JP4287988B2 - 乾燥装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は基材上に設けられた塗膜を乾燥させるための乾燥装置に係り、とりわけ塗膜の性質を劣化させることなく乾燥させることができる乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ＰＤＰ背面板にリブを形成する際、電極等が表面に形成された枚葉のガラス基板上にリブペースト材を２５０〜３００μｍの厚みで均一に塗布し、その後ペースト中に含まれる溶剤を乾燥装置内で蒸発させる。この場合、まず乾燥装置内で恒率乾燥期間では、およそ１５０〜１８０℃で乾燥させ、減率乾燥期間では２２０〜２５０℃で乾燥を行っている。いずれの乾燥期間でも、風速１ｍ／ｓ程度の熱風を塗膜表面に垂直または平行に給気し、発生する溶剤蒸気を塗工膜表面近傍から取り除いている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記の乾燥方式では、恒率乾燥期間において塗膜表面で発生した溶剤蒸気は、給気の流れにより塗膜表面に再度戻されるため、塗膜表面上で澱みが生じ、これが塗膜表面の乾燥ムラとなっていた。また、溶剤がいつまでも滞留するため、乾燥効率も上がらない。これらを防ぐために熱風の給気風速を上げると、塗膜表面に風紋が生じてしまうという欠点がある。
【０００４】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、基材に設けられた塗膜の性質を劣化させることなく塗膜を確実に乾燥させることができる乾燥装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、塗膜が形成された基材が内部を走行するとともに、この内部が走行する基材の上流側から順に第１乾燥ゾーンと、第２乾燥ゾーンとに仕切られた乾燥炉と、第１乾燥ゾーン内に設けられた第１乾燥機構と、第２乾燥ゾーン内に設けられた第２乾燥機構とを備え、第１乾燥機構は第１乾燥ゾーン内の基材の上方に基材に略平行に配置された赤外線ヒータと、第１乾燥ゾーン内の赤外線ヒータ上方に配置された、空気を給気する給気装置および空気を排気する排気装置とを有し、給気装置と排気装置とによって赤外線ヒータと基材との間に空気流を形成することなく、赤外線ヒータ上方のみに赤外線ヒータと平行な空気流を形成することを特徴とする乾燥装置である。
【０００６】
本発明によれば、第１乾燥ゾーンにおいて、第１乾燥機構の赤外線ヒータからの輻射熱により、基材に形成された塗膜を乾燥させる。塗膜表面から除去された蒸発溶剤は赤外線ヒータ上方へ達し、赤外線ヒータ上方において給気装置と排気装置によって赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置まで運ばれて排気される。このようにして、塗膜の恒率乾燥が行われる。その後基材は第２乾燥ゾーンへ送られ、第２乾燥機構により表面の塗膜が更に乾燥されて減率乾燥が行われる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明による乾燥装置の一実施の形態を示す図である。
【０００８】
図１に示すように、乾燥装置、例えば赤外線乾燥装置１０は基材１５が内部を走行するとともに、この内部が走行するガラス基材１５の上流側から順に第１乾燥ゾーン１０ａと、第２乾燥ゾーン１０ｂとに仕切壁１０ｃにより仕切られた乾燥炉１１と、乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内であって基材１５上方に基材１５に平行に配置されるとともに開口１６ａを有する赤外線ヒータ１６と、第１乾燥ゾーン１０ａ内であって赤外線ヒータ１６上方に配置された給気装置１８および排気装置１９と、を備えている。
【０００９】
図１において基材１５としては、電極を有する枚葉ガラス基材に、予めリブペースト材が塗布されて表面に塗膜が形成されたＰＤＰ背面板用のガラス基材が考えられる。
【００１０】
給気装置１８は基材１５の走行方向Ｌの下流側に設けられ、予め適温に加熱された空気を供給するものである。排気装置１９は基材１５の走行方向Ｌの上流側に設けられ、給気装置１８と排気装置１９とによって赤外線ヒータ１６上方に赤外線ヒータ１６と平行な空気流を形成するようになっている。
【００１１】
なお、給気装置１８を基材１５の走行方向Ｌの上流側に設け、排気装置１９を基材１５の走行方向Ｌの下流側に設けてもよい。
【００１２】
また第１乾燥ゾーン１１ａ内の基材１５下方に、追加給気装置２０と追加排気装置２１とが各々設けられている。追加給気装置２０は基材１５の走行方向Ｌの下流側に設けられ、追加排気装置２１は基材１５の走行方向Ｌの上流側に設けられ、これら追加給気装置２０と追加排気装置２１とによって基材１５下方に基材１５と平行な空気流を形成している。
【００１３】
また図１に示すように、乾燥炉１１にはその入口側に基材入口１１ａを介してローダ部２３が設置され、その出口側に基材出口１１ｂを介してアンローダ部２５が設置されている。さらにローダ部２３、乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ、および第２乾燥ゾーン１０ｂ内には、基材１５を搬送する多数の搬送ローラ１２が設けられている。
【００１４】
さらにまた、図１に示すように、乾燥炉１１の第２乾燥ゾーン１０ｂ内には、基材１５の上方に熱風吹付装置２６が設けられ、基材１５の下方に排気装置２７が設けられている。
【００１５】
図１において、第１乾燥ゾーン１０ａ内に設置された赤外線ヒータ１６、給気装置１８、排気装置１９、追加給気装置２０および追加排気装置２１により第１乾燥機構が構成されている。また第２乾燥ゾーン１０ｂ内に設置された熱風吹付装置２６および排気装置２７により第２乾燥機構が構成されている。
【００１６】
次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。まず電極を有するガラス基材１５に対して印刷またはコーティングによりリブペースト材が塗布され、表面に塗膜（２５０〜３００μｍ）が形成された基材１５が作製される。次に塗膜が形成された基材１５はローダ部２３から基材入口１１ａを介して乾燥炉１１に進入し、搬入ローラ１２により一定速度で乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内を走行した後、乾燥炉１１の第２乾燥ゾーン１０ｂ内へ送られ、その後第２乾燥ゾーン１０ｂ内から基材出口１１ｂを経て外方へ排出される。
【００１７】
この間、第１乾燥ゾーン１０ａ内において赤外線ヒータ１６からの輻射熱により、基材１５上に設けられた塗膜表面から溶剤が蒸発し、除去される。基材１５から除去された溶剤は上昇して、赤外線ヒータ１６の開口１６ａから赤外線ヒータ１６の上方へ達する。
【００１８】
このとき、赤外線ヒータ１６の上方には、給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６と平行な空気流が形成されているので、赤外線ヒータ１６の上方へ達した蒸発溶剤は赤外線ヒータ１６と平行な空気流により排気装置１９まで運ばれ、この排気装置１９から外方へ排出される。
【００１９】
また基材１５下方にも、追加給気装置２０と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１５に平行な空気流が形成されている。このため乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内の空気流が安定し、赤外線ヒータ１６上方の空気流が赤外線ヒータ１６の側方または基材１５の側方を通過して基材１５の下方へ流れることはない。
【００２０】
上述のように、第１乾燥ゾーン１０ａ内では、基材１５表面に空気流が直接当たることはないので、基材１５の塗膜表面が荒れたり塗膜表面からの乾燥によって塗膜表面に皮ばりを生じさせることはなく、第１乾燥ゾーン１０ａ内において基材１５の塗膜の恒率乾燥を精度良く行うことができる。
【００２１】
次に基材１５は、第２乾燥ゾーン１０ｂ内において熱風吹付装置２６から吹付けられる熱風により、基材１５の塗膜の減率乾燥が行われ、減率乾燥を行った熱風は、その後排気装置２７から排気される。基材１５の塗膜は第１乾燥ゾーン１０ａ内で予めある程度乾燥して固化されているので、第２乾燥ゾーン１０ｂ内において熱風を基材１５の型膜に吹付けても塗膜表面が荒れることはなく、熱風吹付装置２６により吹付けられた熱風により、迅速に基材１５の塗膜の減率乾燥を行うことができる。
【００２２】
なお第１乾燥ゾーン１０ａ内における恒率乾燥は１５０℃〜１８０℃の温度で行われ、一方第２乾燥ゾーン１０ｂ内における減率乾燥は２２０℃〜２５０℃にて行われる。
【００２３】
以上のように本実施の形態によれば、第１乾燥ゾーン１０ａ内において給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６上方に形成された空気流が直接基材１５表面に当たることはない。このため基材１５に設けられた塗膜表面が荒れたり、塗膜表面からの乾燥によって塗膜表面に皮ばりを生じさせこれによって塗膜の密着性が悪化したりすることはない。このように基材１５に設けられた塗膜の性質を劣化させることを防止することができる。また赤外線ヒータ１６上方の空気流は、赤外線ヒータ１６と平行に流れるので、赤外線ヒータ１６に空気流が当たることもなく、赤外線ヒータ１６の温度低下を引き起こすことはない。さらに追加給気装置２０と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１５と平行な空気流を形成することができるので、乾燥炉１１内の空気流のバランスを安定化させることができ、より確実に基材１５へ直接当たる空気流をなくすことができる。第１乾燥ゾーン１０ａ内で塗膜に対して恒率乾燥が行われた基材１５は、その後第２乾燥ゾーン１０ｂ内において、熱風吹付装置２６から吹付けられる熱風により減率乾燥が行われる。
【００２４】
なお上記実施の形態において、第２乾燥ゾーン１０ｂ内に熱風吹付装置２６を設置した例を示したが、これに限らず第２乾燥ゾーン１０ｂ内に第１乾燥ゾーン１０ａ内と同様赤外線ヒータを設置してもよい。
【００２５】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、第１乾燥ゾーン内において、第１乾燥機構の赤外線ヒータにより基材の塗膜表面から除去された蒸発溶剤は、赤外線ヒータ上方に赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置まで運ばれて排気される。このため基材の塗膜表面あるいは赤外線ヒータに空気流が直接当たることはなく、このことにより塗膜の性質を劣化させたり赤外線ヒータの温度低下をまねくことはない。このようにして塗膜の恒率乾燥を精度良く行うことができる。その後基材は第２乾燥ゾーン内において、すでに恒率乾燥され固化された塗膜に対して第２乾燥機構により迅速に減率乾燥を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による赤外線乾燥装置の一実施の形態を示す図。
【符号の説明】
１０ 赤外線乾燥装置
１０ａ 第１乾燥ゾーン
１０ｂ 第２乾燥ゾーン
１１ 乾燥炉
１２ 搬送ローラ
１５ 基材
１６ 赤外線ヒータ
１８ 給気装置
１９ 排気装置
２０ 追加給気装置
２１ 追加排気装置
２６ 熱風吹付装置
２７ 排気装置
【発明の属する技術分野】
本発明は基材上に設けられた塗膜を乾燥させるための乾燥装置に係り、とりわけ塗膜の性質を劣化させることなく乾燥させることができる乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ＰＤＰ背面板にリブを形成する際、電極等が表面に形成された枚葉のガラス基板上にリブペースト材を２５０〜３００μｍの厚みで均一に塗布し、その後ペースト中に含まれる溶剤を乾燥装置内で蒸発させる。この場合、まず乾燥装置内で恒率乾燥期間では、およそ１５０〜１８０℃で乾燥させ、減率乾燥期間では２２０〜２５０℃で乾燥を行っている。いずれの乾燥期間でも、風速１ｍ／ｓ程度の熱風を塗膜表面に垂直または平行に給気し、発生する溶剤蒸気を塗工膜表面近傍から取り除いている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記の乾燥方式では、恒率乾燥期間において塗膜表面で発生した溶剤蒸気は、給気の流れにより塗膜表面に再度戻されるため、塗膜表面上で澱みが生じ、これが塗膜表面の乾燥ムラとなっていた。また、溶剤がいつまでも滞留するため、乾燥効率も上がらない。これらを防ぐために熱風の給気風速を上げると、塗膜表面に風紋が生じてしまうという欠点がある。
【０００４】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、基材に設けられた塗膜の性質を劣化させることなく塗膜を確実に乾燥させることができる乾燥装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、塗膜が形成された基材が内部を走行するとともに、この内部が走行する基材の上流側から順に第１乾燥ゾーンと、第２乾燥ゾーンとに仕切られた乾燥炉と、第１乾燥ゾーン内に設けられた第１乾燥機構と、第２乾燥ゾーン内に設けられた第２乾燥機構とを備え、第１乾燥機構は第１乾燥ゾーン内の基材の上方に基材に略平行に配置された赤外線ヒータと、第１乾燥ゾーン内の赤外線ヒータ上方に配置された、空気を給気する給気装置および空気を排気する排気装置とを有し、給気装置と排気装置とによって赤外線ヒータと基材との間に空気流を形成することなく、赤外線ヒータ上方のみに赤外線ヒータと平行な空気流を形成することを特徴とする乾燥装置である。
【０００６】
本発明によれば、第１乾燥ゾーンにおいて、第１乾燥機構の赤外線ヒータからの輻射熱により、基材に形成された塗膜を乾燥させる。塗膜表面から除去された蒸発溶剤は赤外線ヒータ上方へ達し、赤外線ヒータ上方において給気装置と排気装置によって赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置まで運ばれて排気される。このようにして、塗膜の恒率乾燥が行われる。その後基材は第２乾燥ゾーンへ送られ、第２乾燥機構により表面の塗膜が更に乾燥されて減率乾燥が行われる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明による乾燥装置の一実施の形態を示す図である。
【０００８】
図１に示すように、乾燥装置、例えば赤外線乾燥装置１０は基材１５が内部を走行するとともに、この内部が走行するガラス基材１５の上流側から順に第１乾燥ゾーン１０ａと、第２乾燥ゾーン１０ｂとに仕切壁１０ｃにより仕切られた乾燥炉１１と、乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内であって基材１５上方に基材１５に平行に配置されるとともに開口１６ａを有する赤外線ヒータ１６と、第１乾燥ゾーン１０ａ内であって赤外線ヒータ１６上方に配置された給気装置１８および排気装置１９と、を備えている。
【０００９】
図１において基材１５としては、電極を有する枚葉ガラス基材に、予めリブペースト材が塗布されて表面に塗膜が形成されたＰＤＰ背面板用のガラス基材が考えられる。
【００１０】
給気装置１８は基材１５の走行方向Ｌの下流側に設けられ、予め適温に加熱された空気を供給するものである。排気装置１９は基材１５の走行方向Ｌの上流側に設けられ、給気装置１８と排気装置１９とによって赤外線ヒータ１６上方に赤外線ヒータ１６と平行な空気流を形成するようになっている。
【００１１】
なお、給気装置１８を基材１５の走行方向Ｌの上流側に設け、排気装置１９を基材１５の走行方向Ｌの下流側に設けてもよい。
【００１２】
また第１乾燥ゾーン１１ａ内の基材１５下方に、追加給気装置２０と追加排気装置２１とが各々設けられている。追加給気装置２０は基材１５の走行方向Ｌの下流側に設けられ、追加排気装置２１は基材１５の走行方向Ｌの上流側に設けられ、これら追加給気装置２０と追加排気装置２１とによって基材１５下方に基材１５と平行な空気流を形成している。
【００１３】
また図１に示すように、乾燥炉１１にはその入口側に基材入口１１ａを介してローダ部２３が設置され、その出口側に基材出口１１ｂを介してアンローダ部２５が設置されている。さらにローダ部２３、乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ、および第２乾燥ゾーン１０ｂ内には、基材１５を搬送する多数の搬送ローラ１２が設けられている。
【００１４】
さらにまた、図１に示すように、乾燥炉１１の第２乾燥ゾーン１０ｂ内には、基材１５の上方に熱風吹付装置２６が設けられ、基材１５の下方に排気装置２７が設けられている。
【００１５】
図１において、第１乾燥ゾーン１０ａ内に設置された赤外線ヒータ１６、給気装置１８、排気装置１９、追加給気装置２０および追加排気装置２１により第１乾燥機構が構成されている。また第２乾燥ゾーン１０ｂ内に設置された熱風吹付装置２６および排気装置２７により第２乾燥機構が構成されている。
【００１６】
次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。まず電極を有するガラス基材１５に対して印刷またはコーティングによりリブペースト材が塗布され、表面に塗膜（２５０〜３００μｍ）が形成された基材１５が作製される。次に塗膜が形成された基材１５はローダ部２３から基材入口１１ａを介して乾燥炉１１に進入し、搬入ローラ１２により一定速度で乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内を走行した後、乾燥炉１１の第２乾燥ゾーン１０ｂ内へ送られ、その後第２乾燥ゾーン１０ｂ内から基材出口１１ｂを経て外方へ排出される。
【００１７】
この間、第１乾燥ゾーン１０ａ内において赤外線ヒータ１６からの輻射熱により、基材１５上に設けられた塗膜表面から溶剤が蒸発し、除去される。基材１５から除去された溶剤は上昇して、赤外線ヒータ１６の開口１６ａから赤外線ヒータ１６の上方へ達する。
【００１８】
このとき、赤外線ヒータ１６の上方には、給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６と平行な空気流が形成されているので、赤外線ヒータ１６の上方へ達した蒸発溶剤は赤外線ヒータ１６と平行な空気流により排気装置１９まで運ばれ、この排気装置１９から外方へ排出される。
【００１９】
また基材１５下方にも、追加給気装置２０と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１５に平行な空気流が形成されている。このため乾燥炉１１の第１乾燥ゾーン１０ａ内の空気流が安定し、赤外線ヒータ１６上方の空気流が赤外線ヒータ１６の側方または基材１５の側方を通過して基材１５の下方へ流れることはない。
【００２０】
上述のように、第１乾燥ゾーン１０ａ内では、基材１５表面に空気流が直接当たることはないので、基材１５の塗膜表面が荒れたり塗膜表面からの乾燥によって塗膜表面に皮ばりを生じさせることはなく、第１乾燥ゾーン１０ａ内において基材１５の塗膜の恒率乾燥を精度良く行うことができる。
【００２１】
次に基材１５は、第２乾燥ゾーン１０ｂ内において熱風吹付装置２６から吹付けられる熱風により、基材１５の塗膜の減率乾燥が行われ、減率乾燥を行った熱風は、その後排気装置２７から排気される。基材１５の塗膜は第１乾燥ゾーン１０ａ内で予めある程度乾燥して固化されているので、第２乾燥ゾーン１０ｂ内において熱風を基材１５の型膜に吹付けても塗膜表面が荒れることはなく、熱風吹付装置２６により吹付けられた熱風により、迅速に基材１５の塗膜の減率乾燥を行うことができる。
【００２２】
なお第１乾燥ゾーン１０ａ内における恒率乾燥は１５０℃〜１８０℃の温度で行われ、一方第２乾燥ゾーン１０ｂ内における減率乾燥は２２０℃〜２５０℃にて行われる。
【００２３】
以上のように本実施の形態によれば、第１乾燥ゾーン１０ａ内において給気装置１８と排気装置１９とにより赤外線ヒータ１６上方に形成された空気流が直接基材１５表面に当たることはない。このため基材１５に設けられた塗膜表面が荒れたり、塗膜表面からの乾燥によって塗膜表面に皮ばりを生じさせこれによって塗膜の密着性が悪化したりすることはない。このように基材１５に設けられた塗膜の性質を劣化させることを防止することができる。また赤外線ヒータ１６上方の空気流は、赤外線ヒータ１６と平行に流れるので、赤外線ヒータ１６に空気流が当たることもなく、赤外線ヒータ１６の温度低下を引き起こすことはない。さらに追加給気装置２０と追加排気装置２１とにより、基材１５の下方に基材１５と平行な空気流を形成することができるので、乾燥炉１１内の空気流のバランスを安定化させることができ、より確実に基材１５へ直接当たる空気流をなくすことができる。第１乾燥ゾーン１０ａ内で塗膜に対して恒率乾燥が行われた基材１５は、その後第２乾燥ゾーン１０ｂ内において、熱風吹付装置２６から吹付けられる熱風により減率乾燥が行われる。
【００２４】
なお上記実施の形態において、第２乾燥ゾーン１０ｂ内に熱風吹付装置２６を設置した例を示したが、これに限らず第２乾燥ゾーン１０ｂ内に第１乾燥ゾーン１０ａ内と同様赤外線ヒータを設置してもよい。
【００２５】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、第１乾燥ゾーン内において、第１乾燥機構の赤外線ヒータにより基材の塗膜表面から除去された蒸発溶剤は、赤外線ヒータ上方に赤外線ヒータと平行に形成された空気流により排気装置まで運ばれて排気される。このため基材の塗膜表面あるいは赤外線ヒータに空気流が直接当たることはなく、このことにより塗膜の性質を劣化させたり赤外線ヒータの温度低下をまねくことはない。このようにして塗膜の恒率乾燥を精度良く行うことができる。その後基材は第２乾燥ゾーン内において、すでに恒率乾燥され固化された塗膜に対して第２乾燥機構により迅速に減率乾燥を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による赤外線乾燥装置の一実施の形態を示す図。
【符号の説明】
１０ 赤外線乾燥装置
１０ａ 第１乾燥ゾーン
１０ｂ 第２乾燥ゾーン
１１ 乾燥炉
１２ 搬送ローラ
１５ 基材
１６ 赤外線ヒータ
１８ 給気装置
１９ 排気装置
２０ 追加給気装置
２１ 追加排気装置
２６ 熱風吹付装置
２７ 排気装置
Claims (5)
- 塗膜が形成された基材が内部を走行するとともに、この内部が走行する基材の上流側から順に第１乾燥ゾーンと、第２乾燥ゾーンとに仕切られた乾燥炉と、
第１乾燥ゾーン内に設けられた第１乾燥機構と、
第２乾燥ゾーン内に設けられた第２乾燥機構とを備え、
第１乾燥機構は第１乾燥ゾーン内の基材の上方に基材に略平行に配置された赤外線ヒータと、
第１乾燥ゾーン内の赤外線ヒータ上方に配置された、空気を給気する給気装置および空気を排気する排気装置とを有し、
給気装置と排気装置とによって赤外線ヒータと基材との間に空気流を形成することなく、赤外線ヒータ上方のみに赤外線ヒータと平行な空気流を形成することを特徴とする乾燥装置。 - 給気装置を基材の走行方向の上流側および下流側のうち一方に配置し、排気装置を他方に配置したことを特徴とする請求項１記載の乾燥装置。
- 給気装置を基材の走行方向下流側に設け、排気装置を基材の走行方向上流側に設けたことを特徴とする請求項２記載の赤外線乾燥装置。
- 第１乾燥ゾーン内の基材下方に、追加給気装置と追加排気装置を設け、これら追加給気装置と追加排気装置とによって基材下方に基材と平行な空気流を形成することを特徴とする請求項１記載の乾燥装置。
- 第２乾燥機構は、基材に対して熱風を吹付ける熱風吹付装置からなることを特徴とする請求項１記載の乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2000186040A JP4287988B2 (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | 乾燥装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002005573A JP2002005573A (ja) | 2002-01-09 |
| JP4287988B2 true JP4287988B2 (ja) | 2009-07-01 |
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ID=18686274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2000186040A Expired - Fee Related JP4287988B2 (ja) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | 乾燥装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4287988B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100580072B1 (ko) * | 2004-03-09 | 2006-05-16 | 미래산업 주식회사 | 형광램프의 형광체 열화방지장치 및 방법 |
| JP5129249B2 (ja) * | 2007-06-20 | 2013-01-30 | 高周波熱錬株式会社 | ハイブリッド型熱処理機及びその方法 |
| CN106052309A (zh) * | 2016-05-25 | 2016-10-26 | 北京化工大学 | 铝罐红外线干燥装置和干燥方法 |
-
2000
- 2000-06-21 JP JP2000186040A patent/JP4287988B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JP2002005573A (ja) | 2002-01-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070309 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080519 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080606 |
|
| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090324 |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090330 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120403 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120403 Year of fee payment: 3 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |