A JP2756381B2 (ja) | 1991-09-18 | 1991-09-18 | 洗浄方法 |
| US07/913,047 US5334258A (en) | 1991-07-16 | 1992-07-14 | Washing method |
| DE69222581T DE69222581T2 (de) | 1991-07-16 | 1992-07-15 | Reinigungsverfahren |
| EP92112108A EP0523678B1 (en) | 1991-07-16 | 1992-07-15 | Washing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23793691A JP2756381B2 (ja) | 1991-09-18 | 1991-09-18 | 洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0568951A JPH0568951A (ja) | 1993-03-23 |
| JP2756381B2 true JP2756381B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=17022658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23793691A Expired - Fee Related JP2756381B2 (ja) | 1991-07-16 | 1991-09-18 | 洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2756381B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020062741A (ko) * | 2000-10-13 | 2002-07-29 | 가부시끼가이샤 도꾸야마 | 물품의 세척 방법 및 세척 장치 |
| JP5649335B2 (ja) * | 2010-06-01 | 2015-01-07 | 東海光学株式会社 | 洗浄方法及び装置 |
-
1991
- 1991-09-18 JP JP23793691A patent/JP2756381B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0568951A (ja) | 1993-03-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3869313A (en) | Apparatus for automatic chemical processing of workpieces, especially semi-conductors | |
| JP3587873B2 (ja) | ペンタフルオロブタンを含む組成物及びその組成物の使用 | |
| US5334258A (en) | Washing method | |
| JP2756381B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| PL183355B1 (pl) | Sposób suszenia powierzchni podłoża | |
| JPH03144459A (ja) | 感光体ドラムの製造方法 | |
| JP3541590B2 (ja) | 純水を用いた洗浄方法 | |
| US20040231705A1 (en) | Cleaning method of ceramic member | |
| JP3799681B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JP2951862B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JP3476901B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
| JP3398241B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JP3879828B2 (ja) | フォトマスクブランクスの製造方法 | |
| JPH08117503A (ja) | 水切り乾燥方法 | |
| JPH06234998A (ja) | 物品表面清浄法 | |
| JP5494263B2 (ja) | 水切り乾燥方法および水切り乾燥システム | |
| KR20240036521A (ko) | 석영 유리 지그의 제조 방법 및 석영 유리 지그 | |
| JPH02203529A (ja) | 基板の洗浄乾燥方法 | |
| JP2005270830A (ja) | 冶具の洗浄装置及び洗浄方法 | |
| Reinhardt et al. | An automated approach to the ever increasing demand of mask cleanliness | |
| JPH08168603A (ja) | 精密光学素子の洗浄方法 | |
| JPS63107120A (ja) | 処理装置 | |
| JP2975170B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
| JPH0314898A (ja) | 洗浄剤 | |
| JPH11305002A (ja) | レンズ洗浄方法及び装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |