JPS60246638A - 高圧ジエツト洗浄装置 - Google Patents

高圧ジエツト洗浄装置

Info

Publication number
JPS60246638A
JPS60246638A JP10298684A JP10298684A JPS60246638A JP S60246638 A JPS60246638 A JP S60246638A JP 10298684 A JP10298684 A JP 10298684A JP 10298684 A JP10298684 A JP 10298684A JP S60246638 A JPS60246638 A JP S60246638A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
disk
cleaned
pressure
jet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10298684A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazumi Tanaka
一己 田中
Isamu Inoue
勇 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP10298684A priority Critical patent/JPS60246638A/ja
Publication of JPS60246638A publication Critical patent/JPS60246638A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光ティスフあるいに1゛l′導体製造L)”1
゛1における非常に高い清浄面を必9と−するクリーン
洗浄を行なうことかできる高圧ジェット洗浄装置に関す
るものである。
従来例の構成とその問題点 神々の洗浄方法の中でも高r]−流体を細いノズルから
高速で吹き出した高速流を被洗浄物VC・1てて〜°−
物6−゛除去するいわゆる高l]−ジェット洗浄法に強
い物理的エネルギーを有し強周に付着した異物の除去に
は非常に有効である。月1例えば円板を洗浄する場合の
従来の高圧ジェット洗浄装置の1例を概略で示す。第1
図に基づき説明する。第1図において1は洗浄装置の機
体で2Vi洗浄液3がためられ洗浄槽である。4は公知
の沸騰槽でヒータ6を有しその中にためられた洗浄液を
沸騰させる。
6は機体の上部に巻回された冷却パイプで該開ロアの空
間を冷却し前記沸騰槽4から蒸発した洗浄液の蒸気を冷
却し7て凝結液化せしめ該開ロアから前記蒸気が逃けて
機体内の洗浄液が減ることを防11−4する。また前記
冷却バイブロの表面に凝結液化した洗浄液V↓その下部
に設けた棚8の中を流れて公知の水と洗浄液の比重差を
利用した水分離器9に回収され冷却バイブロの表面にて
洗浄液と共に液化した空気中の丞ハ洗浄液から分離され
てドレ/10かも排出され、洗浄液は洗浄槽2に流入す
る。前記間[]7には上記の冷却バイブロの冷却作用に
より洗浄液の液化温度となる界面11を境界として上7
XtXに1↓辿常過飽和状態にある吟、和蒸気雰囲気1
2、上部には蒸気密度の低い領域13が形成される。通
常前記界面111j冷却バイブロに近い部分、すなわち
開C] 70川辺はよく冷されるので低く、開口中央部
はそれとに逆に^くなり開〔1中央部でもり上った形と
なることが知られている。
27洗浄槽2の内壁に巻回された冷却パイプで洗浄液3
を冷却する。14け回転軸16に図示しないが機械的手
段により保持された円板状の被洗浄物である。16はモ
ータを内蔵する)・ウジ/りで回転軸16と該モータ軸
は公知のマグネット力。
プリングで結合されている。17に前記士−タハウジン
グ16をト下送りせしめる昇降ロッドで図示しない手段
あるいは手動により[−下駆動される〕18は洗浄槽2
に固定され、支柱19に取付られた高圧ノズルである。
20,21.22は洗浄槽2内の洗浄i3を常に清浄に
保つために設けられたそれぞれブレXフィルタ循環ポン
プファイナルフィルタである。23.24に高圧ノズル
18に清浄な制圧の洗浄液を供給するために設けられた
高ハボ/ブと高耐圧ファイナルフィルタである。
通常洗浄液としてフロン系溶剤が多用されるが他の溶剤
であってもよい。
次に動作について説明する。第1図にお・いて被洗浄物
である円板14は開口下の上部のB位置にて回転軸15
に保持され、次に昇降ロッド17が1降してC位置すな
わち円板14は洗浄液3に浸かる位置1で1降する。こ
の状態でモータを駆動し円板14を回転せしめると共に
高圧ポンプ24を1!l^動し2高圧ノズル18から洗
浄液の高圧ジェット流26を噴射せしめつつ昇降ロッド
17をゆっくり上昇させて円板14の全面を洗浄する。
次に昇降ロット1了が上昇し、円板14は飽和蒸気雰囲
気12の中のD位置に移送される。円板14は冷却パイ
プ27により冷却された洗浄液に浸っていたことにより
冷却されているから、円板140表面で蒸気が凝結液化
した非常に清浄な洗浄液が流れ落ちてすすき洗浄が行な
われる。一般にこのプロセスにより行なわれる洗浄は蒸
気洗浄と称されている。
この凝結変化は円板14の温度かμmどむKの液化温度
まで上昇するまで行なわれる。このすすき洗浄の目的は
洗浄により円板14からS脱落した油脂異物が洗浄液3
にfl、遊しているため、円板14をCからBへ引きト
げる時iil記び遊異物及び油脂か円板14に再付着す
るためこれを完全に除去することにある。
すすき洗浄が終了すると次に円板14[DからBへゆっ
くり引きトげられる。円板14が前記界面11を越えて
蒸気密度の低い領域13へ移送される時、円板14の表
面を濡らしていた前記液化洗浄液はすみやかに蒸発し円
板14は乾燥する。乾燥した後円板14を回転軸16か
ら取外して洗浄を終了する。しかしながらこの洗浄方法
の場合円板14の片面中央部を保持しているためその保
持面側にノズルを配置してもその保持されている部分は
洗浄することができないので汚れた11であり前記すす
ぎ洗浄時に汚れた部分から汚れた液がたれ落ちてすすぎ
が良好に行なわれなかったり、洗浄の後工程でその汚れ
た面から異物、油脂等が清浄な面に移行して汚したりし
て十分な洗浄効果が得られなか−〕だ。
発明の目的 本発明は少なくとも円形の穴部あるいは円径の外周部を
有する被洗浄物の全面に亘って高圧のジsノド流を作用
せしめることができ、被洗浄物に付着している異物、油
脂等を確実に除去し優れた洗浄効果を得ることができる
高圧ジェット洗浄装置を提供することを目的とする。
発明の構成 本発明は少なくとも円形の穴部あるいは円形外周部を有
する被洗浄物の円形部に当接する複数個の回転可能な同
転体の1個を駆動して被洗浄物を洗浄液中にて回転せし
める駆動手段と被洗浄物に高圧の洗浄液を噴射せしめる
高圧ジェット噴射手段とジェット流を前記被洗浄物の所
要洗浄範囲に亘って走査する手段から構成して被洗浄物
の全面に亘って高圧のジェット流を作用せしめ高清浄な
面を得ることができる高圧ジェット洗浄装置であるO 実施例の説明 本発明の一実施例を第2図から第7図に従−3て説明す
る。第2図は本発明の概略構成図ケ示す。
第3図は洗浄物回転機構部の平面図を示す。第4図に正
面図を示す。第5図は洗浄物駆動部プーリーの外周部詳
細図を示す。第6図、第7図V、f洗浄物回転機構部の
別の実施例を示す。第2図において第1図に示すものと
同一物に同一番号を付して説明する。第2図から第7図
において1に洗浄装置の機体、2は洗浄液3がめられた
洗浄槽である。4は沸騰槽でヒーター6を有しその中に
ためられた洗浄液を沸騰させる。
6に機体の−L部開開ロア巻回された冷却パイプで開ロ
アの空間を冷却し前記沸騰槽4から蒸発1.た洗浄液の
蒸気を冷却して凝結液化せしめ開[]7から前記蒸気が
逃げて機体内の洗浄液が減ることを防止している。また
前記冷却バイブロの表面に凝結液化した洗浄液はその下
部に設けた棚8の中を流れて公知の水と洗浄液の比重差
を利用した水分離器9に回収され、冷却バイブロの表面
にて洗浄液と共Vこ液化した空気中の水は洗浄液から分
離されてドレン10から排出され、洗浄液は洗浄槽2V
C流入する。前記開ロアには−)―記の冷却バイブロの
冷却作用により洗浄液の液化温度となる界面11を境界
とし、て、下部には通常過飽和状態にある飽和蒸気雰囲
気12、上部には蒸気密度の低い領域が形成される。曲
常前記界面11は冷却バイブロに近い部分すなわち開ロ
ア0周辺はよく冷されるので低くて開口部中央部はそれ
とに逆に高くなり開口部中央で盛」−)だ形となる。2
7は洗浄槽2の内壁に巻回された冷却パイプで洗浄槽中
の洗浄液3を冷却する。14は円板状の洗浄物で外周部
には前記洗浄物を保持し回転する従動プーリー28.2
9が当接しており、従動プーリー28は軸3oに装着さ
れ、軸30は基板32に固定されている01だ、従動プ
ーリー29はアーム33に固定さtまた軸31に装着さ
れている。アーム33には線バネ34が固定され、アー
ム33はハウジング36に回転可能に装着された軸36
に固定され、ハウジング36は基板32に固定されてい
る。
37は押圧力調整板で基板32に固定され線バネ34の
引掛は溝(図示せず)を有している。線バネ34を矢印
A方向にたわ1せ、前記押圧力調整板37の引掛けi1
1#に引掛けることにより、アーノ、33が軸36を支
点として矢印B方向に回動し2アーム33の軸31に装
着した従動プーリー29に押圧力をりえるようにしてい
る。38はモータ4゜を内蔵するハウジングで回転軸3
9とモーター40の軸に公知のマグネットカッブリフグ
で結合されている。回転軸39の/−ルは上記マグネッ
トカップリングでなくとも他の7−ルでもよい11回転
軸39には円板4f、42で構成した原動プーリーが固
定され、円板41.42の夕1周部にはそ赴ぞれOリン
グ43の装着aa1−a 、42−a?、(有している
。1だ原動プーリーの外周部には第5図に示すように洗
浄物14とOリング43が当接し回転を伝達する時にス
リップしないように構成している。基板32には切欠き
部32−aを設けて洗浄槽2に固定したバイブ19に高
■−ノズル18をセンタをずらして同定し高圧ノズル1
8を洗浄物の両面VC配置t L、ている。仄板32は
図7ドしない手段あるいは]−動により−L下、駆動さ
れる。20゜21.22は洗浄槽2内の洗浄液3を常に
清浄に保つためVC設けられたそれぞれ、プレフィルタ
循環ポンプ、ファイナルフィルタである。23.24は
高圧ノズル18に清浄な高圧の洗浄液を供給するために
設けられた高圧ポンプと高耐圧ファイナルフィルタであ
る。
以トは円形の洗浄物の外周を保持し回転させて洗浄する
Jj法について記述したが第6図、第7図に示−1よ°
)に内周部だけで保持し回転させ洗浄しても、また内周
、外周をそれぞれ保持し回転させて洗浄してもよいわけ
である。
次に動イ′目・こ−9いて説明する。
第2図に粋いて被洗浄物である円板14は開口了のF部
のX位置VCて線バネ34を矢印C方向VCたわませ従
動プーリー29を矢印り方向に回動させ従動プーリー2
8、及び円板41.42で構成した原動プーリーに当接
させ、次に線バネ34を矢El] A方向にたわませ従
動プーリー29を矢印B方向に回動させ押I(力を加え
従動ブー9−28.29及び円板41.42で構成(7
だ原動プーリーの3ケのプーリーで保持し十ノドする。
次に基板32が下降してX位置、すなわち円板14 i
、1. i’A;浄沿3に浸かる位置捷1上する。この
状態でモーターを駆動し円板14を[し]1転させる。
この時円板14の外周部にパリ等の突起物かぁ−、た場
合?+1動ゾーリーで抑圧破砕される。次に高圧ポンプ
24を駆動し高圧ノズル18かC)洗浄液の高圧ノ□ッ
[流を噴射せしめつつ基板32をゆ−0くり1−ylさ
せて円板14の両1fIiを洗浄−する。高)Iノズル
と4.・し7のセンターを一致させた場合外周端面で1
.1ンユノト流とおしが衝突し洗浄できにくいか本構成
−(’ r、!ノズルとオシのセンターをすらし7て設
けている〃−め洗浄ムラかなく、前記従動ブー1) −
28、29で押圧破砕されたパリの除去にも有効である
液中で噴射される高圧ジ□ット流か被洗浄物表面に及ば
ず物理的作用力は空気中で噴射さtする場合に比べて弱
くなるがノズルと被洗浄物表面j1)1の距離が小さけ
れは空気中に比較してさほど弱くなC)ない1、弱くな
る度合はノズルのオリフィス径、用7J等(・こより1
′I:なるが数胛易の距離での作用力は空気中の70〜
50 ’にとなる。しかしながら50〜100′・0増
しの圧力を得ることは容易であるからさほと大きなテメ
リノトはない。
次に基板32が上列し円板14は飽和蒸気雰囲気12中
のZ位置に移送される。円板14は冷却パイプ27によ
り冷却された洗浄液3に浸っていたことにより冷却され
ているから円板14の表面で蒸気が凝結液化し非常に清
浄な洗浄液が流れおちてすすき洗浄が行なわれる。この
凝結液化は円板14の温度が洗浄液の液化温度1で上昇
するまで行なわれる。なおこのすすき洗浄は洗浄液3の
X位置からZ位置に引き上げる際に高圧洗浄により円板
14から離脱し浮遊している油脂、異物のF+骨付着除
去するのに有効である。すすき洗浄が終了すると次((
円板14はZ位置よりX位置にゆ−)りりと引き上げら
れる円板14が前記界面11を越えて蒸気花度の低い領
域13へ移送される時、円板14の表面を濡らしていた
前記液化洗浄液はすノドやかに蒸発し、円板14は・>
t−j呆4る1、・tの拶、糾ばね34を矢印C方向に
たわませ、従動プーリー29を矢印り方向に回動させて
円4P114f−取りtして洗浄を終了する。
発明の効果 円板状の被洗浄物の内周部またりi外周部を複数個の回
転体で保持すると共に回転させて洗浄することにより被
洗浄物の保持位16が′7’+’+に変化−1−るため
高圧の洗浄液のジェット流かとの位置にもあたり洗い残
しかない。
才た被洗浄物の内周部たは外周部を複数個の回転体で保
持すると共に同転させることにより、被洗浄物の内外周
部の突起物を前記回転体で押し:)ぶして破砕除去する
ことかできる。
なお、被洗浄物の両lf]]にノズルとおしのセッター
をずらして高圧ジェットノズルを設けて高圧の洗浄液の
ジェット流を回転する被洗浄物の両面に噴射し、被洗浄
物を走査させるようにすれは被洗浄物の両面及び内、外
周の端面捷で確実に洗浄できるO
【図面の簡単な説明】
第1図1=lI従来例における高圧ジェット洗浄装置の
口略購成図、第2図に本発明の一実施例((おけ小心5
14ジエツト洗浄装置の概略構成図、第3図は同装置の
被洗浄物回転機構部のモ面図、第4図は回出面図、第6
図は同装置の被洗浄物駆動部プーリーの外周部の詳細を
示す乎面図、第6図、第7図+・、を同装置の被洗浄物
回転機構部の別の実施例を7□、す崖面図である。 2 洗浄槽、3/A、浄液、4 沸騰槽、6 冷却パイ
プ、18 高圧ノズル、23高圧ポンプ、24 高耐斤
フィルタ。 代理人の八−名 井理1丁 中 尾 敏 男 ほか1名
り目間 第2図 ℃、 第6図 第7図 8

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)円形の穴部あるいは円形の外周部の少なくとも、
    いずJlか1方を有する被洗浄物の円形部に当接する枚
    数個の(171転可能な回転体とそれらの、回転体のう
    ちの少なくとも1個を駆動して前記被洗浄物を回転せし
    める」動手段と、前記被洗浄物に高圧−の洗浄液のジェ
    ット流を噴射せしめる高圧ジェットの噴射手段と、前記
    ジェット流を前記洗浄物の所要洗浄範囲に戸−)て走査
    する手段とから構成してなる高11゜/工、ト洗浄装置
  2. (2)高圧ジェット手段を、少なく吉もノズルと、この
    ノズルへ高圧流体を供給する手段とから構成し、このノ
    ズルを被洗浄物の両側に配置し両面同時(C洗浄するこ
    とを特徴とする特i’l’ 請求の範囲第1頃記載の高
    月ジ□ノド洗浄装置。
  3. (3)被洗浄物の両側に配置したノズルから噴射される
    ジュツト流の位置か互いにずれるよう前記ノズルを設け
    た羽π■請求の範囲第1珀記載の高I■ジェット洗浄装
  4. (4)回転体ケ破抗浄物の円形部に当接せ[−め、楼洗
    浄′吻か回転駆動される時この・1接7%にてりjl 
    ill、、、+ −172部の突起物を押)E破砕した
    後ジュツ]・流にて除去することを特徴とする特A’f
    請求の範囲第1項記載の高If−ジェット洗浄装置。
  5. (5) 少なくとも駆動手段により駆動される回転体を
    、被洗浄物と当接する外周部に摩擦係裏りの大きな材料
    を設けた回転体により構成した特tiT 請求の範囲第
    1項記C朔iし1直。
JP10298684A 1984-05-22 1984-05-22 高圧ジエツト洗浄装置 Pending JPS60246638A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10298684A JPS60246638A (ja) 1984-05-22 1984-05-22 高圧ジエツト洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10298684A JPS60246638A (ja) 1984-05-22 1984-05-22 高圧ジエツト洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60246638A true JPS60246638A (ja) 1985-12-06

Family

ID=14342030

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10298684A Pending JPS60246638A (ja) 1984-05-22 1984-05-22 高圧ジエツト洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60246638A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6443384A (en) * 1987-08-12 1989-02-15 Hitachi Ltd Steam washing method and washer
JPH01231328A (ja) * 1988-03-11 1989-09-14 Shin Etsu Handotai Co Ltd 精密洗浄方法
JPH03139832A (ja) * 1989-10-25 1991-06-14 Ebara Corp ジェットスクラバー
CN117531760A (zh) * 2024-01-10 2024-02-09 太原达盛昌自动化技术有限公司 一种新型电解钨丝清洗装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6443384A (en) * 1987-08-12 1989-02-15 Hitachi Ltd Steam washing method and washer
JPH054155B2 (ja) * 1987-08-12 1993-01-19 Hitachi Ltd
JPH01231328A (ja) * 1988-03-11 1989-09-14 Shin Etsu Handotai Co Ltd 精密洗浄方法
JPH03139832A (ja) * 1989-10-25 1991-06-14 Ebara Corp ジェットスクラバー
CN117531760A (zh) * 2024-01-10 2024-02-09 太原达盛昌自动化技术有限公司 一种新型电解钨丝清洗装置
CN117531760B (zh) * 2024-01-10 2024-03-19 太原达盛昌自动化技术有限公司 一种新型电解钨丝清洗装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4178188A (en) Method for cleaning workpieces by ultrasonic energy
US4064885A (en) Apparatus for cleaning workpieces by ultrasonic energy
JP3299281B2 (ja) 表面を入念に洗浄するための方法と装置
KR100648165B1 (ko) 기판 세정 장치, 기판 세정 방법 및 그 방법에 사용되는프로그램을 기록한 매체
JP3629590B2 (ja) 石灰泥を厚くするために使用されるフィルタードラムの洗浄方法及び装置
EP0423761A2 (en) Apparatus and method for particle removal by forced fluid convection
JP2001185523A (ja) 疎水性ウェーハを洗浄/乾燥する方法および装置
JPH1131673A (ja) 基板洗浄装置および基板洗浄方法
US4276166A (en) Filter apparatus and a method of cleaning filter elements thereof
JPH11347917A (ja) ポリッシング装置
JPS60246638A (ja) 高圧ジエツト洗浄装置
US3585668A (en) Brush cleaning apparatus for semiconductor slices
US4290439A (en) Device for cleaning mechanical parts
CN209551448U (zh) 晶圆的处理装置、化学机械抛光系统
JPH1190359A (ja) オーバーフロー式スクラブ洗浄方法及び装置
JP2000173964A (ja) 基板の処理方法及び処理装置
JPS60245136A (ja) 高圧ジエツト洗浄方法および洗浄装置
JPS60257140A (ja) 高圧ジエツト洗浄方法とその装置
JP3999523B2 (ja) 被処理物の処理装置
EP0020088B1 (en) Apparatus for cleaning glass masks
GB2253457A (en) Golf club cleaning apparatus
JPH02246115A (ja) 精密洗浄方法およびそれに用いる洗浄液ならびに乾燥方法
US1992234A (en) Apparatus for cleaning phonograph records
JPH11162816A (ja) スピン式レジスト塗布装置およびウェーハ処理方法
JP2554017B2 (ja) 洗浄方法及び洗浄装置