JP4287979B2 - 赤外線乾燥装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は基材上に設けられた塗膜を乾燥させるための赤外線乾燥装置に係り、とりわけ塗膜の性質を劣化させることなく乾燥させることができる赤外線乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より赤外線乾燥装置として、図２に示すようなものが知られている。図２に示すように、赤外線乾燥装置１０は塗膜を有する基材１５が内部を走行する乾燥炉１１と、乾燥炉１１内の基材１５上方に配置された、開口１６ａを有する赤外線ヒータ１６とを備えている。
【０００３】
また赤外線ヒータ１６の上方には給気装置２５と排気装置２６が各々設けられ、これら給気装置２５と排気装置２６は互いに離間しかつ赤外線ヒータ１６の開口１６ａ近傍に設けられている。
【０００４】
図２において、基材１５に印刷またはコーティングにより予め塗膜が形成される。基材１５はその後、基材入口１１ａから乾燥炉１１内に進入し、ガイドロール１２に沿って走行し、基材出口１１ｂから排出される。
【０００５】
この間、基材１５は赤外線ヒータ１６によって加熱される。また乾燥炉内の雰囲気温度を下げない様に、予め適温に加熱された空気が給気装置２５によって基材１５側へ吹付けられ、基材１５の塗膜表面の蒸発溶剤を除去する。塗膜表面から除去された蒸発溶剤は、その後空気とともに基材１５に沿って流れた後、排気装置２６を経て排気される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、予め適温に加熱された空気は給気装置２５によって基材１５表面の蒸発溶剤を除去するために基材１５側へ吹付けられる。その際空気が基材１５上に設けられた塗膜表面に直接当たるため塗膜表面を荒らしたり、塗膜表面の乾燥により塗膜表面に皮ばりを生じさせ、塗膜の密着性を低下させることがある。また給気装置２５からの空気は赤外線ヒータ１６と基材１５との間を流れるため、赤外線ヒータ１６の表面温度が低下することも考えられる。
【０００７】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、基材に設けられた塗膜の性質を劣化させることなく、かつ赤外線ヒータの温度低下を防止して乾燥効率を向上させることができる赤外線乾燥装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、塗膜が形成された基材が内部を走行する乾燥炉と、乾燥炉内の基材の上方に基材に略平行に配置された赤外線ヒータと、乾燥炉内の赤外線ヒータ上方に配置された空気を給気する給気装置および空気を排気する排気装置とを備え、給気装置と排気装置とによって、赤外線ヒータと基材との間に空気流を形成することなく、赤外線ヒータ上方のみに赤外線ヒータと平行な空気流を形成することを特徴とする赤外線乾燥装置である。
【０００９】
本発明によれば、赤外線ヒータからの輻射熱により、基材に形成された塗膜を乾燥させる。塗膜表面から除去された蒸発溶剤は赤外線ヒータ上方へ達し、赤外線ヒータ上方において給気装置と排気装置によって赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置まで運ばれて排気される。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明による赤外線乾燥装置の一実施の形態を示す図である。
【００１１】
図１は本発明による赤外線乾燥装置の一実施の形態を示す図である。図１に示すように、赤外線乾燥装置１０は基材１５が内部を走行する乾燥炉１１と、乾燥炉１１内であって基材１５上方に基材１５に平行に配置されるとともに開口１６ａを有する赤外線ヒータ１６と、乾燥炉１１内であって赤外線ヒータ１６上方に配置された給気装置１８および排気装置１９と、を備えている。
【００１２】
このうち、給気装置１８は基材１５の走行方向Ｌの下流側に設けられ、予め適温に加熱された空気を供給するものである。排気装置１９は基材１５の走行方向Ｌの上流側に設けられ、これら給気装置１８と排気装置１９とによって赤外線ヒータ１６上方に赤外線ヒータ１６と平行な空気流を形成するようになっている。
【００１３】
なお、給気装置１８を基材１５の走行方向Ｌの上流側に設け、排気装置１９を基材１５の走行方向Ｌの下流側に設けてもよい。
【００１４】
また乾燥炉１１内の基材１５下方に、追加給気装置２０と追加排気装置２１とが各々設けられている。追加給気装置２０は基材１５の走行方向Ｌの下流側に設けられ、追加排気装置２１は基材１５の走行方向Ｌの上流側に設けられ、これら追加給気装置２０と追加排気装置２１とによって基材１５下方に基材１５と平行な空気流を形成している。
【００１５】
また乾燥炉１１には、基材１５が進入する基材入口１１ａと、基材１５が排出される基材出口１１ｂとが設けられ、さらに乾燥炉１１内には基材１５を支持するガイドローラ１２が設けられている。
【００１６】
次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。まず基材１５に対して印刷またはコーティングが施され、基材１５上に塗膜が形成される。次に塗膜が形成された基材１５は基材入口１１ａから乾燥炉１１内に進入し、ガイドローラ１２に沿って乾燥炉１１内を走行した後、乾燥炉１１から基材出口１１ｂを経て外方へ排出される。
【００１７】
この間、赤外線ヒータ１５からの輻射熱により、基材１５上に設けられた塗膜表面から溶剤が蒸発し、除去される。基材１５から除去された溶剤は上昇して、赤外線ヒータ１６の開口１６ａから赤外線ヒータ１６の上方へ達する。
【００１８】
このとき、赤外線ヒータ１６の上方には、給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６と平行な空気流が形成されているので、赤外線ヒータ１６の上方へ達した蒸発溶剤は赤外線ヒータ１６と平行な空気流により排気装置１９まで運ばれ、この排気装置１９から外方へ排出される。
【００１９】
また基材１５下方にも、追加給気装置２０と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１５に平行な空気流が形成されている。このため乾燥炉１１内の空気流が安定し、赤外線ヒータ１６上方の空気流が赤外線ヒータ１６の側方または基材１５の側方を通過して基材１５の下方へ流れることはない。
【００２０】
以上のように本実施の形態によれば、給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６上方に形成された空気流が直接基材１５表面に当たることはない。このため基材１５に設けられた塗膜表面が荒れたり、塗膜表面からの乾燥によって塗膜表面に皮ばりを生じさせこれによって塗膜の密着性が悪化したりすることはない。このように基材１５に設けられた塗膜の性質を劣化させることを防止することができる。また赤外線ヒータ１６上方の空気流は、赤外線ヒータ１６と平行に流れるので、赤外線ヒータ１６に空気流が当たることもなく、赤外線ヒータ１６の温度低下を引き起こすことはない。さらに追加給気装置２０と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１５と平行な空気流を形成することができるので、乾燥炉１１内の空気流のバランスを安定化させることができ、より確実に基材１５へ直接当たる空気流をなくすことができる。
【００２１】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、基材の塗膜表面から除去された蒸発溶剤は、赤外線ヒータ上方に赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置まで運ばれて排気される。このため基材の塗膜表面あるいは赤外線ヒータに空気流が直接当たることはなく、このことにより塗膜の性質を劣化させたり赤外線ヒータの温度低下をまねくことはない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による赤外線乾燥装置の一実施の形態を示す図。
【図２】従来の赤外線乾燥装置を示す図。
【符号の説明】
１０ 赤外線乾燥装置
１１ 乾燥炉
１２ ガイドローラ
１５ 基材
１６ 赤外線ヒータ
１８ 給気装置
１９ 排気装置
２０ 追加給気装置
２１ 追加排気装置

Claims (4)

1. 塗膜が形成された基材が内部を走行する乾燥炉と、
   乾燥炉内の基材の上方に基材に略平行に配置された赤外線ヒータと、
   乾燥炉内の赤外線ヒータ上方に配置された空気を給気する給気装置および空気を排気する排気装置とを備え、
   給気装置と排気装置とによって、赤外線ヒータと基材との間に空気流を形成することなく、赤外線ヒータ上方のみに赤外線ヒータと平行な空気流を形成することを特徴とする赤外線乾燥装置。
2. 給気装置を基材の走行方向の上流側および下流側のうち一方に配置し、排気装置を他方に配置したことを特徴とする請求項１記載の赤外線乾燥装置。
3. 給気装置を基材の走行方向下流側に設け、排気装置を基材の走行方向上流側に設けたことを特徴とする請求項２記載の赤外線乾燥装置。
4. 乾燥炉内の基材下方に、追加給気装置と追加排気装置を設け、これら追加給気装置と追加排気装置とによって基材下方に基材と平行な空気流を形成することを特徴とする請求項１記載の赤外線乾燥装置。

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